JPH08325231A - N−アリールアミノアクリル酸誘導体の製造方法並びにこうして製造したn−アリールアミノアクリル酸誘導体の4−キノロン−3−カルボン酸誘導体の製造のための使用 - Google Patents
N−アリールアミノアクリル酸誘導体の製造方法並びにこうして製造したn−アリールアミノアクリル酸誘導体の4−キノロン−3−カルボン酸誘導体の製造のための使用Info
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- JPH08325231A JPH08325231A JP7247044A JP24704495A JPH08325231A JP H08325231 A JPH08325231 A JP H08325231A JP 7247044 A JP7247044 A JP 7247044A JP 24704495 A JP24704495 A JP 24704495A JP H08325231 A JPH08325231 A JP H08325231A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 N−アリールアミノアクリル酸誘導体の有利
な製造方法の提供。 【解決手段】 ベンソイル酢酸誘導体をN−アリールイ
ミノエーテルと反応させる。 【効果】 本発明に従って製造されたN−アリールアミ
ノアクリル酸誘導体は純度が高いので、さらに中間体の
単離や精製をすることなく生成物を加工して、4−キノ
ロン−3−カルボン酸誘導体を得ることができる。
な製造方法の提供。 【解決手段】 ベンソイル酢酸誘導体をN−アリールイ
ミノエーテルと反応させる。 【効果】 本発明に従って製造されたN−アリールアミ
ノアクリル酸誘導体は純度が高いので、さらに中間体の
単離や精製をすることなく生成物を加工して、4−キノ
ロン−3−カルボン酸誘導体を得ることができる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、第1に、本発明に
よらなければ不満足にしか入手できない、N−アリール
アミノアクリル酸誘導体の有利な製造方法に関する。
よらなければ不満足にしか入手できない、N−アリール
アミノアクリル酸誘導体の有利な製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ベンゾ
イル酢酸エステルをオルトギ酸トリアルキルとの縮合反
応に供し、β−アルコキシアクリル酸エステル誘導体を
得て次にこれらをN−アリールアミンと反応させて、N
−アリールアミノアクリル酸誘導体を製造することは公
知である(J.Med.Chem.28,1558−1
564(1985)参照)。この場合にオルトギ酸トリ
アルキルとの縮合反応は過剰の無水酢酸中で実施しなけ
ればならない。そうでなければN−アリールアミンが無
水酢酸と反応するので、N−アリールアミンの添加前に
この無水酢酸を完全に除去しなければならない。オルト
ギ酸トリアルキルとの縮合反応中の無水酢酸の不存在は
激烈な収率の低減をもたらす(J.Am.Chem.S
oc.74,4889(1952)参照)。反応温度は
130℃以上である。この反応で、困難さを伴ってのみ
除去できる強く着色した未知の構造の二次成分が形成さ
れる。
イル酢酸エステルをオルトギ酸トリアルキルとの縮合反
応に供し、β−アルコキシアクリル酸エステル誘導体を
得て次にこれらをN−アリールアミンと反応させて、N
−アリールアミノアクリル酸誘導体を製造することは公
知である(J.Med.Chem.28,1558−1
564(1985)参照)。この場合にオルトギ酸トリ
アルキルとの縮合反応は過剰の無水酢酸中で実施しなけ
ればならない。そうでなければN−アリールアミンが無
水酢酸と反応するので、N−アリールアミンの添加前に
この無水酢酸を完全に除去しなければならない。オルト
ギ酸トリアルキルとの縮合反応中の無水酢酸の不存在は
激烈な収率の低減をもたらす(J.Am.Chem.S
oc.74,4889(1952)参照)。反応温度は
130℃以上である。この反応で、困難さを伴ってのみ
除去できる強く着色した未知の構造の二次成分が形成さ
れる。
【0003】さらに、第2のプロセス工程では、添加さ
れるN−アリールアミンが望みの位置のみならず、他の
活性化位置、例えばアリール核に対し(カルボニル基に
対してパラの位置)又はエステル官能基に対しても(ア
ミドを形成する)反応できる。これらの二次反応は小さ
な程度でしか起こらないが、それにもかかわらず、それ
らは収率の損失をもたらし、さらなる分離労作を必要と
するのでそれらは極めて望ましくない。N−アリールア
ミノアクリル酸誘導体は、実際に、医薬の製造の中間体
であり、それ故可能な限り最大の純度で製造しなければ
ならない。
れるN−アリールアミンが望みの位置のみならず、他の
活性化位置、例えばアリール核に対し(カルボニル基に
対してパラの位置)又はエステル官能基に対しても(ア
ミドを形成する)反応できる。これらの二次反応は小さ
な程度でしか起こらないが、それにもかかわらず、それ
らは収率の損失をもたらし、さらなる分離労作を必要と
するのでそれらは極めて望ましくない。N−アリールア
ミノアクリル酸誘導体は、実際に、医薬の製造の中間体
であり、それ故可能な限り最大の純度で製造しなければ
ならない。
【0004】イミノエーテルを介するN−アリールアミ
ノアクリル酸誘導体の製造は、迂回ルートを介するもの
のみが知られている(欧州特許出願公開第565 13
2号及びJ.Med.Chem.36,1580(19
93))。この製造において、(置換)ベンゾイル酢酸
エスエルをN,N−ジアルキルホルムアミドアセタール
と反応させてジアルキレンアミンを得て、次にこれを第
2反応段階でN−アリールアミンと反応させて所望の生
成物を得ている。この反応では、N,N−ジアルキルア
ミンが遊離し、そして生態環境的な理由から、これを多
大な労力で分離し、廃棄しなければならない。さらに、
N,N−ジアルキルアミンは、形成条件下で芳香環に対
してハロゲン原子と反応する傾向がある。これらの反応
で望ましくない副生成物が生成するが、上記の理由によ
りこれらを相当の労力で分離しなければならない。
ノアクリル酸誘導体の製造は、迂回ルートを介するもの
のみが知られている(欧州特許出願公開第565 13
2号及びJ.Med.Chem.36,1580(19
93))。この製造において、(置換)ベンゾイル酢酸
エスエルをN,N−ジアルキルホルムアミドアセタール
