JP2000327652A - フタロニトリル誘導体およびその製造方法 - Google Patents
フタロニトリル誘導体およびその製造方法Info
- Publication number
- JP2000327652A JP2000327652A JP11136706A JP13670699A JP2000327652A JP 2000327652 A JP2000327652 A JP 2000327652A JP 11136706 A JP11136706 A JP 11136706A JP 13670699 A JP13670699 A JP 13670699A JP 2000327652 A JP2000327652 A JP 2000327652A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- general formula
- compound
- dicyano
- phthalonitrile derivative
- malonate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 一般式（１）：
【化１】
（Ｘ1〜Ｘ3：水素原子、ハロゲン原子、アルキル基また
はアルコキシル基）、または一般式（２）： 【化２】 （Ｘ1〜Ｘ3：上記と同じ、Ｒ1〜Ｒ2：シアノ基またはＣ
ＯＯＲ3（Ｒ3はアルキル基））で表される新規なフタロ
ニトリル誘導体、およびその製造法を提供する。 【解決手段】 一般式（３）： 【化３】 （記号：上記と同じ）の化合物と一般式（４）： 【化４】 （記号：上記と同じ）の化合物とを塩基性化合物の存在
下に反応させて一般式（２）のフタロニトリル誘導体を
製造する。このフタロニトリル誘導体を酸触媒の存在下
に反応させて一般式（１）のフタロニトリル誘導体を製
造する。
はアルコキシル基）、または一般式（２）： 【化２】 （Ｘ1〜Ｘ3：上記と同じ、Ｒ1〜Ｒ2：シアノ基またはＣ
ＯＯＲ3（Ｒ3はアルキル基））で表される新規なフタロ
ニトリル誘導体、およびその製造法を提供する。 【解決手段】 一般式（３）： 【化３】 （記号：上記と同じ）の化合物と一般式（４）： 【化４】 （記号：上記と同じ）の化合物とを塩基性化合物の存在
下に反応させて一般式（２）のフタロニトリル誘導体を
製造する。このフタロニトリル誘導体を酸触媒の存在下
に反応させて一般式（１）のフタロニトリル誘導体を製
造する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はフタロニトリル誘導
体およびその製造方法、詳しくは２−（３，４−ジシア
ノ−２，５，６−トリフルオロフェニル）マロン酸ジエ
チル、２−（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフル
オロフェニル）酢酸などに代表される新規なフタロニト
リル誘導体およびその製造方法に関する。
体およびその製造方法、詳しくは２−（３，４−ジシア
ノ−２，５，６−トリフルオロフェニル）マロン酸ジエ
チル、２−（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフル
オロフェニル）酢酸などに代表される新規なフタロニト
リル誘導体およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】後記の一般式（１）および（２）で表さ
れるフタロニトリル誘導体は、その構造から、医薬品、
抗菌剤などとして、あるいは医薬品、抗菌剤などを製造
するための中間体などとして利用されることが期待され
るものである。これら化合物は未だ知られていない新規
な物質である。
れるフタロニトリル誘導体は、その構造から、医薬品、
抗菌剤などとして、あるいは医薬品、抗菌剤などを製造
するための中間体などとして利用されることが期待され
るものである。これら化合物は未だ知られていない新規
な物質である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は新規な化学物
質およびその製造方法を提供することを目的とする。
質およびその製造方法を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式
（１）：
（１）：
【０００５】
【化７】
【０００６】（式中、Ｘ1〜Ｘ3はそれぞれ独立して水素
原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシル基
である）で表されるフタロニトリル誘導体（Ａ）であ
る。
原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシル基
である）で表されるフタロニトリル誘導体（Ａ）であ
る。
【０００７】また、本発明は、一般式（２）：
【０００８】
【化８】
【０００９】（式中、Ｘ1〜Ｘ3は上記と同じであり、Ｒ
1〜Ｒ2はそれぞれ独立してシアノ基またはＣＯＯＲ
3（ここで、Ｒ3はアルキル基である））で表されるフタ
ロニトリル誘導体（Ｂ）である。
1〜Ｒ2はそれぞれ独立してシアノ基またはＣＯＯＲ
3（ここで、Ｒ3はアルキル基である））で表されるフタ
ロニトリル誘導体（Ｂ）である。
【００１０】また、本発明は、一般式（３）：
【００１１】
【化９】
【００１２】（式中、Ｘ1〜Ｘ3は上記と同じである）で
表される化合物と一般式（４）：
表される化合物と一般式（４）：
【００１３】
【化１０】
【００１４】（式中、Ｒ1〜Ｒ2は上記と同じである）で
表される化合物とを塩基性化合物の存在下に反応させる
ことを特徴とする上記フタロニトリル誘導体（Ｂ）の製
造方法である。
表される化合物とを塩基性化合物の存在下に反応させる
ことを特徴とする上記フタロニトリル誘導体（Ｂ）の製
造方法である。
【００１５】また、本発明は、上記フタロニトリル誘導
体（Ｂ）を酸触媒の存在下に反応させることを特徴とす
る上記フタロニトリル誘導体（Ａ）の製造方法である。
体（Ｂ）を酸触媒の存在下に反応させることを特徴とす
