JPH08301816A - α−ヒドロキシメチルアクリレート化合物の製造方法 - Google Patents
α−ヒドロキシメチルアクリレート化合物の製造方法Info
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- JPH08301816A JPH08301816A JP7128843A JP12884395A JPH08301816A JP H08301816 A JPH08301816 A JP H08301816A JP 7128843 A JP7128843 A JP 7128843A JP 12884395 A JP12884395 A JP 12884395A JP H08301816 A JPH08301816 A JP H08301816A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Epoxy Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 塗料用の樹脂、凝集剤、木材または各種樹脂
の改質用の樹脂のモノマーとして、あるいは医薬、農薬
の中間体として有用なα−ヒドロキシメチルアクリレー
ト化合物を、抽出精製により高純度で製造する方法を提
供する。 【構成】 アクリレート化合物とホルムアルデヒド水溶
液とを、第三級アミンの存在下に溶媒を用いて反応さ
せ、反応後抽出精製を行うに当たり、仕込みに用いたも
のと同じアクリレ−ト化合物を用いて不純物を抽出除去
し、さらに目的物の抽出を行うα−ヒドロキシメチルア
クリレート化合物の製造方法。
の改質用の樹脂のモノマーとして、あるいは医薬、農薬
の中間体として有用なα−ヒドロキシメチルアクリレー
ト化合物を、抽出精製により高純度で製造する方法を提
供する。 【構成】 アクリレート化合物とホルムアルデヒド水溶
液とを、第三級アミンの存在下に溶媒を用いて反応さ
せ、反応後抽出精製を行うに当たり、仕込みに用いたも
のと同じアクリレ−ト化合物を用いて不純物を抽出除去
し、さらに目的物の抽出を行うα−ヒドロキシメチルア
クリレート化合物の製造方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、塗料用の樹脂、凝集
剤、木材または各種樹脂の改質用の樹脂のモノマーとし
て、あるいは医薬、農薬の中間体として有用なα−ヒド
ロキシメチルアクリレート化合物、特に高純度のα−ヒ
ドロキシメチルアクリレート化合物の製造方法に関す
る。
剤、木材または各種樹脂の改質用の樹脂のモノマーとし
て、あるいは医薬、農薬の中間体として有用なα−ヒド
ロキシメチルアクリレート化合物、特に高純度のα−ヒ
ドロキシメチルアクリレート化合物の製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】α−ヒドロキシメチルアクリレート化合
物は、塗料用の樹脂、凝集剤、木材または各種樹脂の改
質用の樹脂のモノマーとして、あるいは医薬、農薬の中
間体としての用途を有しており、以下に説明するような
合成法が知られている。
物は、塗料用の樹脂、凝集剤、木材または各種樹脂の改
質用の樹脂のモノマーとして、あるいは医薬、農薬の中
間体としての用途を有しており、以下に説明するような
合成法が知られている。
【0003】例えば、米国特許第4654432号明細
書には、[化3]で表わされるアクリレート化合物と、
水和ホルムアルデヒドまたは炭素数1〜6のアルコール
から誘導される半アセタールとを、第三級アミンからな
る触媒を使用し、水またはアルコールの存在下にて0〜
150℃で反応させ、[化4]で表示されるα−ヒドロ
キシメチルアクリレート化合物を得る方法が記載されて
いる。
書には、[化3]で表わされるアクリレート化合物と、
水和ホルムアルデヒドまたは炭素数1〜6のアルコール
から誘導される半アセタールとを、第三級アミンからな
る触媒を使用し、水またはアルコールの存在下にて0〜
150℃で反応させ、[化4]で表示されるα−ヒドロ
キシメチルアクリレート化合物を得る方法が記載されて
いる。
【0004】
【化3】
【0005】
【化4】
【0006】しかしながら、この米国特許第46544
32号明細書に記載されているα−ヒドロキシメチルア
