JPH08274052A - 板状物の洗浄方法および装置 - Google Patents

板状物の洗浄方法および装置

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JPH08274052A
JPH08274052A JP9990195A JP9990195A JPH08274052A JP H08274052 A JPH08274052 A JP H08274052A JP 9990195 A JP9990195 A JP 9990195A JP 9990195 A JP9990195 A JP 9990195A JP H08274052 A JPH08274052 A JP H08274052A
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Japan
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wafer
pure water
cleaning
air
nozzle
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JP9990195A
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Masaru Shimizu
勝 清水
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Hitachi Ltd
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
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Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd
Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ウエハに対する洗浄効率を向上する。 【構成】 ウエハ1を真空吸着保持して回転させる洗浄
台11の上には複数本の回転アーム19が放射状に組ま
れた状態で回転するように支持アーム14に支持されて
おり、各回転アーム19には純水噴射ノズル21とエア
噴射ノズル22が複数個ずつ、一列かつ交互に並べられ
て直角方向下向きに装備されている。 【効果】 純水噴射ノズル21、エア噴射ノズル22か
ら純水26、エア27をウエハ1の被洗浄面である表面
に噴射してウエハ1の表面に付着した異物を純水26、
エア27の洗浄作用の相剰効果により効率的に洗い落と
せるため、ウエハ1の表面を効果的に洗浄できる。ウエ
ハ1、回転アーム19を正逆方向に回転させることによ
り、ウエハ1の表面全体に純水26およびエア27を万
遍なく作用できるため、ウエハ1の表面全体を均一に洗
浄できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、板状物の洗浄技術、特
に、半導体ウエハを洗浄する技術に関し、例えば、半導
体装置の製造工場において、ダイシング後の半導体ウエ
ハを洗浄するのに利用して有効な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造工場において、ダイシ
ング後の半導体ウエハ(以下、ウエハという。)の表面
にはシリコン屑やウエハシートの屑、ダイヤモンド・ブ
レードの塗粒等(以下、異物という。)が付着している
ため、ダイシング後のウエハは洗浄されるのが一般的で
ある。
【0003】このようなウエハの洗浄装置として、水平
面内で揺動するアームに垂直方向下向きに純水を噴射す
るノズルを備えており、水平面内で一方向に回転される
ウエハにアームを往復揺動させながらノズルから純水を
噴射することにより、ウエハに付着した異物を洗い流す
ように構成されているものがある。
【0004】なお、ダイシング後のウエハの洗浄技術を
述べてある例としては、株式会社サイエンスフォーラム
発行「最新半導体工場自動化システム総合技術集成」昭
和59年7月25日発行 P134〜P139、があ
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
た従来のウエハ洗浄装置においては、純水の噴射による
洗浄効率が低いため、洗浄時間が長くなり、また、洗浄
時間が不足する場合にはウエハに異物が残ってしまうと
いう問題点がある。
【0006】本発明の目的は、洗浄効率を向上すること
ができる板状物の洗浄技術を提供することにある。
【0007】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0008】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通り
である。
【0009】すなわち、板状物の被洗浄面に洗浄液と洗
浄ガスとを同時にまたは交互にそれぞれ噴射することを
特徴とする。
【0010】
【作用】前記した手段によれば、被洗浄面に洗浄液と洗
浄ガスとが作用するため、純水だけの洗浄に比べて被洗
浄面に付着した異物を確実に洗浄することができる。
【0011】
【実施例】図1は本発明の一実施例であるウエハの洗浄
装置を示しており、(a)は斜視図、(b)は正面断面
図である。図2(a)は回転アームの取付部を示す拡大
部分斜視図、(b)はノズルの取付部を示す拡大した一
部切断斜視図である。
【0012】本実施例において、本発明に係る板状物の
洗浄装置は、ダイシング後のウエハを洗浄するウエハの
洗浄装置10として構成されている。被洗浄板状物とし
てのウエハ1にはダイシングされたペレット2群がばら
ばらになるのを防止するためのシート4が、被洗浄面で