る上記フタロニトリル誘導体（Ａ）の製造方法である。
【００１６】さらに、本発明は、一般式（３）で表され
る化合物と一般式（４）で表される化合物とを塩基性化
合物の存在下に反応させて上記フタロニトリル誘導体
（Ｂ）を製造し、次いでこのフタロニトリル誘導体
（Ｂ）を酸触媒の存在下に反応させることを特徴とする
上記フタロニトリル誘導体（Ａ）の製造方法である。
る化合物と一般式（４）で表される化合物とを塩基性化
合物の存在下に反応させて上記フタロニトリル誘導体
（Ｂ）を製造し、次いでこのフタロニトリル誘導体
（Ｂ）を酸触媒の存在下に反応させることを特徴とする
上記フタロニトリル誘導体（Ａ）の製造方法である。
【００１７】
【発明の実施の形態】本発明のフタロニトリル誘導体
（Ａ）は一般式（１）で表されるものであり、一般式
（１）において、Ｘ1〜Ｘ3はそれぞれ独立して水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシル基で
ある。ハロゲン原子としてはフッ素原子が好ましい。ま
た、アルキル基およびアルコキシル基としては、それぞ
れ、炭素数１〜６のアルキル基（例えば、メチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基およびｔ−ブチル基）、および炭素数
１〜６のアルコキシル基（例えば、メトキシ基、エトキ
シ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブト
キシ基、イソブトキシ基およびｔ−ブトキシ基）が好ま
しい。なかでも、Ｘ1〜Ｘ3のうち少なくとも一つがフッ
素原子である化合物が好ましい。
（Ａ）は一般式（１）で表されるものであり、一般式
（１）において、Ｘ1〜Ｘ3はそれぞれ独立して水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシル基で
ある。ハロゲン原子としてはフッ素原子が好ましい。ま
た、アルキル基およびアルコキシル基としては、それぞ
れ、炭素数１〜６のアルキル基（例えば、メチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基およびｔ−ブチル基）、および炭素数
１〜６のアルコキシル基（例えば、メトキシ基、エトキ
シ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブト
キシ基、イソブトキシ基およびｔ−ブトキシ基）が好ま
しい。なかでも、Ｘ1〜Ｘ3のうち少なくとも一つがフッ
素原子である化合物が好ましい。
【００１８】一般式（１）で表されるフタロニトリル誘
導体（Ａ）の代表例を挙げると次のとおりである。
導体（Ａ）の代表例を挙げると次のとおりである。
【００１９】 ２−（３，４−ジシアノ−２−フルオロフェニル）酢酸 ２−（３，４−ジシアノ−５−フルオロフェニル）酢酸 ２−（３，４−ジシアノ−６−フルオロフェニル）酢酸 ２−（３，４−ジシアノ−２，５−ジフルオロフェニ
ル）酢酸 ２−（３，４−ジシアノ−２，６−ジフルオロフェニ
ル）酢酸 ２−（３，４−ジシアノ−５，６−ジフルオロフェニ
ル）酢酸 ２−（３，４−ジシアノ−２，５−ジフルオロ−６−メ
チルフェニル）酢酸 ２−（３，４−ジシアノ−２，５−ジフルオロ−６−メ
トキシフェニル）酢酸 ２−（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフ
ェニル）酢酸 フタロニトリル誘導体（Ｂ）は一般式（２）で表される
ものであり、この一般式（２）において、Ｘ1〜Ｘ3は前
記と同意義であり、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ独立してシアノ
基またはＣＯＯＲ3（ここで、Ｒ3はアルキル基である）
である。アルキル基としては、炭素数１〜６、特に炭素
数１〜４のアルキル基が好ましい。
ル）酢酸 ２−（３，４−ジシアノ−２，６−ジフルオロフェニ
ル）酢酸 ２−（３，４−ジシアノ−５，６−ジフルオロフェニ
ル）酢酸 ２−（３，４−ジシアノ−２，５−ジフルオロ−６−メ
チルフェニル）酢酸 ２−（３，４−ジシアノ−２，５−ジフルオロ−６−メ
トキシフェニル）酢酸 ２−（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフ
ェニル）酢酸 フタロニトリル誘導体（Ｂ）は一般式（２）で表される
ものであり、この一般式（２）において、Ｘ1〜Ｘ3は前
記と同意義であり、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ独立してシアノ
基またはＣＯＯＲ3（ここで、Ｒ3はアルキル基である）
である。アルキル基としては、炭素数１〜６、特に炭素
数１〜４のアルキル基が好ましい。
【００２０】一般式（２）で表されるフタロニトリル誘
導体（Ｂ）の代表例を挙げると次のとおりである。
導体（Ｂ）の代表例を挙げると次のとおりである。
【００２１】２−（３，４−ジシアノ−２−フルオロフ
ェニル）マロン酸ジエチル ２−（３，４−ジシアノ−５−フルオロフェニル）マロ
ン酸ジエチル ２−（３，４−ジシアノ−６−フルオロフェニル）マロ
ン酸ジエチル ２−（３，４−ジシアノ−２，５−ジフルオロフェニ
ル）マロン酸ジエチル ２−（３，４−ジシアノ−２，６−ジフルオロフェニ
ル）マロン酸ジエチル ２−（３，４−ジシアノ−５，６−ジフルオロフェニ
ル）マロン酸ジエチル ２−（３，４−ジシアノ−２，５−ジフルオロ−６−メ
チルフェニル）マロン酸ジエチル ２−（３，４−ジシアノ−２，５−ジフルオロ−６−メ
トキシフェニル）マロン酸ジエチル ２−（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフ
ェニル）マロン酸ジメチル ２−（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフ
ェニル）マロン酸ジエチル ２−（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフ
ェニル）マロン酸ジプロピル ２−（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフ
ェニル）マロン酸ジイソプロピル ２−（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフ
ェニル）マロン酸ジブチル ２−（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフ
ェニル）マロン酸ジイソブチル ２−（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフ
ェニル）マロン酸ジｔ−ブチル 一般式（２）で表されるフタロニトリル誘導体（Ｂ）は
前記の一般式（３）で表される化合物と一般式（４）で
表される化合物とを塩基性化合物の存在下に反応させる
ことにより得られる。
ェニル）マロン酸ジエチル ２−（３，４−ジシアノ−５−フルオロフェニル）マロ
ン酸ジエチル ２−（３，４−ジシアノ−６−フルオロフェニル）マロ
ン酸ジエチル ２−（３，４−ジシアノ−２，５−ジフルオロフェニ
ル）マロン酸ジエチル ２−（３，４−ジシアノ−２，６−ジフルオロフェニ
ル）マロン酸ジエチル ２−（３，４−ジシアノ−５，６−ジフルオロフェニ
ル）マロン酸ジエチル ２−（３，４−ジシアノ−２，５−ジフルオロ−６−メ
チルフェニル）マロン酸ジエチル ２−（３，４−ジシアノ−２，５−ジフルオロ−６−メ
トキシフェニル）マロン酸ジエチル ２−（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフ
ェニル）マロン酸ジメチル ２−（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフ
ェニル）マロン酸ジエチル ２−（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフ
ェニル）マロン酸ジプロピル ２−（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフ
ェニル）マロン酸ジイソプロピル ２−（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフ
ェニル）マロン酸ジブチル ２−（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフ
ェニル）マロン酸ジイソブチル ２−（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフ
ェニル）マロン酸ジｔ−ブチル 一般式（２）で表されるフタロニトリル誘導体（Ｂ）は
前記の一般式（３）で表される化合物と一般式（４）で
表される化合物とを塩基性化合物の存在下に反応させる
ことにより得られる。
【００２２】出発原料である一般式（３）で表される化
合物において、Ｘ1〜Ｘ3はそれぞれ独立して水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシル基であ
る。ハロゲン原子としてはフッ素原子が好ましい。ま
た、アルキル基およびアルコキシル基としては、それぞ
れ、炭素数１〜６のアルキル基（例えば、メチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基およびｔ−ブチル基）、および炭素数
１〜６のアルコキシル基（例えば、メトキシ基、エトキ
シ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブト
キシ基、イソブトキシ基およびｔ−ブトキシ基）が好ま
しい。なかでも、Ｘ1〜Ｘ3のうち少なくとも一つがフッ
素原子である化合物が好ましい。
合物において、Ｘ1〜Ｘ3はそれぞれ独立して水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシル基であ
る。ハロゲン原子としてはフッ素原子が好ましい。ま
た、アルキル基およびアルコキシル基としては、それぞ
れ、炭素数１〜６のアルキル基（例えば、メチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基およびｔ−ブチル基）、および炭素数
１〜６のアルコキシル基（例えば、メトキシ基、エトキ
シ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブト
キシ基、イソブトキシ基およびｔ−ブトキシ基）が好ま
しい。なかでも、Ｘ1〜Ｘ3のうち少なくとも一つがフッ
素原子である化合物が好ましい。
【００２３】一般式（３）の化合物の代表例としては、
３，４−ジフルオロフタロニトリル、３，５−ジフルオ
ロフタロニトリル、４，５−ジフルオロフタロニトリ
ル、３，４，５−トリフルオロフタロニトリル、３，
４，６−トリフルオロフタロニトリル、３，４，６−ト
リフルオロ−５−メチルフタロニトリル、３，４，６−
トリフルオロ−５−メトキシフタロニトリル、３，４，
５，６−テトラフルオロフタロニトリルなどを挙げるこ
とができる。これらのなかでも、３，４，５，６−テト
ラフルオロフタロニトリルが好適に用いられる。
３，４−ジフルオロフタロニトリル、３，５−ジフルオ
ロフタロニトリル、４，５−ジフルオロフタロニトリ
ル、３，４，５−トリフルオロフタロニトリル、３，
４，６−トリフルオロフタロニトリル、３，４，６−ト
リフルオロ−５−メチルフタロニトリル、３，４，６−
トリフルオロ−５−メトキシフタロニトリル、３，４，
５，６−テトラフルオロフタロニトリルなどを挙げるこ
とができる。これらのなかでも、３，４，５，６−テト
ラフルオロフタロニトリルが好適に用いられる。
【００２４】もう一つの出発原料である一般式（４）で
表される化合物において、Ｒ1〜Ｒ2はそれぞれ独立して
シアノ（ＣＮ）基またはＣＯＯＲ3（ここで、Ｒ3はアル
キル基である）である。アルキル基としては、炭素数１