と反応させてジアルキレンアミンを得て、次にこれを第
2反応段階でN−アリールアミンと反応させて所望の生
成物を得ている。この反応では、N,N−ジアルキルア
ミンが遊離し、そして生態環境的な理由から、これを多
大な労力で分離し、廃棄しなければならない。さらに、
N,N−ジアルキルアミンは、形成条件下で芳香環に対
してハロゲン原子と反応する傾向がある。これらの反応
で望ましくない副生成物が生成するが、上記の理由によ
りこれらを相当の労力で分離しなければならない。
【0005】バルツ−シーマン法により、N−未置換キ
ノロンカルボン酸から、4−ニトロフルオロベンゼンと
の反応(アクリル化)、還元及びフッ素化により、特定
のN−アリールアミノアクリル酸誘導体を得ることがで
きる(Collect.Czech.Chem.Com
mun.54,2181(1989)参照)。この多段
階プロセスの全収率は低く(例えばアクリル化で61
%)、そしてこの手法では特定の置換パターンが得られ
ない。
ノロンカルボン酸から、4−ニトロフルオロベンゼンと
の反応(アクリル化)、還元及びフッ素化により、特定
のN−アリールアミノアクリル酸誘導体を得ることがで
きる(Collect.Czech.Chem.Com
mun.54,2181(1989)参照)。この多段
階プロセスの全収率は低く(例えばアクリル化で61
%)、そしてこの手法では特定の置換パターンが得られ
ない。
【0006】
【課題を解決するための手段】式(I)
【0007】
【化4】
【0008】式中、R1は水素又はC1〜C6アルキルを
表し、R2及びR3は相互に独立して各々フッ素、塩素、
臭素、トリフルオロメチル、シアノ、ニトロ、C1〜C6
アルコキシ、ヒドロキシル、イミダゾリル、トリアゾリ
ル又はC7〜C10アラルコキシを表すか、或いはR2及び
R3は一緒になって、−O−、−CH2−、−CH2O
−、−O−CH2−O−又は−O−CH2−CH2−O−
基を表し、X1及びX2は相互に独立して各々フッ素、塩
素又は臭素を表し、AはCH、N又はCR3(ここでR3
はフッ素、塩素、臭素、トリフルオロメチル、シアノ、
ニトロ、C1〜C6アルコキシ、ヒドロキシル、イミダゾ
リル、トリアゾリル又はC7〜C10アラルコキシであ
る)を表し、BはCH、N又はCR2(ここでR2はフッ
素、塩素、臭素、トリフルオロメチル、シアノ、ニト
ロ、C1〜C6アルコキシ、ヒドロキシル、イミダゾリ
ル、トリアゾリル又はC7〜C10アラルコキシである)
を表し、mは0、1、2又は3を表し、そしてnは0、
1又は2を表す、のN−アリールアミノアクリル酸誘導
体の製造方法であって、式
表し、R2及びR3は相互に独立して各々フッ素、塩素、
臭素、トリフルオロメチル、シアノ、ニトロ、C1〜C6
アルコキシ、ヒドロキシル、イミダゾリル、トリアゾリ
ル又はC7〜C10アラルコキシを表すか、或いはR2及び
R3は一緒になって、−O−、−CH2−、−CH2O
−、−O−CH2−O−又は−O−CH2−CH2−O−
基を表し、X1及びX2は相互に独立して各々フッ素、塩
素又は臭素を表し、AはCH、N又はCR3(ここでR3
はフッ素、塩素、臭素、トリフルオロメチル、シアノ、
ニトロ、C1〜C6アルコキシ、ヒドロキシル、イミダゾ
リル、トリアゾリル又はC7〜C10アラルコキシであ
る)を表し、BはCH、N又はCR2(ここでR2はフッ
素、塩素、臭素、トリフルオロメチル、シアノ、ニト
ロ、C1〜C6アルコキシ、ヒドロキシル、イミダゾリ
ル、トリアゾリル又はC7〜C10アラルコキシである)
を表し、mは0、1、2又は3を表し、そしてnは0、
1又は2を表す、のN−アリールアミノアクリル酸誘導
体の製造方法であって、式
【0009】
【化5】
【0010】式中、R1、R3、X1、X2、A及びnは式
(I)と同義である、のベンゾイル酢酸誘導体を式
(I)と同義である、のベンゾイル酢酸誘導体を式
【0011】
【化6】
【0012】式中、R2、B及びmは式(I)と同義で
あり、そしてR4はC1〜C6アルキルを表す、のN−ア
リールイミノエーテルと反応させることを特徴とする方
法が今回見い出された。
あり、そしてR4はC1〜C6アルキルを表す、のN−ア
リールイミノエーテルと反応させることを特徴とする方
法が今回見い出された。
【0013】
【発明の実施の形態】式(I)及び式(II)におい
て、R1はC1〜C4アルキルを表し、R3はフッ素又は塩
素を表し、X1及びX2は相互に独立して各々フッ素又は
塩素を表し、AはCH又はCR3(ここでR3はフッ素又
は塩素である)を表し、BはCH、N又はCR2(ここ
でR2はF、Cl、Br又はニトロである)を表し、n
は0又は1を表す。
て、R1はC1〜C4アルキルを表し、R3はフッ素又は塩
素を表し、X1及びX2は相互に独立して各々フッ素又は
塩素を表し、AはCH又はCR3(ここでR3はフッ素又
は塩素である)を表し、BはCH、N又はCR2(ここ
でR2はF、Cl、Br又はニトロである)を表し、n
は0又は1を表す。
【0014】式(I)及び式(III)において、R2
は好ましくはフッ素を表し、そしてmは0又は1を表
す。
は好ましくはフッ素を表し、そしてmは0又は1を表
す。
【0015】式(II)において、R4は好ましくはC1
〜C4アルキルを表す。
〜C4アルキルを表す。
【0016】本発明に従う方法の出発物質は公知であ
る。式(II)のベンゾイル酢酸誘導体及びこれらの製
造は、例えばSynthesis 1993,290及
び米国特許第5 262 559号に記載されている。
特に好ましく用いられる式(II)のベンゾイル酢酸誘
導体は、2,3,4,5−テトラフルオロベンゾイル酢
酸メチル、2,4,5−トリフルオロベンゾイル酢酸メ
チル、3−クロロ−2,4,5−トリフルオロベンゾイ
ル酢酸メチル、2,4−ジクロロ−5−フルオロベンゾ
イル酢酸メチル、4−ニトロ−2−クロロ−ベンゾイル
酢酸メチル、2,6−ジクロロ−5−フルオロ−3−ニ
コチノイル酢酸メチル、5,6−ジブロモ−3,4−ジ
オキソロ−ベンゾイル酢酸メチル及び4−ブロモ−2−
クロロベンゾイル酢酸メチル、並びに対応するエチルと
メチルのエステル類である。
る。式(II)のベンゾイル酢酸誘導体及びこれらの製
造は、例えばSynthesis 1993,290及
び米国特許第5 262 559号に記載されている。
特に好ましく用いられる式(II)のベンゾイル酢酸誘
導体は、2,3,4,5−テトラフルオロベンゾイル酢
酸メチル、2,4,5−トリフルオロベンゾイル酢酸メ
チル、3−クロロ−2,4,5−トリフルオロベンゾイ
