JPH083007B2 - 放射線に対して安定なプロピレン系重合体組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、放射線に対して安定なプロピレン系重合体
組成物に関する。さらに詳しくは、放射線照射後の着色
防止性および機械的物性の保持に優れた成形品が得られ
るプロピレン系重合体組成物に関する。

［従来の技術］ 一般にプロピレン系重合体は比較的安価でかつ優れた
機械的性質を有し、化学的に安定であるので、射出成形
品、中空成形品、フィルム、シート、繊維など各種の成
形品の製造に供されディスポーザブル注射器、外科用白
衣、実験器具そして他の医療機器において幅広く使用さ
れている。従来、これらの医療器具の殺菌を目的とし
て、エチレンオキサイドガスを用いた殺菌が一般に行わ
れているが、殺菌後これらの医療器具中の残留エチレン
オキサイドの毒性問題から化学物質を用いず残留物も残
存しないことが要求され、代替殺菌技術として放射線
（一般的にはγ線）照射殺菌が発達した。また食品の殺
菌、殺虫および発芽防止法として、該食品を包装用フィ
ルムや食品トレーなどの食品容器を用いて包装した形態
のままで放射線照射処理することが広く行われている。
しかしながら、上述の用途にプロピレン系重合体を用い
た場合、プロピレン系重合体は該重合体中に酸化を受け
易い第３級炭素を有しているため、放射線照射によって
急速に酸化劣化を起こし引張強度、引張伸度および耐衝
撃性などの機械的物性（以下、機械的物性とは引張強
度、引張伸度および耐衝撃性をいう。）の低下ならびに
着色を引き起こす。とりわけ常温下で数カ月間保管する
と、機械的物性が許容できないレベルにまで低下すると
いった問題が起こる。

このため、従来よりプロピレン系重合体の放射線に対
する安定性を向上させる目的でプロピレン系重合体にフ
ェノール系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤およ
びリン系酸化防止剤から選ばれた１種または２種以上の
ものを配合してなる組成物（特開昭49−39637号公報、
特開昭55−137135号公報、特開昭60−104146号公報およ
び特開昭60−215036号公報）やヒンダードアミン系化合
物を単独配合した組成物または該組成物にフェノール系
酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤、リン系酸化防
止剤、ベンゾフェノン系化合物からなる紫外線吸収剤、
可塑剤、架橋助剤および耐放射線油から選ばれた１種ま
たは２種以上のものを併用した組成物（特開昭55−1919
9号公報、特開昭57−179234号公報、特開昭58−42638号
公報、特開昭58−49737号公報、特開昭58−74736号公
報、特開昭58−103541号公報、特開昭58−201849号公
報、特開昭60−94438号公報、特開昭60−99147号公報、
特開昭60−190443号公報、特開昭60−208341号公報、特
開昭60−212442号公報、特開昭60−217265号公報、特開
昭61−53344号公報、特開昭61−118447号公報、特開昭6
1−130358号公報、特開昭62−34933号公報、特開昭62−
109840号公報および特開昭62−138544号公報）、さらに
ベンスヒドロール系化合物を配合してなる組成物（特開
昭60−94437号公報）が提案されている。

［発明が解決しようとする問題点］ しかしながら、前記特開昭49−39637号公報、特開昭5
5−137135号公報、特開昭60−104146号公報および特開
昭60−215036号公報の各公報に提案されたプロピレン系
重合体にフェノール系酸化防止剤、チオエーテル系酸化
防止剤およびリン系酸化防止剤から選ばれた１種または
２種以上のものを配合してなる組成物は、放射線照射後
の着色防止効果はある程度認められるものの放射線照射
後の機械的物性の保持は不充分であり、前記特開昭55−
19199号公報、特開昭57−179234号公報、特開昭58−426
38号公報、特開昭58−49737号公報、特開昭58−74736号
公報、特開昭58−103541号公報、特開昭58−201849号公
報、特開昭60−94438号公報、特開昭60−99147号公報、
特開昭60−190443号公報、特開昭60−208341号公報、特
開昭60−212442号公報、特開昭60−217265号公報、特開
昭61−53344号公報、特開昭61−118447号公報、特開昭6
1−130358号公報、特開昭62−34933号公報、特開昭62−
109840号公報および特開昭62−138544号公報の各公報に
提案されたプロピレン系重合体にヒンダードアミン系化
合物を単独配合した組成物または該組成物にフェノール
系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤、リン系酸化
防止剤、ベンゾフェノン系化合物からなる紫外線吸収
剤、可塑剤、架橋助剤および耐放射線油から選ばれた１
種または２種以上のものを併用した組成物は、放射線照
射後の着色防止性および機械的物性を保持する効果はあ
る程度認められるものの、放射線照射後の高度の着色防
止性および放射線照射後常温下で数カ月間保管したのち
の機械的物性の保持とりわけ放射線照射処理し、かつ高
温度で加熱処理したのちの機械的物性の保持の両者を同
時に満足させるものではない。また前記特開昭60−9443
7号公報に提案されたプロピレン系重合体にベンズヒド
ロール系化合物を配合してなる組成物は、放射線照射後
の着色防止性はかなり優れているものの、放射線照射後
常温下で数カ月間保管したのちの機械的物性の保持とり
わけ放射線照射処理し、かつ高温度で加熱処理したのち
の機械的物性の保持は未だ充分満足できるものではな
い。さらに前記特開昭60−94437号公報においてベンズ
ヒドロール系化合物を配合してなる組成物にヒンダード
アミン系化合物を併用することは何ら記載されておら
ず、また該併用が放射線照射後の高度の着色防止性およ
び放射線照射後常温下で数カ月間保管したのちの機械的
物性の保持とりわけ放射線照射処理し、かつ高温度で加
熱処理したのちの機械的物性の保持の両者を同時に改善
し得ることを示唆する記載すら認められない。

