JPH08292558A

JPH08292558A - 平版印刷版、その製造方法および平版印刷版原版

Info

Publication number: JPH08292558A
Application number: JP2524196A
Authority: JP
Inventors: Masanao Isono; 正直磯野; Yuzuru Baba; 譲馬場; Norimasa Ikeda; 憲正池田
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1995-02-22
Filing date: 1996-02-13
Publication date: 1996-11-05
Anticipated expiration: 2016-02-13
Also published as: JP3036425B2

Abstract

(57)【要約】【課題】効率良くインキを反撥することができる平版印
刷版原版を得る。【解決手段】本発明は、基板上の非画線部に対応した部
分に親水性膨潤層をそなえ、該親水性膨潤層が親水性お
よび疎水性ポリマからなる相分離構造を有し、インキを
反撥することを特徴とする平版印刷版に関する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷版に関する
ものであり、特に現像処理が簡便で、不感脂化処理を行
なうことなく高いインキ反撥性を有し、湿し水として純
水を使用できる新規な感光性平版印刷版原版から作製す
ることのできる平版印刷版に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】平版印刷とは、画線部と非画線部とを基
本的にほぼ同一平面に存在させ、画線部をインキ受容
性、非画線部をインキ反撥性として、インキの付着性の
差異を利用して、画線部のみにインキを着肉させた後、
紙等の被印刷体にインキを転写して印刷する方式を意味
する。またこのような平版印刷には通常、ＰＳ版が用い
られる。

【０００３】ここで言うＰＳ版とは、下記のものを意味
する。

【０００４】すなわち、米澤輝彦著「ＰＳ版概論」
（株）印刷学会出版部（１９９３）ｐ１８〜ｐ８１に記
載されているように、親水化処理されたアルミニウム基
板上に親油性の感光性樹脂層を塗布し、フォトリソグラ
フィの技術により画線部は感光層が残存し、一方非画線
部は上記したアルミ基板表面が露出し、該表面に湿し水
層を形成してインキ反撥し、画像形成する水ありＰＳ版
と、湿し水層の代わりにシリコーンゴム層をインキ反撥
層として用いる水なしＰＳ版、いわゆる水なし平版であ
る。

【０００５】ここで言う水なし平版とは、非画線部がシ
リコ−ンゴム、含フッ素化合物などの通常平版印刷で用
いられる油性インキに対してインキ反撥性を有する物質
からなり、湿し水を用いずにインキ着肉性の画線部との
間で画像形成し、印刷可能な印刷版を意味する。

【０００６】前者の水ありＰＳ版は実用上優れた印刷版
で、支持体に通常アルミニウムが用いられ、該アルミニ
ウム表面は保水性を有するとともに印刷中に親油性の感
光性樹脂層が該表面から剥離脱落しないように感光層と
の接着性に優れている必要があった。そのため、該アル
ミニウム表面は通常砂目立てされ、さらに必要に応じて
この砂目立てされた表面を陽極酸化するなどの処理が施
され、保水性の向上と該感光性樹脂層に対する接着性の
補強が計られてきた。また、該感光性樹脂層の保存安定
性を得るために該アルミニウム表面はフッ化ジルコニウ
ム、ケイ酸ナトリウムなどの化学処理が一般的に施され
ている。

【０００７】このように水ありＰＳ版は製造工程が複雑
であり、その簡易化が望まれていたが、該版の優れた印
刷特性（耐刷性、画像再現性など）から広く使用されて
いる。

【０００８】上記問題を解決すべく、アルミニウム基板
と同等もしくはそれ以上の印刷特性を有し、しかも材料
コストが安くかつ簡易な製造工程によるアルミニウム基
板とは異なる新規な平版材料の提案がある。例えば、特
公昭５６−２９３８号公報においては、アルミニウム基
板に代えて親水性高分子材料からなるインキ反撥層を塗
設した支持体を用い、該支持体上に感光層を形成する方
法が提案されている。しかしながら、該方法は、ポリ塩
化ビニル、ポリウレタン、ポリビニルアルコールのアル
デヒド縮合物の耐水性層上に親水性層として尿素樹脂が
単純塗布されているものであるため、該層はインキ反撥
性が不十分であるうえ、感光性樹脂層との密着性にも劣
るものであり、耐刷性が不十分なものであった。また、
特開昭５７−１７９８５２号公報においては、支持体上
に親水性ラジカル重合化合物を塗設し、活性光線の照射
によって該支持体表面を親水化処理し、感光性樹脂層を
塗設する方法が提案されている。しかしながら、該方法
によって形成された親水性表面層も剛直でインキ反撥性
は不十分であり、耐刷性にも乏しいものであった。また
これらの水ありＰＳ版の現像に際しては、感光層を溶解
してアルミ基板表面を露出させる方式であるため、感光
層成分が現像液中に溶解させることが必須で、該現像液
は短期間に大幅に組成変動が起こり疲労してしまうた
め、大量の現像廃液が発生する。

【０００９】そのため、該現像液は頻繁にメンテナンス
し交換する必要があった。また発生した現像廃液の処理
には多大な労力と費用が必要であった。

【００１０】また、水ありＰＳ版の簡便な形態として、
紙などの支持体上に、トナーなどの画像受理層を有しＰ
ＰＣを用いて画像形成し、非画像部をエッチ液などで不
感脂化処理して該画像受理層をインキ反撥層に変換させ
て使用する直描型平版印刷原版が広く実用に供されてい
る。具体的には、耐水性支持体上に水溶性バインダポリ
マ、無機顔料、耐水化剤等からなる画像受理層を設けた
ものが一般的で、ＵＳＰ２５３２８６５号公報、特公昭
４０−２３５８１号公報、特開昭４８−９８０２号公
報、特開昭５７−２０５１９６号公報、特開昭６０−２
３０９号公報、特開昭５７−１７９１号公報、特開昭５
７−１５９９８号公報、特開昭５７−９６９００号公
報、特開昭５７−２０５１９６号公報、特開昭６３−１
６６５９０号公報、特開昭６３−１６６５９１号公報、
特開昭６３−３１７３８８号公報、特開平１−１１４４
８８号公報、特開平４−３６７８６８号公報などが挙げ
られる。これらの直描型平版印刷原版は、インキ反撥層
に変換させる画像受理層として、ＰＶＡ、澱粉、ヒドロ
キシエチルセルロース、カゼイン、ゼラチン、ポリビニ
ルピロリドン、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、スチ
レン−マレイン酸共重合体などのような不感脂化処理す
る以前から親水性を示す水溶性バインダポリマおよびア
クリル系樹脂エマルジョン等の水分散性ポリマ、シリ
カ、炭酸カルシウム等のような無機顔料およびメラミン
・ホルムアルデヒド樹脂縮合物のような耐水化剤で構成
されているものが提案されている。また特開昭６３−２
５６４９３号公報などでは、不感脂化処理により加水分
解されて親水性基が発生する疎水性ポリマを主成分とし
て用いる直描型平版印刷原版が提案されている。

【００１１】このような直描型平版印刷原版は、いずれ
も画像受理層をインキ反撥層に変換するために、不感脂
化処理が必須であり、該処理なしではインキ反撥性を殆
ど示さない性質のものであった。

【００１２】すなわち、実用レベルのインキ反撥性を得
るためには、不感脂化処理および、親水性バインダポリ
マを大量に使用する必要があるが、耐水性に劣る傾向に
あり印刷耐久性が低下する。また親水性を高めるとトナ
ーなどの画像との接着性が低下する傾向にあるなどの問
題点があった。一方、印刷耐久性を向上するために耐水
化剤の添加量を多くしたり疎水性ポリマを添加したりし
て耐水性を増大させると、親水性が低下し、インキ反撥
性が大幅に低下してしまう問題点があった。

【００１３】また、ユニオンカーバイド社が開発した親
水性／疎水性変換反応を利用した現像、ラッカー盛りお
よび不感脂化処理が一切不要な、いわゆる露光のみの一
工程版の技術が、特公昭４２−１３１号公報、特公昭４
２−５３６５号公報、特公昭４２−１４３２８号公報、
特公昭４２−２０１２７号公報、ＵＳＰ３２３１３７７
号公報、ＵＳＰ３２３１３８１号公報、ＵＳＰ３２３１
３８２号公報などによって開示されている。該版はポリ
エチレンオキサイドとフェノール樹脂の会合体を感光剤
とともに塗設したものであるが、非画線部が剛直で柔軟
性に劣りインキ反撥性が不十分であり、また非画線部と
画線部との間でのインキ反撥／インキ着肉差が小さく、
実用性に乏しいものであった。

【００１４】さらに、水ありＰＳ版は印刷に際して湿し
水の量を常時コントロールする必要があり、適性な湿し
水量を制御するには相当の技術や経験が必要とされてき
た。また、湿し水に必須成分として添加されるＩＰＡ
（イソプロパノール）が近年、労働衛生環境や廃水処理
の立場から使用が厳しく規制される方向にあり、その対
策が急務となっている。

