JPH0832289B2 - 揮発性成分を有する液体組成物のための放出制御システム及びその方法 - Google Patents

揮発性成分を有する液体組成物のための放出制御システム及びその方法

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JPH0832289B2
JPH0832289B2 JP3515908A JP51590891A JPH0832289B2 JP H0832289 B2 JPH0832289 B2 JP H0832289B2 JP 3515908 A JP3515908 A JP 3515908A JP 51590891 A JP51590891 A JP 51590891A JP H0832289 B2 JPH0832289 B2 JP H0832289B2
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Description

【発明の詳細な説明】 発明の分野 本発明は、一般的に、製造工程の一部として又はこれ
に付随して物品を処理するのに使用する液体組成物から
の揮発性成分の大気中への導入を最少限にするための、
放出制御システム及び同目的を有する方法に関する。よ
り具体的には、本発明は、揮発性有機物質、特に清浄化
溶媒、とりわけクロロフルオロカーボン清浄化溶媒の大
気への導入を減少させるための、真空対真空放出制御シ
ステムに関する。本発明は、慣用の脱脂装置で経験され
ている溶媒消費の1%よりかなり低いレベルと溶媒消費
性能を制御する能力を有する閉鎖ループ溶媒回収システ
ムを提供する。溶媒が回収不能に吸収される製品でのド
ラッグアウト(dragout)損失は、幾分高くなるであろ
う。
発明の背景 揮発性の有機化合物は、健康及び環境への危害という
問題を生ずることが知られている。一方、オゾンの枯渇
及び地球的な警告は、今や莫大な量のクロロフルオロカ
ーボン(CFC′s)及び類似の揮発性化合物の放出のよ
うな因子に帰せられている。他方、揮発性成分、特に広
範囲の製造工程において使用されている溶媒や類似の化
合物の吸入が、潜在的に重大な健康危害をもたらすこと
が知られている。そのようなすべての場合において、溶
媒又は清浄化剤としての効果(例えば揮発性)のよう
な、これらの組成物を製造工程において特に望ましいも
のとしている特徴が、それらの使用に伴う有害な又は潜
在的に有害な効果の直接の原因である。
これらの揮発性成分が大気中へと逃げる傾向を有する
工程中の又はこれらに付随する溶媒の損失を最少限にす
るために、システムが考案されてきた。いくつかのもの
は、清浄化工程のような製造工程の結果生ずる液体とそ
れに含まれる材料とを回収し、そして使用可能な液体を
夾雑物から分離するよう設計された回収システムであ
る。これらのシステムは、共通の限界や欠点を有する傾
向がある。例えば、空気がシステムに入って蒸気と混合
することがしばしば許容され、そのため空気の除去は必
然的に揮発性成分の損失をも伴う。溶媒損失のより直接
的な源は、拡散、ドラッグアウト、及びシステムの漏出
に帰することができよう。
入れられた空気と混合された溶媒の場合のような間接
的な溶媒損失は、最も一般的には炭素吸収剤によって対
処されてきた。これらの回収又は制御のシステムは複雑
で、それゆえ資本投下と運転経費との両面でコストの高
いものとなり得る。直接的な損失は、時には制御が一層
容易であるが、その目的のために設計される多くの潜在
的な解決策は、周囲の空気をシステム中へ入れることに
寄与し、上述のタイプの問題を生じ得る。こうして、例
えば、電子産業においてプリント回路板又は電子部品を
清浄化するために使用されている溶媒システムが、1時
間当たり溶媒8乃至10ポンド台という相対的に大量の溶
媒蒸気を放出するのを見いだすのは珍しくない。
発明の概要 本発明は、揮発性成分、特に産業的清浄化工程に関連
する溶媒の大気中への逃げを最少限にするための改良さ