本発明者らは、前述の各種化合物を配合してなるプロ
ピレン系重合体組成物に関する上述の問題点を解決する
ために鋭意研究した。その結果、プロピレン系重合体に
ヒンダードアミン系化合物（以下、化合物Ａとい
う。）、ベンスヒドロール系化合物（以下、化合物Ｂと
いう。）およびリン系酸化防止剤を配合してなる組成物
が、上述のプロピレン系重合体組成物の問題点を解決す
ることができることを見い出し、この知見について本発
明を完成した。

以上の記述から明らかなように、本発明の目的は放射
線照射後の着色防止性および機械的物性の保持に優れた
成形品が得られるプロピレン系重合体組成物を提供する
ことである。

［問題点を解決するための手段］ 本発明は下記の構成を有する。

プロピレン系重合体100重量部に対して、ヒンダード
アミン系化合物（以下、化合物Ａという。）、ベンズヒ
ドロール系化合物（以下、化合物Ｂという。）およびリ
ン系酸化防止剤をそれぞれ0.01〜１重量部配合してなる
放射線に対して安定なプロピレン系重合体組成物。

本発明で用いるプロピレン系重合体としては、プロピ
レン単独重合体、プロピレン成分を70重量％以上含有す
るプロピレンとエチレン、ブテン−１、ペンテン−１、
４−メチル−ペンテン−１、ヘキセン−１、オクテン−
１などのα−オレフィンの１種または２種以上との結晶
性ランダ共重合体もしくは結晶性ブロック共重合体、プ
ロピレンと酢酸ビニルもしくはアクリル酸エステルとの
共重合体もしくは該共重合体のケン化物、プロピレンと
不飽和シラン化合物との共重合体、プロピレンと不飽和
カルボン酸もしくはその無水物との共重合体、該共重合
体と金属イオン化合物との反応生成物などを例示するこ
とができ、これらプロピレン系重合体の単独使用は勿論
のこと、２種以上のプロピレン系重合体を混合して用い
ることもできる。また上述のプロピレン系重合体と各種
合成ゴム（例えばエチレン−プロピレン共重合体ゴム、
エチレン−プロピレン−非共役ジエン共重合体ゴム、ポ
リブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、塩
素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、フッ素ゴ
ム、スチレン−ブタジエン系ゴム、アクリロニトリル−
ブタジエン系ゴム、スチレン−ブタジエン−スチレンブ
ロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロ
ック共重合体、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレ
ンブロック共重合体、スチレン−プロピレン−ブチレン
−スチレンブロック共重合体など）または熱可塑性合成
樹脂（例えば超低密度ポリエチレン、低密度ポリエチレ
ン、直鎖状低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、
高密度ポリエチエン、ポリブテン、ポリ−４−メチルペ
ンテン−１の如きプロピレン系重合体を除くプロピレン
系重合体、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル
共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共
重合体、ポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリ塩
化ビニル、フッ素樹脂など）とを混合して用いることも
できる。プロピレン単独重合体、プロピレン成分を70重
量％以上含有するプロピレン共重合体であって、結晶性
エチレン−プロピレンランダム共重合体、結晶性エチレ
ン−プロピレンブロック共重合体、結晶性プロピレン−
ブテン−１ランダム共重合体、結晶性エチレン−プロピ
レン−ブテン−１ ３元共重合体、結晶性プロピレン−
ヘキセン−ブテン−１ ３元共重合体およびこれらの２
種以上の混合物が特に好ましく用いられる。

