JPH08274223A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH08274223A
JPH08274223A JP8116509A JP11650996A JPH08274223A JP H08274223 A JPH08274223 A JP H08274223A JP 8116509 A JP8116509 A JP 8116509A JP 11650996 A JP11650996 A JP 11650996A JP H08274223 A JPH08274223 A JP H08274223A
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Tetsuya Ueda
哲也 上田
Haruo Shimamoto
晴夫 島本
Yasuhiro Teraoka
康宏 寺岡
Hideya Yagoura
英也 御秡如
Hiroshi Seki
博司 関
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    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto
    • HELECTRICITY
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    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は、優れた放熱性を有する半導体装
置を提供することを課題とする。 【解決手段】 半導体チップ2の上面に形成された複数
のバンプ電極21にそれぞれ対応するリード7のインナ
ーリード7aが接続され、半導体チップ2の上面と対向
するように配置された放熱板13の端縁が半導体チップ
2の端縁上またはその外側に位置しており、放熱板13
の上面、複数のリード7のアウターリード7b及び半導
体チップ2の下面2bがそれぞれ外部に露出するように
パッケージ本体10により半導体チップ2が封止されて
いる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体装置に係
り、特にTAB(tape・automated・bo
nding)法により半導体チップが搭載されると共に
放熱性が改善された半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図11(A)及び(B)はそれぞれ半導
体チップが搭載されたテープキャリアの平面図及び断面
図である。テープキャリアは、フィルム状に形成された
テープ基材1を有している。テープ基材1は、ガラス繊
維入りエポキシ、ポリエチレン、ポリイミド等の絶縁材
料から形成され、その両側縁部に沿って複数のパーフォ
レーション孔5が等間隔に配置されると共に幅方向中央
部には半導体チップ2を収容するための矩形状のセンタ
デバイス孔3が形成されている。また、センタデバイス
孔3の周辺部には、複数のアウターリード孔4が形成さ
れている。このテープ基材1上には銅からなる複数のリ
ード7が固着されている。これらのリード7は、センタ
デバイス孔3とアウターリード孔4との間のサポート部
6により支持され、その先端部はインナーリード7aと
してセンタデバイス孔3に張り出し、中央部は外部回路
の電極に接続されるアウターリード7bとしてアウター
リード孔4の上に位置している。さらに、各リード7の
後端部にはテストパッド7cが形成されている。尚、サ
ポート部6は隣接するアウターリード孔4間に位置する
ブリッジ部6aによりテープ基材1に連結されている。
そして、図11(B)に示すように、センタデバイス孔
3内において各リード7のインナーリード7aに半導体
チップ2のバンプ電極21が接続されている。
【0003】このようにテープキャリアに搭載された半
導体チップ2は例えば図12(A)及び(B)に示すパ
ッケージに封止される。半導体チップ2は、導電性キャ
ップ8内に収容され、半導体チップ2の下面と導電性キ
ャップ8とがハンダあるいは導電性接着剤9により接合
される。導電性キャップ8の周縁部にはフランジ8aが
形成されており、このフランジ8a上にテープキャリア
のサポート部6が支持される。そして、導電性キャップ
8内及びテープキャリアの上部にエポキシ等の樹脂が供
給され、これにより半導体チップ2を封止するパッケー
ジ本体10が形成された後、各リード7がアウターリー
ド7bとテストパッド7cとの間で切断されると共にテ
ープ基材1のブリッジ部6aが切断され、半導体装置が
形成される。
【0004】ここで、導電性キャップ8は半導体チップ
2の裏面電位か必要な場合にそのリードになると共に動
作中の半導体チップ2で発生した熱を外部に放出するた
めの放熱手段としても作用する。
【0005】ところで、近年、半導体装置の高密度化及
び高速度化に伴い半導体チップ2の発熱量はますます増
加する傾向にある。そこで、半導体装置の放熱性を高め
るために、図13(A)及び(B)に示すように導電性
キャップ8の裏面にハンダ12あるいは熱伝導性接着剤
で放熱フィン11を接合したものが用いられるようにな