れた放出制御システムを提供する。本発明は、先行技術
の制御システム又は溶媒回収技術に特有の問題の多くを
克服するようなシステム及びその実施のための方法を有
利的に提供する。本発明のシステムは、99%を優に超え
る計算上の回収率を提供するよう設計されており、最も
実際的な産業的状況下にて、慣用の脱脂装置に比して、
約0.5%又はこれ未満以外のすべての溶媒放出を無くす
る。
上記のそして他の利点は、揮発性液体の大気への放出
を制御するための方法における本発明の一の面において
実現されるが、その方法は、物品を処理のために加圧及
び有効な真空に維持することがいずれも可能なチャンバ
ー内に置く段階と、実質的にすべての気体を除去するた
めに該チャンバーを脱気する段階と、物品を処理するた
めの溶媒のような揮発性成分よりなる液体組成物を最初
にチャンバー内に導入する段階と、処理の段階に続いて
液体と溶媒組成物の蒸気成分を回収する段階と、及び続
いて乾燥用液体でチャンバーを洗い流すことによって残
留する液体を除去する段階とからなる。最も好ましく
は、乾燥用液体は、閉鎖ループシステム内の凝縮不能の
気体及び溶媒蒸気の残余の封入物から誘導される。チャ
ンバー及びその内容物の温度は、チャンバーの壁の加熱
のような加熱手段又は赤外線加熱のような照射手段によ
って制御することができる。
好ましい一の具体例においては、処理又は清浄化用の
液体を回収する段階は更に、最初の加工段階で使用され
た液体を回収する段階と、それを液体と気体の相に分離
する段階とからなる。該方法は更に、揮発性成分を凝縮
し、それによって回収しそしてリサイクルするために、
気相を、好ましくは圧縮及び冷却によって、分画する段
階よりなる。回収済の気体は、次いで好ましくは加熱さ
れて、チャンバー内に収容された物品を乾燥するための
第2の処理段階において使用されるが、もっとも、状況
によっては、処理、気体及びチャンバーから排除される
べき液体の性質に応じて、加熱の必要のない乾燥剤とし
て使用することもできる。
典型的には、チャンバーは最初に真空ポンプによって
脱気され、該チャンバーが再循環閉鎖ループシステムか
ら分離されている間は、チャンバーの内容物は大気に放
出される。反対に、乾燥段階に続いて、乾燥工程を促進
し残留溶媒蒸気を閉鎖ループシステムへと戻すために、
チャンバーは閉鎖ループシステムを通じて脱気され、次
いでチャンバーは真空を解除する前に分離される。それ
は、周囲の気体を入れ、これに続いてチャンバーを開き
そして処理のためにそこに入れていた物品を取り除くこ
とによって、極めて簡便に達成される。残留溶媒液体及
び気体を処理される物品及びチャンバーから除去するこ
とによって、実際上ドラッグアウトは無くなる。閉鎖ル
ープシステム内に入れられる気体は、これらの分離段階
によって最少限とされる。
本発明の他の利点及びその操作の及びそれを含むシス
テムの完全な理解は、続く以下の詳細な説明を図面の唯
一の図と組み合わせて検討することにより認識されよ
う。
図面の記述 図面は、本発明による工程を実施するのに適したシス
テムを図式的に示す。
好ましい具体例の詳細な説明 本発明は、一般的に、製造工程の一部として又はこれ
に付随して物品を処理するのに使用する液体組成物から
の、揮発性成分の大気への導入を最少限にするための放
出制御システム及びそのための方法に関する。より具体
的には、本発明は、揮発性有機物質、特に、クロロフル
オロカーボン類、ヒドロクロロフルオロカーボン類、ク
ロロカーボン類、アルコール類、炭化水素類及び他の揮
発性化合物のような清浄化溶媒の大気中への導入を減少
させるための真空対真空放出制御システムに関する。本
発明は、慣用の脱脂装置で経験されている溶媒消費の1
%よりかなり低いレベルへと溶媒消費性能を制御する能
力を有する再循環閉鎖ループ溶媒回収システムを提供す
る。溶媒が回収不能に吸収される製品での溶媒消費は幾
分高くなるであろう。従って、本発明は、例えばキャピ