本発明で用いられる化合物Ａとしては４−ヒドロキシ
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、１−アリル−４
−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、１
−ベンジル−４−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン、１−（４−ｔ−ブチル−２−ブテニル）−
４−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、
４−ステアロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン、４−メタクリロイルオキシ−1,2,2,6,6−ペン
タメチルピペリジン、１−ベンジル−2,2,6,6−テトラ
メチル−４−ピペリジルマレイネート、ビス（2,2,6,6
テトラメチル−４−ピペリジル）アジペート、ビス（2,
2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）フマ
レート、ビス（1,2,3,6−テトラメチル−2,6−ジエチル
−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−アリル−2,
2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）フタレート、
ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペリジル）セ
バケート、１−プロパギル−４−β−シアノエチルオキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、１−アセチル
−2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル−アセテー
ト、トリメリット酸−トリ−（2,2,6,6−テトラメチル
−４−ピペリジル）エステル、１−アクリロイル−４−
ベンジルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、
ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペリジル）ジ
ブチルマロネート、ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチル−
４−ピペリジル）ジベンジル−マロネート、ビス（1,2,
3,6−テトラメチル−2,6−ジエチル−４−ピペリジル）
ジベンジル−マロネート、ヘキサン−１′,6′−ビス−
４−カルバモイルオキシ−１−ｎ−ブチル−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン）、トルエン−２′−４′−ビ
ス−（４−カルバモイルオキシ−１−ｎ−ブチル−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン）、ジメチル−ビス（2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−オキシ）−シラ
ン、フェニル−トリス−（2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−４−オキシ）−シラン、トリス−（１−プロピ
ル−2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）−フォ
スファイト、トリス−（１−プロピル−2,2,6,6−テト
ラメチル−４−ピペリジル）−フォスフェート、フェニ
ル−［ビス−1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル）］−フォスフォネート、テトラキス（2,2,6,6−テ
トラメチル−４−ピペリジル）1,2,3,4−ブタンテトラ
カルボキシレート、テトラキス（1,2,2,6,6−ペンタメ
チル−４−ピペリジル）1,2,3,4−ブタンテトラカルボ
キシレート、ジ（トリデシル）・ビス（2,2,6,6−テト
ラメチル−４−ピペリジル）1,2,3,4−ブタンテトラカ
ルボキシレート、ジ（トリデシル）・ビス（1,2,2,6,6
−ペンタメチル−４−ピペリジル）1,2,3,4−ブタンテ
トラカルボキシレート、2,2,4,4−テトラメチル−７−
オキサ−3,20−ジアザジスピロ［5,1,11,2］ヘンエイコ
サン−21−オン、3,9−ビス［1,1−ジメチル−２−｛ト
リス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジルオキシ
カルボニル）ブチルカルボニルオキシ｝エチル］−2,4,
8,10−テトラオキサスピロ［5,5］ウンデカン、3,9−ビ
ス［1,1−ジメチル−２−｛トリス（1,2,2,6,6−ペンタ
メチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）ブチルカル
ボニルオキシ｝エチル］−2,4,8,10−テトラオキサスピ
ロ［5,5］ウンデカン、ジメチルサクシネート−２−
（４−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ル）エタノール縮合物、ポリ［ヘキサメチレン［（2,2,
6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］］、ポ
リ［エチレン［（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）イミノ］ヘキサメチレン［（2,2,6,6−テトラメ
チル−４−ピペリジル）イミノ］］、ポリ［［1,3,5−
トリアジン−2,4−ジイル］［（2,2,6,6−テトラメチル
−４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン［（2,2,6,
6−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］］、ポリ
［［６−（ジエチルアミノ）−1,3,5−トリアジン−2,4
−ジイル］［（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）イミノ］ヘキサメチレン［（2,2,6,6−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）イミノ］］、ポリ［［６−［２−
エチルヘキシル）アミノ］−1,3,5−トリアジン−2,4−
ジイル］［（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）イミノ］ヘキサメチレン［（2,2,6,6−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）イミノ］］、ポリ［［６−［（1,
1,3,3−テトラメチルブチル）アミノ］−1,3,5−トリア
ジン−2,4−ジイル］［（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン［（2,2,6,6−テ
トラメチル−４−ピペリジル）イミノ］］、ポリ［［６
−（シケロヘキシルアミノ）−1,3,5−トリアジン−2,4
−ジイル］［（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）イミノ］ヘキサメチレン［（2,2,6,6−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）イミノ］］、ポリ［［６−モルフ
ォリノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル］［（2,2,6,
6−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメ
チレン［（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）
イミノ］］、ポリ［［６−（ブトキシアミノ）−1,3,5
−トリアジン−2,4−ジイル］［（2,2,6,6−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン［（2,2,
6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］］、ポ
リ［［６−［（1,1,3,3−テトラメチルブチル）オキ
シ］−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル］［（2,2,6,6
−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチ
レン［（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）イ
ミノ］］、ポリ［オキシ［６−［（１−ピペリジル）−
1,3,5−トリアジン−2,4−ジイルオキシ−1,2−エタン
ジイル］［（2,2,6,6−テトラメチル−３−オキソ−1,4
−ピペリジル）−1,2−エタンジイル］［（3,3,5,5−テ
トラメチル−２−オキソ−1,4−ピペリジル）−1,2−エ
タンジイル］］、ポリ［オキシ［６−［（1,1,3,3−テ
トラメチルブチル）アミノ］−1,3,5−トリアジン−2,4
−ジイルオキシ−1,2−エタンジイル］［（2,2,6,6−テ
トラメチル−３−オキソ−1,4−ピペリジル）−1,2−エ
タンジイル］［（3,3,5,5−テトラメチル−２−オキソ
−1,4−ピペリジル）−1,2−エタンジイル］］、ポリ
［［６−［（エチルアセチル）アミノ］−1,3,5−トリ
アジン−2,4−ジイル］［（2,2,6,6−テトラメチル−４
−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン［（2,2,6,6−
テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］］およびポリ
［［６−［2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）
ブチルアミノ］−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル］
［（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）イミ
ノ］ヘキサメチレン［（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）イミノ］］を例示でき、特にポリ［［６−
［（1,1,3,3−テトラメチルブチル）アミノ］−1,3,5−
トリアジン−2,4−ジイル］［（2,2,6,6−テトラメチル
−４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン［（2,2,6,
6−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］］、ポリ
［［６−モルフォリノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイ
ル］［（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）イ
ミノ］ヘキサメチレン［（2,2,6,6−テトラメチル−４
−ピペリジル）イミノ］］、ポリ［エチレン［（2,2,6,
6−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］］ヘキサ
メチレン［（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）イミノ］］およびジメチルサクシネート−２−（４
−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル）エ
タノール縮合物が好ましい。これらヒンダードアミン系
化合物の単独使用は勿論のこと、２種以上のヒンダード
アミン系化合物を併用することもできる。該化合物Ａの
配合割合は、プロピレン系重合体100重量部に対して0.0
1〜１重量部、好ましくは0.05〜0.5重量部である。0.01
重量部未満の配合では放射線に対する安定性である放射
線照射後の機械的物性の保持が不充分であり、また１重
量部を超えても構わないが、それ以上の放射線照射後の
機械的物性の保持の向上が期待できず実際的でないばか
りでなくまた不経済である。

