JPH08333340A - アミノエチルピペリジン誘導体の製造方法 - Google Patents
アミノエチルピペリジン誘導体の製造方法Info
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- JPH08333340A JPH08333340A JP7161591A JP16159195A JPH08333340A JP H08333340 A JPH08333340 A JP H08333340A JP 7161591 A JP7161591 A JP 7161591A JP 16159195 A JP16159195 A JP 16159195A JP H08333340 A JPH08333340 A JP H08333340A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Hydrogenated Pyridines (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】４−ピペリジノールと一般式
Ｘ1 −ＣＨ2 −ＣＮ (III)
で表されるニトリル誘導体とを反応させ、１−シアノメ
チル−４−ヒドロキシピペリジンを得、次いで一般式 【化１】 で表されるメチレン誘導体を反応させ、一般式 【化２】 で表されるシアノメチルピペリジン誘導体を得、更に還
元して一般式 【化３】 で表されるアミノエチルピペリジン誘導体を製造する
（式中、Ｘ1 はハロゲン原子、Ｒ1 及びＲ2 は置換若し
くは無置換の芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基であ
り、Ｘ2 はハロゲン原子又は置換スルホニルオキシ基で
ある。）。 【効果】 この方法は、アミノエチルピペリジン誘導体
を収率よく製造することができる。さらに得られたアミ
ノエチルピペリジン誘導体は例えば医薬品、農薬等を製
造するための原料として有用である。
チル−４−ヒドロキシピペリジンを得、次いで一般式 【化１】 で表されるメチレン誘導体を反応させ、一般式 【化２】 で表されるシアノメチルピペリジン誘導体を得、更に還
元して一般式 【化３】 で表されるアミノエチルピペリジン誘導体を製造する
（式中、Ｘ1 はハロゲン原子、Ｒ1 及びＲ2 は置換若し
くは無置換の芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基であ
り、Ｘ2 はハロゲン原子又は置換スルホニルオキシ基で
ある。）。 【効果】 この方法は、アミノエチルピペリジン誘導体
を収率よく製造することができる。さらに得られたアミ
ノエチルピペリジン誘導体は例えば医薬品、農薬等を製
造するための原料として有用である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、一般式
【化９】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は置換若しくは無置換の芳香族炭
化水素基又は芳香族複素環基である。）で表されるアミ
ノエチルピペリジン誘導体の製造方法に関する。
化水素基又は芳香族複素環基である。）で表されるアミ
ノエチルピペリジン誘導体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】前記一般式（Ｉ）で表されるアミノエチ
ルピペリジン誘導体は、例えば医薬品、農薬等の原料と
して広く用いられている。この前記一般式（Ｉ）で表さ
れるアミノエチルピペリジン誘導体を製造するには、４
−ヒドロキシピペリジンを出発原料とし保護基の導入反
応、脱保護反応、Ｎ−（２−ブロモエチル）フタルイミ
ドとの反応、フタルイミド基のヒドラジン分解等の工程
を経て製造されていた（特開昭６１−１０６５５５号、
特開平４−３６４１５６号参照）。
ルピペリジン誘導体は、例えば医薬品、農薬等の原料と
して広く用いられている。この前記一般式（Ｉ）で表さ
れるアミノエチルピペリジン誘導体を製造するには、４
−ヒドロキシピペリジンを出発原料とし保護基の導入反
応、脱保護反応、Ｎ−（２−ブロモエチル）フタルイミ
ドとの反応、フタルイミド基のヒドラジン分解等の工程
を経て製造されていた（特開昭６１−１０６５５５号、
特開平４−３６４１５６号参照）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この製造法は、保護基