った。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図13
(A)及び(B)に示した半導体装置では、半導体チッ
プ2の下面から外部までの間に、導電性接着剤9、導電
性キャップ8、ハンダ12及び放熱フィン11の4種類
の層が介在するためにこれらの層の接触部分に生じる接
触熱抵抗によって放熱性は劣化していた。
【0007】また、パッケージ本体10を形成するため
に半導体チップ2の上部に供給される樹脂は、パッケー
ジの強度及び信頼性から考えてそれほど薄くすることは
できず、このため半導体チップ2の表面からの放熱性は
極めて低いものであった。
【0008】このように、TAB法により製造される従
来の半導体装置は十分な放熱性を有していなかった。
【0009】この発明はこのような問題点を解消するた
めになされたもので、優れた放熱性を有する半導体装置
を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体装
置は、その上面に複数の電極が形成された半導体チップ
と、それぞれ一端部が前記半導体チップの対応する電極
に接続された複数のリードと、前記半導体チップの上面
と対向するように配置されると共にその端縁が前記半導
体チップの端縁上またはその外側に位置する放熱板と、
前記放熱板の上面、前記複数のリードの他端部及び前記
半導体チップの下面が外部に露出するように前記半導体
チップを封止するパッケージ本体とを備えたものであ
る。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を添
付図面に基づいて説明する。 実施の形態1.図1(A)及び(B)はそれぞれ本発明
の実施の形態1に係る半導体装置の斜視図及び断面図で
ある。この半導体装置は絶縁性フィルムからなるテープ
基材1を有している。テープ基材1の中央部には矩形状
の開口部であるセンタデバイス孔3が形成され、このセ
ンタデバイス孔3の中に半導体チップ2が位置してい
る。また、テープ基材1の上面には銅からなる複数のリ
ード7が固着されている。各リード7の先端部はインナ
ーリード7aとしてセンタデバイス孔3に張り出し、後
端部はアウターリード7bとしてテープ基材1の外方に
延出している。半導体チップ2の上面2aには複数のバ
ンプ電極21が形成されており、各バンプ電極21が対
応するリード7のインナーリード7aに接続されてい
る。
【0012】これら半導体チップ2、テープ基材1及び
リード7はエポキシ等の樹脂からなるパッケージ本体1
0により封止されている。ただし、半導体チップ2の下
面2b及びリード7のアウターリード7bは外部に露出
している。さらに、半導体チップ2の上面2aよりわず
かに大きな面積を有する矩形状の放熱板13が半導体チ
ップ2上部のパッケージ本体10に埋設されている。放
熱板13の端縁は、半導体チップ2の端縁の外側に位置
している。この放熱板13は、例えば銅等の熱伝導性の
優れた金属から形成され、その下面13bはリード7に
接触しない程度に半導体チップ2の上面2aに近接し、
放熱板13の上面13aは外部に露出している。
【0013】この半導体装置は次のようにして製造する
ことができる。まず、図11(A)及び(B)に示した
ようなテープキャリアに半導体チップ2を搭載した後、
図1(C)に示すようにテープキャリアを下金型14上
に載置する。このとき、半導体チップ2が下金型14の
キャビティハーフ15内に収容されるように位置決めす
る。一方、上金型16のキャビティハーフ17内には放
熱板13を保持させる。この放熱板13は、上金型16
にキャビティハーフ17に開口する吸引口(図示せず)
を設け、この吸引口を介して真空吸引する等の方法によ
り保持することができる。
【0014】次に、上金型16と下金型14との型締め
を行った後、上金型16に形成されているゲート18を
通して一対のキャビティハーフ15及び17により形成
されたキャビティ19内に熔融状態の樹脂が注入され
る。樹脂の硬化後、この成型品を上金型16及び下金型
14から取り出し、各リード7をアウターリード7bと
テストパッド7cとの間で切断すると共にテープ基材1
のブリッジ部6aを切断することにより、半導体装置が
製造される。
【0015】尚、図1(D)に示すように、下金型24
のキャビティハーフ25内に放熱板13を載置すると共
にこの下金型24上に半導体チップ2のバンプ電極21
が形成された面2aが下方を向くようにテープキャリア
を載置し、この状態で上金型26と下金型24との型締
めを行って樹脂注入を行うこともできる。このようにす
れば、放熱板13を保持する手段が不要となる。
【0016】このようにして製造された半導体装置で
は、動作中に半導体チップ2で発生した熱は、一方にお
いては半導体チップ2の上面2aから放熱板13に伝わ
り、さらに放熱板13の上面13aから外部に放出され
る。また、他方においては熱が半導体チップ2の下面2
bから直接外部に放出される。従って、放熱性が大きく
改善される。
【0017】この実施の形態1においては放熱板13が
例えば銅から形成されているか、この銅の熱膨張係数は
半導体チップ2の主材料であるシリコン等の熱膨張係数
とは大きく異なっている。また、上述したように、熔融