化合物Ｂとしてはベンズヒドロール、4,4′−ジメチ
ルベンズヒドロール、4,4′−ジエチルベンジヒドロー
ル、4,4′−ジ−ｎ−プロピルベンズヒドロール、4,4′
−ジ−ｉ−プロピルベンズヒドロール、4,4′−ジ−ｎ
−ブチルベンズヒドロール、4,4′−ジ−ｉ−ブチルベ
ンズヒドロール、4,4′−ジ−ｓ−ブチルベンズヒドロ
ール、4,4′−ジ−ｔ−ブチルベンズヒドロール、4,4′
−ジ−ｔ−アミルベンズヒドロール、4,4′−ジ−２−
エチルヘキシルベンズヒドロール、4,4′−ジ−ｎ−オ
クチルベンズヒドロール、4,4′−ジ−ｔ−オクチルベ
ンズヒドロール、4,4′−ジ−ノニルベンズヒドロー
ル、4,4′−ジ−トリデシルベンズヒドロール、4,4′−
ジ−ヘキサデシルベンズヒドロール、4,4′−ジ−オク
タデシルベンズヒドロール、1,4′−ジベンジロールベ
ンゼン、1,4−ビス（４′−メチルベンジロール）ベン
ゼン、1,4−ビス（４′−エチルベンジロール）ベンゼ
ン、1,4−ビス（４′−ｎ−プロピルベンジロール）ベ
ンゼン、1,4−ビス（４′−ｉ−プロピルベンジロー
ル）ベンゼン、1,4−ビス（４′−ｎ−ブチルベンジロ
ール）ベンゼン、1,4−ビス（４′−ｉ−ブチルベンジ
ロール）ベンゼン、1,4−ビス（４′−ｓ−ブチルベン
ジロール）ベンゼン、1,4−ビス（４′−ｔ−ブチルベ
ンジロール）ベンゼン、1,4−ビス（４′−ｔ−アミル
ベンジロール）ベンゼン、1,4−ビス（４′−２−エチ
ルヘキシルベンジロール）ベンゼン、1,4−ビス（４′
−ｎ−オクチルベンジロール）ベンゼン、1,4−ビス
（４′−ｔ−オクチルベンジロール）ベンゼン、1,4−
ビス（４′−ノニルベンジロール）ベンゼン、1,4−ビ
ス（４′−トリデルベンジロール）ベンゼン、1,4−ビ
ス（４′−ヘキサデシルベンジロール）ベンゼンおよび
1,4−ビス（４′−オクタデシルベンジロール）ベンゼ
ンなどを例示でき、特にベンズヒドロール、4,4′−ジ
メチルベンズヒドロール、4,4′−ジ−ｔ−ブチルベン
ズヒドロール、1,4−ジベンジロールベンゼンおよび1,4
−ビス（４′−ｔ−ブチルベンジロール）ベンゼンが好
ましい。これらベンズヒドロール系化合物の単独使用は
勿論のこと、２種以上のベンズヒドロール系化合物を併
用することもできる。該化合物Ｂの配合割合は、プロピ
レン系重合体100重量部に対して0.01〜１重量部、好ま
しくは0.05〜0.5重量部である。0.01重量部未満の配合
では放射線照射後の着色防止性および機械的物性の保持
が不充分であり、また１重量部を超えても構わないが、
それ以上の放射線照射の着色防止性および機械的物性の
保持の向上が期待できず実際的でないばかりでなくまた
不経済である。

リン系酸化防止剤としてはジステアリル−ペンタエリ
スリトール−ジフォスファイト、テトラキス（2,4−ジ
−ｔ−ブチルフェニル）−4,4′−ビフェニレン−ジ−
フォスフォナイト、ジフェニル−ペンタエリスリトール
−ジフォスファイト、ビス（ノニルフェニル）−ペンタ
エリスリトール−ジフォスファイト、ビス（2,4−ジ−
ｔ−ブチルフェニル）−ペンタエリスリトール−ジフォ
スファイト、ビス（2,6−ジ−ｔ−ブチル−４−メチル
フェニル）−ペンタエリスリトール−ジフォスファイ
ト、ビス（2,6−ジ−ｔ−ブチル−４−ｎ−オクタデシ
ルオキシカルボニルエチル−フェニル）−ペンタエリス
リトール−ジフォスファイト、カテシル−2,6−ジ−ｔ
−ブチル−４−メチルフェニルフォスファイト、カテシ
ル−2,4,6−トリ−ｔ−ブチルフェニルフォスファイ
ト、α−ナフチルカテシルフォスファイト、2,2′−メ
チレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル）−
２−ナフチルフォスファイト、4,4′−ブチリデン−ビ
ス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル）ジ−トリデ
シルフォスファイト、1,1,3−トリス（２−メチル−４
−ジ−トリデシルフォスファイト−５−ｔ−ブチルフェ
ニル）ブタン、トリスフェニルフォスファイト、トリス
（ノニルフェニル）フォスファイト、トリス（2,4−ジ
−ノニルフェニル）フォスファイト、トリス（モノ，ジ
ノニルフェニル）フォスファイトおよびトリス（2,4−
ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイトを例示でき、
特にビス（2,4−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−ペンタエ
リスリトール−ジフォスファイト、ビス（2,6−ｔ−ブ
チル−４−メチルフェニル）−ペンタエリスリトール−
ジフォスファイト、テトラキス（2,4−ジ−ｔ−ブチル
フェニル）−4,4′−ビフェニレン−ジ−フォスフォナ
イトおよびトリス（2,4−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フ
ォスファイトが好ましい。これらリン系酸化防止剤の単
独使用は勿論のこと、２種以上のリン系酸化防止剤を併
用することもできる。該リン系酸化防止剤の配合割合
は、プロピレン系重合体100重量部に対して0.01〜１重
量部、好ましくは0.05〜0.5重量部である。0.01重量部
未満の配合では放射線照射後の着色防止性および機械的
物性の保持が不充分であり、また１重量部を超えても構
わないが、それ以上の放射線照射後の着色防止性および
機械的物性の保持の向上が期待できず実際的でないばか
りでなくまた不経済である。

本発明の組成物にあってはプロピレン系重合体に、通
常プロピレン系重合体に添加される各種の添加剤例えば
チオエーテル系酸化防止剤、光安定、透明化剤、造核
剤、滑剤、帯電防止剤、防曇剤、アンチブロッキング
剤、無滴剤、顔料、重金属不活性化剤（銅害防止剤）、
ラジカル発生剤、蛍光増白剤、金属石鹸類などの分散剤
もしくは中和剤、無機充填剤（例えばタルク、マイカ、
クレー、ウォラストナイト、ゼオライト、アスベスト、
炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシ
ウム、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化マ
グネシウム、硫化亜鉛、硫酸バリウム、ケイ酸カルシウ
ム、ケイ酸アルミニウム、ガラス繊維、チタン酸カリウ
ム、炭素繊維、カーボンブラック、グラフィイト、金属
繊維など）もしくはカップリング剤（例えばシラン系、
チタネート系、ボロン系、アルミネート系、ジルコアル
ミネート系など）の如き表面処理剤で表面処理された前
記無機充填剤または有機充填剤（例えば木粉、パルプ、
故紙、合成繊維、天然繊維など）を本発明の目的を損な
わない範囲で配合して用いることができる。

