JPH08330404A - 半導体装置の製造装置 - Google Patents
半導体装置の製造装置Info
- Publication number
- JPH08330404A JPH08330404A JP15675395A JP15675395A JPH08330404A JP H08330404 A JPH08330404 A JP H08330404A JP 15675395 A JP15675395 A JP 15675395A JP 15675395 A JP15675395 A JP 15675395A JP H08330404 A JPH08330404 A JP H08330404A
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- JP
- Japan
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- insulator
- switch
- wafer
- semiconductor device
- lower electrode
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- Pending
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 絶縁体にアースラインと除電スイッチとを設
けることにより、絶縁体に蓄積された電荷を除去し静電
チャック解除動作を確実にする。 【構成】 チャンバー１内に対向して設けた上部電極２
及び下部電極３と、この下部電極上に設けた絶縁体５
と、この絶縁体に電圧を印加するための直流電源６と、
この直流電源をオンオフするための電源スイッチ８とを
有し、上記絶縁体上にウエハ１１を搭載し静電吸着力に
より固定保持する半導体装置の製造装置において、前記
絶縁体５にアースアライン９を接続し、このアースライ
ン９上にオンオフ操作用の除電スイッチ１０を設けた。
けることにより、絶縁体に蓄積された電荷を除去し静電
チャック解除動作を確実にする。 【構成】 チャンバー１内に対向して設けた上部電極２
及び下部電極３と、この下部電極上に設けた絶縁体５
と、この絶縁体に電圧を印加するための直流電源６と、
この直流電源をオンオフするための電源スイッチ８とを
有し、上記絶縁体上にウエハ１１を搭載し静電吸着力に
より固定保持する半導体装置の製造装置において、前記
絶縁体５にアースアライン９を接続し、このアースライ
ン９上にオンオフ操作用の除電スイッチ１０を設けた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は静電チャックを用いた半
導体装置の製造装置に関する。詳しくは、絶縁体にアー
スラインと除電スイッチとを設けることによって、絶縁
体に蓄積された電荷を除去しようとした半導体装置の製
造装置に係るものである。
導体装置の製造装置に関する。詳しくは、絶縁体にアー
スラインと除電スイッチとを設けることによって、絶縁
体に蓄積された電荷を除去しようとした半導体装置の製
造装置に係るものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の半導体装置の製造装置としての半
導体エッチング装置は、真空チャンバー内に上部電極と
下部電極とを備え、下部電極を冷却水等で冷却しながら
この下部電極上にウエハを搭載して固定保持する構成で
ある。この場合ウエハの固定保持手段の１つとして静電
チャックが用いられていた。この静電チャックは、下部
電極に絶縁体を介してウエハを搭載し、この絶縁体上に
ウエハを固定するために、絶縁体に直流電源による負の
バイアス電圧を印加して、下部電極側に静電吸引力を発
生させウエハを吸着させるものである。エッチングが終
了すると静電チャックの電源を切って絶縁体上の電荷を
除去し静電吸引力を解除してウエハを取外していた。
導体エッチング装置は、真空チャンバー内に上部電極と
下部電極とを備え、下部電極を冷却水等で冷却しながら
この下部電極上にウエハを搭載して固定保持する構成で
ある。この場合ウエハの固定保持手段の１つとして静電
チャックが用いられていた。この静電チャックは、下部
電極に絶縁体を介してウエハを搭載し、この絶縁体上に
ウエハを固定するために、絶縁体に直流電源による負の
バイアス電圧を印加して、下部電極側に静電吸引力を発
生させウエハを吸着させるものである。エッチングが終
了すると静電チャックの電源を切って絶縁体上の電荷を
除去し静電吸引力を解除してウエハを取外していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ウエハ
のエッチングが終了して、静電チャックの電源を切って
も、絶縁体上の電荷は完全には除去されず、ウエハにも
電荷が残り、下部電極から、離れにくい場合があった。