【００１５】一方、後者の湿し水の代わりにシリコーン
ゴム層をインキ反撥層とする水なしＰＳ版の場合、特公
昭５４−２６９２３号公報、特公昭５７−３０６０号公
報、特公昭５６−１２８６２号公報、特公昭５６−２３
１５０号公報、特公昭５６−３０８５６号公報、特公昭
６０−６００５１号公報、特公昭６１−５４２２０号公
報、特公昭６１−５４２２２号公報、特公昭６１−５４
２２３号公報、特公昭６１−６１６号公報、特公昭６３
−２３５４４号公報、特公平２−２５４９８号公報、特
公平３−５６６２２号公報、特公平４−２８０９８号公
報、特公平５−１９３４号公報、特開平２−６３０５０
号公報、特開平２−６３０５１号公報などに示されてい
るように湿し水を用いずに印刷できるため、前者の水あ
りＰＳ版で必要な湿し水のコントロール作業がいっさい
必要なく、印刷作業が極めて簡便となることから、近年
急速に普及しつつある実用性の高い版材であるが、イン
キ反撥性層として力学的強度が弱いシリコーンゴム層を
用いるため、耐久性の不足が指摘され、耐久性に優れた
インキ反撥性材料の必要性が強く求められている。また
現像に際しては該シリコーンゴム層をブラシ擦りによっ
て機械的に剥離除去する必要があるため、剥離除去され
たシリコーンゴムかすを含んだ現像廃液が大量に発生す
る。そのため、ブラシの使用寿命が短く頻繁にブラシを
交換する必要がありまた、該シリコーンゴムかすを捕集
廃棄するなどのメンテナンス処置が必要であった。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、これら
従来の水ありＰＳ版の平版印刷の湿し水のコントロール
幅の拡大ならびに従来不可能とされてきた湿し水からの
ＩＰＡレス化を可能とし、また直描型平版印刷原版のよ
うにＰＰＣ方式で画像形成し不感脂化処理するなどの複
雑な製版工程を有することなく、更にシリコーンゴム層
をインキ反撥層とする水なし平版の欠点である耐久性の
不足を解消できる上、従来のＰＳ版で必須であった現像
メンテナンスを必要とせず、また製造工程が簡便な理想
的な平版材料の開発を鋭意検討した結果、特定の材料群
からなる相分離構造を有する親水性膨潤層をインキ反撥
層とした平版印刷版を用いることで実現できることを見
出した。

【００１７】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は以下
の構成を有する。

【００１８】（１）親水性膨潤層からなる非画線部が
少なくとも親水性ポリマを主成分とする相および疎水性
ポリマを主成分とする相の少なくとも２相から構成され
た相分離構造を有することを特徴とする平版印刷版。

【００１９】（２）疎水性ポリマが水性エマルジョン
から主として構成されることを特徴とする前記(1) 記載
の平版印刷版。

【００２０】（３）疎水性ポリマが共役ジエン系化合
物を含有するラテックスから主として構成されることを
特徴とする前記(1) 記載の平版印刷版。

【００２１】（４）親水性膨潤層の吸水率が１０〜２
０００％であることを特徴とする前記(1) 記載の平版印
刷版。

【００２２】（５）疎水性ポリマが親水性膨潤層中６
０〜９５重量％であることを特徴とする前記(1) 記載の
平版印刷版。

【００２３】（６）基板上に、親水性ポリマを主成分
とする相および疎水性ポリマを主成分とする相の少なく
とも２相から構成された相分離構造を有する親水性膨潤
層を備えた感光性平版印刷版原版の版表面に活性光線を
照射することを特徴とする前記(1) 記載の平版印刷版の
製造方法。

【００２４】（７）基板上に、親水性ポリマを主成分
とする相および疎水性ポリマを主成分とする相の少なく
とも２相から構成された相分離構造を有する親水性膨潤
層を備えた平版印刷版原版。

【００２５】（８）疎水性ポリマが水性エマルジョン
から主として構成されることを特徴とする前記(7) 記載
の平版印刷版原版。

【００２６】（９）疎水性ポリマが共役ジエン系化合
物を含有するラテックスから主として構成されることを
特徴とする前記(7) 記載の平版印刷版原版。

【００２７】（１０）親水性膨潤層の吸水率が１０〜
２０００％であることを特徴とする前記(7) 記載の平版
印刷版原版。

【００２８】（１１）疎水性ポリマが親水性膨潤層中
６０〜９５重量％であることを特徴とする前記(7) 記載
の平版印刷版原版。

【００２９】

【発明の実施の形態】本発明の平版印刷版の非画線部は
親水性膨潤層からなることを特徴とする。

【００３０】かかる親水性膨潤層は、親水性ポリマを主
成分とする相および疎水性ポリマを主成分とする相の少
なくとも２相から構成された相分離構造を有することを
特徴とする。

【００３１】本発明の親水性膨潤層に用いられる親水性
ポリマについて説明する。

【００３２】親水性ポリマとは、水に対して実質的に不
溶でかつ水膨潤性を示す、公知の水溶性ポリマ（水に完
全溶解するものを意味する）、疑似水溶性ポリマ（両親
媒性を意味し、マクロには水に溶解するがミクロには非
溶解部分を含むものを意味する）、水膨潤性ポリマ（水
に膨潤するが溶解しないものを意味する）を意味する。
すなわち、通常の使用条件下で水を吸着または吸収する
ポリマを意味し、水に溶けるか或いは水に膨潤するポリ
マを意味する。

【００３３】本発明において親水性ポリマとしては、公
知のものを使用することができ、動物系ポリマ、植物系
ポリマ、合成系ポリマがある。例えば「Ｆｕｎｃｔｉｏ
ｎａｌＭｏｎｏｍｅｒｓ」（Ｙ．Ｎｙｑｕｉｓｔ著、
Ｄｅｋｋｅｒ）、「水溶性高分子」（中村著、化学工業
社）、「水溶性高分子水分散型樹脂の最新加工・改質
技術と用途開発総合技術資料集」（経営開発センター
出版部）、「新・水溶性ポリマーの応用と市場」（シ
ーエムシー）などに記載の親水性ポリマが挙げられる。
具体例を下記に挙げる。

【００３４】（Ａ）天然高分子類デンプン−アクリロニトリル系グラフト重合体加水分解
物、デンプン−アクリル酸系グラフト重合体、デンプン
−スチレンスルフォン酸系グラフト重合体、デンプン−
ビニルスルフォン酸系グラフト重合体、デンプン−アク
リルアミド系グラフト重合体、カルボキシル化メチルセ
ルロース、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチ
ルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、キサント
ゲン酸セルロース、セルロース−アクリロニトリル系グ
ラフト重合体、セルロース−スチレンスルフォン酸系グ
ラフト重合体、カルボキシメチルセルロース系架橋体、
ヒアルロン酸、アガロース、コラーゲン、ミルクカゼイ
ン、酸カゼイン、レンネットカゼイン、アンモニアカゼ
イン、カリ化カゼイン、ホウ砂カゼイン、グルー、ゼラ
チン、グルテン、大豆蛋白、アルギン酸塩、アルギン酸
アンモニウム、アルギン酸カリウム、アルギン酸ナトリ
ウムアラビヤガム、トラガカントガム、カラヤガム、グ
アールガム、ロカストビーンガム、アイリッシュモス、
大豆レシチン、ペクチン酸、澱粉、カルボキシル化澱
粉、寒天、デキストリン、マンナンなど。

【００３５】（Ｂ）合成高分子類ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキサイド、ポリ
（エチレンオキサイド-co-プロピレンオキサイド）、水
性ウレタン樹脂、水溶性ポリエステル、ポリアクリル酸
アンモニウム、ポリアクリル酸ナトリウム、Ｎ−ビニル
カルボン酸アミド系ポリマ、ポリメタクリル酸アンモニ
ウム、アクリル系コポリマ、アクリルエマルジョンコポ
リマ、ポリビニルアルコール系架橋重合体、ポリアクリ
ル酸ナトリウム系架橋体、ポリアクリロニトリリル系重
合体ケン化物、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート
系ポリマ（以下の説明で（メタ）□□□□とあるのは、
□□□□またはメタ□□□□を略したものである。）、
ポリ（ビニルメチルエーテル-co-無水マレイン酸）、無
水マレイン酸系共重合体、ビニルピロリドン系共重合
体、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート系
架橋重合体、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アク
リレート系架橋重合体など。

【００３６】なお、上記の親水性化合物には発明の効果
が変化しない範囲で、柔軟性を付与したり、親水性を制
御する目的から置換基が異なるモノマや共重合成分を含
むことが可能である。

【００３７】また本発明に用いられる親水性ポリマは、
単独または２種以上を適宜混合して用いることが可能で
ある。

【００３８】次に本発明の親水性膨潤層に用いられる疎
水性ポリマについて説明する。

【００３９】本発明に用いられる疎水性ポリマとしては
水性エマルジョンから主として構成されたものが好まし
く用いられる。

【００４０】本発明に言う水性エマルジョンとは、微細
なポリマ粒子と必要に応じて該粒子を包囲する保護層か
らなる粒子を水中に分散させた疎水性ポリマ懸濁水溶液
を意味する。

【００４１】すなわち、基本的に分散質としてのポリマ
粒子と必要に応じて形成される保護層からなるエマルジ
ョン粒子と分散媒としての希釈水溶液から構成される自
己乳化または強制乳化水溶液を意味する。本発明に用い
られる水性エマルジョンの具体例としては、ビニルポリ
マ系ラテックス、共役ジエンポリマ系ラテックスおよび
水性または水分散ポリウレタン樹脂などが挙げられる。

【００４２】ビニルポリマ系ラテックスとしては、アク
リル系、酢酸ビニル系、塩化ビニリデン系、スチレン系
などが挙げられる。共役ジエンポリマ系ラテックスとし
ては、スチレン／ブタジエン系（以下、ＳＢ系と略
す）、アクリロニトリル／ブタジエン系（以下、ＮＢ系
と略す）、メタクリル酸メチル／ブタジエン系（以下、
ＭＢ系と略す）、クロロプレン系などが挙げられる。

【００４３】アクリル系ラテックスとしては、アクリル
酸エステルおよびメタクリル酸エステルを必須成分とし
た共重合体が挙げられる。具体的には、メタクリル酸メ
チル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル
酸オクチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、スチレン
などの少なくとも１種以上を共重合したものが挙げられ
る。

【００４４】酢酸ビニル系ラテックスとしては、酢酸ビ
ニル単独またはアクリル酸エステル、高級酢酸ビニルエ
ステル、エチレンなどとの共重合体が挙げられる。

【００４５】塩化ビニリデン系ラテックスとしては、塩
化ビニリデンとアクリル酸メチル、アクリル酸オクチ
ル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリロニトリ
ル、塩化ビニルなどとの共重合体が挙げられる。