ラリー流れ透析器、プリント回路板又は金属若しくはプ
ラスチック部品からの汚れの除去のための清浄化工程と
組み合わせて使用される溶媒回収システムの好ましい実
施に言及して今や記述されるであろう。
図面における図に戻ると、一般的に10として指定した
本発明の放出制御システムは、その中で清浄化又は他の
処理操作が行われる一般的に12として指定した処理チャ
ンバーを含むことが示されている。放出制御システム10
の重要な面は、チャンバー12を再循環閉鎖ループシステ
ムの残り部分から分離しそれによって閉鎖ループシステ
ムからの揮発性成分の損失又はシステムへの気体の導入
を制御する能力である。これは、具体例におて、入口ソ
レノイド弁14及び104並びに出口ソレノイド弁16によっ
て達成される。チャンバー12は、真空ポンプ18と作動的
に関連しており、これと導管20呼びソレノイド弁16とを
介して連通している。真空ポンプ18は、択一的に、導管
22及びソレノイド弁24を介してポート26を通って大気
と、又は導管28を通って閉鎖ループシステムとのいずれ
かと連通している。従ってチャンバー12の内側は、閉鎖
ループシステム10の残り部分から分離することができ、
その内容物は、システムがそのために稼働される工程又
はその工程内の作動段階によって要求されるように、大
気へと又は閉鎖ループシステムへと選択的に脱気又は放
出されることができる。
チャンバーとその内容物とは、その温度を制御するた
めに、熱源13及び熱交換器15又は赤外線照射、直接伝導
その他を含む多数の加熱方法のいずれによっても加熱す
ることができる。チャンバー12は、それ自身揮発性であ
るか又は揮発性成分よりなる液体組成物で処理されるべ
き1又はより多くの物品(図示せず)を収容するよう大
きさ及び形状が与えられている。チャンバーが周囲環境
から分離され明確に区別されて処理環境を画するという
主要な役割を果たす限り、チャンバー12はまた、圧力及
び真空のいずれをも収容するに充分な完全さをもって構
成される必要がある。本発明の好ましい具体例の文脈に
おいて、その沸点の故に多くは慣用の清浄化工程では実
用的でない広い範囲の溶媒を利用するため、周囲の気圧
より上又は下のいずれにおける清浄化工程も実施するこ
とができる。本発明を実施するのに周囲以下の脱気気圧
が充分であろうが、完全真空に至るまでのより低い脱気
気圧は、溶媒封じ込め能率を高めるであろう。それにも
拘わらず、周囲に対し陽性及び陰性のいずれの気圧レベ
ルをも維持するよう、チャンバー12が設計されることが
重要である。
チャンバー12内で清浄化されるべき物品は、上述のよ
うにソレノイド弁14、16及び104を閉じることによって
チャンバーが閉鎖ループシステムから分離されている間
に投入される。投入の間、気体はチャンバー内部に直接
入り、そして気体はまた処理されるべき物品の中に入っ
ているか又は表面上に若しくは周囲に担持されているで
あろう。一旦チャンバーが投入され、そしてそれが閉鎖
ループシステムから分離されたままでいる間に、チャン
バー12の内部を脱気しそしてその中の気体をソレノイド
弁24のポート26を介して大気へ放出するために、真空ポ
ンプ18が使用される。チャンバー12の内部から一旦気体
が除去されると、チャンバーは、望まない材料を導入す
る過度の危険なしに閉鎖ループシステム10の残り部分と
連通されることができる。
投入チャンバー12から全ての気体が放出された後、チ
ャンバー内の物品は、例えば洗い流し、噴霧、噴霧後浸
漬、超音波、機械的撹拌その他の溶媒脱脂又は清浄化工
程のような処理の準備が整う。真空は、気体分離器34か
ら気体を引くためにソレノイド弁104を開くことによっ
て、閉鎖ループシステムの内側から破られる。続いて、
チャンバー12の入口にあるソレノイド弁14を介して、溶
媒供給30から溶媒が入れられる。溶媒はその中で処理工
程を行うためにチャンバー12内に供給され、そしてライ