クリレート化合物の製法は、反応終了後はジエチルエ−
テル等の有機溶媒を用いて目的物を抽出し、その後70
℃、0.3mmHgというような非常に厳しい条件で蒸
留精製を行う方法である。このような過酷な精製法は工
業的生産では不利である。
32号明細書に記載されているα−ヒドロキシメチルア
クリレート化合物の製法は、反応終了後はジエチルエ−
テル等の有機溶媒を用いて目的物を抽出し、その後70
℃、0.3mmHgというような非常に厳しい条件で蒸
留精製を行う方法である。このような過酷な精製法は工
業的生産では不利である。
【0007】また、特開平5−70408号公報には、
上記米国特許第4654432号明細書に記載されてい
る方法と同様の条件に加えて、水と相溶性のある有機溶
媒中で反応を行い、反応終了後、得られた粗α−ヒドロ
キシメチルアクリレート化合物を水に溶解し、特定の溶
媒を用いて不純物を抽出除去する方法が記載されてい
る。
上記米国特許第4654432号明細書に記載されてい
る方法と同様の条件に加えて、水と相溶性のある有機溶
媒中で反応を行い、反応終了後、得られた粗α−ヒドロ
キシメチルアクリレート化合物を水に溶解し、特定の溶
媒を用いて不純物を抽出除去する方法が記載されてい
る。
【0008】この方法は、(1)反応生成液に水と相溶
性の有しない有機溶媒を添加して目的物を溶剤抽出し、
次いで抽出液から有機溶媒を留去し粗α−ヒドロキシメ
チルアクリレート化合物を得る工程、(2)その粗α−
ヒドロキシメチルアクリレート化合物を水に溶解し、石
油エ−テル、または炭素数5〜8の炭化水素を用いて不
純物を除去する工程、(3)前工程から得られる水相部
からα−ヒドロキシメチルアクリレート化合物を単離す
る工程からなる方法である。しかし、(1)〜(3)の
各工程でそれぞれ異なる溶媒を使用するので、溶媒系が
複雑となり、また、回収した溶媒を再利用する際に抽出
溶媒が混入してしまい、延いては反応液にこれら溶媒が
混入することになり、工業的生産には不向きである。
性の有しない有機溶媒を添加して目的物を溶剤抽出し、
次いで抽出液から有機溶媒を留去し粗α−ヒドロキシメ
チルアクリレート化合物を得る工程、(2)その粗α−
ヒドロキシメチルアクリレート化合物を水に溶解し、石
油エ−テル、または炭素数5〜8の炭化水素を用いて不
純物を除去する工程、(3)前工程から得られる水相部
からα−ヒドロキシメチルアクリレート化合物を単離す
る工程からなる方法である。しかし、(1)〜(3)の
各工程でそれぞれ異なる溶媒を使用するので、溶媒系が
複雑となり、また、回収した溶媒を再利用する際に抽出
溶媒が混入してしまい、延いては反応液にこれら溶媒が
混入することになり、工業的生産には不向きである。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、反応
後抽出精製する際に、仕込んだアクリレ−ト化合物と同
じ化合物を用いて不純物を抽出除去し、さらに目的物で
あるα−ヒドロキシメチルアクリレート化合物の抽出を
行うことにより溶媒の再利用が可能で、かつ、高純度の
α−ヒドロキシメチルアクリレート化合物を容易に製造
する方法を提供することにある。
後抽出精製する際に、仕込んだアクリレ−ト化合物と同
じ化合物を用いて不純物を抽出除去し、さらに目的物で
あるα−ヒドロキシメチルアクリレート化合物の抽出を
行うことにより溶媒の再利用が可能で、かつ、高純度の
α−ヒドロキシメチルアクリレート化合物を容易に製造
する方法を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記の[化
5]で表わされるアクリレート化合物とホルムアルデヒ
ド水溶液とを、第三級アミンの存在下に溶媒を用いて反
応させ、反応後抽出精製を行うに当たり、仕込みに用い
たものと同じアクリレ−ト化合物を用いて不純物を抽出
除去し、さらに目的物である下記の[化6]で表わされ
るα−ヒドロキシメチルアクリレート化合物の抽出を行
うことを特徴とする前記α−ヒドロキシメチルアクリレ
ート化合物の製造方法にある。
5]で表わされるアクリレート化合物とホルムアルデヒ
ド水溶液とを、第三級アミンの存在下に溶媒を用いて反
応させ、反応後抽出精製を行うに当たり、仕込みに用い
たものと同じアクリレ−ト化合物を用いて不純物を抽出
除去し、さらに目的物である下記の[化6]で表わされ