〜６、特に炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。
表される化合物において、Ｒ1〜Ｒ2はそれぞれ独立して
シアノ（ＣＮ）基またはＣＯＯＲ3（ここで、Ｒ3はアル
キル基である）である。アルキル基としては、炭素数１
〜６、特に炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。
【００２５】一般式（４）の化合物の代表例としては、
マロン酸ジメチルエステル、マロン酸ジエチルエステ
ル、マロン酸ジｎ−プロピルエステル、マロン酸ジイソ
プロピルエステル、マロン酸ジｎ−ブチルエステル、マ
ロン酸ジイソブチルエステル、マロン酸ジｔ−ブチルエ
ステル、マロノニトリル、シアノ酢酸メチル、シアノ酢
酸エチルなどを挙げることができる。これらのうち、マ
ロン酸ジメチルエステルおよびマロン酸ジエチルエステ
ルが好適に用いられる。
マロン酸ジメチルエステル、マロン酸ジエチルエステ
ル、マロン酸ジｎ−プロピルエステル、マロン酸ジイソ
プロピルエステル、マロン酸ジｎ−ブチルエステル、マ
ロン酸ジイソブチルエステル、マロン酸ジｔ−ブチルエ
ステル、マロノニトリル、シアノ酢酸メチル、シアノ酢
酸エチルなどを挙げることができる。これらのうち、マ
ロン酸ジメチルエステルおよびマロン酸ジエチルエステ
ルが好適に用いられる。
【００２６】一般式（３）で表される化合物と一般式
（４）で表される化合物とを塩基性化合物の存在下に反
応させて一般式（２）で表される化合物を製造する。こ
の塩基性化合物としては、アルカリ金属の水素化物、ア
ルカリ土類金属の水素化物、アルカリ金属の炭酸塩、ア
ルカリ土類金属の炭酸塩、アルカリ金属のアルコラー
ト、アルカリ土類金属のアルコラート、アミン類、環状
アミン類およびピリジン類から選ばれる少なくとも一種
を使用することができる。
（４）で表される化合物とを塩基性化合物の存在下に反
応させて一般式（２）で表される化合物を製造する。こ
の塩基性化合物としては、アルカリ金属の水素化物、ア
ルカリ土類金属の水素化物、アルカリ金属の炭酸塩、ア
ルカリ土類金属の炭酸塩、アルカリ金属のアルコラー
ト、アルカリ土類金属のアルコラート、アミン類、環状
アミン類およびピリジン類から選ばれる少なくとも一種
を使用することができる。
【００２７】塩基性化合物の代表例としては、水素化ナ
トリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネ
シウム、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラー
ト、ナトリウムプロピラート、ナトリウムイソプロピラ
ート、ナトリウムブチラート、ナトリウムイソブチラー
ト、ナトリウムｔ−ブチラート、カリウムメチラート、
カリウムエチラート、カリウムプロピラート、カリウム
イソプロピラート、カリウムブチラート、カリウムイソ
ブチラート、カリウムｔ−ブチラート、マグネシウムメ
チラート、マグネシウムエチラート、マグネシウムプロ
ピラート、マグネシウムイソプロピラート、マグネシウ
ムブチラート、マグネシウムイソブチラート、マグネシ
ウムｔ−ブチラート、カルシウムメチラート、カルシウ
ムエチラート、カルシウムプロピラート、カルシウムイ
ソプロピラート、カルシウムブチラート、カルシウムイ
ソブチラート、カルシウムｔ−ブチラート、トリメチル
アミン、トリエチルアミン、１−メチルピロリジン、１
−メチルピペリジン、１，４−ジメチルピペラジン、４
−（ジメチルアミノ）ピリジン、１，８−ジアザビシク
ロ［５．４．０］ウンデセン、１，４−ジアザビシクロ
［２．２．２］オクタンなどを挙げることができる。こ
れらのうち、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水素化ナ
トリウム、水素化カルシウム、ナトリウムメチラート、
ナトリウムエチラート、ナトリウムｔ−ブチラート、カ
リウムメチラート、カリウムエチラートおよびカリウム
ｔ−ブチラートが好適に用いられる。
トリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネ
シウム、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラー
ト、ナトリウムプロピラート、ナトリウムイソプロピラ
ート、ナトリウムブチラート、ナトリウムイソブチラー
ト、ナトリウムｔ−ブチラート、カリウムメチラート、
カリウムエチラート、カリウムプロピラート、カリウム
イソプロピラート、カリウムブチラート、カリウムイソ
ブチラート、カリウムｔ−ブチラート、マグネシウムメ
チラート、マグネシウムエチラート、マグネシウムプロ
ピラート、マグネシウムイソプロピラート、マグネシウ
ムブチラート、マグネシウムイソブチラート、マグネシ
ウムｔ−ブチラート、カルシウムメチラート、カルシウ
ムエチラート、カルシウムプロピラート、カルシウムイ
ソプロピラート、カルシウムブチラート、カルシウムイ
ソブチラート、カルシウムｔ−ブチラート、トリメチル
アミン、トリエチルアミン、１−メチルピロリジン、１
−メチルピペリジン、１，４−ジメチルピペラジン、４
−（ジメチルアミノ）ピリジン、１，８−ジアザビシク
ロ［５．４．０］ウンデセン、１，４−ジアザビシクロ
［２．２．２］オクタンなどを挙げることができる。こ
れらのうち、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水素化ナ
トリウム、水素化カルシウム、ナトリウムメチラート、
ナトリウムエチラート、ナトリウムｔ−ブチラート、カ
リウムメチラート、カリウムエチラートおよびカリウム
ｔ−ブチラートが好適に用いられる。
【００２８】上記反応の機構は必ずしも明らかではない
が、例えば一般式（４）で表される化合物としてマロン
酸ジエチルを、また塩基性化合物として炭酸カリウムを
用いる場合、カリウムがマロン酸ジエチルのメチレン基