の導入反応と脱保護反応とを行うため製造工程が長く、
さらにフタルイミド基をヒドラジン分解してアミノ基に
誘導するため多量のフタルヒドラジドが生成する等の問
題点を有し工業的な製造法として満足できるものではな
かった。
の導入反応と脱保護反応とを行うため製造工程が長く、
さらにフタルイミド基をヒドラジン分解してアミノ基に
誘導するため多量のフタルヒドラジドが生成する等の問
題点を有し工業的な製造法として満足できるものではな
かった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】そこで本発明者等は鋭意
研究した結果、新たな前記一般式（Ｉ）で表されるアミ
ノエチルピペリジン誘導体の製造方法を見い出し本発明
を完成した。前記一般式（Ｉ）で表されるアミノエチル
ピペリジン誘導体は、下記反応式に従い製造することが
できる。
研究した結果、新たな前記一般式（Ｉ）で表されるアミ
ノエチルピペリジン誘導体の製造方法を見い出し本発明
を完成した。前記一般式（Ｉ）で表されるアミノエチル
ピペリジン誘導体は、下記反応式に従い製造することが
できる。
【０００５】
【化１０】 （式中、Ｘ1 はハロゲン原子、Ｘ2 はハロゲン原子又は
置換スルホニルオキシ基、Ｒ1 及びＲ2 は前記と同じで
ある。）
置換スルホニルオキシ基、Ｒ1 及びＲ2 は前記と同じで
ある。）
【０００６】（第１工程）本工程は４−ピペリジノール
（II）と前記一般式（III ）で表されるニトリル誘導体
とを反応させることにより１−シアノメチル−４−ヒド
ロキシピペリジン（IV）を製造するものである。
（II）と前記一般式（III ）で表されるニトリル誘導体
とを反応させることにより１−シアノメチル−４−ヒド
ロキシピペリジン（IV）を製造するものである。
【０００７】この反応に用いる４−ピペリジノール（I
I）及び前記一般式（III ）で表されるニトリル誘導体
は工業的に容易に入手可能な化合物である。この一般式
（III）で表されるニトリル誘導体において、Ｘ1 は塩
素原子、臭素原子又はヨウ素原子のハロゲン原子であ
り、前記一般式（III ）で表されるニトリル誘導体とし
ては例えばクロロアセトニトリル、ブロモアセトニトリ
ル等を挙げることができる。
I）及び前記一般式（III ）で表されるニトリル誘導体
は工業的に容易に入手可能な化合物である。この一般式
（III）で表されるニトリル誘導体において、Ｘ1 は塩
素原子、臭素原子又はヨウ素原子のハロゲン原子であ
り、前記一般式（III ）で表されるニトリル誘導体とし
ては例えばクロロアセトニトリル、ブロモアセトニトリ
ル等を挙げることができる。
【０００８】反応を行うにあたっては塩基の存在下行う
ことが好ましく、塩基としては例えば炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基、
又はトリエチルアミン、ジエチルアミン、ピリジン、コ
リジン等の有機塩基を用いることができる。反応は不活
性溶媒中で行うことが好ましく、例えばベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、テトラヒドロフラン
（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、ジグライム等のエー
テル類、酢酸エチル等のエステル類、ＤＭＦ等のアミド
類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル
類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類等を単
独又は混合して用いることができる。反応は−７８℃〜
１５０℃で行うことができるが、効率良く行うには０℃
〜８０℃で行うことが好ましい。
ことが好ましく、塩基としては例えば炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基、
又はトリエチルアミン、ジエチルアミン、ピリジン、コ
リジン等の有機塩基を用いることができる。反応は不活
性溶媒中で行うことが好ましく、例えばベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、テトラヒドロフラン
（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、ジグライム等のエー