状態の樹脂を注入してパッケージ本体10を形成するた
めに、このとき放熱板13及び半導体チップ2は高温状
態にあり、常温状態に冷却されるまでに大きな温度降下
にさらされる。このため、常温状態において図2(A)
のように反りのない半導体装置を製造するために、樹脂
封止時からの温度降下に対して放熱板13と半導体チッ
プ2の各収縮量が等しくなるように、図1(B)におけ
る放熱板13の厚さt1及び半導体チップ2の厚さt2
を決定することが望ましい。これら放熱板13及び半導
体チップ2の収縮量が異なると、図2(B)あるいは
(C)に示すように常温状態で半導体装置に反りが生ず
る恐れがある。また、図1(B)において、テープ基材
1の上下にそれぞれ位置する樹脂の厚さt3及びt4が
互いに異なるとここにも反りを生じる恐れがある。
【0018】実施の形態2.この発明の実施の形態2を
図3(A)及び(B)に示す。この実施の形態では、パ
ッケージ本体10を構成する樹脂が放熱板13の上面1
3aの周縁部上にまで位置している。これにより、テー
プ基材1の上下にそれぞれ位置する樹脂の厚さt5及び
t6が互いに等しく設定されている。従って、このテー
プ基材1の上下において反りを生じない半導体装置が得
られる。またこの場合、放熱板13の周辺部の樹脂厚を
増しただけであって、放熱板13と半導体チップ2との
間の樹脂は厚くしないので、実施の形態1と比べて放熱
性に変化はない。
【0019】実施の形態3.この発明の実施の形態3を
図4(A)及び(B)に示す。この実施の形態では、放
熱板23が線膨張係数3.4×10-6[K-1]の窒化ア
ルミニウムAlNから形成されている。この窒化アルミ
ニウムの線膨張係数は、半導体チップ2の主材料である
シリコンの線膨張係数3.5×10-6[K-1]に極めて
近いものである。従って、放熱板23の厚さt7を半導
体チップ2の厚さt2にほぼ等しく設定すれば、これら
両者の熱変形量は同程度となる。また、この場合、テ一
プ基材1の上下の樹脂厚t8及びt9もほぼ等しくな
る。このため、反りの生じにくい半導体装置が得られ
る。尚、放熱板23の材質は窒化アルミニウムに限るも
のではなく、半導体チップ2を構成するシリコンに線膨
張係数が近いものであればよい。特に、放熱板23を半
導体チップ2と同様にシリコンから形成すれば、これら
両者の線膨張係数の差がなくなるので、より効果的であ
る。
【0020】実施の形態4.この発明の実施の形態4を
図5(A)及び(B)に示す。この実施の形態では、放
熱板13と半導体チップ2とが可撓性を有するシリコー
ン樹脂22で接着されている。このように放熱板13を
半導体チップ2に接着した状態で、金型を用いて半導体
チップ2の樹脂封止を行えば、金型内への樹脂注入時に
放熱板13と半導体チップ2との位置がずれたり、放熱
板13とリード7とが電気的に短絡することが防止され
る。また、シリコーン樹脂22は可撓性を有しているの
で、金型を型締めした際に放熱板13及び半導体チップ
2等の微小な寸法精度のばらつきがシリコーン樹脂22
に吸収され、高品質の製品が得られる。
【0021】さらに、シリコン・カーバイド等の熱伝導
率の優れた微細フィラーを分散させたシリコーン樹脂2
2を用いれば、半導体チップ2で発生した熱がこのシリ
コーン樹脂22を介して放熱板13に伝導するので、放
熱性が一段と向上する。尚、シリコーン樹脂の代わりに
熱伝導率の優れた可撓性接着剤を用いれば、微細フィラ
ーを分散させなくても放熱性を向上させることができ
る。また、図5(B)では半導体チップ2のバンプ電極
21の付近にシリコーン樹脂22を供給して放熱板13
との接着を行っているが、半導体チップ2の上面2aの
中央部にシリコーン樹脂22を供給してもよい。
【0022】また、この実施の形態4では、半導体チッ
プ2の下面2bにハンダあるいは導電性接着剤9を介し
て導電性キャップ8が接合されている。導電性キャップ
8は、その周縁部にフランジ8aを有しており、このフ
ランジ8aがテープ基材1の下面に接合されている。こ
の導電性キャップ8は、例えば0.1mm厚の鉄・ニッ
ケル合金製シートを絞り加工した後、銀メッキすること
により形成され、半導体チップ2の下面2b及びテープ
基材1の下面に接合された状態で金型内に搬入され、樹
脂の注入が行われる。このため、樹脂注入時にその注入
圧により半導体チップ2が位置すれを起こすこともな
く、信頼性の高い半導体装置が得られる。また、導電性
キャップ8は、半導体チップ2の下面2bに電位を与え
る必要がある場合には、そのリードの役目をなす。さら
に、導電性キャップ8で半導体チップ2の下面2bを覆
うため、半導体チップ2とパッケージ本体10との境界
部からの水分の侵入が防止され、信頼性の向上がなされ
る。また、動作中に半導体チップ2内で発生した熱は半
導体チップ2の下面2bから導電性キャップ8を介して
外部に放出される。
【0023】実施の形態5.この発明の実施の形態5を
図6(A)及び(B)に示す。この実施の形態は、導電
性キャップ8の下面側にもパッケージ本体10を形成す
る樹脂が供給されたタイプの半導体装置に放熱板13の
装着を適用したものである。この場合にも、放熱板13
を設けたことにより、半導体チップ2の上面2aからの
放熱性が改善される。