ル酢酸メチル、2,4−ジクロロ−5−フルオロベンゾ
イル酢酸メチル、4−ニトロ−2−クロロ−ベンゾイル
酢酸メチル、2,6−ジクロロ−5−フルオロ−3−ニ
コチノイル酢酸メチル、5,6−ジブロモ−3,4−ジ
オキソロ−ベンゾイル酢酸メチル及び4−ブロモ−2−
クロロベンゾイル酢酸メチル、並びに対応するエチルと
メチルのエステル類である。
【0017】式(III)のN−アリールイミノエーテ
ルは、例えばドイツ特許出願公開第17 68 004
号、C.A.64,2024及びC.A.84,179
844に記載されている。R4がメチル又はエチルを
表し、R2 m基が2−フルオロ、2−クロロ、3−トリフ
ルオロメチル、2−トリフルオロメチル又は3,4−メ
チレンジオキシを表し、そしてBがCH、N又はCR2
(ここでR2がF、Cl、Br又はニトロである)を表
す式(III)のN−アリールイミノエーテルが特に好
ましく用いられる。
ルは、例えばドイツ特許出願公開第17 68 004
号、C.A.64,2024及びC.A.84,179
844に記載されている。R4がメチル又はエチルを
表し、R2 m基が2−フルオロ、2−クロロ、3−トリフ
ルオロメチル、2−トリフルオロメチル又は3,4−メ
チレンジオキシを表し、そしてBがCH、N又はCR2
(ここでR2がF、Cl、Br又はニトロである)を表
す式(III)のN−アリールイミノエーテルが特に好
ましく用いられる。
【0018】本発明に従う方法は、例えば30〜130
℃の範囲内の温度で実施できる。50〜120℃の温
度、特に70〜100℃の温度が好ましい。
℃の範囲内の温度で実施できる。50〜120℃の温
度、特に70〜100℃の温度が好ましい。
【0019】本発明に従う方法は溶媒を用いないで実施
できる。この場合に、温度は、少なくとも反応混合物が
融成物を形成するのに十分高いように便宜的に選ばれ
る。反応は、さらに不活性溶媒、例えばトルエン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼン、オリゴエチレングリコ
ールモノアルキルエーテル、オリゴエチレングリコール
ジアルキルエーテル、ジメチルホルムアミド又はN−メ
チルピロリドン、の存在下でも実施できる。好ましい溶
媒はジエチレングリコールモノアルキルエーテル及びジ
エチレングリコールジアルキルエーテルである。ブトキ
シエタノール及びジグライムが特に好ましい。
できる。この場合に、温度は、少なくとも反応混合物が
融成物を形成するのに十分高いように便宜的に選ばれ
る。反応は、さらに不活性溶媒、例えばトルエン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼン、オリゴエチレングリコ
ールモノアルキルエーテル、オリゴエチレングリコール
ジアルキルエーテル、ジメチルホルムアミド又はN−メ
チルピロリドン、の存在下でも実施できる。好ましい溶
媒はジエチレングリコールモノアルキルエーテル及びジ
エチレングリコールジアルキルエーテルである。ブトキ
シエタノール及びジグライムが特に好ましい。
【0020】式(II)のベンゾイル酢酸誘導体及び式
(III)のN−アリールイミノエーテルは、例えば
0.6〜1.2:1のモル比で使用できる。この比率は
好ましくは0.8〜1.05:1である。
(III)のN−アリールイミノエーテルは、例えば
0.6〜1.2:1のモル比で使用できる。この比率は
好ましくは0.8〜1.05:1である。
【0021】反応を促進するためそして完全な変換を得
るために、反応中に形成したアルコールを反応混合物か
ら、例えば蒸留により適切であれば減圧下で除去するの
が有利である。
るために、反応中に形成したアルコールを反応混合物か
ら、例えば蒸留により適切であれば減圧下で除去するの
が有利である。
【0022】所望であれば、本発明に従う方法では少量
の強酸を添加して触媒することができる。例えば、トリ
フルオロメタンスルホン酸が好適である。
の強酸を添加して触媒することができる。例えば、トリ
フルオロメタンスルホン酸が好適である。
【0023】本発明に従う方法の反応時間は、例えば1
〜10時間である。反応時間は好ましくは2〜6時間の
範囲である。
〜10時間である。反応時間は好ましくは2〜6時間の
範囲である。
【0024】本発明に従う方法を実施した後に、製造し
た式(I)のN−アリールアミノアクリル酸誘導体は高
純度で、通常97%より高い純度で存在する。特に、そ
れは着色副生成物を含まないが、しばしば使用した少量
の出発物質及び分離したアルコールの可能な残渣を含む
だけである。ほとんどの場合に、本発明に従って製造さ
れる式(I)のN−アリールアミノアクリル酸誘導体
は、さらなる精製をせずに直接使用できる。これは、反
応を溶媒の存在下で実施する場合にも適用される。次い
で溶媒含有生成物を直接さらに使用できる。
た式(I)のN−アリールアミノアクリル酸誘導体は高
純度で、通常97%より高い純度で存在する。特に、そ
れは着色副生成物を含まないが、しばしば使用した少量
の出発物質及び分離したアルコールの可能な残渣を含む
だけである。ほとんどの場合に、本発明に従って製造さ
れる式(I)のN−アリールアミノアクリル酸誘導体
は、さらなる精製をせずに直接使用できる。これは、反
応を溶媒の存在下で実施する場合にも適用される。次い
で溶媒含有生成物を直接さらに使用できる。
【0025】さらなる精製が望まれる場合には、それ
は、例えば低級アルコールと水の混合物から例えば再結
晶により実施できる。反応が溶媒、例えばジグライム、
中で実施される場合には、これを、例えば減圧蒸留か或
いは水の添加と瀘過による生成物の除去により、除去で
きる。
は、例えば低級アルコールと水の混合物から例えば再結
晶により実施できる。反応が溶媒、例えばジグライム、
中で実施される場合には、これを、例えば減圧蒸留か或
いは水の添加と瀘過による生成物の除去により、除去で
きる。
【0026】本発明に従って製造される式(I)のN−
アリールアミノアクリル酸誘導体は、対応する4−キノ
ロン−3−カルボン酸誘導体の製造に好適である。した
がって、本発明は、さらに、溶媒の存在下で補助塩基の
添加により、式
アリールアミノアクリル酸誘導体は、対応する4−キノ
ロン−3−カルボン酸誘導体の製造に好適である。した
がって、本発明は、さらに、溶媒の存在下で補助塩基の
添加により、式
【0027】
【化7】
【0028】式中、R1、R2、R3、X2、A、B,m及
びnは式(I)と同義である、の4−キノロン−3−カ