テル類、酢酸エチル等のエステル類、ＤＭＦ等のアミド
類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル
類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類等を単
独又は混合して用いることができる。反応は−７８℃〜
１５０℃で行うことができるが、効率良く行うには０℃
〜８０℃で行うことが好ましい。
【０００９】（第２工程）本工程は前記第１工程で製造
された１−シアノメチル−４−ヒドロキシピペリジン
（IV）と前記一般式（Ｖ）で表されるメチレン誘導体と
を反応させて前記一般式（VI）で表されるシアノメチル
ピペリジン誘導体を製造するものである。
された１−シアノメチル−４−ヒドロキシピペリジン
（IV）と前記一般式（Ｖ）で表されるメチレン誘導体と
を反応させて前記一般式（VI）で表されるシアノメチル
ピペリジン誘導体を製造するものである。
【００１０】本工程の反応に用いる前記一般式（Ｖ）で
表されるメチレン誘導体は、Ｒ1 及びＲ2 が同一又は異
なり置換若しくは無置換の芳香族炭化水素基又は芳香族
複素環基である。芳香族炭化水素基としては例えばフェ
ニル基、ナフチル基等を挙げることができ、芳香族複素
環基としては例えばフリル基、チエニル基、ピリジル基
等を挙げることができる。さらにこれらの芳香族炭化水
素基及び芳香族複素環基には置換基を有していてもよ
く、置換基として例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素等
のハロゲン原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数１〜６のア
ルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等の
アルコキシ基等を挙げることができる。またＸ2 は一般
式（III ）で表されるニトリル誘導体のＸ1 と同じハロ
ゲン原子の他、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエ
ンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基等
の置換スルホニルオキシ基を挙げることができる。
表されるメチレン誘導体は、Ｒ1 及びＲ2 が同一又は異
なり置換若しくは無置換の芳香族炭化水素基又は芳香族
複素環基である。芳香族炭化水素基としては例えばフェ
ニル基、ナフチル基等を挙げることができ、芳香族複素
環基としては例えばフリル基、チエニル基、ピリジル基
等を挙げることができる。さらにこれらの芳香族炭化水
素基及び芳香族複素環基には置換基を有していてもよ
く、置換基として例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素等
のハロゲン原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数１〜６のア
ルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等の
アルコキシ基等を挙げることができる。またＸ2 は一般
式（III ）で表されるニトリル誘導体のＸ1 と同じハロ
ゲン原子の他、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエ
ンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基等
の置換スルホニルオキシ基を挙げることができる。
【００１１】反応を行うにあたっては塩基の存在下行う
ことが好ましく、塩基としては前記第１工程の反応に用
いた塩基と同じ無機塩基又は有機塩基を用いることがで
きる。反応は不活性溶媒中で行うことが好ましく、例え
ばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、
テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、
ジグライム等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル
類、ＤＭＦ等のアミド類、アセトニトリル、プロピオニ
トリル等のニトリル類、アセトン、メチルエチルケトン
等のケトン類等を単独又は混合して用いることができ
る。反応は０℃〜１５０℃で行うことができるが、効率