【0024】実施の形態6.この発明の実施の形態6を
図7(A)及び(B)に示す。この実施の形態では、放
熱板33の側面33cに沿って溝33dが形成されてい
る。このような溝33dを設けることにより、放熱板3
3とパッケージ本体10との接着性が向上するので、信
頼性の高い半導体装置が得られる。
【0025】実施の形態7.また、溝の代わりに、図8
(A)及び(B)に示す実施の形態7のように、放熱板
43の周縁部にこれを上下に貫通する貫通孔43eを形
成することもできる。この場合、上述した実施の形態2
と同様にパッケージ本体10を構成する樹脂を放熱板4
3の上面43aの周縁部上にまで供給し、放熱板43の
貫通孔43e内に樹脂を充填する。これにより、放熱板
43とパッケージ本体10との接着性は極めて高くな
る。
【0026】実施の形態8.この他、放熱板とパッケー
ジ本体10との接着性を高める方法として、図9(A)
及び(B)に示す実施の形態8のように放熱板53の側
面53cに沿ってフランジ53fを形成することもでき
る。
【0027】実施の形態9.また、図10(A)及び
(B)に示す実施の形態9のように放熱板63の側面6
3cに沿ってフランジ63fを形成すると共にこのフラ
ンジ63fに適宜貫通孔63eを設けても、放熱板とパ
ッケージ本体10との接着性を高めることができる。さ
らに、図示しないが、放熱板に凹凸を設けたり、ディン
プル(くぼみ)を形成しても同様の効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施の形態1に係る半導体装置を示
し、(A)は半導体装置の斜視図、(B)は半導体装置
の断面図、(C)及び(D)はそれぞれ半導体装置の樹
脂射止工程を示す断面図である。
【図2】実施の形態1の半導体装置を示し、(A)〜
(C)はそれぞれ半導体装置に生じる反りを説明するた
めの一部破断正面図である。
【図3】実施の形態2に係る半導体装置を示し、(A)
は斜視図、(B)は断面図である。
【図4】実施の形態3に係る半導体装置を示し、(A)
は斜視図、(B)は断面図である。
【図5】実施の形態4に係る半導体装置を示し、(A)
は斜視図、(B)は断面図である。
【図6】実施の形態5に係る半導体装置を示し、(A)
は斜視図、(B)は断面図である。
【図7】実施の形態6に係る半導体装置を示し、(A)
は斜視図、(B)は断面図である。
【図8】実施の形態7に係る半導体装置を示し、(A)
は斜視図、(B)は断面図である。
【図9】実施の形態8に係る半導体装置を示し、(A)
は斜視図、(B)は断面図である。
【図10】実施の形態9に係る半導体装置を示し、
(A)は斜視図、(B)は断面図である。
【図11】半導体チップが搭載されたテープキャリアを
示し、(A)は平面図、(B)は断面図である。
【図12】従来の半導体装置を示し、(A)は斜視図、
(B)は一部破断正面図である。
【図13】従来の他の半導体装置を示し、(A)は斜視
図、(B)は断面図である。
【符号の説明】
1 テープ基材、2 半導体チップ、7 リード、8
導電性キャップ、10パッケージ本体、13 放熱板、
21 バンプ電極。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 御秡如 英也 伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電機株式会 社北伊丹製作所内 (72)発明者 関 博司 伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電機株式会 社北伊丹製作所内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 その上面に複数の電極が形成された半導
    体チップと、 それぞれ一端部が前記半導体チップの対応する電極に接
    続された複数のリードと、 前記半導体チップの上面と対向するように配置されると
    共にその端縁が前記半導体チップの端縁上またはその外
    側に位置する放熱板と、 前記放熱板の上面、前記複数のリードの他端部及び前記
    半導体チップの下面が外部に露出するように前記半導体
    チップを封止するパッケージ本体とを備えた半導体装
    置。
JP8116509A 1996-05-10 1996-05-10 半導体装置 Expired - Lifetime JP2598251B2 (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013179186A (ja) * 2012-02-28 2013-09-09 Sumitomo Electric Ind Ltd リアクトル、リアクトル用部品、コンバータ、及び電力変換装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013179186A (ja) * 2012-02-28 2013-09-09 Sumitomo Electric Ind Ltd リアクトル、リアクトル用部品、コンバータ、及び電力変換装置

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