ルボン酸誘導体を製造するための、本発明に従って製造
される式(I)のN−アリールアミノアクリル酸誘導体
の使用に関する。
びnは式(I)と同義である、の4−キノロン−3−カ
ルボン酸誘導体を製造するための、本発明に従って製造
される式(I)のN−アリールアミノアクリル酸誘導体
の使用に関する。
【0029】可能な補助塩基は例えば酸化マグネシウム
及び/又は酸化カルシウムであり、そして可能な溶媒は
例えば本発明に従う方法に適切であれば使用できるもの
である。
及び/又は酸化カルシウムであり、そして可能な溶媒は
例えば本発明に従う方法に適切であれば使用できるもの
である。
【0030】式(I)のN−アリールアミノアクリル酸
誘導体からの式(IV)のキノロンカルボン酸誘導体の
製造は、例えば90〜130℃、好ましくは100〜1
20℃の温度で実施できる。この理由で、例えばプロト
ン性又は非プロトン性溶媒が溶媒として使用でき、そし
てトルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、オリ
ゴエチレングリコールモノ−もしくはジアルキルエーテ
ル、ジメチルホルムアミド又はN−メチルピロリドンが
好ましい。例えばジエチレングリコールモノ−もしくは
ジアルキルエーテルのような極性溶媒が好ましく、そし
てブトキシエタノール、ジエチレングリコールジメチル
エーテル及びジエチレングリコールジエチルエーテルが
特に好ましい。溶媒は、例えば式(I)の化合物1モル
当たり400〜1000mlの量で使用できる。この量
は好ましくは1モル当たり500〜600mlである。
誘導体からの式(IV)のキノロンカルボン酸誘導体の
製造は、例えば90〜130℃、好ましくは100〜1
20℃の温度で実施できる。この理由で、例えばプロト
ン性又は非プロトン性溶媒が溶媒として使用でき、そし
てトルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、オリ
ゴエチレングリコールモノ−もしくはジアルキルエーテ
ル、ジメチルホルムアミド又はN−メチルピロリドンが
好ましい。例えばジエチレングリコールモノ−もしくは
ジアルキルエーテルのような極性溶媒が好ましく、そし
てブトキシエタノール、ジエチレングリコールジメチル
エーテル及びジエチレングリコールジエチルエーテルが
特に好ましい。溶媒は、例えば式(I)の化合物1モル
当たり400〜1000mlの量で使用できる。この量
は好ましくは1モル当たり500〜600mlである。
【0031】補助塩基は、例えば式(I)の化合物1モ
ル当たり0.5〜3モルであり、そしてこの量は好まし
くは1〜2モルである。
ル当たり0.5〜3モルであり、そしてこの量は好まし
くは1〜2モルである。
【0032】本発明に従う式(IV)のキノロンカルボ
ン酸誘導体の製造用のバッチは、例えば水と酸を添加
し、加熱により残存エステル官能基をカルボン酸に加水
分解し、無機成分を溶解し、そして瀘過で液相から所望
の生成物を分離することにより、後処理できる。可能な
酸は例えば酢酸、クエン酸、硫酸又は塩酸であり、そし
て無機成分は残存補助塩基であることができる。
ン酸誘導体の製造用のバッチは、例えば水と酸を添加
し、加熱により残存エステル官能基をカルボン酸に加水
分解し、無機成分を溶解し、そして瀘過で液相から所望
の生成物を分離することにより、後処理できる。可能な
酸は例えば酢酸、クエン酸、硫酸又は塩酸であり、そし
て無機成分は残存補助塩基であることができる。
【0033】この観点から、式(I)のN−アリールア
ミノアクリル酸誘導体を単離せずに、式(IV)の4−
キノロン−3−カルボン酸誘導体への変換を、それらの
製造の容器と同一の容器内で実施するのが特に好ましい
(ワン−ポット法)。式(IV)の4−キノロン−3−
カルボン酸誘導体を好適なアミンと反応させて、高度に
活性な抗生物質を得ることができる(米国特許第 4
994 599号参照)。
ミノアクリル酸誘導体を単離せずに、式(IV)の4−
キノロン−3−カルボン酸誘導体への変換を、それらの
製造の容器と同一の容器内で実施するのが特に好ましい
(ワン−ポット法)。式(IV)の4−キノロン−3−
カルボン酸誘導体を好適なアミンと反応させて、高度に
活性な抗生物質を得ることができる(米国特許第 4
994 599号参照)。
【0034】式(II)のベンゾイル酢酸誘導体及び式
(III)のN−アクリルイミノエーテルを穏やかな条
件下で縮合反応に供して、本発明に従う手法で式(I)
のN−アリールアミノアクリル酸誘導体を得ること、し
かも非常に高収率でかつ高純度で得ること、ができるこ
とは、決定的に驚くべきことである。
(III)のN−アクリルイミノエーテルを穏やかな条
件下で縮合反応に供して、本発明に従う手法で式(I)
のN−アリールアミノアクリル酸誘導体を得ること、し
かも非常に高収率でかつ高純度で得ること、ができるこ
とは、決定的に驚くべきことである。
【0035】したがって、例えば2,4−ジクロロ−5
−フルオロベンゾイル酢酸メチルは、O−エチル N−
(4−フルオロフェニル)−ホルムイミノエーテルと、
溶媒なしでは50℃でさえも数時間内に、適度に極性溶
媒中では50℃3時間内に、完全に反応する。製造した
式(I)のN−アリールアミノアクリル酸誘導体は純度
が高いので、さらに中間体の単離や精製をすることなく
生成物を加工して、例えば医薬品質条件を直ちに満たす
式(IV)の4−キノロン−3−カルボン酸誘導体を得
ることができる。そのような式(IV)の4−キノロン
−3−カルボン酸誘導体の製造においては、使用した式
(II)のN−アリールイミノエーテルに基づいた理論
値の約85%の収率が一般に達成される。
−フルオロベンゾイル酢酸メチルは、O−エチル N−
(4−フルオロフェニル)−ホルムイミノエーテルと、
溶媒なしでは50℃でさえも数時間内に、適度に極性溶
媒中では50℃3時間内に、完全に反応する。製造した
式(I)のN−アリールアミノアクリル酸誘導体は純度
が高いので、さらに中間体の単離や精製をすることなく
生成物を加工して、例えば医薬品質条件を直ちに満たす
式(IV)の4−キノロン−3−カルボン酸誘導体を得
ることができる。そのような式(IV)の4−キノロン
−3−カルボン酸誘導体の製造においては、使用した式
(II)のN−アリールイミノエーテルに基づいた理論
値の約85%の収率が一般に達成される。
【0036】このことはまったくさらに驚くべきことで
ある。何故ならば、N−アリールイミノエーテルはN−
アルキルイミノエーテルよりも反応性が低いため、N−