【００４６】ＳＢ系ラテックスとしては、スチレンおよ
びブタジエンを必須成分として、メタクリル酸メチル、
高級アクリル酸エステル、アクリロニトリル、アクリル
アミド、ヒドロキシエチルアクリレート、不飽和カルボ
ン酸（イタコン酸、マレイン酸、アクリル酸、メタクリ
ル酸など）との共重合体が挙げられる。

【００４７】水性または水分散ポリウレタン樹脂として
は、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオー
ル、ポリ（エステル／エーテル）ポリオールとポリイソ
シアネートからなる疎水性のポリウレタン樹脂を界面活
性剤を用いて強制的に乳化させた強制乳化型、樹脂自身
に親水性基または、親水性セグメントを付与し、自己分
散性にして乳化させた自己乳化型が挙げられ、両者にお
いて非反応性のものおよびブロック剤でイソシアネート
基などの反応基をブロックした反応性のものが挙げられ
る。

【００４８】これらの水性エマルジョンの中でも本発明
に特に好ましく用いられる疎水性ポリマとしてはＳＢ
系、ＮＢ系、ＭＢ系、クロロプレン系などの共役ジエン
系化合物を含有するラテックスが挙げられる。

【００４９】ここで言う共役ジエン系ゴムとしては、
１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジエン
（イソプレン）、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエ
ン、２−クロル−１，３−ブタジエン（クロロプレン）
など１，３−位に炭素−炭素二重結合を有する非置換ま
たは置換１，３−ブタジエン骨格を有する化合物を意味
し、これらを必須成分とする単独またはブロック共重合
ゴム（ポリマ）が挙げられる。

【００５０】ブロック共重合ゴムとしては、１，３−ブ
タジエン、２−メチル−１，３−ブタジエン（イソプレ
ン）などの１，３−ジエンと、常温でガラス状重合体を
与えるスチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン
などのモノビニル置換芳香族化合物とのブロック共重合
体が挙げられる。

【００５１】このような共重合ゴムとしては、種々の公
知のタイプが例示できるが、Ａ−Ｂ−Ａタイプのブロッ
ク共重合ゴム（ここでＡはモノビニル置換芳香族化合物
からなり、好ましくはガラス転移点が７０℃以上で、重
合度が１０〜２５００である重合体セグメントを意味
し、Ｂは１，３−ジエンを意味し、好ましくは数平均分
子量が５００〜２５０００である非晶性重合体セグメン
トを意味する）などを好ましく挙げることができる。ま
た該ブロック共重合ゴムの水素添加物も同様である。

【００５２】本発明に用いられる単独および共重合ゴム
の具体例としては、ポリブタジエン、ポリイソプレン
（天然ゴムを含む）、ポリクロロプレン、スチレン−ブ
タジエン共重合体、カルボキシ変性スチレン−ブタジエ
ン共重合体、アクリル酸エステル−ブタジエン共重合体
（例えばブタジエン−２−エチルヘキシルアクリレート
共重合体、ブタジエン−ｎ−オクタデシルアクリレート
共重合体）、メタクリル酸エステル−ブタジエン共重合
体、イソブチレン−イソプレン共重合体、アクリロニト
リル−ブタジエン共重合体、カルボキシ変性アクリロニ
トリル−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−イソ
プレン共重合体、ビニルピリジン−ブタジエン共重合
体、ビニルピリジン−スチレン−ブタジエン共重合体、
スチレン−クロロプレン共重合体、スチレン−イソプレ
ン共重合体などが挙げられる。

【００５３】本発明に好ましく用いられる共役ジエンポ
リマ系ラテックスは、公知の方法で作製され、例えば必
須成分として共役ジエン系化合物を含むビニルモノマ組
成物に対して０．１〜２０重量％の乳化重合分散剤（界
面活性剤など）と２〜５０重量％の水を含む水性媒体中
で脱気窒素置換し、乳化させ、必要に応じて通常の乳化
重合に用いられる添加剤（分子量調整剤、酸化防止剤な
ど）を加えたのち、乳化重合用開始剤（例えば過酸化水
素、過硫酸カリウムなど）を添加し、常法に従って乳化
重合させることによって得ることができる。

【００５４】原料ビニルモノマ組成物中、共役ジエン系
化合物以外に用いられるビニルモノマとしては特に限定
されないが、主として下記のＩ群：疎水性モノマ、II
群：親水性モノマ、III 群：架橋性モノマの３つの群に
分類できる。

【００５５】Ｉ群：疎水性モノマとしては、１つのビニ
ル基を有する疎水性ビニルモノマ（ここで言う疎水性と
は２０℃において、水に対する溶解度が８重量％以下の
ものを意味する）で、アクリル酸エステル類、メタクリ
ル酸エステル類、ビニルエステル類、スチレン類、オレ
フィン類などが挙げられる。

【００５６】アクリル酸エステル類の具体例としては、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピ
ルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチ
ルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブ
チルアクリレート、アミルアクリレート、ヘキシルアク
リレート、２−エチルヘキシルアクリレート、オクチル
アクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、２
−クロロエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、
シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリル
アクリレート、フェニルアクリレート、２−メトキシエ
チルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレートな
どが挙げられる。

【００５７】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ
−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレー
ト、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレ
ート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、アミルメタクリ
レート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタ
クリレート、ベンジルメタクリレート、アセトアセトキ
シエチルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレー
ト、オクチルメタクリレート、フルフリルメタクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニル
メタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリ
レート、２−メトキシエチルメタクリレート、２−エト
キシエチルメタクリレートなどが挙げられる。

【００５８】ビニルエステル類の具体例としては、ビニ
ルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレー
ト、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテー
ト、ビニルメトキシアセテート、ビニルアセトアセテー
ト、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロル安息香
酸ビニルなどが挙げられる。

【００５９】スチレン類の具体例としては、スチレン、
α−メチルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフル
オルメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メト
キシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ト
リクロルスチレン、ブロムスチレンなどが挙げられる。

【００６０】オレフィン類の具体例としては、プロピレ
ン、塩化ビニル、臭化ビニル、塩化ビニリデン、臭化ビ
ニリデン、フッ化ビニリデンなどを挙げることができ
る。

【００６１】その他アクリロニトリル、無水マレイン酸
なども挙げられる。

【００６２】II群：親水性モノマとしては、１つのビニ
ル基を有する親水性ビニルモノマで、（ここで言う親水
性とは、水に対する溶解度が大きく単独での水系乳化重
合が不可能なモノマを意味する）アミノ基、カルボキシ
ル基、スルフォン酸基、アミド基、水酸基などの官能基
を有するモノマが挙げられる。

【００６３】アミノ基を有するモノマの具体例として
は、ジメチルアミノメチルアクリレート、ジメチルアミ
ノメチルメタクリレート、ジエチルアミノメチルアクリ
レート、ジエチルアミノメチルメタクリレート、ｔｅｒ
ｔ−ブチルアミノエチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチ
ルアミノエチルメタクリレートなどが挙げられる。

【００６４】カルボキシル基を有するモノマの具体例と
しては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレ
イン酸、クロトン酸、フマル酸、メチレンマロン酸、イ
タコン酸モノアルキル（例えばイタコン酸モノメチル、
イタコン酸モノエチル、イタコン酸モノブチルなど）、
マレイン酸モノアルキル（例えばマレイン酸モノメチ
ル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノブチルな
ど）、シトラコン酸、アクリル酸ナトリウム、アクリル
酸アンモニウム、メタクリル酸アンモニウムなどが挙げ
られる。

【００６５】スルフォン基を有するモノマの具体例とし
ては、スチレンスルフォン酸、ビニルベンジルスルフォ
ン酸、ビニルスルフォン酸、ビニルスルフォン酸、アク
リロイルオキシアルキルスルフォン酸（例えばアクリロ
イルオキシメチルスルフォン酸、アクリロイルオキシプ
ロピルスルフォン酸、アクリロイルオキシブチルスルフ
ォン酸など）、メタクリロイルオキシアルキルスルフォ
ン酸（例えばメタクリロイルオキシメチルスルフォン
酸、メタクリロイルオキシメチルスルフォン酸、メタク
リロイルオキシプロピルスルフォン酸、メタクリロイル
オキシブチルスルフォン酸など）、アクリルアミドアル
キルスルフォン酸（例えば２−アクリルアミド−２−メ
チルエタンスルフォン酸、２−アクリルアミド−２−メ
チルプロパンスルフォン酸、２−アクリルアミド−２−
メチルブタンスルフォン酸など）、メタクリルアミドア
ルキルスルフォン酸（例えば２−メタクリルアミド−２
−メチルエタンスルフォン酸，２−メタクリルアミド−
２−メチルプロパンスルフォン酸、２−メタクリルアミ
ド−２−メチルブタンスルフォン酸など）が挙げられ
る。

【００６６】アミド基を有するモノマの具体例として
は、アクリルアミド、メチルアクリルアミド、プロピル
アクリルアミドなどが挙げられる。

【００６７】水酸基を有するモノマの具体例としては、
アリルアルコール、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメ
タクリレート、多価アルコールのアリールエーテルなど
が挙げられる。

【００６８】その他にＮ−アクリロイルピペリジン、ビ
ニルピリジン、ビニルピロピドなども挙げられる。

【００６９】III 群：架橋性モノマとしては、反応性架
橋基（グリシジル基、ヒドロキシメチルアミド基、アル
コキシメチルアミド基、アシロキシメチルアミド基、イ
ソシアネート基など）を有するモノマ類および２つ以上
のビニル基を有する多官能性モノマが挙げられる。

