JPH08298035A - 超極細エナメル線の絶縁ワニス塗布方法とその装置 - Google Patents

超極細エナメル線の絶縁ワニス塗布方法とその装置

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JPH08298035A
JPH08298035A JP12594295A JP12594295A JPH08298035A JP H08298035 A JPH08298035 A JP H08298035A JP 12594295 A JP12594295 A JP 12594295A JP 12594295 A JP12594295 A JP 12594295A JP H08298035 A JPH08298035 A JP H08298035A
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JP
Japan
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varnish
roll
insulating varnish
wire
coater roll
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JP12594295A
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Akimasa Kobayashi
昭正 小林
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SHINETSU DENSEN KK
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SHINETSU DENSEN KK
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 従来のコーターロールを用いての、超極細線
への絶縁ワニス塗布方法では、超極細線が振動して断線
したり外観不良を生ずるが、この防止のため。 【構成】 超極細線3は、コーターロール2に全く接し
ないようにして直接ワニス絞りフエルト4の挟間を経て
焼付炉内5に達するようにし、ワニス絞りフエルト4と
コーターロール2の間に、コーターロール2面の一部に
一端部が接触、他端部はワニス絞りフエルト4へと橋渡
しするワニス吸収布状片6を設け、そのワニス吸収布状
片6を通してワニス絞りフエルト4へ絶縁ワニス1を供
給するようにした超極細エナメル線の絶縁ワニス塗布方
法とその装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、特に細いエナメル線
である超極細マグネットワイヤーの製造時における絶縁
ワニス塗布方法と、その絶縁ワニス塗布装置に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】従来より細いエナメル線の製造には、横
型焼付機が用いられ、その絶縁ワニスの塗布装置は図2
に示すようなものが一般的である。すなわち、絶縁ワニ
ス1は、矢印方向に回転するコーターロール2によっ
て、同じく矢印方向に走行する超極細線3が接する最上
部まで引き上げられる。そして、この最上部に接しつゝ
高速滑走する超極細線3に絶縁ワニス1が供給されて行
くのである。絶縁ワニス1の付着した超極細線3は、ワ
ニス絞りフエルト4の挟間にて、付着した絶縁ワニス1
が一様に超極細線3の表面に均されて焼付炉内5へと進
む。これを反復繰り返して所望の厚さの絶縁層を形成さ
せるのである。
【0003】このコーターロール2の周面には、図6及
び図7に示すようなV溝7が、少なくとも必要とする塗
布回数分並列して設けられている。そして、コーターロ
ール2が回転することによって或る程度粘性のある絶縁
ワニス1は、図7の例のようにV溝7の主に底部に多く
付着して引上げられ、最上部に接して矢印方向に滑走す
るエナメル線となる線条体8に次々と連続して付着し、
そして持ち去られて行くのである。なお、図2の9は、
ドクターナイフと称するバネ薄長板で、その一端辺をコ