アルキルイミノエーテル類を用いる既知の合成よりもよ
り厳しい条件が必要となり、このためより多量の副生成
物の形成をもたらしそしてそれ故より劣る収率及び純度
をもたらすであろうことが予測されたからである。N−
アルキルイミノエーテルを用いる同様の合成が、例えば
Acta Chimica Academiae Sc
ientiarum Hungarica 74
(3),351−356(1972)[これには、少な
くとも140℃の温度、少なくとも24時間の反応時
間、68%以下の収率及びN−アリール誘導体の製造が
不可能なことが記載されている(後者に関してはlo
c.cit.78(2),217及び223参照)]に
記載され、J.Heterocyclic Chem.
24,1537(1987)に記載され、そして lo
c.cit.17,1729(1980)に記載されて
いる。挙げた最後の2つの刊行物では、反応条件として
各々65℃で少なくとも48時間又は110〜115℃
で72時間が記載され、そして各々理論値の80%及び
56%の収率が示されている。
ある。何故ならば、N−アリールイミノエーテルはN−
アルキルイミノエーテルよりも反応性が低いため、N−
アルキルイミノエーテル類を用いる既知の合成よりもよ
り厳しい条件が必要となり、このためより多量の副生成
物の形成をもたらしそしてそれ故より劣る収率及び純度
をもたらすであろうことが予測されたからである。N−
アルキルイミノエーテルを用いる同様の合成が、例えば
Acta Chimica Academiae Sc
ientiarum Hungarica 74
(3),351−356(1972)[これには、少な
くとも140℃の温度、少なくとも24時間の反応時
間、68%以下の収率及びN−アリール誘導体の製造が
不可能なことが記載されている(後者に関してはlo
c.cit.78(2),217及び223参照)]に
記載され、J.Heterocyclic Chem.
24,1537(1987)に記載され、そして lo
c.cit.17,1729(1980)に記載されて
いる。挙げた最後の2つの刊行物では、反応条件として
各々65℃で少なくとも48時間又は110〜115℃
で72時間が記載され、そして各々理論値の80%及び
56%の収率が示されている。
【0037】
【実施例】実施例1 88g(0.53モル)のN−(4−フルオロフェニ
ル)−ホルムイミノエチルエーテルを反応容器中に最初
に導入し、そして132g(0.50モル)の2,4−
ジクロロ−5−フルオロベンゾイル酢酸メチルを添加し
た。混合物を90分で100℃に加熱し、その間に22
gのエタノール及び使用した少量のイミノエーテルを2
00ミリバールで留去した。3−[4−N−(4−フル
オロフェニルアミノ)]−2−(2,4−ジクロロ−5
−フルオロベンゾイル)アクリル酸メチルを薄黄色の生
成物として得た。ガスクロマトグラムによれば、それは
各々1%の使用したエタノール及びイミノエーテルを含
んでいた。
ル)−ホルムイミノエチルエーテルを反応容器中に最初
に導入し、そして132g(0.50モル)の2,4−
ジクロロ−5−フルオロベンゾイル酢酸メチルを添加し
た。混合物を90分で100℃に加熱し、その間に22
gのエタノール及び使用した少量のイミノエーテルを2
00ミリバールで留去した。3−[4−N−(4−フル
オロフェニルアミノ)]−2−(2,4−ジクロロ−5
−フルオロベンゾイル)アクリル酸メチルを薄黄色の生
成物として得た。ガスクロマトグラムによれば、それは
各々1%の使用したエタノール及びイミノエーテルを含
んでいた。
【0038】実施例2 実施例1と同一量で反応体を一緒にし、次にベンゾイル
酢酸エステルが溶解するまで2.5日間40〜50℃で
開口ガラスビーカー中に静置した。この期間中に塊が凝
結した。実施例1と同一の生成物が高度に純粋な形態で
得られた(薄黄色、融点105℃)。
酢酸エステルが溶解するまで2.5日間40〜50℃で
開口ガラスビーカー中に静置した。この期間中に塊が凝
結した。実施例1と同一の生成物が高度に純粋な形態で
得られた(薄黄色、融点105℃)。
【0039】実施例3 実施例1と同一の操作を行った。得られた生成物を30
0mlのジグライムに溶解し、25gの酸化マグネシウ
ムを添加し、そして混合物を110℃で3時間加熱し
た。その後、150mlの37%塩酸水溶液を添加し、
そして混合物を6時間還流下で加熱し、400mlの水
中に注いだ。沈殿物を分離し、吸引瀘過し、水とイソプ
ロパノールで洗浄し、そして乾燥した。99%の純度の
122gのN−(4−フルオロフェニル)−6−フルオ
ロ−7−クロロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−キノ
ロン−3−カルボン酸を得た。これは、使用したホルム
イミノエーテルに基づいた理論値の73%の収率に相当
する。
0mlのジグライムに溶解し、25gの酸化マグネシウ
ムを添加し、そして混合物を110℃で3時間加熱し
た。その後、150mlの37%塩酸水溶液を添加し、
そして混合物を6時間還流下で加熱し、400mlの水
中に注いだ。沈殿物を分離し、吸引瀘過し、水とイソプ
ロパノールで洗浄し、そして乾燥した。99%の純度の
122gのN−(4−フルオロフェニル)−6−フルオ
ロ−7−クロロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−キノ
ロン−3−カルボン酸を得た。これは、使用したホルム
イミノエーテルに基づいた理論値の73%の収率に相当
する。
【0040】実施例4 132.5gの2,4−ジクロロ−5−フルオロベンゾ
イル酢酸メチルを83.5gの4−フルオロフェニルホ
ルムイミノエチルエーテルに溶解し、トリフルオロメタ
ンスルホン酸を1滴添加し、そして混合物を最初に60
℃に3時間加熱した。この操作中に、生成物が固化し
た。その後、混合物を75℃でさらに1時間加熱したと
ころ、液化が起こり、次に90℃でさらに1時間加熱
し、そして形成したエタノールを留去した。得られた生
成物を500mlのブトキシエタノールに溶解し、そし
て116〜120℃で80gの酸化マグネシウムによる
環化に供した。実施例3に従って後処理した後に、14
4gの実施例3の生成物と同一の生成物を得た。収率
は、使用したホルムイミノエーテルに基づいた理論値の
85%であった。
イル酢酸メチルを83.5gの4−フルオロフェニルホ
ルムイミノエチルエーテルに溶解し、トリフルオロメタ
ンスルホン酸を1滴添加し、そして混合物を最初に60