るα−ヒドロキシメチルアクリレート化合物の抽出を行
うことを特徴とする前記α−ヒドロキシメチルアクリレ
ート化合物の製造方法にある。
【化5】
【0011】
【化6】
【0012】本発明のα−ヒドロキシメチルアクリレー
ト化合物の製造方法で使用し得る[化5]で表示される
アクリレート化合物の例としては、 (a)R=炭素数1〜20のアルキル基:例えばメチル
アクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアク
リレート、イソプロピルアクリレート、n−ブチルアク
リレート、イソブチルアクリレート、tert−ブチル
アクリレート、n−オクチルアクリレート、イソオクチ
ルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、ラ
ウリルアクリレート、ステアリルアクリレートなど、
ト化合物の製造方法で使用し得る[化5]で表示される
アクリレート化合物の例としては、 (a)R=炭素数1〜20のアルキル基:例えばメチル
アクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアク
リレート、イソプロピルアクリレート、n−ブチルアク
リレート、イソブチルアクリレート、tert−ブチル
アクリレート、n−オクチルアクリレート、イソオクチ
ルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、ラ
ウリルアクリレート、ステアリルアクリレートなど、
【0013】(b)R=炭素数3〜10のシクロアルキ
ル基:例えばシクロペンチルアクリレート、シクロヘキ
シルアクリレートなど、
ル基:例えばシクロペンチルアクリレート、シクロヘキ
シルアクリレートなど、
【0014】(c)R=アリール基:例えばフェニルア
クリレート、o−メトキシフェニルアクリレート、p−
メトキシフェニルアクリレート、p−ニトロフェニルア
クリレート、o−メチルフェニルアクリレート、p−メ
チルフェニルアクリレート、p−tert−ブチルフェ
ニルアクリレートなど、
クリレート、o−メトキシフェニルアクリレート、p−
メトキシフェニルアクリレート、p−ニトロフェニルア
クリレート、o−メチルフェニルアクリレート、p−メ
チルフェニルアクリレート、p−tert−ブチルフェ
ニルアクリレートなど、
【0015】(d)R=炭素数1〜16のヒドロキシア
ルキル基:例えば2−ヒドロキシエチルアクリレート、
2−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレ
ートなど、
ルキル基:例えば2−ヒドロキシエチルアクリレート、
2−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレ
ートなど、
【0016】(e)R=下記の[化7]で表示される
基:
基:
【化7】 例えばグリシジルアクリレート、3,4−エポキシブチ
ルアクリレート、10,11−エポキシウンデシルアク
リレートなど、
ルアクリレート、10,11−エポキシウンデシルアク
リレートなど、
【0017】(f)R=−(CH2 )m −CH=CH2
[mは1〜18の整数を表わす] 例えばアリルアクリレート、3−ブテニルアクリレー
ト、10−ウンデセニルアクリレートなど、
[mは1〜18の整数を表わす] 例えばアリルアクリレート、3−ブテニルアクリレー
ト、10−ウンデセニルアクリレートなど、
【0018】(g)R=下記の[化8]で表示される
基:
基:
【化8】 例えばベンジルアクリレートなど、
【0019】(h)R=下記の[化9]で表示される
基:
基:
【化9】 例えばN,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、
N,N−ジエチルアミノエチルアクリレート、N,N−
ジメチルアミノプロピルアクリレート、N,N−ジメチ
ルアミノブチルアクリレート、N,N−ジエチルアミノ
ブチルアクリレート、N,N−ジメチルアミノネオペン
チルアクリレート、N,N−ジエチルアミノネオペンチ
ルアクリレートなど、
N,N−ジエチルアミノエチルアクリレート、N,N−
ジメチルアミノプロピルアクリレート、N,N−ジメチ
ルアミノブチルアクリレート、N,N−ジエチルアミノ