ン32、出口弁16及びライン33を介して、一般的に34とし
て指定した気体/液体分離器へと出る。汚れ、残滓、溶
解夾雑物及び混入気体を担持した処理液は、液相と気相
とに区分するために分離器34内で処理される。液相は、
分離器34の下側領域にある液体受け36へと比重的に分離
する。気相は、分離器34の上側部分にある気体ウェル38
へと自然に上昇する。
高及び低レベルスイッチ、それぞれ40及び42は、受け
36内の液相の水位に応答する。高レベルスイッチ40を始
動させるに充分液体水位が上昇すると、それは排出ポン
プ44を作動させ、それは受け36から導管46を介して溶媒
再生利用貯蔵器48へと液体を除去する。溶媒はそれから
夾雑物を除去するために慣用の仕方で処理され、そして
次いで溶媒供給貯蔵器30へと戻されることによってリサ
イクルされる。
ウェル38内に上昇した気相は、典型的には、比較的高
沸点の溶媒蒸気、処理工程中に発生したガス及び主たる
成分を構成する残留空気を含む、数種の成分の組合せで
ある。気体は、栓を開き又は分離器34から抜き取らねば
ならなくなる程に充分に圧力が高まるまでウェル38内に
集まる。スイッチ50がウェル38内の気体の圧力の蓄積を
感知し、ソレノイド弁52を開く。気体は、それによって
導管56を介して低圧蓄積器54へと入れられる。蓄積器54
と協働的関係にスイッチ58が備えられており、それは蓄
積器内の圧力が予め設定した値に達したとき始動する。
その時、スイッチ58は、気体圧縮機60に電力を供給し、
それは気体を圧縮しそれを圧縮機の出口にあるライン64
へと放出する。圧縮機60は、低圧蓄積器54内の圧力が設
定レベルに落ちるまで作動し続けるでろう。同様に、気
体はウェル38から、その中の圧力ヘッドが圧力スイッチ
50の設定より上に止まる限り、抜かれ続けるであろう。
この配列は、さもなければウェル38内の圧力の小さな変
動によって起こり得る「短回転」を経験することなしに
圧縮機がウェル38から気体を除去しそして圧縮すること
を許容する。
ライン64を介して圧縮機60を出ていく圧縮気体は、圧
縮による熱を除去するため後冷却機66へと送り出され
る。その後、気体は、一般的に68として指定した回収装
置へと辿る。回収装置は、それを横切って圧縮気体が流
れる熱交換機72のためのハウジング70よりなる。熱交換
機72の冷却は、入口76を介して熱交換機72へと冷塩水溶
液を供給し出口を通してそれを除去するものである塩水
チラーパッケージ74内に収容されている塩水溶液によっ
てなされる。
回収装置68は、圧縮気体の揮発性成分の露点以下の温
度を提供するよう制御される。これらの成分は、典型的
には、溶媒蒸気その他であるが、凝縮し、回収装置から
ライン80を介し、ソレノイド弁82及び導管84を通って液
体受け36へと送り出される。この仕方で、凝縮した有用
な溶媒として役立つ揮発性気体は、その目的のためシス
テムに戻される。
より高沸点の成分が回収された気体は、導管86と連通
している出口ポートを介して回収装置68から抜き取ら
れ、ライン90を介して高圧蓄積器又は気体受け88に入れ
られる。気体受け88は、気体の単位体積当たりの溶媒重
量ベースで、閉鎖ループシステム中、気体の溶媒含量が
最少である回収済気体を収容する。この気体は、ライン
92及び圧力応答弁94を通って、一般的に96として指定し
た気体加熱器96へと供給される。気体加熱器96は、熱源
98及び熱交換器100とからなる。例えば最初の脱気段階
において達成された不完全な真空に起因する気体の取込
みによって、受け88内の回収済気体の量が過度に高いレ
ベルに上昇しシステムの圧力の増大をもたらす限り、そ
れは圧力逃がし弁102を介してシステムから放出され
る。弁102によって逃がされた気体は、その逃がされた
気体が担持する少量の溶媒の大部分を除去するために、
炭素吸着剤によって更に処理することができる。
チャンバー12に収容されている部品が清浄化(その間