このため、次の行程への移行がスムーズでなく作業上支
障を来すおそれがあった。これに対処するためにウエハ
のエッチング後に、Ｎ2放電等による除電プロセスを設
けていたが、プロセス自体が面倒となり、生産性を低下
させる一因ともなっていた。
のエッチングが終了して、静電チャックの電源を切って
も、絶縁体上の電荷は完全には除去されず、ウエハにも
電荷が残り、下部電極から、離れにくい場合があった。
このため、次の行程への移行がスムーズでなく作業上支
障を来すおそれがあった。これに対処するためにウエハ
のエッチング後に、Ｎ2放電等による除電プロセスを設
けていたが、プロセス自体が面倒となり、生産性を低下
させる一因ともなっていた。
【０００４】本発明は、上記従来技術の問題点に鑑みな
されたものであって、絶縁体にアースラインと除電スイ
ッチとを設けることにより、絶縁体に蓄積された電荷を
除去し静電チャックの解除動作を確実にして生産性の向
上を図った半導体装置の製造装置の提供を目的とする。
されたものであって、絶縁体にアースラインと除電スイ
ッチとを設けることにより、絶縁体に蓄積された電荷を
除去し静電チャックの解除動作を確実にして生産性の向
上を図った半導体装置の製造装置の提供を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明では、チャンバ内に対向して設けた上部電極
及び下部電極と、この下部電極上に設けた絶縁体と、こ
の絶縁体に電圧を印加するための直流電源と、この直流
電源をオン・オフするための電源スイツチとを有し、上
記絶縁体上にウエハを搭載して静電吸着力により固定保
持する半導体装置の製造装置において、前記絶縁体にア
ースラインを接続し、このアースライン上にオン・オフ
操作用除電スイッチを設けたことを特徴とする半導体装
置の製造装置を提供する。
め、本発明では、チャンバ内に対向して設けた上部電極
及び下部電極と、この下部電極上に設けた絶縁体と、こ
の絶縁体に電圧を印加するための直流電源と、この直流
電源をオン・オフするための電源スイツチとを有し、上
記絶縁体上にウエハを搭載して静電吸着力により固定保
持する半導体装置の製造装置において、前記絶縁体にア
ースラインを接続し、このアースライン上にオン・オフ
操作用除電スイッチを設けたことを特徴とする半導体装
置の製造装置を提供する。
【０００６】好ましい実施例においては、前記電源スイ
ッチの開閉動作が相互に逆となるように両スイッチを連
結したことを特徴としている。
ッチの開閉動作が相互に逆となるように両スイッチを連
結したことを特徴としている。
【０００７】
【作用】静電チャックをオンにしてウエハを絶縁体上に
固定保持する場合には直流電源のスイッチをオンにし
て、印加された電圧により絶縁体上に電荷が蓄積され
る。この電荷により静電吸引力が発生しウエハを吸着す
る。静電チャックを解除する場合には直流電源のスイッ
チをオフにすると共にアースライン上の除電スイッチを
オンにすると、絶縁体上の電荷はアースラインを通して
流れ除電される。これにより静電吸着力が完全に解除さ
れる。
固定保持する場合には直流電源のスイッチをオンにし
て、印加された電圧により絶縁体上に電荷が蓄積され
る。この電荷により静電吸引力が発生しウエハを吸着す
る。静電チャックを解除する場合には直流電源のスイッ
チをオフにすると共にアースライン上の除電スイッチを
オンにすると、絶縁体上の電荷はアースラインを通して
流れ除電される。これにより静電吸着力が完全に解除さ
れる。
【０００８】
【実施例】図１は、本発明の第１の実施例に係る半導体
装置の製造装置としての半導体エッチング装置を示す基
本構成図である。真空チャンバ１内には上部電極２と下
部電極３とが対向して配設されている。上部電極２は接
地され、下部電極３には高周波電源４が接続されてい
る。下部電極３上に敷設された絶縁体５には直流電源６
のバイアスライン７が接続され、このバイアスライン７
上に直流電源６のオン・オフ操作用電源スイッチ８が設
けられている。
装置の製造装置としての半導体エッチング装置を示す基
本構成図である。真空チャンバ１内には上部電極２と下
部電極３とが対向して配設されている。上部電極２は接
地され、下部電極３には高周波電源４が接続されてい
る。下部電極３上に敷設された絶縁体５には直流電源６
のバイアスライン７が接続され、このバイアスライン７
上に直流電源６のオン・オフ操作用電源スイッチ８が設
けられている。
【０００９】また、絶縁体５にはアースライン９が接続
され、このアースライン９上にオン・オフ操作用除電ス
イッチ１０が設けられている。絶縁体５、直流電源６及
びバイアスライン７等により、静電チャックが構成され
る。この静電チャックは絶縁体５上に搭載されたウエハ
１１のエッチング中、電源スイッチ８をオンとして直流
電源６による負のバイアス電圧を絶縁体５に印加して、
下部電極３側に静電吸引力を発生するようにしてウエハ