本発明の組成物は、プロピレン系重合体に化合物Ａ、
化合物Ｂおよびリン系酸化防止剤ならびに通常プロピレ
ン系重合体に添加される前述の各種添加剤の所定量を通
常の混合装置例えばヘンセルミキサー（商品名）、スー
パーミキサー、リボンブレンダー、バンバリミキサー、
タンブラーなどを用いて混合し混合物とし、該混合物を
通常の単軸押出機、２軸押出機、ブラベンダーまたはロ
ールなどの各種溶融混練装置を用いて、溶融混練温度15
0℃〜300℃、好ましくは180℃〜270℃で溶融混練処理し
てペレットとすることにより得ることができる。得られ
た組成物は射出成形法、押出成形法、ブロー成形法など
の各種成形法により目的とする成形品の製造に供され
る。

また本発明において放射線とは高エネルギー線である
γ線、Ｘ線、電子線および中性子線などを意味し、特に
透過力の強いγ線を意味する。

［作用］ 本発明において化合物Ａは主としてラジカル捕捉剤と
して、化合物Ｂは特開昭60−94437号公報に開示された
如く一次安定剤すなわちラジカル捕捉剤として、またリ
ン系酸化防止剤は過酸化物分解剤としてそれぞれ作用
し、３者は放射線照射によるプロピレン系重合体の酸化
劣化を防止するのに寄与する。

しかしながら本発明に用いる化合物Ａ、化合物Ｂおよ
びリン系酸化防止剤の併用系は以下に示すプロピレン系
重合体の安定化に特異的に作用するものと推定される。
すなわち、プロピレン系重合体の放射線照射後の酸化劣
化は、主として放射線照射によって生成したラジカルの
うち、プロピレン系重合体の結晶領域に存在するラジカ
ルが徐々に非晶領域に移行し、該ラジカルによる誘起さ
れる自動酸化によって進行すると考えられ、とりわけ高
温度の加熱処理によって該自動酸化が著しく促進される
ことから酸化劣化による機械的物性の急激な低下が起こ
るものと考えられる。上述の過程において本発明に係わ
る化合物Ａ、化合物Ｂおよびリン系酸化防止剤の併用系
が、公知の放射線に対して安定化効果を有する化合物の
組合せ技術からは到底予測できない驚くべき相乗効果を
発揮し、ラジカルを効果的に捕捉するものと考えられ
る。

［発明の効果］ 本発明の組成物は、各種化合物を配合してなる従来公
知の放射線に対して安定なプロピレン系重合体組成物に
比較して、（１）放射線照射後の着色防止性および機械
的物性の保持に優れている。（２）放射線照射数カ月後
の機械的物性の保持、とりわけ放射線照射後の高温度の
加熱処理による該機械的物性の保持に著しく優れてい
る。（３）放射線照射後の着色防止性および機械的物性
の保持の要求される各種用途とりわけディスポーザブル
注射器、外科用白衣、実験器具などの各種医療器具、食
品包装用フィルムおよび食品トレーなどの食品容器に好
適に使用できる。

［実施例］ 以下、実施例および比較例によって本発明を具体的に
説明するが、本発明はこれによって限定されるものでは
ない。

なお、実施例および比較例で用いた評価方法は次の方
法によった。

Ｉ）放射線照射処理：以下の評価に用いるペレットもし
くは試験片にコバルト60線源のγ線を5.0M rad照射し
た。

II）着色防止性：得られたペレットを用いて長さ50mm、
巾50mm、厚み2mmの試験片を射出成形法により作成し、
該試験片を用いて放射線照射処理前、直後および放射線
照射処理直ちに100℃に設定した循環熱風オーブンに入
れ10日間放置（加熱処理）後の各試験片のYI（Yellowne
ss Index）を測定（JIS K 7103に準拠）し、この数値の
大小より着色防止性を評価した。

放射線照射処理前の数値に比較して、該処理後の各数
値の変化が少ないもの程、着色防止性が優れていること
を示す。

III）機械的物性の保持：放射線照射処理前、直後およ
び放射線照射処理後直ちに100℃に設定した循環熱風オ
ーブン中に入れ10日間放置（加熱処理）後の以下の各物
性を測定し機械的物性の保持を評価した。

放射線照射処理前の数値に比較して、該処理後の各物
性値の変化が少ないもの程、機械的物性の保持が優れて
いることを示す。

メルトフローレート；得られたペレットを用いてメル
トフローレート（MFR）を測定（JIS K 6758に準拠）す
ることにより評価した。

引張強度；得られたペレットを用いて長さ175mm、巾1
0mm、厚み3.3mmのJIS1号試験片を射出成形法により作成
し、該試験片を用いて引張強度を測定（JIS K 7113に準
拠）することにより評価した。

引張伸度；得られたペレットを用いて長さ175mm、巾1
0mm、厚み3.3mmのJIS1号試験片を射出成形法により作成
し、該試験片を用いて引張伸度を測定（JIS K 7113に準
拠）することにより評価した。

耐衝撃性；得られたペレットを用いて長さ63.5mm、巾
13mm、厚み3.5mmの試験片（ノッチ有り）を射出成形法
により作成し、該試験片を用いて23℃におけるアイゾッ
ト衝撃強度（II）を測定（JIS K 7110に準拠）すること
により耐衝撃性を評価した。