液体溶媒がチャンバーに入れられる)された後、部品は
乾燥され又はさもなければ残留液体溶媒を除去される。
これは、加熱器96から弁14を通ってチャンバー12の内部
へと加熱された回収済気体を再循環させることによって
達成される。チャンバー内を通って流れる加熱された気
体は、液体溶媒を気化させ、こうして残存溶媒を蒸発さ
せることによって乾燥操作を達成する。その気体は、上
述のように、チャンバーを通過し続け、ソレノイド弁16
を通って分離器34内の気体ウェル38へと戻り、そして気
体受け88へと戻る。
加熱された回収済気体に助けられた乾燥機能は、一定
の状況下では加熱を要しない乾燥用気体によっても同様
によく達成されよう。例えば、チャンバー12から排除し
ようとする液体組成物の揮発性に応じて、いずれも設計
者の意のままになる乾燥用気体の流通量、処理されるべ
き物品の物理的形状及び類似の諸因子が、回収装置68か
ら放出される回収済気体が加熱の必要なしに直接に使用
しうるか、そしてまた、設計者が求める乾燥機能を達成
するために所望により一層高い又は低い温度まで加熱さ
れ得るか否かを決定する。
一旦部品が上述のように処理され次いで乾燥される
と、チャンバー内で更なる乾燥と気体除去の段階が行わ
れる。チャンバー12はソレノイド弁14及び104を閉じる
ことによって入口において分離されそしてソレノイド弁
16を閉じることによって出口において分離される。真空
ポンプ18が次いで、ソレノイド弁16を開くことによっ
て、チャンバー12内に残留する内容物を抜き取るために
チャンバーに連結される。これらは本質的に、回収済気
体及びそれが含有する揮発性成分並びにおそらく先の乾
燥段階において除去されなかった残留溶媒液体からな
る。残留物は、ソレノイド弁16を通って真空ポンプ18に
よって引かれ、そしてソレノイド弁24及び導管28を通っ
てウェル38の下流の閉鎖ループシステムの気体側へと送
られ、低圧蓄積器54へと向かう。
真空ポンプの動力が切られる前に、実質的に全ての溶
媒蒸気及び他の気体が除去されるに充分な真空で引かれ
る。この時点において、清浄なそして乾燥した物品を収
容しているチャンバー12は、それらを取り出すために開
く準備ができている。ソレノイド弁104がチャンバー12
内の真空を破るために何らかの気体源例えば環境に対し
て開かれ、そして操作者に清浄化された物品を取り出す
ためにアクセスすることを許容する。その時、チャンバ
ー12はすでに清浄化すべき新たな物品の投入を受ける準
備ができている。
システムの操作についての上記開示は単純な処理、排
除及び乾燥操作に特有ではあるが、該システムが慣用の
溶媒以外のものとともに使用することができることに注
目すべきである。これに関し、もしチャンバー圧力が高
められれば、清浄な室内条件では気体である化合物(例
えば、1気圧ではそれぞれ−21.7゜F及び−41゜Fで沸
騰するR−12又はR−13)が、もし圧力がそれぞれ185p
sig及び300psigより上に維持されたなら、130゜Fにて
液体溶媒として使用できる。この可能性の重要性は、CF
C′sに代えて多くの有用な溶媒を使用できる能力であ
る。該システムは、単に圧力を変えるだけで、溶媒の状
態を液体から蒸気へそして再び元へと変化させることが
できる。このことは、溶媒液体が裂け目に入りそして夾
雑物を担持して再び出ることが必要な、小さな裂け目の
清浄化においては特に重要である。
上記の例として、変圧器捲線コイルの中に埋まったPC
Bのような可溶性の夾雑物を想起してみよ。最初に、コ
イルはチャンバー12内に置かれ、ソレノイド弁16が開か
れそして真空ポンプ18がチャンバーから気体を除去する
ために作動さる。ソレノイド16はチャンバーを密封する
ために閉じられ、そしてソレノイド14が溶媒供給のため
に開かれる。チャンバー内の真空は、溶媒の一部を蒸発
させて変圧器捲線間のすき間に引き入れる。チャンバー
内の圧力はポンプ(図示せず)によって、個々の温度に