ブチルアクリレート、N,N−ジメチルアミノネオペン
チルアクリレート、N,N−ジエチルアミノネオペンチ
ルアクリレートなど、
【0020】(i)R=下記の[化10]で表示される
基:
基:
【化10】 例えば中和または第四級化したN,N−ジアルキルアミ
ノアルキルアクリレートなど、
ノアルキルアクリレートなど、
【0021】(j)R=−(C2 H4 O)p R1 [pは
1〜80の整数を表わし、R1 は炭素数1〜8のアルキ
ル基を表わす] 例えばメトキシエチルアクリレート、エトキシエチルア
クリレート、ラウリルオキシトリオキシエチルアクリレ
ート、1〜80個好ましくは3〜30個のオキシエチレ
ン基を有するメトキシポリオキシエチレンアクリレート
など、を挙げることができる。
1〜80の整数を表わし、R1 は炭素数1〜8のアルキ
ル基を表わす] 例えばメトキシエチルアクリレート、エトキシエチルア
クリレート、ラウリルオキシトリオキシエチルアクリレ
ート、1〜80個好ましくは3〜30個のオキシエチレ
ン基を有するメトキシポリオキシエチレンアクリレート
など、を挙げることができる。
【0022】なお、上記した化合物の式中R1 、R2 及
びR3 で表示されるアルキル基は、直鎖状であってもあ
るいは分岐していてもよい。
びR3 で表示されるアルキル基は、直鎖状であってもあ
るいは分岐していてもよい。
【0023】上記したアクリレート化合物のうち、特に
メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−ブチル
アクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、2−
ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピ
ルアクリレート、及び4−ヒドロキシブチルアクリレー
トが好適である。
メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−ブチル
アクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、2−
ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピ
ルアクリレート、及び4−ヒドロキシブチルアクリレー
トが好適である。
【0024】本発明のα−ヒドロキシメチルアクリレ−
ト化合物の製造方法において、上記のアクリレート化合
物に反応させるホルムアルデヒド水溶液は、安定剤とし
て炭素数1〜8のアルコールを20重量%以下の範囲で
含有していてもよく、通常は、37重量%以上のホルム
アルデヒドと約5〜15重量%のメタノールとを含有す
る市販のホルマリンを使用するのが実用的である。
ト化合物の製造方法において、上記のアクリレート化合
物に反応させるホルムアルデヒド水溶液は、安定剤とし
て炭素数1〜8のアルコールを20重量%以下の範囲で
含有していてもよく、通常は、37重量%以上のホルム
アルデヒドと約5〜15重量%のメタノールとを含有す
る市販のホルマリンを使用するのが実用的である。
【0025】アクリレート化合物とホルムアルデヒド水
溶液とを仕込む際の有機溶媒としては、アルコ−ル類や
エ−テル類が用いられる。具体的にはアルコ−ル類で
は、例えばメタノール、エタノール、n−プロパノー
ル、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレ
ングリコール等、エーテル類ではジメトキシメタン、
1,2−ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサ
ン、1,3−ジオキソラン等が挙げられ、これらの中反
応速度が早い1,2−ジメトキシエタン、1,4−ジオ
キサンは特に好ましい。有機溶媒には、高い転化率で反
応を行うために水を適量添加しても良い。
溶液とを仕込む際の有機溶媒としては、アルコ−ル類や
エ−テル類が用いられる。具体的にはアルコ−ル類で
は、例えばメタノール、エタノール、n−プロパノー
ル、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレ
ングリコール等、エーテル類ではジメトキシメタン、