の水素原子と置換し、さらに一般式（３）の化合物のフ
ッ素原子（パラ位）と置換して、フッ化カリウム（Ｋ
Ｆ）として離脱しながら置換反応が進行するものと考え
られている。なお、本発明はこのような理論的考察によ
り限定されるものではない。
が、例えば一般式（４）で表される化合物としてマロン
酸ジエチルを、また塩基性化合物として炭酸カリウムを
用いる場合、カリウムがマロン酸ジエチルのメチレン基
の水素原子と置換し、さらに一般式（３）の化合物のフ
ッ素原子（パラ位）と置換して、フッ化カリウム（Ｋ
Ｆ）として離脱しながら置換反応が進行するものと考え
られている。なお、本発明はこのような理論的考察によ
り限定されるものではない。
【００２９】塩基性化合物の使用量は、一般式（３）で
表される化合物１モルに対し、通常、０．１〜１０モル
であり、好ましくは０．５〜１．５モルである。塩基性
化合物の不存在下では反応は進行せず、また１０モル以
上を使用してもそれに見合った更なる収率の向上などは
得られない。
表される化合物１モルに対し、通常、０．１〜１０モル
であり、好ましくは０．５〜１．５モルである。塩基性
化合物の不存在下では反応は進行せず、また１０モル以
上を使用してもそれに見合った更なる収率の向上などは
得られない。
【００３０】上記反応は、通常、有機溶媒中で行う。有
機溶媒としては、いずれの有機溶媒も使用できるが、な
かでも非プロトン性極性有機溶媒が好適に用いられる。
その代表例としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリド
ン、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、テトラメチル尿素などを挙げることができる。
なお、塩基性化合物としてアルコラートを用いる場合に
は、アルコール溶媒が好適に用いられる。その代表例と
しては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソ
プロパノール、ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタ
ノール、エチレングリコールなどを挙げることができ
る。
機溶媒としては、いずれの有機溶媒も使用できるが、な
かでも非プロトン性極性有機溶媒が好適に用いられる。
その代表例としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリド
ン、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、テトラメチル尿素などを挙げることができる。
なお、塩基性化合物としてアルコラートを用いる場合に
は、アルコール溶媒が好適に用いられる。その代表例と
しては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソ
プロパノール、ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタ
ノール、エチレングリコールなどを挙げることができ
る。
【００３１】反応温度は、通常、０〜２００℃であり、
好ましくは２０〜１００℃である。２００℃を超える温
度にすると分解が起こるおそれがある。
好ましくは２０〜１００℃である。２００℃を超える温
度にすると分解が起こるおそれがある。
【００３２】一般式（３）で表される化合物と一般式
（４）で表される化合物との割合については、通常、両
者を等モル量で反応させるが、必要に応じてその割合を
適宜変更してもよい。
（４）で表される化合物との割合については、通常、両
者を等モル量で反応させるが、必要に応じてその割合を
適宜変更してもよい。
【００３３】反応終了後は、必要に応じて熟成する。反
応ないしは熟成終了後、反応液を冷却することにより反
応により副生されたフッ化カリウムなどの副生物を折出
させた後、これら折出物をろ過して分離する。ろ液中に
は一般式（２）で表されるフタロニトリル誘導体（Ｂ）
が含まれているので、このろ液をそのまま次の反応に供
しても、あるいはろ液から回収し、必要に応じて精製し
た後、次の反応に供してもよい。
応ないしは熟成終了後、反応液を冷却することにより反
応により副生されたフッ化カリウムなどの副生物を折出
させた後、これら折出物をろ過して分離する。ろ液中に
は一般式（２）で表されるフタロニトリル誘導体（Ｂ）
が含まれているので、このろ液をそのまま次の反応に供
しても、あるいはろ液から回収し、必要に応じて精製し
た後、次の反応に供してもよい。
【００３４】ろ液からの一般式（２）で表されるフタロ
ニトリル誘導体（Ｂ）の回収、精製方法には特に制限は
なく、例えば、ろ液をそのまま濃縮するか、あるいは内
容物を溶解し得る非水溶性溶媒を添加し、塩酸などの酸
からなる酸性水溶液で洗浄し、必要に応じて乾燥した
後、濃縮すればよい。もちろん、再結晶により化合物の
純度を高めることもできる。
ニトリル誘導体（Ｂ）の回収、精製方法には特に制限は
なく、例えば、ろ液をそのまま濃縮するか、あるいは内
容物を溶解し得る非水溶性溶媒を添加し、塩酸などの酸
からなる酸性水溶液で洗浄し、必要に応じて乾燥した
後、濃縮すればよい。もちろん、再結晶により化合物の
純度を高めることもできる。
【００３５】次に、一般式（２）で表されるフタロニト
リル誘導体（Ｂ）から一般式（１）で表されるフタロニ
トリル誘導体（Ａ）の製造方法について説明する。
リル誘導体（Ｂ）から一般式（１）で表されるフタロニ
トリル誘導体（Ａ）の製造方法について説明する。
【００３６】一般式（１）で表されるフタロニトリル誘
導体（Ａ）は、一般式（２）で表されるフタロニトリル
誘導体（Ｂ）を酸触媒の存在下に反応させて得られる。
この反応により、一般式（２）で表されるフタロニトリ
ル誘導体（Ｂ）の−ＣＨＲ1Ｒ2が加水分解・脱炭酸され
てＣＨ2ＣＯＯＨに変換される。この酸触媒としては、
上記のような加水分解・脱炭酸反応に一般に用いられて
いる酸触媒を用いることができ、その代表例としては、
硫酸、塩酸、硝酸、ギ酸、酢酸、メタンスルホン酸、ｐ