【００７０】グリシジル基を有するモノマの具体例とし
ては、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレ
ート、ｐ−ビニル安息香酸グリシジル、グリシジルクロ
トネート、ジグリシジルイタコネート、ジグリシジルマ
レエート、ジグリシジルメチレンマロネート、グリシジ
ルビニルエーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシ
ジル−α−クロルアクリレートなどが挙げられる。

【００７１】ヒドロキシメチルアミド基を有するモノマ
の具体例としては、ヒドロキシメチルアクリルアミド、
ヒドロキシメチルメタクリルアミドなどが挙げられる。

【００７２】アルコキシメチルアミド基を有するモノマ
の具体例としては、メトキシメチルアクリルアミド、メ
トキシメチルメタクリルアミド、エトキシメチルアクリ
ルアミド、エトキシメチルメタクリルアミド、ブトキシ
メチルアクリルアミド、ブトキシメチルメタクリルアミ
ド、ヘキシルオキシメチルメタクリルアミドなどが挙げ
られる。

【００７３】アシロキシメチルアミド基を有するモノマ
の具体例としては、アセトキシメチルアクリルアミド、
アセトキシメチルメタクリルアミド、プロピオニルオキ
シメチルアクリルアミドなどが挙げられる。

【００７４】イソシアネート基を有するモノマの具体例
としては、ビニルイソシアネート、アリルイソシアネー
トなどが挙げられる。

【００７５】多官能モノマの具体例としては、ジビニル
ベンゼン、ポリエチレングリコールジアクリレート（エ
チレン数ｎ＝１〜２３）、ポリエチレングリコールジメ
タクリレート（エチレン数ｎ＝１〜２３）、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパ
ントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレートなどが挙げられる。

【００７６】本発明に好ましく用いられる共役ジエンポ
リマ系ラテックスを作製する際の適当なモノマの組合わ
せとしては、必須成分である共役ジエン系化合物に加え
て（１）少なくとも１種以上のＩ群モノマの共重合体（２）少なくとも１種以上のＩ群モノマおよび少なくと
も１種以上のII群モノマとの共重合体（３）少なくとも１種以上のＩ群モノマおよび少なくと
も１種以上のII群モノマおよび少なくとも１種以上のII
I 群モノマとの共重合体（４）少なくとも１種以上のＩ群モノマおよびIII 群モ
ノマの共重合体などの組合わせが挙げられるが、本発明はこれらの組合
わせに限定されない。

【００７７】本発明に好ましく用いられる共役ジエンポ
リマ系ラテックスの具体例としては、ＪＳＲ０５６１
（ＳＢ共重合ラテックス：日本合成ゴム（株）製）、Ｊ
ＳＲ０５８９（ＳＢ共重合ラテックス：日本合成ゴム
（株）製）、ＪＳＲ０６０２（ＳＢ共重合ラテックス：
日本合成ゴム（株）製）、ＪＳＲ０７００（ブタジエン
重合ラテックス：日本合成ゴム（株）製）、ＪＳＲ２１
０８（ＳＢ共重合ラテックス：日本合成ゴム（株）
製）、ＪＳＲ０６５０（ビニルピリジン−ＳＢ共重合ラ
テックス：日本合成ゴム（株）製）、ＪＳＲ０６５２
（ビニルピリジン−ＳＢ共重合ラテックス：日本合成ゴ
ム（株）製）、ＪＳＲ０５４５（カルボキシ変性ＳＢ共
重合ラテックス：日本合成ゴム（株）製）、ＪＳＲ０５
４８（カルボキシ変性ＳＢ共重合ラテックス：日本合成
ゴム（株）製）、ＪＳＲ０５９６（カルボキシ変性ＳＢ
共重合ラテックス：日本合成ゴム（株）製）、ＪＳＲ０
５９７（カルボキシ変性ＳＢ共重合ラテックス：日本合
成ゴム（株）製）、ＪＳＲ０５９８（カルボキシ変性Ｓ
Ｂ共重合ラテックス：日本合成ゴム（株）製）、ＪＳＲ
０６１９（カルボキシ変性ＳＢ共重合ラテックス：日本
合成ゴム（株）製）、ＪＳＲ０６２４（カルボキシ変性
ＳＢ共重合ラテックス：日本合成ゴム（株）製）、ＪＳ
Ｒ０６４０（カルボキシ変性ＳＢ共重合ラテックス：日
本合成ゴム（株）製）、ＪＳＲ０６９３（カルボキシ変
性ＳＢ共重合ラテックス：日本合成ゴム（株）製）、Ｊ
ＳＲ０６９６（カルボキシ変性ＳＢ共重合ラテックス：
日本合成ゴム（株）製）、ＪＳＲ０８５４（カルボキシ
変性ＳＢ共重合ラテックス：日本合成ゴム（株）製）、
ＪＳＲ０８６３（カルボキシ変性ＳＢ共重合ラテック
ス：日本合成ゴム（株）製）、ＪＳＲ０８９８（カルボ
キシ変性ＳＢ共重合ラテックス：日本合成ゴム（株）
製）、ラックスター４９４０Ｂ（カルボキシ変性ＮＢ共
重合ラテックス：大日本インキ化学工業（株）製）、ラ
ックスター６８−０７３Ｓ（カルボキシ変性ＮＢ共重合
ラテックス：大日本インキ化学工業（株）製）、ラック
スターＤＮ−７０４（カルボキシ変性ＮＢ共重合ラテッ
クス：大日本インキ化学工業（株）製）、ラックスター
ＤＮ−７０２（カルボキシ変性ＮＢ共重合ラテックス：
大日本インキ化学工業（株）製）、ラックスター６８−
０７４（カルボキシ変性ＮＢ共重合ラテックス：大日本
インキ化学工業（株）製）、ラックスターＤＮ−７０３
（カルボキシ変性ＮＢ共重合ラテックス：大日本インキ
化学工業（株）製）、ラックスターＤＭ−８０１（カル
ボキシ変性ＭＢ共重合ラテックス：大日本インキ化学工
業（株）製）、ラックスターＤＭ−４０１（カルボキシ
変性ＭＢ共重合ラテックス：大日本インキ化学工業
（株）製）、ラックスター４９５０Ｃ（カルボキシ変性
ＭＢ共重合ラテックス：大日本インキ化学工業（株）
製）、ラックスターＤＭ−８０６（カルボキシ変性ＭＢ
共重合ラテックス：大日本インキ化学工業（株）製）な
どが挙げられる。

【００７８】これらの共役ジエンポリマ系ラテックスは
単独または２種以上を適宜混合して使用することが可能
である。

【００７９】本発明の親水性膨潤層は上記の親水性ポリ
マと疎水性ポリマを混合し、必要に応じて架橋または疑
似架橋し、水に不溶化せしめることによって基板上に積
層形成される。

【００８０】架橋には親水性ポリマおよび疎水性ポリマ
が有する反応性官能基を用いて架橋反応することが好ま
しい。

【００８１】架橋反応は、共有結合性の架橋であって
も、イオン結合性の架橋であってもよい。

【００８２】架橋反応に用いられる化合物としては、架
橋性を有する公知の多官能性化合物が挙げられ、ポリエ
ポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリ（メ
タ）アクリル化合物、ポリメルカプト化合物、ポリアル
コキシシリル化合物、多価金属塩化合物、ポリアミン化
合物、アルデヒド化合物、ポリビニル化合物、ヒドラジ
ンなどが挙げられ、該架橋反応は公知の触媒を添加し、
反応を促進することが行なわれる。

【００８３】また本発明の疎水性ポリマとして好ましく
用いられる水性エマルジョンを作製する際に、共重合成
分として、カルボキシル基、水酸基、メチロールアミド
基、エポキシ基、アルボニル基、アミノ基などの反応性
官能基を存在させて自己架橋させる方法および、架橋剤
として上記の多官能性化合物を用いて架橋構造を形成さ
せる方法が挙げられる。

【００８４】架橋性を有する公知の多官能性化合物の具
体例としては、下記の化合物が挙げられる。

【００８５】（１）昇華硫黄、硫化水素を酸化して生成
させる副生硫黄、硫化水素を湿式で酸化して生成するコ
ロイド硫黄など。また、加熱すると分解して硫黄を発生
するジチオモルフォリン、チオプラストテトラメチルチ
ウラムジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフ
ィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィドなど
のチウラム系化合物、ピペリジンペンタメチレンチオカ
ルバメート、ピペコリンピペコリルジチオカルバメー
ト、ジメチルジチオカルバミン酸ナトリウムなどのジチ
オカルバメート系化合物、イソプロピルキサントゲン酸
ナトリウム、ブチルキサントゲン酸亜鉛などのキサンテ
ート化合物、チオウレア、チオカルバニリドなどのチオ
ウレア化合物、ジフェニルグアニジンなどのチアゾール
の亜鉛塩、メルカプトベンゾチアゾールのナトリウム
塩、ジベンゾチアジルジスルフィド、メルカプトベンゾ
チアゾールのシクロヘキシルアミン塩などのチアゾール
系化合物など。

【００８６】（２）ブチルアルデヒド−モノブチルアミ
ン縮合物、ブチルアルデヒド−アニリン縮合物、ヘプタ
アルデヒド−アニリン反応物、塩エチル−ホルムアルデ
ヒド−アンモニア反応物などのアルデヒドアミン系化合
物、酸化亜鉛、テルリウム、セレニウム、炭酸ジルコニ
ウムアンモニアや、ベンゾイルパーオキシド、ジクミル
パーオキシドなどの有機過酸化物など。

【００８７】さらに架橋促進剤としては、炭酸亜鉛、ス
テアリン酸、オレイン酸、ラウリン酸、ステアリン酸亜
鉛、ジブチルアンモニウムオレエート、ジエタノールア
ミン、トリエタノールアミン、ジエチレングリコールな
どが挙げられる。

【００８８】（３）ポリエポキシ化合物、尿素樹脂、ポ
リアミン、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、酸無
水物など。