実施例１〜12、比較例１〜９ プロピレン系重合体として、MFR（230℃における荷重
2.16kgを加えた場合の10分間の溶融樹脂の吐出量）6.0g
/10分の安定化されていない粉末状プロピレン単独重合
体100重量部に、化合物Ａとしてポリ［［６−［1,1,3,3
−テトラメチルブチル）アミノ］−1,3,5−トリアジン
−2,4−ジイル］［（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペ
リジル）イミノ］ヘキサメチレン［（2,2,6,6−テトラ
メチル−４−ピペリジル）イミノ］、ポリ［［６−モル
フォリノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル］［（2,2,
6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］ヘキサ
メチレン［（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）イミノ］、ポリ［エチレン［（2,2,6,6−テトラメ
チル−４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン［（2,
2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］］も
しくはジメチルサクシネート−２−（４−ヒドロキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジル）エタノール縮合
物、化合物Ｂとしてベンズヒドロール、4,4′−ジメチ
ルベンズヒドロールもしくは1,4−ジベンジロールベン
ゼン、リン系酸化防止剤としてビス（2,4−ジ−ｔ−ブ
チルフェニル）−ペンタエリスリトール−ジフォスファ
イトもしくはテトラキス（2,4−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）−4,4′−ビフェニレン−ジ−フォスフォナイトお
よび他の添加剤のそれぞれ所定量を後述の第１表に記載
した配合割合でヘンセルミキサー（商品名）に入れ、３
分間撹拌混合したのち、口径40mmの単軸押出機で200℃
にて溶融混練処理してペレット化した。また、比較例１
〜９としてMFRが6.0g/10分の安定化されていない粉末状
プロピレン単独重合体100重量部に後述の第１表に記載
の添加剤のそれぞれ所定量を配合し、実施例１〜12に準
拠して溶融混練処理してペレットを得た。

得られたペレットを用いて前記の試験方法により、放
射線照射処理前、放射線照射処理直後および放射線照射
処理と加熱処理後のメルトフローレートの評価を行っ
た。

着色防止性、引張強度、引張伸度および耐衝撃性試験
に用いる試験片は、得られたペレットを樹脂温度250
℃、金型温度50℃で射出成形により調製した。

得られた試験片を用いて前記の試験方法により、放射
線照射処理前、放射線照射処理直後および放射線照射処
理と加熱処理後の着色防止性、引張強度、引張伸度およ
び耐衝撃性の評価を行った。これらの結果をまとめて第
１表に示した。

実施例13〜24、比較例10〜18 プロピレン系重合体として、MFR7.0g/10分の安定化さ
れていない粉末状結晶性エチレン−プロピレンランダム
共重合体（エチレン含有量2.5重量％）100重量部に、化
合物Ａとしてポリ［［６−［（1,1,3,3−テトラメチル
ブチル）アミノ］−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル］
［（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）イミ
ノ］ヘキサメチレン［（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）イミノ］）、ポリ［［４−モルフォリノ−
1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル］［（2,2,6,6−テト
ラメチル−４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン
［（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）イミ
ノ］］、ポリ［エチレン［（2,2,6,6−テトラメチル−
４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン［（2,2,6,6
−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］］もしくは
ジメチルサクシネート−２−（４−ヒドロキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジル）エタノール縮合物、化合
物Ｂとしてベンズヒドロール、4,4′−ジメチルベンズ
ヒドロールもしくは1,4−ジベンジロールベンゼン、リ
ン系酸化防止剤としてビス（2,4−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル）−ペンタエリスリトール−ジフォスファイトもし
くはテトラキス（2,4−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−4,
4′−ビフェニレン−ジ−フォスフォナイトおよび他の
添加剤のそれぞれ所定量を後述の第２表に記載した配合
割合でヘンセルミキサー（商品名）に入れ、３分間撹拌
混合したのち、口径40mmの単軸押出機で200℃にて溶融
混練処理してペレット化した。また、比較例10〜18とし
てMFRが7.0g/10分の安定化されていない粉末状結晶性エ
チレン−プロピレンランダム共重合体（エチレン含有量
2.5重量％）100重量部に後述の第２表に記載の添加剤の
それぞれ所定量を配合し、実施例13〜24に準拠して溶融
混練処理してペレットを得た。

得られたペレットを用いて前記の試験方法により、放
射線照射処理前、放射線照射処理直後および放射線照射
処理と加熱処理後のメルトフローレートの評価を行っ
た。

着色防止性、引張強度、引張伸度および耐衝撃性試験
に用いる試験片は、得られたペレットを樹脂温度250
℃、金型温度50℃で射出成形により調製した。

得られた試験片を用いて前記の試験方法により、放射
線照射処理前、放射線照射処理直後および放射線照射処
理と加熱処理後の着色防止性、引張強度、引張伸度およ
び耐衝撃性の評価を行った。これらの結果をまとめて第
２表に示した。

実施例25〜36、比較例19〜27 プロピレン系重合体として、MFR4.0g/10分の安定化さ
れていない粉末状結晶性エチレン−プロピレンブロック
共重合体（エチレン含有量8.5重量％）100重量部に、化
合物Ａとしてポリ［［６−［（1,1,3,3−テトラメチル
ブチル）アミノ］−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル］
［（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）イミ
ノ］ヘキサメチレン［（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）イミノ］］、ポリ［［６−モロフォリノ−
1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル］［（2,2,6,6−テト
ラメチル−４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン
［（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）イミ
ノ］］、ポリ［エチレン［2,2,6,6−テトラメチル−４
−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン［（2,2,6,6−
テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］］もしくはジ
メチルサクシネート−２−（４−ヒドロキシ2,2,6,6−
テトラメチルピペラジル）エタノール縮合物、化合物Ｂ
としてベンズヒドロール、4,4′−ジ−ｔ−ブチルベン
ズヒドロールもしくは1,4−ビス（４′−ｔ−ブチルベ
ンジロール）ベンゼン、リン系酸化防止剤としてビス
（2,6−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）−ペン
タエリスリトール−ジフォスファイトもしくはトリス
（2,4−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイトおよ
び他の添加剤のそれぞれ所定量を後述の第３表に記載し
た配合割合でヘンセルミキサー（商品名）に入れ、３分
間撹拌混合したのち、口径40mmの単軸押出機で200℃に
て溶融混練処理してペレット化した。また、比較例19〜
27としてMFRが4.0g/10分の安定化されていない粉末状結
晶性エチレン−プロピレンブロック共重合体（エチレン
含有量8.5重量％）100重量部に後述の第３表に記載の添
加剤のそれぞれ所定量を配合し、実施例25〜36に準拠し
て溶融混練処理してペレットを得た。