−トルエンスルホン酸などを挙げることができる。これ
らは単独でも、２種以上適宜混合して使用することもで
きる。これらのうち、塩酸が好適に用いられる。
導体（Ａ）は、一般式（２）で表されるフタロニトリル
誘導体（Ｂ）を酸触媒の存在下に反応させて得られる。
この反応により、一般式（２）で表されるフタロニトリ
ル誘導体（Ｂ）の−ＣＨＲ1Ｒ2が加水分解・脱炭酸され
てＣＨ2ＣＯＯＨに変換される。この酸触媒としては、
上記のような加水分解・脱炭酸反応に一般に用いられて
いる酸触媒を用いることができ、その代表例としては、
硫酸、塩酸、硝酸、ギ酸、酢酸、メタンスルホン酸、ｐ
−トルエンスルホン酸などを挙げることができる。これ
らは単独でも、２種以上適宜混合して使用することもで
きる。これらのうち、塩酸が好適に用いられる。
【００３７】酸触媒の使用量は、一般式（２）で表され
るフタロニトリル誘導体（Ｂ）１モルに対し、通常、
０．０１〜５０モルであり、好ましくは０．１〜２０モ
ルである。
るフタロニトリル誘導体（Ｂ）１モルに対し、通常、
０．０１〜５０モルであり、好ましくは０．１〜２０モ
ルである。
【００３８】上記反応は、通常、水および／または有機
溶媒中で行う。有機溶媒の代表例としては、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、
Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、テトラメチル尿素などを挙
げることができる。
溶媒中で行う。有機溶媒の代表例としては、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、
Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、テトラメチル尿素などを挙
げることができる。
【００３９】反応温度は、通常、０〜３００℃であり、
好ましくは５０〜２００℃である。反応終了後は、必要
に応じて熟成する。反応ないしは熟成終了後、反応溶媒
が水の場合は、例えば、反応液を冷却することにより目
的物を折出させた後、ろ過によって回収する。得られた
化合物は、必要に応じて、水などで洗浄、精製してもよ
い。あるいは、反応液に非水溶性溶媒を添加して目的物
を抽出し、抽出液を、必要に応じて水で洗浄し、乾燥し
た後、濃縮すればよい。また、反応溶媒が有機溶媒の場
合は、必要に応じて水で洗浄し、乾燥した後、濃縮すれ
ばよい。
好ましくは５０〜２００℃である。反応終了後は、必要
に応じて熟成する。反応ないしは熟成終了後、反応溶媒
が水の場合は、例えば、反応液を冷却することにより目
的物を折出させた後、ろ過によって回収する。得られた
化合物は、必要に応じて、水などで洗浄、精製してもよ
い。あるいは、反応液に非水溶性溶媒を添加して目的物
を抽出し、抽出液を、必要に応じて水で洗浄し、乾燥し
た後、濃縮すればよい。また、反応溶媒が有機溶媒の場
合は、必要に応じて水で洗浄し、乾燥した後、濃縮すれ
ばよい。
【００４０】本発明の一般式（１）で表されるフタロニ
トリル誘導体（Ａ）および一般式（２）で表されるフタ
ロニトリル誘導体（Ｂ）は医薬品、抗菌剤など、あるい
はこれらの中間体として有用なものである。
トリル誘導体（Ａ）および一般式（２）で表されるフタ
ロニトリル誘導体（Ｂ）は医薬品、抗菌剤など、あるい
はこれらの中間体として有用なものである。
【００４１】
【発明の効果】本発明の方法によれば、新規なフタロニ
トリル誘導体（Ａ）および（Ｂ）を簡便な方法により高
収率で製造することができる。
トリル誘導体（Ａ）および（Ｂ）を簡便な方法により高
収率で製造することができる。
【００４２】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に
説明する。
説明する。
【００４３】実施例１ ＜フタロニトリル誘導体（Ｂ）の製造＞十分に窒素置換
した４つ口フラスコに、フルオロフタロニトリルとして
の３，４，５，６−テトラフルオロフタロニトリル１
９．９９８ｇを仕込み、ジメチルホルムアミド７０ｍｌ
を加え溶解させた。さらに、マロン酸ジエチル１６．０
１８ｇ、塩基性化合物としての炭酸カリウム１６．６１
８ｇを仕込んだ。攪拌下６０℃に加熱し、６時間反応さ
せた。
した４つ口フラスコに、フルオロフタロニトリルとして
の３，４，５，６−テトラフルオロフタロニトリル１
９．９９８ｇを仕込み、ジメチルホルムアミド７０ｍｌ
を加え溶解させた。さらに、マロン酸ジエチル１６．０
１８ｇ、塩基性化合物としての炭酸カリウム１６．６１
８ｇを仕込んだ。攪拌下６０℃に加熱し、６時間反応さ
せた。
【００４４】反応終了後放冷し、析出した結晶をろ過し
た。ろ液に１Ｎ−塩酸を加え、エーテルで抽出した。抽
出液を硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ
別し、ろ液を濃縮し、結晶を３２．４５４ｇ得た。この
結晶を19Ｆ−ＮＭＲで分析したところ、２−（３，４−
ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフェニル）マロン
酸ジエチルが８５．７％の純度で含まれていた。
た。ろ液に１Ｎ−塩酸を加え、エーテルで抽出した。抽
出液を硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ
別し、ろ液を濃縮し、結晶を３２．４５４ｇ得た。この
結晶を19Ｆ−ＮＭＲで分析したところ、２−（３，４−
ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフェニル）マロン
酸ジエチルが８５．７％の純度で含まれていた。
【００４５】この結晶をイソプロピルエーテルで再結晶
したところ、結晶が２４．３７０ｇ得られた。この結晶
を19Ｆ−ＮＭＲで分析したところ、２−（３，４−ジシ
アノ−２，５，６−トリフルオロフェニル）マロン酸ジ
エチルが１００％の純度で含まれていた。