1,2−ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサ
ン、1,3−ジオキソラン等が挙げられ、これらの中反
応速度が早い1,2−ジメトキシエタン、1,4−ジオ
キサンは特に好ましい。有機溶媒には、高い転化率で反
応を行うために水を適量添加しても良い。
【0026】有機溶媒の使用量は、該有機溶媒中に仕込
むアクリレート化合物の量の100〜1000重量%程
度であり、例えば1,4−ジオキサンや1,3−ジオキ
ソランでは300〜700重量%が好ましく、ジメトキ
シメタンや1,2−ジメトキシエタンでは200〜60
0重量%が好ましく、テトラヒドロフランでは100〜
500重量%が好ましい。
むアクリレート化合物の量の100〜1000重量%程
度であり、例えば1,4−ジオキサンや1,3−ジオキ
ソランでは300〜700重量%が好ましく、ジメトキ
シメタンや1,2−ジメトキシエタンでは200〜60
0重量%が好ましく、テトラヒドロフランでは100〜
500重量%が好ましい。
【0027】触媒として使用する第三級アミンは、例え
ばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−プ
ロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリブチルア
ミン、トリイソブチルアミン、トリ−n−ペンチルアミ
ン、N−メチルジイソプロピルアミン、N,N−ジエチ
ルイソプロピルアミン、N,N−ジメチルエチルアミ
ン、N,N−ジメチルイソプロピルアミン、トリ−2−
エチルヘキシルアミン、N−メチルジエチルアミン、
N,N−ジメチル−n−プロピルアミン、N,N−ジメ
チル−n−ブチルアミン、N,N−ジメチル−イソブチ
ルアミン、N,N−ジメチル−(2−エチルヘキシル)
アミン、N,N−ジイソプロピル−(2−エチルヘキシ
ル)アミン、N,N−ジ−n−ブチル−(2−エチルヘ
キシル)アミン、N−メチル−ジ(2−エチルヘキシ
ル)アミン、N−n−ブチル−ジ(2−エチルヘキシ
ル)アミン、N−イソブチル−ジ(2−エチルヘキシ
ル)アミン、ピロコリン、キノリジン、1,4−ジアザ
ビシクロ−[2,2,2]−オクタン、ヘキサメチレン
テトラミン等が挙げられ、特に1,4−ジアザビシクロ
−[2,2,2]−オクタンやヘキサメチレンテトラミ
ンが好適である。
ばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−プ
ロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリブチルア
ミン、トリイソブチルアミン、トリ−n−ペンチルアミ
ン、N−メチルジイソプロピルアミン、N,N−ジエチ
ルイソプロピルアミン、N,N−ジメチルエチルアミ
ン、N,N−ジメチルイソプロピルアミン、トリ−2−
エチルヘキシルアミン、N−メチルジエチルアミン、
N,N−ジメチル−n−プロピルアミン、N,N−ジメ
チル−n−ブチルアミン、N,N−ジメチル−イソブチ
ルアミン、N,N−ジメチル−(2−エチルヘキシル)
アミン、N,N−ジイソプロピル−(2−エチルヘキシ
ル)アミン、N,N−ジ−n−ブチル−(2−エチルヘ
キシル)アミン、N−メチル−ジ(2−エチルヘキシ
ル)アミン、N−n−ブチル−ジ(2−エチルヘキシ
ル)アミン、N−イソブチル−ジ(2−エチルヘキシ
ル)アミン、ピロコリン、キノリジン、1,4−ジアザ
ビシクロ−[2,2,2]−オクタン、ヘキサメチレン
テトラミン等が挙げられ、特に1,4−ジアザビシクロ
−[2,2,2]−オクタンやヘキサメチレンテトラミ
ンが好適である。
【0028】本発明において、触媒としての第三級アミ
ンの使用量は、アクリレート化合物100モルに対して
0.1〜30モル、好ましくは3〜15モルである。
ンの使用量は、アクリレート化合物100モルに対して
0.1〜30モル、好ましくは3〜15モルである。
【0029】反応温度は20〜120℃、好ましくは4
0〜80℃である。また、反応時間は、反応温度、触媒
の使用量、アクリレート化合物とホルムアルデヒドとの
モル比、及びアクリレート化合物の種類等によって異な
るが、2〜72時間程度で十分である。
0〜80℃である。また、反応時間は、反応温度、触媒