【００８９】ポリエポキシ化合物の具体例としては、グ
リセリンジポリリシジルエーテル、ポリエチレングリコ
ールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコール
ジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグ
リシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシ
ジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテルな
どが挙げられる。

【００９０】ポリアミンの具体例としては、エチレンジ
アミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミ
ン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、
ポリアミドアミンなどが挙げられる。

【００９１】（４）ポリイソシアネート化合物など。

【００９２】ポリイソシアネート化合物の例としては、
トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシア
ネート、ジフェニルメタンイソシアネート、液状ジフェ
ニルメタンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニ
ルイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、シク
ロヘキシルジイソシアネート、シクロヘキサンフェニレ
ンジイソシアネート、ナフタリン−１，５−ジイソシア
ネート、イソプロピルベンゼン−２，４−ジイソシアネ
ート、ポリプロピレングリコール／トリレンジイソシア
ネート付加反応物が挙げられる。

【００９３】これらの架橋剤は単独または２種以上を混
合して使用することが可能である。分散媒としては主と
して水が用いられるが、必要に応じて公知の有機溶剤を
添加することが可能である。有機溶剤の添加方法として
は重合溶媒として添加する方法、および乳化重合後エマ
ルジョン溶液に混合溶媒として添加する方法が可能であ
る。

【００９４】本発明の親水性膨潤層の親水性ポリマと疎
水性ポリマを混合する方法としては、３本ロールなどの
ロールミキサ、ニーダーなど混合機を用いて混練りする
方法、ホモジナイザー、ボールミルなどのディスパーサ
ーを用いて湿式混合分散する方法など、塗料やパテを製
造する際に用いられる公知の方法で好ましく混合され
る。

【００９５】また本発明の親水性膨潤層を形成する方法
としては、疎水性ポリマとして水性のエマルジョンを好
ましく用いることから、水溶液系で各成分（親水性ポリ
マ、疎水性ポリマなど）を混合し、必要に応じて架橋剤
が添加される方法が、均質な相分離構造を実現しインキ
反撥性を向上させる点から好ましい。

【００９６】従って、用いられる架橋剤としては、水溶
性の多官能性化合物を用いることが特に好ましい。すな
わち、水溶性のポリエポキシ化合物、ポリアミン化合
物、メラミン化合物などを用いることが好ましい。

【００９７】次に本発明に言う親水性膨潤層の相分離構
造について説明する。

【００９８】本発明に用いられる親水性膨潤層は、上記
した親水性ポリマを主成分とする相と疎水性ポリマを主
成分とする相の少なくとも２相から構成された相分離構
造を有することを特徴としている。

【００９９】親水性ポリマを主成分とする相と疎水性ポ
リマを主成分とする相から構成された相分離構造とする
ことにより、インキ反撥性と印刷耐久性の両者を広い組
成範囲において実現することが可能となる。

【０１００】該相分離構造を構成する親水性ポリマ相と
疎水性ポリマ相の組成比は自由であり、（１）いずれか一方が連続相で、他方が分散相である形
態、（２）親水性および疎水性ポリマ相がそれぞれ連続相お
よび分散相を有する形態（３）親水性および疎水性ポリマ相がいずれも連続相と
なる形態の中から自由に選択することができる。上記（１）〜
（３）の相分離構造の一例をそれぞれ図１〜３に示す。

【０１０１】すなわち親水性ポリマが比較的強い親水性
を示す材料を選択した場合（水溶性ポリマおよび疑似水
溶性ポリマなど）、親水性膨潤層に含まれる該親水性ポ
リマの割合は、インキ反撥性および印刷耐久性の点から
比較的少量で十分であり、疎水性ポリマの割合が相対的
に多くなるため、親水性ポリマを分散相とする上記の
（１）または（２）の形態となることが好ましい。一
方、親水性ポリマが比較的弱い親水性を示す材料を選択
した場合（水膨潤性ポリマなど）、親水性膨潤層に含ま
れる該親水性ポリマの割合は、インキ反撥性および印刷
耐久性の点から比較的多量に必要であり、疎水性ポリマ
の割合が相対的に少なくなるため、上記の（１）、
（２）または（３）の形態となることが好ましい。

【０１０２】すなわち本発明に用いられる親水性膨潤層
の好ましい相分離構造は、該層が有するゴム弾性および
水膨潤性によって異なるが、親水性ポリマの親水性の程
度によって異なる。

【０１０３】（１）の形態をとる場合、疎水性ポリマ相
が主として連続相であるためには、疎水性ポリマの組成
が５０重量％以上であり、６０〜９５重量％であること
が好ましく、７０〜９０重量％であることが更に好まし
い。疎水性ポリマの組成比が５０重量％以下となると親
水性膨潤層のインキ反撥層としての性能は印刷初期にお
いては向上するが、印刷耐久性が急激に低下する傾向に
ある。一方、疎水性ポリマの組成比が９５重量％を越え
ると親水性膨潤層内の親水性ポリマが十分に吸水でき
ず、親水性が不足してインキ反撥性が極端に低下する傾
向にある。

【０１０４】（２）および（３）の形態をとる場合、親
水性ポリマおよび疎水性ポリマの両者が２０重量％以上
であり、４０重量％以上であることが好ましい。

【０１０５】該親水性膨潤層はゴム弾性を有することが
好ましい。

【０１０６】親水性膨潤層のゴム弾性は以下に説明する
方法によって測定された初期弾性率の値によって特徴付
けられる。

【０１０７】［親水性膨潤層の初期弾性率の測定方法］
測定しようとする平版印刷版の親水性膨潤層の組成と同
一組成の溶液をテフロンシャーレ上に展開し、６０℃×
２４時間乾燥硬化させる。得られた乾燥硬化膜は剃刀刃
などを用いて、長さ４０ｍｍ、幅１．９５ｍｍ、厚み約
０．２ｍｍの短冊状のテストピースに裁断する。溶液塗
布後、刷版とするまでに非画線部に処理を施す場合に
は、テストピースにも同様の処理を施す。

【０１０８】得られたテストピースは、測定前に２５℃
５０％ＲＨの環境にて２４時間以上放置し調湿したの
ち、厚みをマイクロゲージにて測定し、下記の引張り条
件で初期弾性率を測定した。データ処理はＪＩＳＫ６
３０１に準じて行なった。

【０１０９】引張り速度２００ｍｍ／分チャック間距離２０ｍｍ繰り返し数４回測定機（株）オリエンテック製「ＲＴＭ−１００」本発明に用いられる親水性膨潤層の初期弾性率は、０．
０１〜１０ｋｇｆ／ｍｍ²の範囲にあることがインキ反
撥性および形態保持性の観点から好ましい。好ましく
は、０．０１〜５ｋｇｆ／ｍｍ²の範囲であり、０．０
１〜２ｋｇｆ／ｍｍ²の範囲が更に好ましい。

【０１１０】すなわち初期弾性率が、０．０１ｋｇｆ／
ｍｍ²未満になると親水性膨潤層の形態保持性が極端に
低下し、印刷時の耐久性が極端に低下する傾向にある。

【０１１１】一方該初期弾性率が１０ｋｇｆ／ｍｍ²よ
り大きくなるとゴム弾性が不足し、インキ反撥性が極端
に低下する傾向にある。

【０１１２】また、本発明に用いられる親水性膨潤層は
以下の定義に従って測定した吸水率の値が特定の範囲で
あることが好ましい。

【０１１３】

【数１】ただし、吸水量とは、以下の定義に従って測定した値を
意味する。

【０１１４】吸水量（ｇ／ｍ²）＝ＷWET −ＷDRY ＷDRY ：乾燥状態における重量（ｇ／ｍ2 ）ＷWET ：水中に２５℃×１０分間浸漬した後の重量（ｇ
／ｍ²）［吸水量の測定方法］測定しようとする平版印刷版の非
画線部のみから形成された部分を所定面積に裁断し、２
５℃の精製水に浸漬する。１０分間浸漬した後、該平版
印刷版の親水性膨潤層表面および裏面に付着した余分の
水分を「ハイゼガーゼ」（コットン布：旭化成工業
（株）製）にて素速く拭き取り、該平版印刷版の膨潤重
量ＷWET を秤量する。その後、該平版印刷版を６０℃の
オーブンにて約３０分間乾燥し、乾燥重量ＷDRY を秤量
する。

【０１１５】本発明に用いられる親水性膨潤層の吸水率
は、１０〜２０００％で用いることが可能であるが、イ
ンキ反撥性および形態保持性の観点から、好ましくは５
０〜１７００％、さらに好ましくは５０〜７００％であ
る。該吸水率が１０％未満になると、インキ反撥性が極
端に低下する傾向にあり、また塗工時にピンホ−ルなど
の欠陥が生じ易くなる。また２０００％より大きくなる
と形態保持性が極端に低下する傾向にある。

【０１１６】本発明で言う親水性膨潤層厚さとは、基板
上に塗設された乾燥させた平版印刷版の非画線部に相当
する部分の親水性膨潤層の塗布層を剥離し、重量法によ
って測定した値を意味する。親水性膨潤層厚さは下記式
に従って測定した。

【０１１７】親水性膨潤層厚さ（ｇ／ｍ²）＝（Ｗ−Ｗ0 ）／α Ｗ：平版印刷版の非画線部のみから形成された部分を裁
断したものの乾燥重量（ｇ）Ｗ0 ：上記Ｗから親水性膨潤層を剥離脱落した後の乾燥
重量（ｇ） α：平版印刷版の測定面積（ｍ²）［親水性膨潤層厚さの測定方法］測定しようとする平版
印刷版の非画線部のみから形成された部分を所定面積α
に裁断した後、６０℃のオーブンにて約３０分間乾燥
し、乾燥重量Ｗを秤量する。その後、平版印刷版を精製
水に浸漬し、親水性膨潤層を膨潤させ、スクレーパーな
どを用いて該膨潤層を剥離脱落させる。親水性膨潤層を
剥離脱落させた平版印刷版を再度６０℃のオーブンにて
約３０分間乾燥し、乾燥重量Ｗ0 を秤量する。