℃に3時間加熱した。この操作中に、生成物が固化し
た。その後、混合物を75℃でさらに1時間加熱したと
ころ、液化が起こり、次に90℃でさらに1時間加熱
し、そして形成したエタノールを留去した。得られた生
成物を500mlのブトキシエタノールに溶解し、そし
て116〜120℃で80gの酸化マグネシウムによる
環化に供した。実施例3に従って後処理した後に、14
4gの実施例3の生成物と同一の生成物を得た。収率
は、使用したホルムイミノエーテルに基づいた理論値の
85%であった。
【0041】実施例5 9.5gのN−(2,4−ジフルオロフェニル)−ホル
ムイミノエチルエーテルを13.5gの2,4−ジクロ
ロ−5−フルオロベンゾイル酢酸メチルに溶解し、そし
て溶液を50〜60℃で3日間静置した。23gの薄黄
色の固体を得たが、これはHPLC分析によれば98%
の純度であった。それは各々1%の出発物質を含み、そ
して91℃の融点を有していた。この生成物をエタノー
ル/水混合物から再結晶し、91℃の融点を有する14
gの純粋な3−[N−(2,4−ジフルオロフェニル)
アミノ]−2−(2,4−ジヒドロ−5−フルオロベン
ゾイル)アクリル酸メチルを得た。これは、使用したホ
ルムイミノエーテルに基づいた理論値の70%の収率に
相当する。
ムイミノエチルエーテルを13.5gの2,4−ジクロ
ロ−5−フルオロベンゾイル酢酸メチルに溶解し、そし
て溶液を50〜60℃で3日間静置した。23gの薄黄
色の固体を得たが、これはHPLC分析によれば98%
の純度であった。それは各々1%の出発物質を含み、そ
して91℃の融点を有していた。この生成物をエタノー
ル/水混合物から再結晶し、91℃の融点を有する14
gの純粋な3−[N−(2,4−ジフルオロフェニル)
アミノ]−2−(2,4−ジヒドロ−5−フルオロベン
ゾイル)アクリル酸メチルを得た。これは、使用したホ
ルムイミノエーテルに基づいた理論値の70%の収率に
相当する。
【0042】実施例6 60mlのエチレングリコールモノブチルエーテル、3
7gのN−(2,4−ジフルオロフェニル)−ホルムイ
ミノエチルエーテル及び50gの2,4−ジクロロ−5
−フルオロベンゾイル酢酸エチルを60〜65℃で5時
間加熱した。エタノール及び少量の溶媒を20ミリバー
ルで除去した。次に混合物を150mlのエチレングリ
コールモノブチルエーテルで希釈し、12gの酸化マグ
ネシウムを添加し、そして混合物を110℃で10時間
加熱した。後処理に際して、反応混合物を150mlの
水と50mlの37%塩酸水溶液の混合物中に注ぎ、沸
点で5時間加熱し、そして水で希釈し、そして沈殿物を
吸引瀘過し、そして水と2−プロパノールで洗浄して、
99.5%の純度の49.5gのN−(2,4−ジフル
オロフェニル)−6−フルオロ−7−クロロ−1,4−
ジヒドロ−4−オキソ−キノリン−3−カルボン酸を得
た。これは、使用したホルムイミノエーテルに基づいた
理論値の70%の収率に相当する。
7gのN−(2,4−ジフルオロフェニル)−ホルムイ
ミノエチルエーテル及び50gの2,4−ジクロロ−5
−フルオロベンゾイル酢酸エチルを60〜65℃で5時
間加熱した。エタノール及び少量の溶媒を20ミリバー
ルで除去した。次に混合物を150mlのエチレングリ
コールモノブチルエーテルで希釈し、12gの酸化マグ
ネシウムを添加し、そして混合物を110℃で10時間
加熱した。後処理に際して、反応混合物を150mlの
水と50mlの37%塩酸水溶液の混合物中に注ぎ、沸
点で5時間加熱し、そして水で希釈し、そして沈殿物を
吸引瀘過し、そして水と2−プロパノールで洗浄して、
99.5%の純度の49.5gのN−(2,4−ジフル
オロフェニル)−6−フルオロ−7−クロロ−1,4−
ジヒドロ−4−オキソ−キノリン−3−カルボン酸を得
た。これは、使用したホルムイミノエーテルに基づいた
理論値の70%の収率に相当する。
【0043】実施例7 88gのN−(2−フルオロフェニル)−ホルムイミノ
エチルエーテルを反応容器中に最初に導入し、そして1
32gの2,4−ジクロロ−5−フルオロベンゾイル酢
酸メチルを添加した。次に混合物を90分で100℃に
加熱し、そして23gのエタノール及び少量のイミノエ
ーテルを200ミリバールで留去した。195gの3−
[N−(2−フルオロフェニルアミノ)]−2−(2,
4−ジクロロ−5−フルオロベンゾイル)アクリル酸メ
チルを薄黄色の生成物として得た。ガスクロマトグラム
によれば、それは約1%の使用したエタノール及びイミ
ノエーテルを含んでいた。
エチルエーテルを反応容器中に最初に導入し、そして1
32gの2,4−ジクロロ−5−フルオロベンゾイル酢
酸メチルを添加した。次に混合物を90分で100℃に
加熱し、そして23gのエタノール及び少量のイミノエ
ーテルを200ミリバールで留去した。195gの3−
[N−(2−フルオロフェニルアミノ)]−2−(2,
4−ジクロロ−5−フルオロベンゾイル)アクリル酸メ
チルを薄黄色の生成物として得た。ガスクロマトグラム
によれば、それは約1%の使用したエタノール及びイミ
ノエーテルを含んでいた。
【0044】本発明の主な特徴又は態様は以下のとおり
である。
である。
【0045】1. 式(I)
【0046】
【化8】
【0047】式中、R1は水素又はC1〜C6アルキルを
表し、R2及びR3は相互に独立して各々フッ素、塩素、
臭素、トリフルオロメチル、シアノ、ニトロ、C1〜C6
アルコキシ、ヒドロキシル、イミダゾリル、トリアゾリ
ル又はC7〜C10アラルコキシを表すか、或いはR2及び
R3は一緒になって、−O−、−CH2−、−CH2O
−、−O−CH2−O−又は−O−CH2−CH2−O−
基を表し、X1及びX2は相互に独立して各々フッ素、塩
素又は臭素を表し、AはCH、N又はCR3(ここでR3
はフッ素、塩素、臭素、トリフルオロメチル、シアノ、
ニトロ、C1〜C6アルコキシ、ヒドロキシル、イミダゾ
リル、トリアゾリル又はC7〜C10アラルコキシであ
る)を表し、BはCH、N又はCR2(ここでR2はフッ
素、塩素、臭素、トリフルオロメチル、シアノ、ニト
ロ、C1〜C6アルコキシ、ヒドロキシル、イミダゾリ
ル、トリアゾリル又はC7〜C10アラルコキシである)
を表し、mは0、1、2又は3を表し、そしてnは0、
1又は2を表す、のN−アリールアミノアクリル酸誘導
体の製造方法であって、式
表し、R2及びR3は相互に独立して各々フッ素、塩素、
臭素、トリフルオロメチル、シアノ、ニトロ、C1〜C6
アルコキシ、ヒドロキシル、イミダゾリル、トリアゾリ