の使用量、アクリレート化合物とホルムアルデヒドとの
モル比、及びアクリレート化合物の種類等によって異な
るが、2〜72時間程度で十分である。
【0030】アクリレート化合物とホルムアルデヒド水
溶液との仕込み割合は、アクリレート化合物とホルムア
ルデヒドとの割合において通常等モル比であるが、一方
を過剰に使用することも、工業的には必要な場合があ
る。すなわち、アクリレート化合物の回収設備を有する
ような場合には、ホルムアルデヒドに対するアクリレー
ト化合物の使用量を過剰にすることが、またホルムアル
デヒドの回収設備を有するような場合にはアクリレート
化合物に対するホルムアルデヒドの使用量を過剰にする
ことが好ましい。
溶液との仕込み割合は、アクリレート化合物とホルムア
ルデヒドとの割合において通常等モル比であるが、一方
を過剰に使用することも、工業的には必要な場合があ
る。すなわち、アクリレート化合物の回収設備を有する
ような場合には、ホルムアルデヒドに対するアクリレー
ト化合物の使用量を過剰にすることが、またホルムアル
デヒドの回収設備を有するような場合にはアクリレート
化合物に対するホルムアルデヒドの使用量を過剰にする
ことが好ましい。
【0031】アクリレート化合物とホルムアルデヒド水
溶液との反応後の抽出処理は、まず(1)反応液中の触
媒を抽出除去するか、または反応液に酸を添加し触媒を
塩にして不活性化した後、溶媒留去する。
溶液との反応後の抽出処理は、まず(1)反応液中の触
媒を抽出除去するか、または反応液に酸を添加し触媒を
塩にして不活性化した後、溶媒留去する。
【0032】次に(2)得られた目的物である粗α−ヒ
ドロキシメチルアクリレート化合物を、水に溶解し、仕
込みに用いたものと同じアクリレ−ト化合物を用いて不
純物を抽出除去する。この工程では、得られた粗目的物
をその重量の1〜50倍、好ましくは10〜30倍の水
に溶解するのがよい。この場合30〜80℃の温水を用
いて粗目的物の溶解度を上げると水の使用量を減らすこ
とができる。また、不純物を抽出除去するのに用いる仕
込みに用いたものと同じアクリレ−ト化合物は、粗目的
物の重量の0.3〜2倍、好ましくは0.5〜1倍用い
るのがよい。
ドロキシメチルアクリレート化合物を、水に溶解し、仕
込みに用いたものと同じアクリレ−ト化合物を用いて不
純物を抽出除去する。この工程では、得られた粗目的物
をその重量の1〜50倍、好ましくは10〜30倍の水
に溶解するのがよい。この場合30〜80℃の温水を用
いて粗目的物の溶解度を上げると水の使用量を減らすこ
とができる。また、不純物を抽出除去するのに用いる仕
込みに用いたものと同じアクリレ−ト化合物は、粗目的
物の重量の0.3〜2倍、好ましくは0.5〜1倍用い
るのがよい。
【0033】さらに(3)前工程で得られる水相から再
び仕込みに用いたものと同じアクリレ−ト化合物を用い
て目的物であるα−ヒドロキシメチルアクリレート化合
物を抽出する。
び仕込みに用いたものと同じアクリレ−ト化合物を用い
て目的物であるα−ヒドロキシメチルアクリレート化合
物を抽出する。
【0034】抽出工程において、反応液から不純物を抽
出除去する際、溶媒のアクリレ−ト化合物は、溶解力が
あるため目的物も同時に取り込む性質があるが、溶媒量
を減らすか、または水の温度を上げることにより目的物
が溶解抽出されることはほとんどない。
出除去する際、溶媒のアクリレ−ト化合物は、溶解力が
あるため目的物も同時に取り込む性質があるが、溶媒量
を減らすか、または水の温度を上げることにより目的物
が溶解抽出されることはほとんどない。
【0035】
【実施例】以下、本発明のα−ヒドロキシメチルアクリ
レート化合物の製造方法の具体的な構成を実施例に基づ
いて説明する。なお、本実施例においては、α−ヒドロ
キシメチルアクリレート化合物の同定をH−NMRによ
って行ない、また、この化合物の定量を高速液体クロマ
トグラフィーによって行った。
レート化合物の製造方法の具体的な構成を実施例に基づ
いて説明する。なお、本実施例においては、α−ヒドロ
キシメチルアクリレート化合物の同定をH−NMRによ
って行ない、また、この化合物の定量を高速液体クロマ
トグラフィーによって行った。
【0036】実施例1 500mlのフラスコに、37重量%ホルマリン水溶液
24.5g(0.3モル)、エチルアクリレート25.