おいて溶媒が凝縮する点へと高めることができる。溶媒
が凝縮すると体積が減少し、一層の溶媒蒸気をコイル中
へと引き入れ、既に凝縮した溶媒によって形成された隙
間を満たす。コイルは液体溶媒で満たされPCB夾雑物は
溶解される。
ソレノイド弁14は閉じられ、真空ポンプ18にチャンバ
ー内の圧力を減少させるために、ソレノイド16が開かれ
る。液体溶媒は、PCBで汚れた液体をコイルから引出し
ながら沸騰するであろう。これは、一旦この最初の真空
によって凝縮し得ない気体の全てが除去された後コイル
を清浄化するに必要とみなされる回数だけ反復すること
ができる。
上記より明らかなように、該システムは、チャンバー
12を通って導入される又は潜在的に導入される夾雑物及
び気体から分離されている。チャンバーは、大気及び夾
雑物と気体の潜在的な源に対して開いている唯一の部分
である。逆に、閉鎖ループシステムはチャンバー12内の
物品の溶媒清浄化のような処理において、チャンバーが
これらの気体及び夾雑物源から別な仕方で分離されてい
る時のみ作動される。こうして直接的にも間接的にも、
溶媒の放出は上記の一般的なパラメーターの範囲内に実
質的に防止される。
該システムは、広範囲の物品を処理するために、広く
適合できる。製造工程の進行中に又はその終了後のいず
れかに除去しなければならない製造上の汚れであって、
揮発性組成物によるそのような処理を受け付ける汚れを
含むる物品はいかなるものも、このシステム内10で充分
処理できる。2、3の用途の典型は、電子部品又はシス
テムの溶媒清浄化及び医療装置又は金属性若しくはプラ
スチック製部品の溶媒清浄化である。加えて、このシス
テムが、例えばドライクリーニングを含む一層日常的な
工程からの放出を制御するために使用できることが想起
される。同様に、このシステム10によって広範な揮発性
組成物を適切に取り扱うことができよう。システムの気
体圧縮器と回収部分を適当な凝縮パラメーターを達成す
るよう適切に設計することは、設計者に本システムをし
て広範囲の実際的利用性に適合させることを許容する。
例えば、CFC−113クロロフルオロカーボン溶媒を用いて
60PSIGの圧縮と−26゜Fの回収装置の熱交換機温度と
が、約9%未満の溶媒相対湿度をもたらすことが測定さ
れた。しかしながら、より一般的に、回収装置を出る位
置での露点は実際上熱交換機表面自体の温度と等しい一
方、回収済気体の乾燥弁温度は約15乃至20゜Fであるこ
とが測定された。従って、ここに提示した原理に案内さ
れて、実際上あらゆる通常出合う揮発性溶媒を収容する
適当な能力と作動特性とを有するシステムを設計する上
で、通常の当業者は何らの困難も有しないであろう。
こうして、本発明により、揮発性成分を有する液体組
成物のための放出制御システムと上記の目的及び利点を
完全に満たすその方法とが提供されたことは明らかであ
る。本発明は、特定の具体例との関連において記述され
たが、当業者には多くの置換、修正及び変更が自明であ
ろうことは明白である。従って、そのような全ての置
換、修正及び変更は、添付の請求の範囲の精神及び範囲
に包含されることが意図されている。

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】大気への放出を制御しながら揮発性溶媒で
    物品を処理するための装置であって、 物品を出し入れするため開閉することができそして閉じ
    た時大気に対してシールされる、物品を収容するための
    チャンバー(12)と、 チャンバー(12)へ溶媒を導入する前にチャンバー内の
    空気を大気へ排気し、そして物品の処理後チャンバー
    (12)から溶媒蒸気を回収するためチャンバーを排気す
    るための真空ポンプ(18)を含んでいる真空システム
    (16−28,32)と、 溶媒蒸気から液体溶媒を回収するための回収装置(68)
    およびチャンバーから排液された液体溶媒を受取るため