ル又はC7〜C10アラルコキシを表すか、或いはR2及び
R3は一緒になって、−O−、−CH2−、−CH2O
−、−O−CH2−O−又は−O−CH2−CH2−O−
基を表し、X1及びX2は相互に独立して各々フッ素、塩
素又は臭素を表し、AはCH、N又はCR3(ここでR3
はフッ素、塩素、臭素、トリフルオロメチル、シアノ、
ニトロ、C1〜C6アルコキシ、ヒドロキシル、イミダゾ
リル、トリアゾリル又はC7〜C10アラルコキシであ
る)を表し、BはCH、N又はCR2(ここでR2はフッ
素、塩素、臭素、トリフルオロメチル、シアノ、ニト
ロ、C1〜C6アルコキシ、ヒドロキシル、イミダゾリ
ル、トリアゾリル又はC7〜C10アラルコキシである)
を表し、mは0、1、2又は3を表し、そしてnは0、
1又は2を表す、のN−アリールアミノアクリル酸誘導
体の製造方法であって、式
【0048】
【化9】
【0049】式中、R1、R3、X1、X2、A及びnは式
(I)と同義である、のベンゾイル酢酸誘導体を式
(I)と同義である、のベンゾイル酢酸誘導体を式
【0050】
【化10】
【0051】式中、R2、B及びmは式(I)と同義で
あり、そしてR4はC1〜C6アルキルを表す、のN−ア
リールイミノエーテルと反応させることを特徴とする該
方法。
あり、そしてR4はC1〜C6アルキルを表す、のN−ア
リールイミノエーテルと反応させることを特徴とする該
方法。
【0052】2. 式(I)及び式(II)において、
R1がC1〜C4アルキルを表し、R3がフッ素又は塩素を
表し、X1及びX2が相互に独立して各々フッ素又は塩素
を表し、AがCH又はCR3(ここでR3はフッ素又は塩
素である)を表し、BがCH、N又はCR2(ここでR2
はF、Cl、Br又はニトロである)を表し、nが0又
は1を表し、式(I)及び式(III)において、R2
がフッ素を表し、そしてmが0又は1を表し、式(II
I)において、R4がC1〜C4アルキルを表す、ことを
特徴とする上記1の方法。
R1がC1〜C4アルキルを表し、R3がフッ素又は塩素を
表し、X1及びX2が相互に独立して各々フッ素又は塩素
を表し、AがCH又はCR3(ここでR3はフッ素又は塩
素である)を表し、BがCH、N又はCR2(ここでR2
はF、Cl、Br又はニトロである)を表し、nが0又
は1を表し、式(I)及び式(III)において、R2
がフッ素を表し、そしてmが0又は1を表し、式(II
I)において、R4がC1〜C4アルキルを表す、ことを
特徴とする上記1の方法。
【0053】3. 30〜130℃で実施されることを
特徴とする上記1及び2の方法。
特徴とする上記1及び2の方法。
【0054】4. 溶媒を用いないで実施されることを
特徴とする上記1〜3の方法。
特徴とする上記1〜3の方法。
【0055】5. 溶媒としてのトルエン、クロロベン
ゼン、ジクロロベンゼン、オリゴエチレングリコールモ
ノアルキルエーテル、オリゴエチレングリコールジアル
キルエーテル、ジメチルホルムアミド又はN−メチルピ
ロリドンの存在下で実施されることを特徴とする上記1
〜3の方法。
ゼン、ジクロロベンゼン、オリゴエチレングリコールモ
ノアルキルエーテル、オリゴエチレングリコールジアル
キルエーテル、ジメチルホルムアミド又はN−メチルピ
ロリドンの存在下で実施されることを特徴とする上記1
〜3の方法。
【0056】6. 溶媒の存在下で補助塩基の添加によ
り、式
り、式
【0057】
【化11】
【0058】式中、R1、R2、R3、X2、A、B,m及
びnは請求項1と同義である、の4−キノロン−3−カ
ルボン酸誘導体を製造するための、上記1〜5のいずれ
かに記載の方法により製造される式(I)のN−アリー
ルアミノアクリル酸誘導体の使用。
びnは請求項1と同義である、の4−キノロン−3−カ
ルボン酸誘導体を製造するための、上記1〜5のいずれ
かに記載の方法により製造される式(I)のN−アリー
ルアミノアクリル酸誘導体の使用。
【0059】7. 補助塩基として酸化マグネシウム及
び/又は酸化カルシウムが用いられることを特徴とする
上記6の使用。
び/又は酸化カルシウムが用いられることを特徴とする
上記6の使用。
【0060】8. 上記5で述べた溶媒の1つが溶媒と
して用いられることを特徴とする上記6及び7の使用。
して用いられることを特徴とする上記6及び7の使用。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 319/18 C07D 319/18 401/04 233 401/04 233 249 249 401/14 233 401/14 233 471/04 114 471/04 114A 491/044 9271−4C 491/044 491/056 9271−4C 491/056 491/14 9271−4C 491/14 491/22 9271−4C 491/22 // C07D 215/56 215/56 (72)発明者 ボルフガング・アイマン ドイツ51061ケルン・ゲルステンカンプ5 (72)発明者 ヘルムート・フイーゲ ドイツ51373レーフエルクーゼン・バルタ ー−フレツクス−シユトラーセ23
Claims (1)
- 【請求項1】 式(I) 【化1】 式中、 R1は水素又はC1〜C6アルキルを表し、 R2及びR3は相互に独立して各々フッ素、塩素、臭素、
トリフルオロメチル、 シアノ、ニトロ、C1〜C6アルコキシ、ヒドロキシル、
イミダゾリル、トリアゾリル又はC7〜C10アラルコキ
シを表すか、或いはR2及びR3は一緒になって、−O
−、−CH2−、−CH2O−、−O−CH2−O−又は
−O−CH2−CH2−O−基を表し、 X1及びX2は相互に独立して各々フッ素、塩素又は臭素
を表し、 AはCH、N又はCR3(ここでR3はフッ素、塩素、臭
素、トリフルオロメチル、シアノ、ニトロ、C1〜C6ア
ルコキシ、ヒドロキシル、イミダゾリル、 トリアゾリル又はC7〜C10アラルコキシである)を表
し、 BはCH、N又はCR2(ここでR2はフッ素、塩素、臭
素、トリフルオロメチル、シアノ、ニトロ、C1〜C6ア
ルコキシ、ヒドロキシル、イミダゾリル、 トリアゾリル又はC7〜C10アラルコキシである)を表
し、 mは0、1、2又は3を表し、そしてnは0、1又は2
を表す、のN−アリールアミノアクリル酸誘導体の製造
方法であって、 式 【化2】 式中、 R1、R3、X1、X2、A及びnは式(I)と同義であ
る、のベンゾイル酢酸誘導体を式 【化3】 式中、 R2、B及びmは式(I)と同義であり、そしてR4はC
1〜C6アルキルを表す、のN−アリールイミノエーテル