良く行うには０℃〜１５０℃で行うことが好ましい。
ことが好ましく、塩基としては前記第１工程の反応に用
いた塩基と同じ無機塩基又は有機塩基を用いることがで
きる。反応は不活性溶媒中で行うことが好ましく、例え
ばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、
テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、
ジグライム等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル
類、ＤＭＦ等のアミド類、アセトニトリル、プロピオニ
トリル等のニトリル類、アセトン、メチルエチルケトン
等のケトン類等を単独又は混合して用いることができ
る。反応は０℃〜１５０℃で行うことができるが、効率
良く行うには０℃〜１５０℃で行うことが好ましい。
【００１２】（第３工程）本工程は前記一般式（VI）で
表されるシアノメチルピペリジン誘導体を還元すること
により前記一般式（Ｉ）で表されるアミノエチルピペリ
ジン誘導体を製造するものである。
表されるシアノメチルピペリジン誘導体を還元すること
により前記一般式（Ｉ）で表されるアミノエチルピペリ
ジン誘導体を製造するものである。
【００１３】この還元は選択的にシアノ基を還元する方
法に従い行うことができ、例えば接触水素添加法又は還
元剤を使用する方法により実施することができる。接触
水素添加を行うには、水素ガス雰囲気下Ｒｈ／Ａｌ2 Ｏ
3 、Ｒａ−Ｎｉ、ＰｔＯ2 、Ｐｄ／Ｃ、Ｃｏ2 （ＣＯ）
8 、Ｎｉ等の触媒を用いる方法により行うことができ
る。反応は不活性溶媒中で行うことが好ましく、例えば
メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール
類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロ
ゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等のエーテル類、水等を単独又は混合
して用いることができる。
法に従い行うことができ、例えば接触水素添加法又は還
元剤を使用する方法により実施することができる。接触
水素添加を行うには、水素ガス雰囲気下Ｒｈ／Ａｌ2 Ｏ
3 、Ｒａ−Ｎｉ、ＰｔＯ2 、Ｐｄ／Ｃ、Ｃｏ2 （ＣＯ）
8 、Ｎｉ等の触媒を用いる方法により行うことができ
る。反応は不活性溶媒中で行うことが好ましく、例えば
メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール
類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロ
ゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等のエーテル類、水等を単独又は混合
して用いることができる。
【００１４】また還元剤を用いて反応を行うには、還元
剤として例えばＣａ／ＮＨ3 、Ｎａ／ＮＨ3 、ＬｉＡｌ
Ｈ4 、ＮａＡｌ（ＯＥｔ）3 、ＮａＢＨ4 −ＲａＮｉ、
ＮａＢＨ4 −ＣｏＣｌ2 、ＮａＢＨ2 Ｓ3 −ＨＣｌ、Ｎ
ａＢＨ4 −ＢＦ3 等を用いることができる。反応は不活
性溶媒中で行うことが好ましく、前記接触水素添加法と
同じ溶媒を用いることができる。
剤として例えばＣａ／ＮＨ3 、Ｎａ／ＮＨ3 、ＬｉＡｌ
Ｈ4 、ＮａＡｌ（ＯＥｔ）3 、ＮａＢＨ4 −ＲａＮｉ、
ＮａＢＨ4 −ＣｏＣｌ2 、ＮａＢＨ2 Ｓ3 −ＨＣｌ、Ｎ
ａＢＨ4 −ＢＦ3 等を用いることができる。反応は不活
性溶媒中で行うことが好ましく、前記接触水素添加法と
同じ溶媒を用いることができる。
【００１５】以上の工程により得られた前記一般式
（Ｉ）で表されるアミノエチルピペリジン誘導体は、例
えばナフトエ酸化合物と縮合反応を行うことにより抗ア
レルギー剤等の薬剤に誘導することができる。
（Ｉ）で表されるアミノエチルピペリジン誘導体は、例
えばナフトエ酸化合物と縮合反応を行うことにより抗ア
レルギー剤等の薬剤に誘導することができる。
【００１６】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
する。 実施例１ １−シアノメチル−４−ヒドロキシピペリジ
ン
する。 実施例１ １−シアノメチル−４−ヒドロキシピペリジ
ン
【化１１】