【０１１８】本発明に用いられる親水性膨潤層厚さは、
０．１〜１００ｇ／ｍ²で用いることが可能であるが、
インキ反撥性および形態保持性の観点から、好ましくは
０．２〜１０ｇ／ｍ²である。該厚みが０．２ｇ／ｍ²
未満になると、インキ反撥性が極端に低下する傾向にあ
り、また塗工時にピンホ−ルなどの欠陥が生じ易くな
る。また１０ｇ／ｍ²以上は水膨潤時の形態保持性が劣
化する傾向にあり経済的にも不利である。

【０１１９】本発明に用いられる親水性膨潤層には上記
した親水性ポリマ、疎水性ポリマおよび必要に応じて加
えられる架橋剤の他にも、ゴム組成物において通常添加
される公知の老化防止剤、酸化防止剤、オゾン劣化防止
剤、紫外線吸収剤、染料、顔料、可塑剤などを本発明の
効果を損わない範囲で添加することが可能である。

【０１２０】該親水性膨潤層は、塗設時または塗設後に
熱処理を加え、様々の熱履歴を与えてもよい。この場
合、親水性膨潤層の構成成分が同一であっても、その熱
履歴により吸水量や吸水率などの水膨潤性が変化するこ
ともある。

【０１２１】また下層との接着性向上などの目的から、
公知のシランカップリング剤やイソシアネート化合物、
触媒などを添加したり基板との間に中間層として設ける
ことも可能である。

【０１２２】次に本発明における平版印刷版の製造方法
の一例について説明するが、本発明はこれに限定される
ものではない。

【０１２３】本発明の平版印刷版の画像は、例えば、基
板上に親水性膨潤層を備えた感光性平版印刷版原版の版
表面に活性光線を照射することにより形成することがで
きる。すなわち、画線部および非画線部の差を活性光線
の照射により生じさせる。

【０１２４】そのような感光性平版印刷版原版の親水性
膨潤層は、上記平版印刷版における非画線部と同様の相
分離構造、厚み、吸水率等を有することが好ましい。

【０１２５】好ましくは、本発明の平版印刷版はネガテ
ィブワーキングの画像形成により作製される。すなわ
ち、親水性膨潤層の活性光線が照射されなかった部分
（以下未露光部と称する）と比較して活性光線が照射さ
れた部分（以下露光部と称する）の初期弾性率が上昇す
る等してインキ着肉性の画線部となり、未露光部はイン
キ反撥性の非画線部となる。

【０１２６】このような画像形成には公知の感光性化合
物が用いられる。

【０１２７】すなわち、原版の親水性膨潤層に公知の光
架橋または光硬化性の感光性化合物を含有させ、露光部
を選択的に架橋および／または硬化し、初期弾性率を上
昇させることによって画像形成が達成される。

【０１２８】公知の光架橋または光硬化性の感光性化合
物としては下記の（１）〜（５）の具体例が挙げられ
る。

【０１２９】（１）光重合性モノマまたはオリゴマアルコール類（エタノール、プロパノール、ヘキサノー
ル、オクタノール、シクロヘキサノール、グリセリン、
トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、イソ
アミルアルコール、ラウリルアルコール、ステアリルア
ルコール、ブトキシエチルアルコール、エトキシエチレ
ングリコール、メトキシエチレングリコール、メチキシ
プロピレングリコール、フェノキシエタノール、フェノ
キシジエチレングリコール、テトラヒドロフルフリルア
ルコールなど）の（メタ）アクリル酸エステル、カルボ
ン酸類（酢酸、プロピオン酸、安息香酸、アクリル酸、
メタクリル酸、コハク酸、マレイン酸、フタル酸、酒石
酸、クエン酸など）と（メタ）アクリル酸グリシジルま
たはテトラグリシジル−ｍ−キシリレンジアミンまたは
テトラグリシジル−ｍ−テトラヒドロキシリレンジアミ
ンとの付加反応物、アミド誘導体（アクリルアミド、メ
タクリルアミド、ｎ−メチロールアクリルアミド、メチ
レンビスアクリルアミドなど）、エポキシ化合物と（メ
タ）アクリル酸との付加反応物などを挙げることができ
る。

【０１３０】さらに具体的には、特公昭４８−４１７０
８号公報、特公昭５０−６０３４号公報、特開昭５１−
３７１９３号公報に記載されているウレタンアクリレー
ト、特開昭４８−６４１８３号公報、特公昭４９−４３
１９１号公報、特公昭５２−３０４９０号公報に記載さ
れているポリエステルアクリレート、エポキシ樹脂と
（メタ）アクリル酸を反応させた多官能エポキシ（メ
タ）アクリレート、米国特許4540649 に記載されている
Ｎ−メチロールアクリルアミド誘導体などを挙げること
ができる。更に日本接着協会誌VOL.20,No.7,p300〜308
に紹介されている光硬化性モノマおよびオリゴマを用い
ることができる。

【０１３１】（２）光二量化型の感光性樹脂組成物例えばポリ桂皮酸ビニルなどを含む感光層、例えば、Ｐ
−フェニレンジアクリル酸と１，４−ジヒドロキシエチ
ルオキシシクロヘキサンの１：１重縮合不飽和ポリエス
テルやシンナミリデンマロン酸と２官能性グリコ−ル類
とから誘導される感光性ポリエステル、ポリビニルアル
コ−ル、デンンプン、セルロ−スなどのような水酸基含
有ポリマのケイ皮酸エステルなど。

【０１３２】（３）エポキシ基を有するモノマ、オリゴ
マまたはポリマと公知の光酸発生剤との組合わせから成
る組成物これは露光すると光酸発生剤がルイス酸やブレンステッ
ド酸を生成し、エポキシ基がカチオン重合して架橋す
る。光酸発生剤としては、アリルジアゾニウム塩化合
物、ジアリルヨードニウム塩化合物、トリアリルスルフ
ォニウム塩化合物、トリアリルセレノニウム塩化合物、
ジアルキルフェナシルスルフォニウム塩化合物、ジアル
キル−４−フェナシルスルフォニウム塩化合物、α−ヒ
ドロキシメチルベンゾインスルフォン酸エステル、Ｎ−
ヒドロキシイミノスルフォネート、α−スルフォニロキ
シケトン、β−スルフォニロキシケトン、鉄−アレーン
錯体化合物（ベンゼン−シクロペンタジエニル−鉄（I
I）ヘキサフルオロフォスフェートなど）、ｏ−ニトロ
ベンジルシリルエーテル化合物などが挙げられる。

【０１３３】エポキシ基を有するモノマ、オリゴマまた
はポリマとしては、下記のものが好ましく用いられる。

【０１３４】メチルグリシジルエーテル、エチルグリシ
ジルエーテル、プロピルグリシジルエーテル、ｎ−ブチ
ルグリシジルエーテル、イソブチルグリシジルエーテ
ル、ペンチルグリシジルエーテル、シクロヘキシルグリ
シジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテ
ルなどが挙げられる。

【０１３５】（４）アリル基および／またはビニル基を
有するモノマ、オリゴマまたはポリマとメルカプト基を
有するモノマ、オリゴマまたはポリマとの組成物これは露光するとメルカプト基がアリル基およびまたは
ビニル基に付加し架橋する。

【０１３６】（５）ジアゾニウム塩化合物と水酸基含有
化合物との組成物本発明に用いられるジアゾ化合物としては、ｐ−ジアゾ
ジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物で代表
される水不溶で有機溶媒可溶性のジアゾ樹脂などが挙げ
られる。

【０１３７】具体的には特公昭４７−１１６７号公報お
よび特公昭５７−４３８９０号公報に記載されているよ
うなものが挙げられる。

【０１３８】本発明に好ましく用いられるジアゾ樹脂に
おけるジアゾモノマーとしては、例えば４−ジアゾ−ジ
フェニルアミン、１−ジアゾ−４−Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ミノベンゼン、１−ジアゾ−４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミ
ノベンゼン、１−ジアゾ−４−Ｎ−エチル−Ｎ−ヒドロ
キシエチルアミノベンゼン、１−ジアゾ−４−Ｎ−メチ
ル−Ｎ−ヒドロキシエチルアミノベンゼン、１−ジアゾ
−２，５−ジエトキシ−４−ベンゾイルアミノベンゼ
ン、１−ジアゾ−４−Ｎ−ベンジルアミノベンゼン、１
−ジアゾ−４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンゼン、１−
ジアゾ−４−モルフォリノベンゼン、１−ジアゾ−２，
５−ジメトキシ−４−ｐ−トリルメルカプトベンゼン、
１−ジアゾ−２−エトキシ−４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミ
ノベンゼン、ｐ−ジアゾ−ジメチルアニリン、１−ジア
ゾ−２，５−ジブトキシ−４−モルフォリノベンゼン、
１−ジアゾ−２，５−ジエトキシ−４−モルフォリノベ
ンゼン、１−ジアゾ−２，５−ジメトキシ−４−モルフ
ォリノベンゼン、１−ジアゾ−２，５−ジエトキシ−４
−ｐ−トリルメルカプトベンゼン、１−ジアゾ−４−Ｎ
−エチル−Ｎ−ヒドロキシエチルアミノベンゼン、１−
ジアゾ−３−エトキシ−４−Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジル
アミノベンゼン、１−ジアゾ−３−クロロ−４−ジエチ
ルアミノベンゼン、１−ジアゾ−３−メチル−４−ピロ
リジノベンゼン、１−ジアゾ−２−クロロ−４−Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノ−５−メトキシベンゼン、１−ジアゾ
−３−メトキシ−４−ピロリジノベンゼン、３−メトキ
シ−４−ジアゾジフェニルアミン、３−エトキシ−４−
ジアゾジフェニルアミン、３−（ｎ−プロポキシ）−４
−ジアゾジフェニルアミン、３−（イソプロポキシ）−
４−ジアゾジフェニルアミンなどが挙げられる。