0g(0.25モル)、1,4−ジアザビシクロ−
[2,2,2]−オクタン2.8g(0.025モ
ル)、1,4−ジオキサン70ml、水70mlを仕込
み、バス温60で7時間撹拌して反応させた。
24.5g(0.3モル)、エチルアクリレート25.
0g(0.25モル)、1,4−ジアザビシクロ−
[2,2,2]−オクタン2.8g(0.025モ
ル)、1,4−ジオキサン70ml、水70mlを仕込
み、バス温60で7時間撹拌して反応させた。
【0037】反応終了後、触媒として用いた1,4−ジ
アザビシクロ−[2,2,2]−オクタンと当量のHC
lを反応系に加え溶媒を留去し、残渣をその重量の5倍
量のエチルアクリレートで希釈して180mlとした。
これを1N−HCl(10%硫酸アンモニウム溶液)4
2mlで洗浄し、続いて30%硫酸アンモニウム42m
lで2回洗浄し、有機相を分離した。これを硫酸マグネ
シウム上で乾燥させ、有機溶媒を留去し、粗α−ヒドロ
キシメチルアクリル酸エチル30gを得た。
アザビシクロ−[2,2,2]−オクタンと当量のHC
lを反応系に加え溶媒を留去し、残渣をその重量の5倍
量のエチルアクリレートで希釈して180mlとした。
これを1N−HCl(10%硫酸アンモニウム溶液)4
2mlで洗浄し、続いて30%硫酸アンモニウム42m
lで2回洗浄し、有機相を分離した。これを硫酸マグネ
シウム上で乾燥させ、有機溶媒を留去し、粗α−ヒドロ
キシメチルアクリル酸エチル30gを得た。
【0038】次に、得られた粗α−ヒドロキシメチルア
クリル酸エチル10gを水200mlに溶解し、エチル
アクリレート5mlで洗浄し不純物を除去した。このよ
うにして得られた水相215mlに硫酸アンモニウム1
45gを加へエチルアクリレート60mlで抽出した。
クリル酸エチル10gを水200mlに溶解し、エチル
アクリレート5mlで洗浄し不純物を除去した。このよ
うにして得られた水相215mlに硫酸アンモニウム1
45gを加へエチルアクリレート60mlで抽出した。
【0039】次いで、有機相を分離し、硫酸マガネシウ
ム上で乾燥させ、エチルアクリレ−トを留去し、α−ヒ
ドロキシメチルアクリル酸エチルを無色透明液体として
5.4gを得た。仕込みエチルアクリレ−トに対する収
率は50%で、HPLC純度96%であった。
ム上で乾燥させ、エチルアクリレ−トを留去し、α−ヒ
ドロキシメチルアクリル酸エチルを無色透明液体として
5.4gを得た。仕込みエチルアクリレ−トに対する収
率は50%で、HPLC純度96%であった。
【0040】実施例2 実施例1において、不純物除去に用いた水200mlの
代わりに50℃の水120mlを用いたほかは、実施例
1と同様に操作してエチルアクリレ−ト25.0gから
α−ヒドロキシメチルアクリル酸エチルを無色透明液体
として5.8gを得た。仕込みエチルアクリレ−トに対
する収率は53%で、HPCL純度は96%であった。
代わりに50℃の水120mlを用いたほかは、実施例
1と同様に操作してエチルアクリレ−ト25.0gから
α−ヒドロキシメチルアクリル酸エチルを無色透明液体
として5.8gを得た。仕込みエチルアクリレ−トに対
する収率は53%で、HPCL純度は96%であった。
【0041】実施例3 500mlのフラスコに、37重量%ホルマリン水溶液
41.0g(0.5モル)、エチルアクリレート50.
0g(0.5モル)、1,4−ジアザビシクロ−[2,
2,2]−オクタン2.1g(0.018モル)、1,
2−ジメトキシエタン140mlを仕込み、室温で64
時間撹拌して反応させた。
41.0g(0.5モル)、エチルアクリレート50.