    の受納器(36)を備えた、真空システム16−28,32)か
    らの溶媒を受取る溶媒回収システム(32−38,56,60−6
    8)と、 処理後チャンバー(12)内の物品を乾燥するためチャン
    バー(12)および溶媒回収システム(32−38,56,60−6
    8)内に滞留する気体を回収装置(68)からチャンバー
    (12)へ再循環させるための閉鎖再循環ループ(56,64,
    86,92,94,96)、 を備えていることを特徴とする前記装置。
  2. 【請求項2】前記溶媒回収システム(32−38,56,60−6
    8)は、チャンバー(12)から排出される溶媒の気体お
    よび液体成分を分離するためチャンバーへ接続された気
    体液体分離器(34)を備えている請求項1の装置。
  3. 【請求項3】前記溶媒回収システム(32−38,56,60−6
    8)は、回収された液体溶媒を回収装置(68)から受納
    器(36)へ返還するための液体再循環ループ(80−84)
    と、チャンバー(12)内で再使用のため液体溶媒を精製
    しそして受納器(36)および回収装置(68)から溶媒供
    給システム(30)へ返還するための回収システム(44−
    48)を備えている請求項2の装置。
  4. 【請求項4】前記閉鎖再循環ループ(56,64,86,92,94,9
    6)は、脱溶媒した気体をチャンバー(12)へ再循環す
    る前に回収装置(68)からの脱溶媒気体を加熱するヒー
    ター(96)を備えている請求項1,2または3の装置。
  5. 【請求項5】前記閉鎖再循環ループ(56,64,86,92,94,9
    6)は、大気へ排気することなく装置を運転できるよう
    に装置内に過剰の空気の蓄積を収容する気体溜め(88)
    と、過剰の圧力を逃がすため選択的に作動する安全弁
    (102)を備えている請求項1または4の装置。
  6. 【請求項6】前記溶媒回収システム(32−38,56,60−6
    8)は、チャンバー(12)から引抜かれた溶媒蒸気を含
    んでいる気体を加圧しそして加圧した気体を回収装置
    (68)へ供給する圧縮機(60)を備えている請求項1な
    いし5のいずれかの装置。
  7. 【請求項7】前記溶媒回収システム(32−38,56,60−5
    8)は、気体液体分離器(34)からの溶媒蒸気を含んで
    いる気体を受入れるライン(56)へ接続され、かつチャ
    ンバー(12)から引抜かれた溶媒蒸気を含んでいる気体
    を加圧しそして加圧した気体を回収装置(68)へ供給す
    る圧縮機(60)と、 チャンバー(12)から引抜かれた溶媒蒸気の蓄積を収容
    する、圧縮機(60)の低圧側に配置された気体蓄積器
    (54)と、 蓄積器(54)内の圧力があらかじめ定めたレベルへ上昇
    した時圧縮機(60)を作動させるためのスイッチ(58)
    を備えている請求項2または3の装置。
  8. 【請求項8】前記溶媒回収システム(32−38,56,60−6
    8)は、気体液体分離器(34)のウエル(38)内の気体
    圧力蓄積を感知するスイッチ(50)と、気体液体分離器
    (34)と蓄積器(54)の間に配置され、ウエル(38)の
    気体圧力蓄積があらかじめ定めたレベルへ達したことを
    前記スイッチ(50)が感知した時開く弁(52)を備えて
    いる請求項7の装置。
  9. 【請求項9】前記溶媒回収システム(32−38,56,60−6
    8)は、大気へ排気することなく該システムを運転でき
    るようにシステム内の空気の過剰の蓄積を収容する気体
    溜め(88)を備えている請求項1ないし4のいずれかの
    装置。
  10. 【請求項10】物品かを洗浄チャンバー内に入れ、溶媒
    で処理し、そしてチャンバーから取り出すことよりなる