【００１７】４−ピペリジノール２０ｇ（２００ｍｍｏ
ｌ）及び炭酸カリウム３０ｇ（２２０ｍｍｏｌ）のアセ
トニトリル５００ｍｌ溶液に、クロロアセトニトリル１
７ｇ（２２０ｍｍｏｌ）のアセトニトリル７０ｍｌ溶液
を２０〜２５℃で滴下した。更に２０時間攪拌した後、
不溶物を濾別し、溶媒を減圧留去した。残留物を塩化メ
チレン２００ｍｌに溶解し、不溶物を濾別した後溶媒を
減圧留去し、１−シアノメチル−４−ヒドロキシピペリ
ジン２８ｇ（収率１００％）を得た。
ｌ）及び炭酸カリウム３０ｇ（２２０ｍｍｏｌ）のアセ
トニトリル５００ｍｌ溶液に、クロロアセトニトリル１
７ｇ（２２０ｍｍｏｌ）のアセトニトリル７０ｍｌ溶液
を２０〜２５℃で滴下した。更に２０時間攪拌した後、
不溶物を濾別し、溶媒を減圧留去した。残留物を塩化メ
チレン２００ｍｌに溶解し、不溶物を濾別した後溶媒を
減圧留去し、１−シアノメチル−４−ヒドロキシピペリ
ジン２８ｇ（収率１００％）を得た。
【００１８】ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）；１．５０（１
Ｈ，ｂｒ−ｓ），１．６０−１．７２（２Ｈ，ｍ），
１．９３−１．９９（２Ｈ，ｍ），２．４３−２．５５
（２Ｈ，ｍ），２．７７−２．８４（２Ｈ，ｍ），３．
５４（２Ｈ，ｓ），３．７０−３．８２（１Ｈ，ｍ） ＩＲ（ｃｍ-1，ＫＢｒ）；ν２２４０（ＣＮ結合） 融点；８１．８℃−８３．４℃
Ｈ，ｂｒ−ｓ），１．６０−１．７２（２Ｈ，ｍ），
１．９３−１．９９（２Ｈ，ｍ），２．４３−２．５５
（２Ｈ，ｍ），２．７７−２．８４（２Ｈ，ｍ），３．
５４（２Ｈ，ｓ），３．７０−３．８２（１Ｈ，ｍ） ＩＲ（ｃｍ-1，ＫＢｒ）；ν２２４０（ＣＮ結合） 融点；８１．８℃−８３．４℃
【００１９】実施例２ １−シアノメチル−４−ベンズ
ヒドリルオキシピペリジン
ヒドリルオキシピペリジン
【化１２】
【００２０】不活性ガス雰囲気下、遮光下に実施例１で
製造した１−シアノメチル−４−ヒドロキシピペリジン
２８ｇ（２００ｍｍｏｌ）、ベンズヒドリルブロミド５
５ｇ（２２０ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム３０ｇ（２２
０ｍｍｏｌ）のアセトニトリル２８０ｍｌ溶液を４時間
加熱還流した。溶媒を減圧留去した後、残留物に水３０
０ｍｌを加え、イソプロピルエーテル１２００ｍｌで抽
出した。有機層を水洗後無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
溶媒を減圧留去してシリカゲルクロマトグラフィーに付
し１−シアノメチル−４−ベンズヒドリルオキシピペリ
ジン４５ｇ（収率７５％）を得た。
製造した１−シアノメチル−４−ヒドロキシピペリジン
２８ｇ（２００ｍｍｏｌ）、ベンズヒドリルブロミド５
５ｇ（２２０ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム３０ｇ（２２
０ｍｍｏｌ）のアセトニトリル２８０ｍｌ溶液を４時間
加熱還流した。溶媒を減圧留去した後、残留物に水３０
０ｍｌを加え、イソプロピルエーテル１２００ｍｌで抽
出した。有機層を水洗後無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
溶媒を減圧留去してシリカゲルクロマトグラフィーに付
し１−シアノメチル−４−ベンズヒドリルオキシピペリ
ジン４５ｇ（収率７５％）を得た。
【００２１】ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）；１．７０−
１．８５（２Ｈ，ｍ），１．８９−２．００（２Ｈ，
ｍ），２．３８−２．４９（２Ｈ，ｍ），２．７５−
２．８３（２Ｈ，ｍ），３．４３−３．５０（１Ｈ，
ｍ），３．５０（２Ｈ，ｓ），５．５０（１Ｈ，ｓ），
７．２０−７．４０（１０Ｈ，ｍ） ＩＲ（ｃｍ-1，ＫＢｒ）；ν２２４０（ＣＮ結合） 融点；７８．７℃−８３．４℃
１．８５（２Ｈ，ｍ），１．８９−２．００（２Ｈ，
ｍ），２．３８−２．４９（２Ｈ，ｍ），２．７５−
２．８３（２Ｈ，ｍ），３．４３−３．５０（１Ｈ，
ｍ），３．５０（２Ｈ，ｓ），５．５０（１Ｈ，ｓ），
７．２０−７．４０（１０Ｈ，ｍ） ＩＲ（ｃｍ-1，ＫＢｒ）；ν２２４０（ＣＮ結合） 融点；７８．７℃−８３．４℃
【００２２】実施例３ １−（２−アミノ）エチル−４
−ベンズヒドリルオキシピペリジン
−ベンズヒドリルオキシピペリジン
【化１３】