ーターロール2面上長さ方向に圧接しており、絶縁ワニ
ス1がコーターロール2のV溝7以外のところに付着す
ることを防ぐためのものである。
【0004】なお、図7は要部の説明図であって、V溝
7に対する線条体8の描かれている太さの比率は事実を
示したものではない。実際の線条体8のV溝7に対する
描くべき比率は、遙にずーっと細いものとして描かれね
ばならないのである。例えば、図6ではV溝7の幅が2
mmで深さが1mmの一般的コーターロール2の底に、断面
で示した0.20mmの線条体8を置いた例を寸法比で示した
ものである。したがって、この発明で後程詳述する超極
細線3とは、この線条体8の1/10以下の直径のもので
あり、如何に細いものかが分かるであろう。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】このような従来の絶縁
ワニス塗布装置を用いての塗布方法では、細くともせい
ぜい塗布する線条体8の線径は0.03から0.025mm まで
ゞ、0.02mm以下の超極細線3ともなれば断線しやすく、
また、外観不良が発生しやすくなる欠点があった。次に
その理由について順を追って述べる。
【0006】先ず、最大引張強度をみると、0.09mmは63
cNだが、0.03は9.6cN と0.09の15%と激減し、0.02では
4.7cN と0.09のたった7%である。0.03と比べても49%
と半減する。このことは、超極細線3の0.02では、0.03
の半分の力で断線してしまうということであり、超極細
線3に掛かる抵抗や摩擦力を0.03の半分以下にせねばな
らぬことを意味している。
【0007】絶縁ワニス塗布装置において、超極細線3
に掛かる抵抗や摩擦力で大きなものとしては、ワニス絞
りフエルト4の挟間を通過するときと、コーターロール
2のV溝7上に付着している絶縁ワニス1中を通過する
ときの2ヵ所である。前者の検討は割愛して後者のみに
ついて述べると、絶縁ワニス1には粘性があるから、高
速の超極細線3がこの中に突入して、また、直ちにこの
絶縁ワニス1を付着した上、コーターロール2のV溝7
から絶縁ワニス1を引き剥がすには、当然これが超極細
線3に掛かる抵抗力となる。また、絶縁ワニス1が潤滑
液の働きを行うとしても、コーターロール2のV溝7自
体との接触があり、これも摩擦力となっている。
【0008】現在多用されている焼付機のコーターロー
ル2の周速と製造時のエナメル線の線速とを、上述の線
径例でみることにする。勿論、塗布回数、ワニス濃度等
によって多少異なることはある。0.03の例では、コータ
ーロール2の直径が50mmで周速が大体5.5m/min. 、線速
は300m/min. であり、線速の方が50倍以上も速くその差
が摩擦力となっている。0.02の例では、周速は大体0.03
と同じで線速は350m/min. であるから、線速の方が60倍
以上も速いことになってより酷い影響を受ける。
【0009】また、図6において、エナメル線となるべ
き線条体8が、コーターロール2のV溝7の最深部にあ
るとして示しているが、常にこの位置にて滑走している
とは限らず、しばしば絶縁ワニス1の付着量の僅かな斜
面部に伝い上がってはまた落ちるということを繰り返し
ているのが実態である。ときには、線条体8が何かの弾
みでV溝7内から外れて走行するという事故さえある
が、こうなると絶縁ワニス1の付着量が極端に少なくな
ってしまう。
【0010】ところで、図6ではコーターロール2の回
転によって引き上げられる絶縁ワニス1の状態を描いて
ないが、コーターロール2の最上部ともなると、絶縁ワ
ニス1はV溝7底の線条体8が包まれるかどうかの程度
と少量となる故、上述した位置ずれの理由で、走行中の
線条体8が絶縁ワニス1中にある侵漬長や付着量がしば
しば変化し、所謂塗れむらを生じることになる。このこ
とは、絶縁ワニス1供給量のバラツキであるから、結果
として仕上外径の安定性を阻害すると共に、摩擦力のバ
ラツキとしても現れるから線振れの原因となって、線条
体8が超極細線3となれば、高速走行している超極細線
3を微振動させ、引張強度が小さいから断線を起こすの
である。また、線振れは、超極細線3への絶縁ワニス1
の付着自体を、微細に波打たせて焼付られ、通称ギラと