１１を吸着し、固定保持するものである。
され、このアースライン９上にオン・オフ操作用除電ス
イッチ１０が設けられている。絶縁体５、直流電源６及
びバイアスライン７等により、静電チャックが構成され
る。この静電チャックは絶縁体５上に搭載されたウエハ
１１のエッチング中、電源スイッチ８をオンとして直流
電源６による負のバイアス電圧を絶縁体５に印加して、
下部電極３側に静電吸引力を発生するようにしてウエハ
１１を吸着し、固定保持するものである。
【００１０】上記構成の半導体エッチング装置におい
て、電源スイッチ８がオンであると共に、除電スイッチ
１０がオフであり、絶縁体５上のウエハ１１がエッチン
グされる際、絶縁体５上に電荷が蓄積されウエハが吸着
保持される。ついでエッチングが終了して、電源スイッ
チ８をオフにすると共に、除電スイッチ１０をオンにす
ると、絶縁体５に蓄積されていた電荷はアースライン９
を通して流れ出し、完全に除電される。
て、電源スイッチ８がオンであると共に、除電スイッチ
１０がオフであり、絶縁体５上のウエハ１１がエッチン
グされる際、絶縁体５上に電荷が蓄積されウエハが吸着
保持される。ついでエッチングが終了して、電源スイッ
チ８をオフにすると共に、除電スイッチ１０をオンにす
ると、絶縁体５に蓄積されていた電荷はアースライン９
を通して流れ出し、完全に除電される。
【００１１】次に、第２の実施例について、図２を参照
して説明する。
して説明する。
【００１２】図２は半導体エッチング装置の要部構成図
である。図２では、電源スイッチ８及び除電スイッチ１
０の開閉を制御するコントローラ１２が設けられてい
る。このコントローラ１２は電源スイッチ８がオフのと
き除電スイッチ１０をオンにすると共に、電源スイッチ
８がオンのとき除電スイッチ１０をオフにするように両
スイッチ８、１０を連動させて制御するものである。し
たがってエッチングが終了して、電源スイッチ８がオフ
にされると、コントローラ１２は自動的に除電スイッチ
１０をオンとするので、絶縁体５上に蓄積された電荷は
アースライン９を通って完全に除電される。また、エッ
チングするに際して、電源スイッチ８をオンとすると除
電スイッチ１０は自動的にオフとなり、絶縁体５上に電
荷が蓄積され、ウエハ１１は絶縁体５上に固定保持され
る。
である。図２では、電源スイッチ８及び除電スイッチ１
０の開閉を制御するコントローラ１２が設けられてい
る。このコントローラ１２は電源スイッチ８がオフのと
き除電スイッチ１０をオンにすると共に、電源スイッチ
８がオンのとき除電スイッチ１０をオフにするように両
スイッチ８、１０を連動させて制御するものである。し
たがってエッチングが終了して、電源スイッチ８がオフ
にされると、コントローラ１２は自動的に除電スイッチ
１０をオンとするので、絶縁体５上に蓄積された電荷は
アースライン９を通って完全に除電される。また、エッ
チングするに際して、電源スイッチ８をオンとすると除
電スイッチ１０は自動的にオフとなり、絶縁体５上に電
荷が蓄積され、ウエハ１１は絶縁体５上に固定保持され
る。
【００１３】さらに、別の実施例として、アースライン
９及び除電スイッチ１０を用いる代わりに、絶縁体５と
同等の容量をもつコンデンサを用いてもよい。即ち、コ
ンデンサをバイアスライン７に並列に接続して、エッチ
ング終了後、電源スイッチ８がオフ操作されると同時
に、コンデンサから所定の逆電荷を絶縁体５に流し、絶
縁体上の電荷を中和して除電するように構成してもよ
い。
９及び除電スイッチ１０を用いる代わりに、絶縁体５と
同等の容量をもつコンデンサを用いてもよい。即ち、コ
ンデンサをバイアスライン７に並列に接続して、エッチ
ング終了後、電源スイッチ８がオフ操作されると同時
に、コンデンサから所定の逆電荷を絶縁体５に流し、絶
縁体上の電荷を中和して除電するように構成してもよ
い。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、絶縁体にアースラインを接続し、このアースライン
上に除電スイッチを設けたため、静電チャックを解除す
る際、絶縁体上の電荷は除電スイッチをオンすることに
よりアースラインを通じて完全に除電できる。これによ
り従来のようなＮ2放電等を用いた除電プロセスが不要
になると共に、絶縁体上に搭載されたウエハは絶縁体か
ら容易に離すことができ、ウエハの取扱い処理が円滑に
行われる。これにより、各プロセスにおける作業性が向
上し、次の行程へスムーズに移行でき作業の信頼性とと
もに歩留りの向上および生産性の向上が期待できる。
は、絶縁体にアースラインを接続し、このアースライン
上に除電スイッチを設けたため、静電チャックを解除す
る際、絶縁体上の電荷は除電スイッチをオンすることに
よりアースラインを通じて完全に除電できる。これによ
り従来のようなＮ2放電等を用いた除電プロセスが不要
になると共に、絶縁体上に搭載されたウエハは絶縁体か