【００２３】実施例２で製造した１−シアノメチル−４
−ベンズヒドリルオキシピペリジン１０ｇ（３３ｍｍｏ
ｌ）をエタノール１５０ｍｌに溶解し、氷冷下アンモニ
アガスで飽和後５％ロジウム オン アルミナ２ｇを加
え、室温、５ｋｇ／ｃｍ2 で２４時間水素添加した。触
媒を濾過後、溶媒を減圧留去し、残留物を酢酸エチル１
００ｍｌに溶解し、１Ｎ−塩酸１００ｍｌで抽出した。
有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、溶媒を減圧留去し、油状の１−（２−アミノ）エ
チル−４−ベンズヒドリルオキシピペリジン９．２ｇ
（収率９５％）を得た。
−ベンズヒドリルオキシピペリジン１０ｇ（３３ｍｍｏ
ｌ）をエタノール１５０ｍｌに溶解し、氷冷下アンモニ
アガスで飽和後５％ロジウム オン アルミナ２ｇを加
え、室温、５ｋｇ／ｃｍ2 で２４時間水素添加した。触
媒を濾過後、溶媒を減圧留去し、残留物を酢酸エチル１
００ｍｌに溶解し、１Ｎ−塩酸１００ｍｌで抽出した。
有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、溶媒を減圧留去し、油状の１−（２−アミノ）エ
チル−４−ベンズヒドリルオキシピペリジン９．２ｇ
（収率９５％）を得た。
【００２４】ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）；１．７０−
１．７５（２Ｈ，ｍ），１．８３−１．９６（２Ｈ，
ｍ），２．０７−２．２０（２Ｈ，ｍ），２．４０（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），２．７０−２．８０（４Ｈ，
ｍ），３．４８−３．５０（１Ｈ，ｍ），５．５２（１
Ｈ，ｓ），７．２０−７．４０（１０Ｈ，ｍ）
１．７５（２Ｈ，ｍ），１．８３−１．９６（２Ｈ，
ｍ），２．０７−２．２０（２Ｈ，ｍ），２．４０（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），２．７０−２．８０（４Ｈ，
ｍ），３．４８−３．５０（１Ｈ，ｍ），５．５２（１
Ｈ，ｓ），７．２０−７．４０（１０Ｈ，ｍ）
【００２５】
【発明の効果】本発明の方法は、アミノエチルピペリジ
ン誘導体を収率よく製造することができる。得られたア
ミノエチルピペリジン誘導体は例えば医薬品、農薬等を
製造するための原料として有用である。
ン誘導体を収率よく製造することができる。得られたア
ミノエチルピペリジン誘導体は例えば医薬品、農薬等を
製造するための原料として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｊ 23/755 Ｂ０１Ｊ 23/74 ３１１Ｘ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ ３２１Ｘ
Claims (6)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 で表されるシアノメチルピペリジン誘導体を還元するこ
とからなる一般式 【化２】 で表されるアミノエチルピペリジン誘導体の製造方法
（式中、Ｒ1 及びＲ2 は置換若しくは無置換の芳香族炭
化水素基又は芳香族複素環基である。）。 - 【請求項２】 １−シアノメチル−４−ヒドロキシピペ
リジンと一般式 【化３】 で表されるメチレン誘導体とを反応させ、一般式 【化４】 で表されるシアノメチルピペリジン誘導体を得、次いで
シアノメチルピペリジン誘導体を還元することからなる
一般式 【化５】 で表されるアミノエチルピペリジン誘導体の製造方法
（式中、Ｒ1 及びＲ2 は置換若しくは無置換の芳香族炭
化水素基又は芳香族複素環基であり、Ｘ2 はハロゲン原
子又は置換スルホニルオキシ基である。）。 - 【請求項３】 ４−ピペリジノールと一般式 Ｘ1 −ＣＨ2 −ＣＮ で表されるニトリル誘導体とを反応させ、１−シアノメ
チル−４−ヒドロキシピペリジンを得、次いで一般式 【化６】 で表されるメチレン誘導体を反応させ、一般式 【化７】 で表されるシアノメチルピペリジン誘導体を得、更にシ
アノメチルピペリジン誘導体を還元することからなる一
般式 【化８】 で表されるアミノエチルピペリジン誘導体の製造方法
（式中、Ｘ1 はハロゲン原子、Ｒ1 及びＲ2 は置換若し
くは無置換の芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基であ