称する外観不良をも生じやすくする。
【0011】この解決法として、超極細線3を、コータ
ーロール2には全く接することなしに、直接ワニス絞り
フエルト4にて絶縁ワニス1を塗布するようにした図5
に示すような装置が提案されている。図5において、前
述した絶縁ワニス塗布装置と同一機能を有するものは、
便宜上同一記号を付した。この提案は、特開平1−26
6872号公報によるもので、目的としているところ
は、絶縁ワニス1の線条体8又は超極細線3への供給量
を、均一化して仕上外径の安定化を狙ったものであり、
断線防止を目的としたものではない。すなわち、タンク
内の絶縁ワニス1面から露出しているコーターロール2
面の回転する一部に、ワニス絞りフエルト4の下方の一
辺部が長手方向に接している構成としている。
【0012】上記公報によると、コーターロール2面に
接することによって走行する線条体8に絶縁ワニス1を
塗布する従来の塗布方法は、それだけでは付着量にむら
ができると述べるている。この点は、この発明の主張す
ることと同じである。そして、その対策としたワニス絞
りフエルト4が、その長手方向全長にわたり同一条件で
回転するコーターロール2に接しているから均一かつ定
量に絶縁ワニス1を供給することができるとしている。
【0013】ところが、この方法を超極細線3に適用す
ることは、次の理由によって問題がある。すなわち、超
極細線3をコーターロール2に接することなしにワニス
絞りフエルト4へ達させたことは、線振れ防止としては
よいが、低速としても強力に回転するコーターロール2
が、下辺部とはいえ直にワニス絞りフエルト4に接して
いるので、ワニス絞りフエルト4を絶えず摩擦して微振
動を発生させていることとなり、それに接触している超
極細線3にも振動を与えることとなるから、断線やギラ
の発生の要因となりやすいのである。
【0014】また、従来法に比較して、絶縁ワニス1の
超極細線3への供給量が遙に多くなるから、絶縁ワニス
1の濃度を低くするとか、コーターロール2の回転を遅
くする必要があり、塗布回数等との関連で別の問題を生
ずることになる。
【0015】話は変わるが、エナメル線の線径別に、必
要とする絶縁ワニス1量を比べてみれば、それはエナメ
ル線の絶縁皮膜の体積に比例する筈である。そして、こ
の皮膜体積相当分を、数回から数十回の塗布回数に分け
て形成させているのである。この皮膜体積を、2種の標
準仕上外径で比較してみると、例えば線径が0.09mmでは
0.00181mm3 であり、0.07なら 0.00118mm3 と0.09の65
%となり、0.03なら0.00043mm3 と0.09の24%となる。
更に、超極細線3である0.02ともなれば、0.00018 mm3
と0.09のたった10%である。0.03に対しても42%と半分
以下となる。つまり、塗布回数が同じなら、1回当たり
の絶縁ワニス1の必要量は、0.03の42%で済むというこ
とである。すなわち、超極細線3では、絶縁ワニス1の
供給量は極端に少なくともよいということを意味してい
る。
【0016】
【課題を解決するための手段】先ず、絶縁ワニス塗布装
置について、その基本的な装置例である図1と従来例で
ある図2に基づいて説明する。図2の回転することによ
って絶縁ワニス1を引上げるコーターロール2にて、超
極細線3に絶縁ワニス1を付着させた後に、超極細線3
がワニス絞りフエルト4の挟間を経て焼付炉内5を通過
し、これを反復繰り返して所望の厚さの絶縁層を形成さ
せる従来の超極細エナメル線の製造方法に用いる絶縁ワ
ニス塗布装置において、走行する超極細線3は、図1の
ように、コーターロール2には全く接しないようにして
直接ワニス絞りフエルト4の挟間を経て焼付炉内5に達
するようにする。
【0017】そして、ワニス絞りフエルト4とコーター
ロール2との間には、コーターロール2面の一部に一端
部が接触、他端部はワニス絞りフエルト4に橋渡しする
ワニス吸収布状片6を設ける。このワニス吸収布状片6
を通して、絶縁ワニス1を回転するコーターロール2か
らワニス絞りフエルト4へ供給するようにしたことを特
徴とする超極細エナメル線の絶縁ワニス塗布装置とし
た。