得られたペレットを用いて前記の試験方法により、放
射線照射処理前、放射線照射処理直後および放射線照射
処理と加熱処理後のメルトフローレートの評価を行っ
た。

着色防止性、引張強度、引張伸度および耐衝撃性試験
に用いる試験片は、得られたペレットを樹脂温度250
℃、金型温度50℃で射出成形により調製した。

得られた試験片を用いて前記の試験方法により、放射
線照射処理前、放射線照射処理直後および放射線照射処
理と加熱処理後の着色防止性、引張強度、引張伸度およ
び耐衝撃性の評価を行った。これらの結果をまとめて第
３表に示した。

実施例37〜48、比較例28〜36 プロピレン系重合体として、MFR7.0g/10分の安定化さ
れていない粉末状結晶性エチレン−プロピレン−ブテン
−１ ３元共重合体（エチレン含有量2.5重量％、ブテ
ン−１含有量4.5重量％）100重量部に、化合物Ａとして
ポリ［［６−［1,1,3,3−テトラメチルブチル）アミ
ノ］−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル］［（2,2,6,6
−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチ
レン［（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）イ
ミノ］］、ポリ［［６−モルフォリノ−1,3,5−トリア
ジン−2,4−ジイル］［（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン［（2,2,6,6−テ
トラメチル−４−ピペリジル）イミノ］］、ポリ［エチ
レン［（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）イ
ミノ］ヘキサメチレン［（2,2,6,6−テトラメチル−４
−ピペリジル）イミノ］］もしくはジメチルサクシネー
ト−２−（４−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジル）エタノール縮合物、化合物Ｂとしてベンズヒ
ドロール、4,4′−ジ−ｔ−ブチルベンズヒドロールも
しくは1,4−ビス（４′−ｔ−ブチルベンジロール）ベ
ンゼン、リン系酸化防止剤としてビス（2,6−ジ−ｔ−
ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリスリトール
−ジフォスファイトもしくはトリス（2,4−ジ−ｔ−ブ
チルフェニル）フォスファイトおよび他の添加剤のそれ
ぞれ所定量を後述の第４表に記載した配合割合でヘンセ
ルミキサー（商品名）に入れ、３分間撹拌混合したの
ち、口径40mmの単軸押出機で200℃にて溶融混練処理し
てペレット化した。また、比較例28〜36としてMFRが7.0
g/10分の安定化されていない粉末状結晶性エチレン−プ
ロピレン−ブテン−１ ３元共重合体（エチレン含有量
2.5重量％、ブテン−１含有量4.5重量％）100重量部に
後述の第４表に記載の添加剤のそれぞれ所定量を配合
し、実施例37〜48に準拠して溶融混練処理してペレット
を得た。

得られたペレットを用いて前記の試験方法により、放
射線照射処理前、放射線照射処理直後および放射線照射
処理と加熱処理後のメルトフローレートの評価を行っ
た。

着色防止性、引張強度、引張伸度および耐衝撃性試験
に用いる試験片は、得られたペレットを樹脂温度250
℃、金型温度50℃で射出成形により調製した。

得られた試験片を用いて前記の試験方法により、放射
線照射処理前、放射線照射処理直後および放射線照射処
理と加熱処理後の着色防止性、引張強度、引張伸度およ
び耐衝撃性の評価を行った。これらの結果をまとめて第
４表に示した。

第１〜４表に示される化合物および添加剤は下記の通
りである。

化合物Ａ［Ｉ］：ポリ［［６−［（1,1,3,3−テトラメ
チルブチル）アミノ］−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイ
ル］［（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）イ
ミノ］ヘキサメチレン［（2,2,6,6−テトラメチル−４
−ピペリジル）イミノ］］ 化合物Ａ［II］：ポリ［［６−モルフォリノ−1,3,5−
トリアジン−2,4−ジイル］［（2,2,6,6−テトラメチル
−４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン［（2,2,6,
6−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］］ 化合物Ａ［III］：ポリ［エチレン［（2,2,6,6−テトラ
メチル−４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン
［（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）イミ
ノ］］ 化合物Ａ［IV］：ジメチルサクシネート−２−（４−ヒ
ドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル）エタノ
ール縮合物 化合物Ｂ［Ｉ］：ベンズヒドロール 化合物Ｂ［II］:4,4′−ジメチルベンズヒドロール 化合物Ｂ［III］:4,4′−ｔ−ブチルベンズヒドロール 化合物Ｂ［IV］:1,4−ジベンジロールベンゼン 化合物Ｂ［Ｖ］:1,4−ビス（４′−ｔ−ブチルベンジロ
ール）ベンゼン リン系酸化防止剤［Ｉ］：ビス（2,4−ジ−ｔ−ブチル
フェニル）−ペンタエリスリトール−ジフォスファイト リン系酸化防止剤［II］：ビス（2,6−ジ−ｔ−ブチル
−４−メチルフェニル）−ペンタエリスリトール−ジフ
ォスファイト リン系酸化防止剤［III］：テトラキス（2,4−ジ−ｔ−
ブチルフェニル）−4,4′−ビフェニレン−ジ−フォス
フォナイト リン系酸化防止剤［IV］：トリス（2,4−ジ−ｔ−ブチ
ルフェニル）フォスファイト ラジカル発生剤1:2,5−ジ−メチル−2,5−ジ−（ｔ−ブ
チルパーオキシ）ヘキサン ラジカル発生剤2:1,3−ビス−（ｔ−ブチルパーオキシ
イソプロピル）ベンゼン フェノール系酸化防止剤1:1,3,5−トリス−（3,5−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレー
ト フェノール系酸化防止剤2:n−オクタデシル−β−
（４′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）プロピオネート Ca−St:ステアリン酸カルシウム 第１表に記載の実施例および比較例は、プロピレン系
重合体としてプロピレン単独重合体を用いた場合であ
る。第１表からわかるように、実施例１〜12は本発明に
係わるプロピレン単独重合体に化合物Ａ、化合物Ｂおよ
びリン系酸化防止剤を配合したものである。実施例１〜
12と比較例１〜３（放射線に対して安定化効果を有する
化合物として化合物Ｂのみを用いたもの）とをくらべる
と、放射線照射処理後の着色防止性および放射線照射処
理直後の機械的物性の保持は両者とも優れているもの
の、比較例１〜３は放射線照射処理後の高温度の加熱処
理によって機械的物性が著しく低下していることがわか
る。比較例１にリン系酸化防止剤を併用した比較例４〜
５と実施例１〜12をくらべると、放射線照射処理後の着
色防止性および放射線照射処理直後の機械的物性の保持
は両者とも優れているものの、比較例４〜５は放射線照
射処理後の高温度の加熱処理によって機械的物性が著し
く低下しており、リン系酸化防止剤併用による相乗効果
がほとんど認められないことがわかる、また比較例１に
フェノール系酸化防止剤を併用した比較例６〜７と実施
例１〜12をくらべると、比較例６〜７は放射線照射処理
後の着色が顕著すなわち着色防止性が著しく劣り、放射
線照射処理後の機械的物性の保持の改善効果もある程度
は認められるものの実施例１〜12よりも劣ることがわか
る。さらに本発明に係わる化合物Ａおよび化合物Ｂを用
いた比較例８〜９と実施例１〜12をくらべると、比較例
８〜９は放射線照射処理後の着色防止性および機械的特
性の保持の改善効果はかなり認められるものの実施例１
〜12には及ばないことがわかる。従って本発明で得られ
る効果すなわち高度の放射線照射処理後の着色防止性お
よび機械的物性の保持は、本発明に係わる化合物Ａ、化
合物Ｂおよびリン系酸化防止剤を併用したときにはじめ
てみられる特有の効果であるといえる。