したところ、結晶が２４．３７０ｇ得られた。この結晶
を19Ｆ−ＮＭＲで分析したところ、２−（３，４−ジシ
アノ−２，５，６−トリフルオロフェニル）マロン酸ジ
エチルが１００％の純度で含まれていた。
【００４６】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3)：１．３２（６
Ｈ，ｔ），４．３０（４Ｈ，ｍ），５．０４（１Ｈ，
Ｓ）19 Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：ＣＦ3ＣＯＯＨを標準物質
として用いた。
Ｈ，ｔ），４．３０（４Ｈ，ｍ），５．０４（１Ｈ，
Ｓ）19 Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：ＣＦ3ＣＯＯＨを標準物質
として用いた。
【００４７】−５２．５（１Ｆ，ｍ），−４３．０（１
Ｆ，ｍ），−２８．１（１Ｆ，ｍ） Ｍ／ｅ＝３４０ 実施例２ ＜フタロニトリル誘導体（Ａ）の製造＞４つ口フラスコ
に、実施例１で得られた２−（３，４−ジシアノ−２，
５，６−トリフルオロフェニル）マロン酸ジエチル１
０．１２１ｇ、濃塩酸１３．７７５ｇおよび酢酸１２ｍ
ｌを仕込んだ。この混合物を攪拌下加熱し、１０３℃で
３時間反応させた。
Ｆ，ｍ），−２８．１（１Ｆ，ｍ） Ｍ／ｅ＝３４０ 実施例２ ＜フタロニトリル誘導体（Ａ）の製造＞４つ口フラスコ
に、実施例１で得られた２−（３，４−ジシアノ−２，
５，６−トリフルオロフェニル）マロン酸ジエチル１
０．１２１ｇ、濃塩酸１３．７７５ｇおよび酢酸１２ｍ
ｌを仕込んだ。この混合物を攪拌下加熱し、１０３℃で
３時間反応させた。
【００４８】反応終了後放冷し、水を加え、折出した結
晶をろ過した。得られたケーキを水で洗浄し、減圧下で
乾燥したところ、結晶が４．５３９ｇ得られた。この結
晶を19Ｆ−ＮＭＲで分析したところ、２−（３，４−ジ
シアノ−２，５，６−トリフルオロフェニル）酢酸が純
度１００％で含まれていた。
晶をろ過した。得られたケーキを水で洗浄し、減圧下で
乾燥したところ、結晶が４．５３９ｇ得られた。この結
晶を19Ｆ−ＮＭＲで分析したところ、２−（３，４−ジ
シアノ−２，５，６−トリフルオロフェニル）酢酸が純
度１００％で含まれていた。
【００４９】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3)：４．０３（２
Ｈ，ｓ）19 Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：−５７．０（１Ｆ，
ｍ），−４８．６（１Ｆ，ｍ），−３３．０（１Ｆ，
ｍ）
Ｈ，ｓ）19 Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：−５７．０（１Ｆ，
ｍ），−４８．６（１Ｆ，ｍ），−３３．０（１Ｆ，
ｍ）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (5)
- 【請求項１】 一般式（１）： 【化１】 （式中、Ｘ1〜Ｘ3はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基またはアルコキシル基である）で表
されるフタロニトリル誘導体（Ａ）。 - 【請求項２】 一般式（２）： 【化２】 （式中、Ｘ1〜Ｘ3はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基またはアルコキシル基であり、Ｒ1
〜Ｒ2はそれぞれ独立してシアノ基またはＣＯＯＲ3（こ
こで、Ｒ3はアルキル基である））で表されるフタロニ
トリル誘導体（Ｂ）。 - 【請求項３】 一般式（３）： 【化３】 （式中、Ｘ1〜Ｘ3はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基またはアルコキシル基である）で表
される化合物と一般式（４）： 【化４】 （式中、Ｒ1〜Ｒ2はそれぞれ独立してシアノ基またはＣ
ＯＯＲ3（ここで、Ｒ3はアルキル基である）で表される
化合物とを塩基性化合物の存在下に反応させることを特
徴とする請求項２のフタロニトリル誘導体（Ｂ）の製造
方法。 - 【請求項４】 請求項２のフタロニトリル誘導体（Ｂ）
を酸触媒の存在下に反応させることを特徴とする請求項
１のフタロニトリル誘導体（Ａ）の製造方法。 - 【請求項５】 一般式（３）： 【化５】 （式中、Ｘ1〜Ｘ3はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基またはアルコキシル基である）で表
される化合物と一般式（４）： 【化６】 （式中、Ｒ1〜Ｒ2はそれぞれ独立してシアノ基またはＣ
ＯＯＲ3（ここで、Ｒ3はアルキル基である）で表される
化合物とを塩基性化合物の存在下に反応させて請求項２
のフタロニトリル誘導体（Ｂ）を製造し、次いでこのフ
タロニトリル誘導体（Ｂ）を酸触媒の存在下に反応させ
ることを特徴とする請求項１のフタロニトリル誘導体
（Ａ）の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11136706A JP2000327652A (ja) | 1999-05-18 | 1999-05-18 | フタロニトリル誘導体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11136706A JP2000327652A (ja) | 1999-05-18 | 1999-05-18 | フタロニトリル誘導体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000327652A true JP2000327652A (ja) | 2000-11-28 |
Family
ID=15181589