【0018】なお、この発明の絶縁ワニス1の供給手段
は毛細管現象を利用したものであるから、ワニス吸収布
状片6としては、絶縁ワニス1に対して毛細管現象が効
率よく起きやすい材質なり織り方のものを選択したい。
また、コーターロール2面に接するのになじみやすいよ
うに、全体として軟質のものが好ましい。なお、必要に
より二つ折りなり、二枚重ねにする。ところで、超極細
線3ともなれば、絶縁皮膜の体積が極端に小さくなるか
ら、ワニス絞りフエルト4への絶縁ワニス1の供給量も
少なくてよいことを述べた。故に、たとえ毛細管現象に
よる絶縁ワニス1の供給量が、他の手段よりも供給効率
が悪いとしても、実用上差支えがないのである。
【0019】次に、絶縁ワニス塗布方法について述べ
る。上述したこの発明の超極細エナメル線の絶縁ワニス
塗布装置を用いるものであるが、超極細線3は回転する
コーターロール2には全く接することなく直接ワニス絞
りフエルト4にて絶縁ワニス1を塗布させるものとし、
ワニス絞りフエルト4とコーターロール2との間には、
回転するコーターロール2面の一部に一端部が接触、他
端部はワニス絞りフエルト4へと橋渡しするワニス吸収
布状片6を介在させ、そのワニス吸収布状片6を通して
ワニス絞りフエルト4へ絶縁ワニス1を供給することを
特徴とする超極細エナメル線の絶縁ワニス塗布方法とし
た。
【0020】
【作用】絶縁ワニス1は、コーターロール2の回転によ
って引き上げられ、コーターロール2面の一部に一端部
が幅広く接触しているワニス吸収布状片6に連続して吸
着する。また、ワニス吸収布状片6は、軟質だから常に
コーターロール2面に密接し、かつ、毛細管作用によっ
て、他端が連接するワニス絞りフエルト4へと絶縁ワニ
ス1を供給する。
【0021】その際、コーターロール2との間に生じて
いた従来の超極細線3の振動は、超極細線3がコーター
ロール2に接していないから全く発生しないし、コータ
ーロール2に幅広く接触しているため生ずるワニス吸収
布状片6の振動は、ワニス吸収布状片6自体が軟質だか
らここで吸収されて消滅してしまう。したがって、コー
ターロール2の振動は、ワニス絞りフエルト4には全く
伝わらないことになる。すなわち、コーターロール2の
回転によって生ずる振動の影響は、全く関係がなくなる
のである。
【0022】
【実施例】以下に、この発明の幾つかの代表的実施例に
ついて図面に基づいて説明する。図1は、実施例1であ
り、前述したように基本的な構成のものであって、コー
ターロール2の回転方向が、超極細線3の走行方向と矢
印に示すように反対とした例であるが、従来の部品とそ
の配置を殆どその儘利用できるから、これが一番採用し
やすい。すなわち、従来のワニス塗布装置のように、ワ
ニス絞りフエルト4がコーターロール2の回転軸より焼
付炉5寄りにあって、ワニス吸収布状片6の一端部は、
コーターロール2の回転軸上辺りから焼付炉5とは反対
寄りにてコーターロール2面に接するようにしたもので
ある。
【0023】10は、フエルトホルダーであり、ワニス吸
収布状片6をできるだけ曲折させないように、先端をコ
ーターロール2面に近づけるべく鋭角としてある。な
お、ワニス絞りフエルト4を、もう一対、焼付炉5寄り
に設けているが、これは、絶縁ワニス1を超極細線3に
効率よく塗布しようとするものであって、この発明とは
直接的関係はない。
【0024】ワニス吸収布状片6の材質や織り方は、あ
まり厚手でなく、毛細管現象を利用して液体の吸収性を
よくした市販されている水拭きや、ワックス拭き取り用
のようなものがよい。そして、できるだけ繊維の長いも
のが縦糸に使われていたら、横糸はあまり蜜ではないよ
うに織られたものが、毛細管作用上好ましい。
【0025】図3は、実施例2であり、コーターロール
2の回転方向が、超極細線3の走行方向と矢印に示すよ
うに同一としたものである。したがって、コーターロー
ル2に対するワニス絞りフエルト4や、ワニス吸収布状
片6のコーターロール2面に接する位置関係が、実施例
1とは反対としたものである。
【0026】図4は、実施例3であり、実施例2と同じ
ように、コーターロール2の回転方向が超極細線3の走
行方向と矢印に示すように同一としたものであるが、そ