第２〜４表は、プロピレン系重合体としてそれぞれ結
晶性エチレン−プロピレンランダム共重合体、結晶性エ
チレン−プロピレンブロック共重合体および結晶性エチ
レン−プロピレン−ブテン−１ ３元共重合体を用いた
ものであり、これらについても上述と同様の効果が確認
された。

このことから本発明で得られる組成物は、従来から知
られた放射線に対して安定化効果を有する化合物を配合
してなる組成物にくらべて、放射線照射後の着色防止性
および機械的物性の保持に優れた成形品が得られること
がわかり本発明の顕著な効果が確認された。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｋ 5:05 5:3435 5:49）

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】プロピレン系重合体100重量部に対して、
   ヒンダードアミン系化合物（以下、化合物Ａとい
   う。）、ベンズヒドロール系化合物（以下、化合物Ｂと
   いう。）およびリン系酸化防止剤をそれぞれ0.01〜１重
   量部配合してなる放射線に対して安定なプロピレン系重
   合体組成物。
2. 【請求項２】化合物Ａとしてポリ［［６−［（1,1,3,3
   −テトラメチルブチル）アミノ］−1,3,5−トリアジン
   −2,4−ジイル］［（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペ
   リジル）イミノ］ヘキサメチレン［（2,2,6,6−テトラ
   メチル−４−ピペリジル）イミノ］］、ポリ［［６−モ
   ルフォリノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル］［（2,
   2,6,6−テトラメチル−４−ペペリジル）イミノ］ヘキ
   サメチレン［（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジ
   ル）イミノ］］、ポリ［エチレン［（2,2,6,6−テトラ
   メチル−４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン
   ［（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）イミ
   ノ］］およびジメチルサクシネート−２−（４−ヒドロ
   キシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル）エタノール
   縮合物から選ばれた１種または２種以上のものを配合す
   る特許請求の範囲第（１）項に記載の放射線に対して安
   定なプロピレン系重合体組成物。
3. 【請求項３】化合物Ｂとしてベンズヒドロール、4,4′
   −ジメチルベンズヒドロール、4,4′−ジ−ｔ−ブチル
   ベンズヒドロール、1,4−ジベンジロールベンゼンおよ
   び1,4−ビス（４′−ｔ−ブチルベンジロール）ベンゼ
   ンから選ばれた１種または２種以上のものを配合する特
   許請求の範囲第（１）項に記載の放射線に対して安定な
   プロピレン系重合体組成物。
4. 【請求項４】リン系酸化防止剤としてビス（2,4−ジ−
   ｔ−ブチルフェニル）−ペンタエリスリトール−ジフォ
   スファイト、ビス（2,6−ジ−ｔ−ブチル−４−メチル
   フェニル）−ペンタエリスリトール−ジフォスファイ
   ト、テトラキス（2,4−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−4,
   4′−ビフェニレン−ジ−フォスフォナイトおよびトリ
   ス（2,4−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイトか
   ら選ばれた１種または２種以上のものを配合する特許請
   求の範囲第（１）項に記載の放射線に対して安定なプロ
   ピレン系重合体組成物。
5. 【請求項５】プロピレン系重合体としてプロピレン単独
   重合体、プロピレン成分を70重量％以上含有するプロピ
   レン共重合体であって、結晶性エチレン−プロピレンラ
   ンダム共重合体、結晶性エチレン−プロピレンブロック
   共重合体、結晶性プロピレン−ブテン−１ランダム共重
   合体、結晶性エチレン−プロピレン−ブテン−１ ３元
   共重合体および結晶性プロピレン−ヘキセン−ブテン−
   １ ３元共重合体から選ばれた１種または２種以上のも
   のを用いる特許請求の範囲第（１）項に記載の放射線に
   対して安定なプロピレン系重合体組成物。