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11136706A Withdrawn JP2000327652A (ja) | 1999-05-18 | 1999-05-18 | フタロニトリル誘導体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000327652A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6891071B2 (en) | 2002-10-04 | 2005-05-10 | Corning Incorporated | Halogenated styrene compounds and very low-loss polymers made therefrom |
| WO2005108341A1 (ja) * | 2004-05-11 | 2005-11-17 | Kuraray Co., Ltd. | ３−オキソシクロペンタン−１−カルボン酸またはそのエステルの製造方法 |
-
1999
- 1999-05-18 JP JP11136706A patent/JP2000327652A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6891071B2 (en) | 2002-10-04 | 2005-05-10 | Corning Incorporated | Halogenated styrene compounds and very low-loss polymers made therefrom |
| US7144965B2 (en) | 2002-10-04 | 2006-12-05 | Corning, Incorporated | Halogenated styrene compounds and very low-loss polymers made therefrom |
| WO2005108341A1 (ja) * | 2004-05-11 | 2005-11-17 | Kuraray Co., Ltd. | ３−オキソシクロペンタン−１−カルボン酸またはそのエステルの製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101263032B1 (ko) | 4-｛4-［（｛［4-클로로-3-（트리플루오로메틸）페닐］아미노｝카르보닐）아미노］페녹시｝-ｎ-메틸피리딘-2-카르복사미드의 제조 방법 | |
| JP5545118B2 (ja) | ニトリル化合物、カルボン酸化合物又はカルボン酸エステル化合物の製法 | |
| KR101420892B1 (ko) | 이마티닙 및 그들의 중간체 및 그 제조방법 | |
| EP1274686B1 (en) | Process for preparing 2-(4-chlorobenzolamino) -3- 2(1h) -quinolinon-4-yl proprionic acid | |
| US6187926B1 (en) | Process for producing quinolone derivatives | |
| JP2000327652A (ja) | フタロニトリル誘導体およびその製造方法 | |
| US20130060031A1 (en) | Process for the preparation of highly pure ambrisentan | |
| FI101535B (fi) | Menetelmä (4-amino-3,5-dikloori-6-fluori-2-pyridinyylioksi)etikkahapon esterin valmistamiseksi | |
| JP4032861B2 (ja) | β−オキソニトリル誘導体又はそのアルカリ金属塩の製法 | |
| JP2000327629A (ja) | フェニル酢酸誘導体、ベンゾニトリル誘導体、およびその製造方法 | |
| JP2000327622A (ja) | フェニル酢酸誘導体の製造方法 | |
| SK284614B6 (sk) | Spôsob prípravy amidov a esterov heteroarylkarboxylových kyselín | |
| US20010012894A1 (en) | Process for preparing alkoxypyrazine derivatives | |
| JP5205971B2 (ja) | テトラヒドロピラン化合物の製造方法 | |
| JP4207270B2 (ja) | シアノ安息香酸アルキルエステルの製造方法 | |
| JP3545466B2 (ja) | ジヒドロクロマンカルボン酸類及びその製造方法 | |
| JP3013760B2 (ja) | ４−ヒドロキシ−２−ピロリドンの製法 | |
| RU2635094C2 (ru) | Способ получения 4-(циклопропилметокси)-n-(3,5-дихлор-1-оксидо-4-пиридил)-5-метоксипиридин-2-карбоксамида | |
| KR20230145461A (ko) | 리스디플람의 제조 방법 | |
| JPH11171876A (ja) | ２，４−オキサゾリジンジオン類の製造方法 | |
| JP2001288167A (ja) | ピロール−２−カルボン酸誘導体の製造法 | |
| JP2001302611A (ja) | ５−トリフルオロメチルジヒドロウラシルの製造法 | |
| JPH11209373A (ja) | ニトリル誘導体の製造法 | |
| JPH10330341A (ja) | アミド誘導体の製造方法 | |
| SK41297A3 (en) | Method for preparing nitrobenzene derivatives |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060206 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20080909 |