0g(0.5モル)、1,4−ジアザビシクロ−[2,
2,2]−オクタン2.1g(0.018モル)、1,
2−ジメトキシエタン140mlを仕込み、室温で64
時間撹拌して反応させた。
【0042】反応終了後、1N−HCl(10%硫酸ア
ンモニウム溶液)52mlで洗浄し、続いて30%硫酸
アンモニウム52mlで2回洗浄し、有機相を分離し
た。これを硫酸マグネシウム上で乾燥させ、有機溶媒を
留去し、粗α−ヒドロキシメチルアクリル酸エチル4
3.5gが得られた。
ンモニウム溶液)52mlで洗浄し、続いて30%硫酸
アンモニウム52mlで2回洗浄し、有機相を分離し
た。これを硫酸マグネシウム上で乾燥させ、有機溶媒を
留去し、粗α−ヒドロキシメチルアクリル酸エチル4
3.5gが得られた。
【0043】次に、さらに不純物を除くために得られた
粗α−ヒドロキシメチルアクリル酸エチル43.5gを
水780mlに溶解し、エチルアクリレート45mlで
洗浄し不純物を除去した。このようにして得られた水相
910mlに硫酸アンモニウム380gを加へエチルア
クリレート260mlで抽出した。
粗α−ヒドロキシメチルアクリル酸エチル43.5gを
水780mlに溶解し、エチルアクリレート45mlで
洗浄し不純物を除去した。このようにして得られた水相
910mlに硫酸アンモニウム380gを加へエチルア
クリレート260mlで抽出した。
【0044】次いで有機相を分離し、硫酸マグネシウム
上で乾燥させ、エチルアクリレ−トを留去し、α−ヒド
ロキシメチルアクリル酸エチルを無色透明液体として2
3gを得た。仕込みエチルアクリレ−トに対する収率は
35%で、HPLC純度93%であった。
上で乾燥させ、エチルアクリレ−トを留去し、α−ヒド
ロキシメチルアクリル酸エチルを無色透明液体として2
3gを得た。仕込みエチルアクリレ−トに対する収率は
35%で、HPLC純度93%であった。
【0045】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、アクリレ−
ト化合物とホルムアルデヒド水溶液から、溶媒の再利用
ができ、簡略化された工程から高純度のα−ヒドロキシ
メチルアクリレート化合物を容易に製造することができ
工業的生産に適している。
ト化合物とホルムアルデヒド水溶液から、溶媒の再利用
ができ、簡略化された工程から高純度のα−ヒドロキシ
メチルアクリレート化合物を容易に製造することができ
工業的生産に適している。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 303/44 C07D 303/44 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300
Claims (1)
- 【請求項1】 下記の[化1]で表わされるアクリレー
ト化合物とホルムアルデヒド水溶液とを、第三級アミン
の存在下に溶媒を用いて反応させ、反応後抽出精製を行
うに当たり、仕込みに用いたものと同じアクリレ−ト化
合物を用いて不純物を抽出除去し、さらに目的物である
下記の[化2]で表わされるα−ヒドロキシメチルアク
リレート化合物の抽出を行うことを特徴とする前記α−
ヒドロキシメチルアクリレート化合物の製造方法。 【化1】 【化2】
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7128843A JPH08301816A (ja) | 1995-05-01 | 1995-05-01 | α−ヒドロキシメチルアクリレート化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7128843A JPH08301816A (ja) | 1995-05-01 | 1995-05-01 | α−ヒドロキシメチルアクリレート化合物の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08301816A true JPH08301816A (ja) | 1996-11-19 |
Family
ID=14994765
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7128843A Pending JPH08301816A (ja) | 1995-05-01 | 1995-05-01 | α−ヒドロキシメチルアクリレート化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08301816A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08301817A (ja) * | 1995-05-01 | 1996-11-19 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | α−ヒドロキシメチルアクリレート化合物の製造方法 |
-
1995
- 1995-05-01 JP JP7128843A patent/JPH08301816A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08301817A (ja) * | 1995-05-01 | 1996-11-19 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | α−ヒドロキシメチルアクリレート化合物の製造方法 |
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