    物品を揮発性溶媒で処理する方法であって、 物品を出し入れするため開閉することができ、そして閉
    じた時大気に対しシールされる物品を収容するチャンバ
    ー(12)へ、空気が取入れられる態様で物品を配置し、 チャンバー(12)をシールし、 実質上すべての空気を排除するようにチャンバー(12)
    を排気し、 溶媒が液体の形で物品と接触しそして溶媒蒸気がチャン
    バーを満たすように溶媒をチャンバー(12)へ導入し、 チャンバー(12)から液体溶媒を排液し、 チャンバー(12)から残留溶媒蒸気を除去するようにチ
    ャンバーを排気し、かつ物品を乾燥するためチャンバー
    (12)へ接続されている閉鎖再循環ループ(56,60−68,
    86−96)中に滞留する気体をチャンバー(12)を通って
    循環し、その間溶媒蒸気を含んでいる気体を回収装置
    (68)を通過させて溶媒蒸気を凝縮し、 その後チャンバー(12)を開いて処理した物品をチャン
    バーから取出す 各ステップを含むことを特徴とする前記方法。
  11. 【請求項11】チャンバーを通って循環させる前に、気
    体を回収装置(68)の下流に設置した閉鎖再循環ループ
    (56,60−68,86−96)中のヒーター(96)によって加熱
    するステップを含んでいる請求項10の方法。
  12. 【請求項12】溶媒蒸気を回収装置(68)内で凝縮する
    前に、回収装置(68)の上流に設置した圧縮機(60)に
    おいて気体を圧縮するステップを含んでいる請求項10ま
    たは11の方法。
  13. 【請求項13】排気された溶媒蒸気を含んでいる気体中
    の残存空気を気体溜め(88)中に蓄積するステップを含
    んでいる請求項10,11または12の方法。
  14. 【請求項14】気体溜め内の気体が溶媒蒸気の最少量を
    含むように、回収装置(68)から下流に前記気体溜め
    (88)を配置し、該気体溜め内の圧力があらかじめ定め
    たレベルに達した時該圧力を軽減するステップを含む請
    求項13の方法。
  15. 【請求項15】チャンバー(12)から排出された溶媒の
    気体および液体成分を分離するためチャンバーへ接続さ
    れた分離器(34)中へ液体溶媒を排液し、 回収装置(68)から回収された液体溶媒を前記分離器
    (34)へ返還してチャンバー(12)から排液された液体
    溶媒と合併し、 分離器(34)および回収装置(68)からの溶媒を精製
    し、 精製した液体溶媒をチャンバー(12)で再使用のため溶
    媒供給源(30)へ返還するステップを含む請求項10ない
    し14のいずれかの方法。
  16. 【請求項16】溶媒は常圧常温において気体であり、溶
    媒が物品と接触する時液体状態であるようにチャンバー
    (12)を加圧するステップを含んでいる請求項10ないし
    15のいずれかの方法。
  17. 【請求項17】溶媒を気体状態でチャンバーへ導入し、
    そして溶媒を凝縮しそしてそれで物品を処理するように
    チャンバー(12)を加圧するステップを含む請求項16の
    方法。
  18. 【請求項18】溶媒はクロロカーボン、フルオロカーボ
    ン、クロロフルオロカーボン、またはヒドロクロロフル
    オロカーボンである請求項10ないし17のいずれかの方
    法。
  19. 【請求項19】チャンバー(12)内で物品を洗浄し、物
    品がチャンバー内にある間洗浄効果を高めるため超音波
    処理するステップを含んでいる請求項10ないし18のいず
    れかの方法。
  20. 【請求項20】処理すべき物品は毛管流透析器である請
    求項10ないし19のいずれかの方法。
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