【０１３９】また、これらのジアゾモノマーとの縮合剤
として用いられるアルデヒドとしては、例えば、ホルム
アルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒ
ド、ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、ベンズ
アルデヒドなどが挙げられる。更に陰イオンとしては、
塩素イオンやトリクロロ亜鉛酸などを用いることにより
水溶性のジアゾ樹脂を得ることができ、また四フッ化ホ
ウ素、六フッ化燐酸、トリイソプロピルナフタレンスル
フォン酸、４，４’−ビフェニルスルフォン酸、２、５
−ジメチルベンゼンスルフォン酸、２−ニトロベンゼン
スルフォン酸、２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベ
ンゾイル−ベンゼンスルフォン酸などを用いることによ
り、有機溶剤可溶性のジアゾ樹脂を得ることができる。

【０１４０】またこれらのジアゾ樹脂は下記に説明する
ような水酸基を有する高分子化合物が通常混合して使用
される。

【０１４１】すなわち、水酸基を有する高分子化合物と
しては、アルコール性水酸基を有するモノマー、例えば
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４−ヒ
ドロキシブチル（メタ）アクリレート、２、３−ヒドロ
キシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエ
チル（メタ）アクリルアミド、トリエチレングリコール
モノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコール
モノ（メタ）アクリレート、１、３−プロパンジオール
モノ（メタ）アクリレート、１、４−ブタンジオールモ
ノ（メタ）アクリレート、ジ（２−ヒドロキシエチル）
マレエートなどの中から選ばれる少なくとも１種類以上
のモノマーと他の水酸基を有さないモノマーとの間での
共重合体や、フェノール性水酸基を有するモノマー、例
えばＮ−（４−ヒドロキシフェニル）（メタ）アクリ
ルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）マレイミ
ド、ｏ−、ｍ−、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−、ｍ
−、ｐ−ヒドロキフェニル（メタ）アクリレート、など
との共重合体、また、ｐ−ヒドロキシ安息香酸とグリシ
ジル（メタ）アクリレートとの開環反応生成物、サリチ
ル酸と２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの
反応生成物などの水酸基含有モノマーなどとの共重合体
が挙げられる。また、ポリビニルアルコール、セルロー
ス、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、グリセリン、ペンタエリスリトールなどやこれらの
エポキシ付加反応物、その他の水酸基含有天然高分子化
合物なども用いることができる。

【０１４２】（５）ビスアジド化合物と環化したポリイ
ソプレンゴムやポリブタジエンゴム、またはクレゾール
ノボラック樹脂を主成分とする感光性組成物など。

【０１４３】これらの感光性化合物は基板上に親水性膨
潤層を形成する際に組成物に添加し該層内に存在させる
方法、または親水性膨潤層を形成した後、感光性組成物
を該層上に塗布し該層内に含浸させる方法などを用いて
添加される。

【０１４４】比較的高分子量のポリマ、オリゴマなどを
用いた感光性組成物の場合には、前者の親水性膨潤層形
成時に同時添加する方法が有利に行なわれ、比較的低分
子量のモノマ、オリゴマなどを用いた感光性組成物の場
合には、後者の含浸方法が有利である。

【０１４５】また原版の親水性膨潤層にはこれらの感光
性化合物を増感させる目的から公知の光増感剤を添加す
ることが可能である。公知の光増感剤としては、公知の
光増感剤が自由に選択できるが、各種の置換ベンゾフェ
ノン系化合物、置換チオキサントン系化合物、置換アク
リドン系化合物などが好ましく用いられる。また、米国
特許236766に記載されているビシナールポリケタルドニ
ル化合物、米国特許2367661、米国特許2367670 に開示さ
れているα−カルボニル化合物、米国特許2722512 に開
示されているα−炭化水素で置換された芳香族アシロイ
ン化合物、米国特許3046127 、米国特許2951758 に開示
されている多核キノン化合物、米国特許3549367 に開示
されているトリアリールイミダゾールダイマ／ｐ−アミ
ノフェニルケトンの組合わせ、米国特許3870524 に開示
されているベンゾチアゾール系化合物、米国特許423985
0 に開示されているベンゾチアゾール系化合物／トリハ
ロメチル−ｓ−トリアジン系化合物および米国特許3751
259 に開示されているアクリジンおよびフェナジン化合
物、米国特許4212970 に開示されているオキサジアゾー
ル化合物、米国特許3954475 、米国特許4189323 などに
開示されている発色団基を有するトリハロメチル−ｓ−
トリアジン系化合物、特開昭５９−１９７４０１号公
報、特開昭６０−７６５０３号公報に開示されているベ
ンゾフェノン基含有ペルオキシエステル化合物などが具
体例として挙げられる。

【０１４６】本発明に用いられる平版印刷版の基板とし
ては、通常の平版印刷機に取り付けられるたわみ性と印
刷時に加わる荷重に耐えうるものである必要がある以外
には一切制限を受けない。

【０１４７】代表的なものとしては、アルミ、銅、鉄、
などの金属板、ポリエステルフィルムやポリプロピレン
フィルムなどのプラスチックフィルムあるいはコート
紙、ゴムシートなどが挙げられる。また、該基板は上記
の素材が複合されたものであってもよい。

【０１４８】また、該基板表面は検版性向上や接着性向
上の目的から、電気化学的処理や酸塩基処理、コロナ放
電処理など各種に表面処理を施すことも可能である。

【０１４９】またこれらの基板上には接着性向上やハレ
ーション防止の目的からコーティングなどを施してプラ
イマー層を形成し、基板とすることも可能である。

【０１５０】次に、該感光性平版印刷版原版を用いた製
版方法について説明する。

【０１５１】該感光性平版印刷版原版は、ネガティブワ
ーキング用の製版工程を経て刷版とすることができる。
すなわち、ネガ原画フィルムを通じて、通常の露光光源
によって画像露光される。

【０１５２】この露光工程で用いられる光源としては、
例えば高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キセノン灯、メ
タルハライド灯、蛍光灯などが挙げられる。このような
通常の露光を行なったのち水または現像液でリンスする
と、未露光部の親水性膨潤層内に存在する感光性化合物
が溶解除去または不感光化され、インキ反撥するのに適
した相分離構造および水膨潤性を有する非画線部とな
り、露光部は感光性化合物が光架橋硬化し未露光部と比
較して、高い初期弾性率を示しかつ、水膨潤性の低下し
た画線部となる。

【０１５３】上記のように該感光性平版印刷版原版は、
感光性化合物の光化学反応の助けを借りて親水性膨潤層
の相分離構造が有するゴム弾性や水膨潤性を変化させる
ことによって画像形成するものである。

【０１５４】次に本発明の平版印刷版を用いた印刷方法
について説明する。

【０１５５】本発明の平版印刷には公知の平版印刷機が
用いられる。すなわち、オフセットおよび直刷り方式の
枚葉および輪転印刷機などが用いられる。

【０１５６】本発明の平版印刷版を画像形成したのち、
これらの平版印刷機の版胴に装着し、該版面には接触す
るインキ着けローラーからインキが供給される。

【０１５７】該版面上の親水性膨潤層を有する非画線部
分は湿し水供給装置から供給される湿し水によって膨潤
し、インキを反撥する。一方、画線部分はインキを受容
し、オフセットブランケット胴表面または被印刷体表面
にインキを供給して印刷画像を形成する。

【０１５８】本発明の平版印刷版を印刷する際に使用さ
れる湿し水は、水ありＰＳ版で使用されるエッチ液を用
いることはもちろん可能であるが、添加物を一切含有し
ない純水を使用することができる。

【０１５９】本発明の感光性平版印刷版を用いて印刷す
る際には添加物を一切有さない純水を使用することが好
ましい。

【０１６０】以下に、実施例により本発明をさらに詳し
く説明する。

【０１６１】

【実施例】

実施例１〜７厚さ０．２mmのアルミ板（住友軽金属（株）製）に、表
１に示した親水性ポリマを用いた下記組成物を塗布した
のち、１５０℃×６０分間熱処理して２ｇ／ｍ2 の厚み
を有する親水性膨潤層を塗設した。

【０１６２】＜親水性膨潤層組成（重量部）＞（１）表１に示された親水性ポリマ２８重量部（２）テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル５重量部（３）水性ラテックス「ＪＳＲ０５９６」６５重量部［カルボキシ変性スチレン−ブタジエン共重合ラテックス：大日本インキ化学工業（株）製］（４）２−アミノプロピルトリメトキシシラン２重量部（５）精製水９００重量部

【表１】上記の様にして塗設した親水性膨潤層上に、下記組成の
感光性組成物を塗布し、１００℃×３分間熱処理して感
光性組成物０．５ｇ／ｍ2 を親水性膨潤層中に含浸させ
た。

【０１６３】その後厚さ１２ミクロンの片面マット化二
軸延伸ポリプロピレンフィルムをマット化されていない
面が該親水性膨潤層と接するようにしてカレンダーロー
ラーを用いてラミネートし、ネガ型の平版印刷用原版を
得た。

【０１６４】得られた平版印刷版は、高圧水銀灯「ジェ
ットライト３３０3kW ：オーク製作所（株）製」を用
い、ＰＣＷ（PLATE CONTOROL WEDGE：ＫＡＬＬＥ社製）
を貼込んだネガフィルムを通して９０秒間密着露光（3.
6mW/cm2 ）した。次いで、版全面を水道水でリンスし、
未露光部の感光性組成物を洗浄除去して刷版とした。