れぞれの位置関係を従来法と同じとしたため、ワニス吸
収布状片6が大きく屈曲せざるをえず、絶縁ワニス1の
吸収性にやゝ難がある。
【0027】
【発明の効果】この絶縁ワニスの塗布装置にて超極細線
3のエナメル線を製造すれば、超極細線3がコーターロ
ール2に全く接触しないから、その分の摩擦抵抗がなく
なって線振れが大幅に減少する。このことは、コーター
ロール2のV溝7から超極細線3が外れるという従来あ
った事故がなくなるし、また、ドクターナイフ9やV溝
7を不要としてもよいことになる。線振れがなくなれ
ば、大幅に断線が減少するし、ギラ等の外観不良も減ず
る。併せて、絶縁ワニス1の供給をコーターロール2か
ら直接行わないので、供給量のバラツキも減るから、仕
上外径の安定性も得られるようになる等、数々の利点が
あり、難しい超極細エナメル線の製造コストを大きく下
げることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例による絶縁ワニス塗布装置
の一部を断面にて示す説明用側面図である。
【図2】従来の製造方法による絶縁ワニス塗布装置の一
部を断面にて示す説明用側面図である。
【図3】この発明の他の実施例による絶縁ワニス塗布装
置の一部を断面にて示す説明用側面図である。
【図4】この発明の更に他の実施例による絶縁ワニス塗
布装置の一部を断面にて示す説明用側面図である。
【図5】他の従来法による絶縁ワニス塗布装置の一部を
断面にて示す説明用側面図である。
【図6】線条体を断面としてコーターロールのV溝内に
置かれた状態にて示した要部拡大の部分説明図である。
【図7】コーターロールのV溝内を滑走中の線条体が、
絶縁ワニスを付着して行く状態を示した要部拡大の部分
説明図である。
【符号の説明】
1 絶縁ワニス 2 コーターロール 3 超極細線 4 ワニス絞りフエルト 5 焼付炉内 6 ワニス吸収布状片 7 V溝 8 線条体

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回転することにより絶縁ワニス(1) を引
    上げるコーターロール(2) にて、超極細線(3) に絶縁ワ
    ニス(1) を付着させた後、超極細線(3) がワニス絞りフ
    エルト(4) の挟間を経て焼付炉内(5) に達するようにな
    した超極細エナメル線の絶縁ワニス塗布装置において、
    超極細線(3) はコーターロール(2) に全く接しないよう
    にして直接ワニス絞りフエルト(4) の挟間を経て焼付炉
    内(5)に達するようになし、ワニス絞りフエルト(4) と
    コーターロール(2) との間に、コーターロール(2) 面の
    一部に一端部が接触、他端部はワニス絞りフエルト(4)
    へと橋渡しするワニス吸収布状片(6) を設け、該ワニス
    吸収布状片(6) を通してワニス絞りフエルト(4) へ絶縁
    ワニス(1) を供給するようになしたことを特徴とする超
    極細エナメル線の絶縁ワニス塗布装置。
  2. 【請求項2】 回転することにより絶縁ワニス(1) を引
    上げるコーターロール(2) にて、超極細線(3) に絶縁ワ
    ニス(1) を付着させた後、超極細線(3) がワニス絞りフ
    エルト(4) の挟間を経て焼付炉内(5) に達するようにな
    した超極細エナメル線の絶縁ワニス塗布方法において、
    走行する超極細線(3) は、コーターロール(2) には全く
    接することなくしてワニス絞りフエルト(4) において絶
    縁ワニス(1) を塗布させるものとし、ワニス絞りフエル
    ト(4) とコーターロール(2) との間には、回転するコー
    ターロール(2) 面の一部に一端部が接触、他端部はワニ
    ス絞りフエルト(4) へと橋渡しするワニス吸収布状片
    (6) を介在させ、該ワニス吸収布状片(6) を通してワニ
    ス絞りフエルト(4) へ絶縁ワニス(1) を供給することを
    特徴とする超極細エナメル線の絶縁ワニス塗布方法。
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