と反応させることを特徴とする該方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4431821.9 | 1994-09-07 | ||
DE4431821A DE4431821A1 (de) | 1994-09-07 | 1994-09-07 | Verfahren zur Herstellung von N-Arylaminoacrylsäurederivaten und die Verwendung so hergestellter N-Arylaminoacrylsäurederivate zur Herstellung von 4-Chinolon-3-carbonsäurederivaten |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08325231A true JPH08325231A (ja) | 1996-12-10 |
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Family
ID=6527605
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
JP7247044A Expired - Lifetime JP3046228B2 (ja) | 1994-09-07 | 1995-09-01 | N−アリールアミノアクリル酸誘導体の製造方法並びにこうして製造したn−アリールアミノアクリル酸誘導体の4−キノロン−3−カルボン酸誘導体の製造のための使用 |
Country Status (4)
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---|---|
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EP (1) | EP0705815B1 (ja) |
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AU2005286593A1 (en) * | 2004-09-23 | 2006-03-30 | Reddy Us Therapeutics, Inc. | Novel pyridine compounds, process for their preparation and compositions containing them |
WO2012002203A1 (ja) * | 2010-07-01 | 2012-01-05 | 国立大学法人名古屋大学 | β-アミノカルボニル化合物の製法 |
CN107501174A (zh) * | 2017-07-25 | 2017-12-22 | 广州大学 | 一种喹啉衍生物的合成方法 |
Family Cites Families (7)
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---|---|---|---|---|
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US5591744A (en) * | 1987-04-16 | 1997-01-07 | Otsuka Pharmaceutical Company, Limited | Benzoheterocyclic compounds |
DE59001401D1 (de) * | 1989-03-23 | 1993-06-17 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von beta-amino-acrylsaeureestern. |
DE4015299A1 (de) * | 1990-05-12 | 1991-11-14 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von 3-amino-2-(het)-aroyl-acrylsaeurederivaten |
DE4109354A1 (de) * | 1991-03-22 | 1992-09-24 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von aminomethylenverbindungen |
DE4302156A1 (de) * | 1993-01-27 | 1994-07-28 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Aminomethylenverbindungen |
JPH0985255A (ja) * | 1995-09-28 | 1997-03-31 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 揚運炭設備のベルト洗浄排水処理施設 |
-
1994
- 1994-09-07 DE DE4431821A patent/DE4431821A1/de not_active Withdrawn
-
1995
- 1995-08-25 EP EP95113358A patent/EP0705815B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-08-25 DE DE59501275T patent/DE59501275D1/de not_active Expired - Fee Related
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- 1995-09-01 JP JP7247044A patent/JP3046228B2/ja not_active Expired - Lifetime
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---|---|
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EP0705815A1 (de) | 1996-04-10 |
JP3046228B2 (ja) | 2000-05-29 |
US5672708A (en) | 1997-09-30 |
DE59501275D1 (de) | 1998-02-19 |
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