【０１６５】実施例１〜７で得られた刷版のインキ反撥
部分に対応した親水性膨潤層を水膨潤させた状態で、Ｏ
ｓＯ4 染色し、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）観察した。

【０１６６】観察の結果、図２に示されるような親水性
ポリマを主成分とする相および疎水性ポリマを主成分と
する相から構成された相分離構造を有することが確認さ
れた。

【０１６７】（１）キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレート／メチルグリシジルエーテルの1/2/2mol比反応物１０重量部（２）CH2=CHCOO-(C2H4O)14-COCH=CH2 １０重量部（３）ミヒラー氏ケトン２重量部（４）２，４−ジエチルチオキサントン２重量部（５）エチルアルコール７６重量部得られた刷版は、枚葉オフセット印刷機「スプリント２
５：小森コーポレーション（株）製」に装着したのち、
湿し水として市販の精製水を供給しながら上質紙（62.5
kg／菊）を用いて印刷した。インキ反撥性およびインキ
着肉性は印刷物を目視観察することにより評価した。画
線部および非画線部の初期弾性率、吸水率は定義に従っ
て測定した。評価結果を表２に示す。

【０１６８】

【表２】約１０００枚の印刷を行なった時点で、各刷版にインキ
汚れは発生せず、十分にコントラストを有する明瞭な印
刷物が得られた。

【０１６９】比較例１厚さ０．２mmのアルミ板（住友軽金属（株）製）に下記
組成物を塗布したのち、１５０℃×１２０分間熱処理し
て２ｇ／ｍ² の厚みを有する親水性膨潤層を塗設し
た。

【０１７０】＜親水性膨潤層組成（重量部）＞（１）実施例３に用いた親水性ポリマ９３重量部（２）テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル５重量部（３）２−アミノプロピルトリメトキシシラン２重量部（４）精製水９００重量部得られた親水性膨潤層上に実施例１と同様にして感光性
組成物を塗設後、感光性平版印刷版とし、実施例１と同
様の製版工程を経て刷版とした。親水性膨潤層の吸水率
は２５００％であった。得られた刷版のインキ反撥部分
に対応した親水性膨潤層を水膨潤させた状態で、ＯｓＯ
4 染色し、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）観察した。

【０１７１】観察の結果、親水性膨潤層が、親水性ポリ
マを主成分とする相から構成された均一相構造を有する
ことが確認された。

【０１７２】印刷評価を行なった結果、約５０枚の印刷
を行なった時点で、親水性膨潤層が基板から脱落し、イ
ンキ汚れが発生した。

【０１７３】実施例８〜１１実施例３の水性ラテックスを下記表３のポリマに変更し
た以外は同様にして、感光性平版印刷版を作製した。得
られた刷版のインキ反撥部分に対応した親水性膨潤層を
水膨潤させた状態で、ＯｓＯ4 染色し、ＴＥＭ（透過型
電子顕微鏡）観察した。

【０１７４】観察の結果、各親水性膨潤層が、図２に示
されるような疎水性ポリマを主成分とする相を連続相と
し親水性ポリマを主成分とする相を分散相とする相分離
構造を有することが確認された。

【０１７５】評価結果を表４に示す。

【０１７６】

【表３】

【表４】約５０００枚の印刷を行なった時点で、各刷版にインキ
汚れは発生せず、十分にコントラストを有する明瞭な印
刷物が得られた。

【０１７７】実施例１２〜１８厚さ０．２mmのアルミ板（住友軽金属（株）製）に、表
１に示した親水性ポリマを用いた下記組成物を塗布した
のち、１５０℃×６０分間熱処理して２ｇ／ｍ2 の厚み
を有する親水性膨潤層を塗設した。

【０１７８】＜親水性膨潤層組成（重量部）＞（１）表１に示された親水性ポリマ２８重量部（２）テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル５重量部（３）水性ポリマエマルジョン「ＡＢ−７３５」６５重量部［アクリル系エマルジョン：大日本インキ化学工業（株）製］（４）２−アミノプロピルトリメトキシシラン２重量部（５）精製水９００重量部上記の様にして塗設した親水性膨潤層上に、実施例１と
同様の感光性組成物を塗布し、１００℃×３分間熱処理
して感光性組成物０．５ｇ／ｍ2 を親水性膨潤層中に含
浸させた。その後厚さ１２ミクロンの片面マット化二軸
延伸ポリプロピレンフィルムをマット化されていない面
が該親水性膨潤層と接するようにしてカレンダーローラ
ーを用いてラミネートし、ネガ型の平版印刷用原版を得
たのち、実施例１と同様の製版処理を経て刷版とした。
得られた刷版のインキ反撥部分に対応した親水性膨潤層
を水膨潤させた状態で、ＯｓＯ4 染色し、ＴＥＭ（透過
型電子顕微鏡）観察した。

【０１７９】観察の結果、図３に示されるような親水性
ポリマを主成分とする相および疎水性ポリマを主成分と
する相から構成された相分離構造を有することが確認さ
れた。評価結果を表５に示す。

【０１８０】

【表５】約５０００枚の印刷を行なった時点で、各刷版にインキ
汚れは発生せず、十分にコントラストを有する明瞭な印
刷物が得られた。

【０１８１】実施例１９〜２２実施例３のラテックスを下記表６のポリマに変更した以
外は同様にして、感光性平版印刷版を作製した。得られ
た刷版のインキ反撥部分に対応した親水性膨潤層を水膨
潤させた状態で、ＯｓＯ4 染色し、ＴＥＭ（透過型電子
顕微鏡）観察した。

【０１８２】観察の結果、図２に示されるような各親水
性膨潤層が、疎水性ポリマを主成分とする相を連続相と
し親水性ポリマを主成分とする相を分散相とする相分離
構造を有することが確認された。

【０１８３】評価結果を表７に示す。

【０１８４】

【表６】

【表７】約５０００枚の印刷を行なった時点で、各刷版にインキ
汚れは発生せず、十分にコントラストを有する明瞭な印
刷物が得られた。

【０１８５】実施例２３実施例１に用いた平版印刷版と通常のＰＳ版（ＦＮＳ；
富士写真フィルム（株）製）を露光、現像処理して刷版
としたものを、同じ版胴に装着し、湿し水として市販の
精製水を供給しながら実施例１と同様にして印刷を行っ
た。

【０１８６】湿し水の供給量を標準条件から増量した場
合、ＰＳ版を用いた部分では、画線部のインキ濃度が極
端に低下し、いわゆる「水負け」によるインキの着肉不
良が発生した。一方、実施例１に用いた平版印刷版を用
いた部分では、着肉不良の程度が軽微であった。

【０１８７】また、湿し水の供給量を標準条件から減量
した場合、ＰＳ版を用いた部分では、全面にインキ汚れ
が発生した。一方、実施例１に用いた平版印刷版を用い
た部分では、良好な印刷物が得られた。なお、湿し水の
供給量は印刷機のダイヤル目盛り値にて相対的に比較し
た。評価結果を表８に示す。

【０１８８】

【表８】

【０１８９】

【発明の効果】本発明の平版印刷版は、相分離構造を有
する親水性膨潤層を非画線部として使用しているため、
わずかな湿し水の給水量で効率良くインキを反撥するこ
とができ、湿し水のコントロール幅が拡大される。ま
た、湿し水に通常添加されるイソプロパノールなどの溶
剤を用いることなく、印刷が可能となる。

【０１９０】本発明の感光性平版印刷版から感光性化合
物の助けを借りて画像形成を行なった場合、従来のＰＳ
版で必要な物理的現像が一切不要で製版工程が極めて簡
便となる。またインキ反撥性を発現するために必要な基
板への特殊な表面処理も不要であるため、安価な感光性
平版印刷版を製造することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる平版印刷版の親水性膨潤層の相
分離構造の一例を表す。

【図２】本発明にかかる平版印刷版の親水性膨潤層の相
分離構造の一例を表す。

【図３】本発明にかかる平版印刷版の親水性膨潤層の相
分離構造の一例を表す。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】親水性膨潤層からなる非画線部が少なく
とも親水性ポリマを主成分とする相および疎水性ポリマ
を主成分とする相の少なくとも２相から構成された相分
離構造を有することを特徴とする平版印刷版。
【請求項２】疎水性ポリマが水性エマルジョンから主
として構成されることを特徴とする請求項１記載の平版
印刷版。
【請求項３】疎水性ポリマが共役ジエン系化合物を含
有するラテックスから主として構成されることを特徴と
する請求項１記載の平版印刷版。
【請求項４】親水性膨潤層の吸水率が１０〜２０００
％であることを特徴とする請求項１記載の平版印刷版。
【請求項５】疎水性ポリマが親水性膨潤層中６０〜９
５重量％であることを特徴とする請求項１記載の平版印
刷版。
【請求項６】基板上に、親水性ポリマを主成分とする
相および疎水性ポリマを主成分とする相の少なくとも２
相から構成された相分離構造を有する親水性膨潤層を備
えた感光性平版印刷版原版の版表面に活性光線を照射す
ることを特徴とする請求項１記載の平版印刷版の製造方
法。
【請求項７】基板上に、親水性ポリマを主成分とする
相および疎水性ポリマを主成分とする相の少なくとも２
相から構成された相分離構造を有する親水性膨潤層を備
えた平版印刷版原版。
【請求項８】疎水性ポリマが水性エマルジョンから主
として構成されることを特徴とする請求項７記載の平版
印刷版原版。
【請求項９】疎水性ポリマが共役ジエン系化合物を含
有するラテックスから主として構成されることを特徴と
する請求項７記載の平版印刷版原版。
【請求項１０】親水性膨潤層の吸水率が１０〜２００
０％であることを特徴とする請求項７記載の平版印刷版
原版。
【請求項１１】疎水性ポリマが親水性膨潤層中６０〜
９５重量％であることを特徴とする請求項７記載の平版
印刷版原版。