り、Ｘ2 はハロゲン原子又は置換スルホニルオキシ基で
ある。）。 - 【請求項４】 触媒の存在下、接触水素添加することに
より還元することを特徴とする請求項１、２又は３のい
ずれか１項に記載の方法。 - 【請求項５】 触媒がＲｈ／Ａｌ2 Ｏ3 、Ｒａ−Ｎｉ、
ＰｔＯ2 、Ｐｄ／Ｃ、Ｃｏ2 （ＣＯ）8 又はＮｉである
請求項４記載の方法。 - 【請求項６】 Ｃａ／ＮＨ3 、Ｎａ／ＮＨ3 、ＬｉＡｌ
Ｈ4 、ＮａＡｌ（ＯＥｔ）3 、ＮａＢＨ4 −ＲａＮｉ、
ＮａＢＨ4 −ＣｏＣｌ2 、ＮａＢＨ2 Ｓ3 −ＨＣｌ又は
ＮａＢＨ4 −ＢＦ3 で還元することを特徴とする請求項
１、２又は３のいずれか１項に記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7161591A JPH08333340A (ja) | 1995-06-06 | 1995-06-06 | アミノエチルピペリジン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7161591A JPH08333340A (ja) | 1995-06-06 | 1995-06-06 | アミノエチルピペリジン誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08333340A true JPH08333340A (ja) | 1996-12-17 |
Family
ID=15738052
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7161591A Pending JPH08333340A (ja) | 1995-06-06 | 1995-06-06 | アミノエチルピペリジン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08333340A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1905757A1 (en) * | 1999-04-06 | 2008-04-02 | Sepracor Inc. | Derivatives of Venlafaxine and methods of preparing and using the same |
| EP1953136A1 (en) * | 1998-12-01 | 2008-08-06 | Sepracor, Inc. | Derivatives of (-)-venlafaxine and methods of preparing and using the same |
| CN104557741A (zh) * | 2015-01-26 | 2015-04-29 | 重庆文理学院 | 1,5-二(2-氨乙基)-1,5-二氮杂环辛烷的合成方法 |
| CN111196781B (zh) * | 2018-11-16 | 2023-07-28 | 湖南中南制药有限责任公司 | 一种改进的制备五氟利多的方法 |
-
1995
- 1995-06-06 JP JP7161591A patent/JPH08333340A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1953136A1 (en) * | 1998-12-01 | 2008-08-06 | Sepracor, Inc. | Derivatives of (-)-venlafaxine and methods of preparing and using the same |
| EP1905757A1 (en) * | 1999-04-06 | 2008-04-02 | Sepracor Inc. | Derivatives of Venlafaxine and methods of preparing and using the same |
| CN104557741A (zh) * | 2015-01-26 | 2015-04-29 | 重庆文理学院 | 1,5-二(2-氨乙基)-1,5-二氮杂环辛烷的合成方法 |
| CN111196781B (zh) * | 2018-11-16 | 2023-07-28 | 湖南中南制药有限责任公司 | 一种改进的制备五氟利多的方法 |
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