ら容易に離すことができ、ウエハの取扱い処理が円滑に
行われる。これにより、各プロセスにおける作業性が向
上し、次の行程へスムーズに移行でき作業の信頼性とと
もに歩留りの向上および生産性の向上が期待できる。
【００１５】また、電源スイッチと除電スイッチの開閉
動作が相互に逆となるように両スイッチを連結すること
により、スイッチ操作が自動的にかつ確実に行われ生産
性の効率化がさらに図られる。
動作が相互に逆となるように両スイッチを連結すること
により、スイッチ操作が自動的にかつ確実に行われ生産
性の効率化がさらに図られる。
【００１６】なお、前記実施例は真空チャンバを用いた
エッチング装置について説明したが、本発明はこれに限
定されるものではなく、常圧又は減圧ＣＶＤ装置やスパ
ッタ装置その他ウエハを静電吸着して処理を施す半導体
製造装置に対し適用可能である。
エッチング装置について説明したが、本発明はこれに限
定されるものではなく、常圧又は減圧ＣＶＤ装置やスパ
ッタ装置その他ウエハを静電吸着して処理を施す半導体
製造装置に対し適用可能である。
【図１】 本発明の第１の実施例に係る半導体装置の製
造装置の構成図である。
造装置の構成図である。
【図２】 本発明の第２の実施例に係る半導体装置の製
造装置の要部構成図である。
造装置の要部構成図である。
１：チャンバ（真空チャンバ）、２：上部電極、３：下
部電極、５：絶縁体、６：直流電源、７：バイアスライ
ン、８：電源スイッチ、９：アースライン、１０：除電
スイッチ、１１：ウエハ、１２：コントローラ。
部電極、５：絶縁体、６：直流電源、７：バイアスライ
ン、８：電源スイッチ、９：アースライン、１０：除電
スイッチ、１１：ウエハ、１２：コントローラ。
Claims (2)
- 【請求項１】 チャンバー内に対向して設けた上部電極
及び下部電極と、 この下部電極上に設けた絶縁体と、 この絶縁体に電圧を印加するための直流電源と、 この直流電源をオンオフするための電源スイッチとを有
し、上記絶縁体上にウエハを搭載し静電吸着力により固
定保持する半導体装置の製造装置において、 前記絶縁体にアースアラインを接続し、このアースライ
ン上にオンオフ操作用の除電スイッチを設けたことを特
徴とする半導体装置の製造装置。 - 【請求項２】 前記電源スイッチと除電スイッチの開閉
動作が相互に逆となるように両スイッチを連結したこと
を特徴とする請求項１に記載の半導体装置の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15675395A JPH08330404A (ja) | 1995-05-31 | 1995-05-31 | 半導体装置の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15675395A JPH08330404A (ja) | 1995-05-31 | 1995-05-31 | 半導体装置の製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08330404A true JPH08330404A (ja) | 1996-12-13 |
Family
ID=15634570
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15675395A Pending JPH08330404A (ja) | 1995-05-31 | 1995-05-31 | 半導体装置の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08330404A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113862645A (zh) * | 2021-09-28 | 2021-12-31 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 承载装置及半导体工艺腔室 |
-
1995
- 1995-05-31 JP JP15675395A patent/JPH08330404A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113862645A (zh) * | 2021-09-28 | 2021-12-31 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 承载装置及半导体工艺腔室 |
| CN113862645B (zh) * | 2021-09-28 | 2023-09-08 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 承载装置及半导体工艺腔室 |
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