ある半導体集積回路が作り込まれた側の主面(以下、表
面という。)3と反対側の主面(以下、裏面という。)
に粘着されている。
【0013】このウエハの洗浄装置10は洗浄台11を
備えており、洗浄台11は被洗浄物としてのダイシング
後のウエハ1におけるシート4の裏面を真空吸着保持し
て一方向に回転させ得るるように構成されている。洗浄
台11の片脇にはねじ式ジャッキや流体圧式ジャッキ等
から構成されている昇降駆動装置12が設備されてお
り、昇降駆動装置12は昇降台13を垂直方向に昇降さ
せるように構成されている。昇降台13には支持アーム
14の一端(以下、後端とする。)が固定されており、
支持アーム14は水平に支持されてその前端部が洗浄台
11の回転中心の真上に配置されている。
【0014】支持アーム14の前端部には軸受装置15
が設備されており、軸受装置15には回転軸17が垂直
方向に延在するように配されて回転自在に支承されてい
る。また、軸受装置15の上には電動モータや流体圧モ
ータ等から構成された回転駆動装置16が設備されてお
り、この回転駆動装置16は回転軸17を回転駆動する
ように構成されている。回転軸17の下端部は五角柱形
状に形成されており、5枚の側面には軸受穴18が水平
に開設されている。回転軸17には5本の回転アーム1
9が水平面内で回転軸17の中心を起点として放射状に
配置されて、垂直面内で回動自在に支持されている。す
なわち、図2(a)に示されているように、各回転アー
ム19の基端部に形成された軸部20が各軸受穴18に
回動自在に嵌合されて、垂直面内で回動自在に支承され
ている。したがって、各回転アーム19は垂直軸に対す
る角度をそれぞれ変更調節可能に回転軸17に取り付け
られている。
【0015】各回転アーム19は断面が長方形の棒形状
に形成されており、その下面には複数個の純水噴射ノズ
ル21と複数個のエア噴射ノズル22が長さ方向に一列
に、かつ、交互に並べられて、直角方向下向きにそれぞ
れ装備されている。洗浄液噴射ノズルとしての純水噴射
ノズル21には回転アーム19の内部に配管された純水
供給路23がそれぞれ流体連結されており、同様に、洗
浄ガス噴射ノズルとしてのエア噴射ノズル22にはエア
供給路24がそれぞれ流体連結されている。また、図2
(b)に示されているように、各純水噴射ノズル21お
よび各エア噴射ノズル22は回転アーム19に球面継手
部25によって結合されることにより、その噴射角度を
三次元方向に変更調節可能に構成されている。
【0016】次に、前記構成に係るウエハの洗浄装置1
0による本発明の一実施例であるウエハの洗浄方法につ
いて説明する。
【0017】被洗浄物としてのダイシング後のウエハ1
は洗浄台11にシート4の裏面を真空吸着されて保持さ
れる。続いて、ウエハ1は洗浄台11によって一方向に
回転される。
【0018】一方、放射状に組まれた回転アーム19群
はウエハ1の回転中心線上において、回転駆動装置16
によってウエハ1の回転方向と逆方向に回転される。ま
た、昇降駆動装置12によって昇降台13が昇降される
ことにより、放射状に組まれた回転アーム19群が全体
的に昇降される。この回転作動および昇降作動と同時
に、純水供給路23から純水噴射ノズル21に洗浄液と
しての純水26が供給されて、純水噴射ノズル21から
純水26がウエハ1の被洗浄面である表面3に噴射され
る。また、エア供給路24から洗浄ガスとしてのエア2
7がエア噴射ノズル22に供給されて、エア噴射ノズル
22からエア27がウエハ1の表面に噴射される。
【0019】この際、各純水噴射ノズル21および各エ
ア噴射ノズル22は純水26およびエア27を回転径方
向に拡がる扇形状にそれぞれ噴射させることにより、ウ
エハ1の表面の径方向全体に純水26およびエア27を
それぞれ噴射させる。また、各純水噴射ノズル21およ
び各エア噴射ノズル22の回転アーム19に対する傾斜
角度が三次元的に調節されることにより、各ノズル21
および22同士の相対関係が適宜に調節される。さら
に、各回転アーム19の回転周方向に対する傾斜角度が
回転速度に対応して調節されることにより、純水26お
よびエア27がウエハ1に対して回転方向に向かうよう
にそれぞれ噴射される。
【0020】以上のようにしてウエハ1および放射状に
組まれた回転アーム19群が同軸上において正逆方向に
回転されながら、かつ、回転アーム19群が全体的に昇
降されながら、各純水噴射ノズル21および各エア噴射
ノズル22から純水26およびエア27がウエハ1の表
面にそれぞれ噴射されると、ウエハ1の表面に付着した
異物(図示せず)は純水26およびエア27の洗浄作用
の相剰効果により効率的に洗い落とされるため、ウエハ
1の表面はきわめて効果的に洗浄される。
【0021】前記実施例によれば次の効果が得られる。 (1) 複数本の純水噴射ノズル21および複数本のエ
ア噴射ノズル22から純水26およびエア27をウエハ
1の被洗浄面である表面にそれぞれ噴射させることによ
り、ウエハ1の表面に付着した異物を純水26およびエ
ア27の洗浄作用の相剰効果により効率的に洗い落とす
ことができるため、ウエハ1の表面をきわめて効果的に
洗浄することができる。
【0022】(2) 被洗浄物であるウエハ1および放
射状に組まれた回転アーム19群を同軸上において正逆
方向に回転させながら、純水噴射ノズル21およびエア
噴射ノズル22から純水26およびエア27をウエハ1
の被洗浄面である表面にそれぞれ噴射させることによ
り、ウエハ1の表面全体に純水26およびエア27を万
遍なく作用させることができるため、ウエハ1の表面全
体を均一に洗浄することができる。
【0023】(3) 放射状に組まれた回転アーム19
群を全体的に昇降させながら、純水噴射ノズル21およ
びエア噴射ノズル22から純水26およびエア27をウ
エハ1の表面にそれぞれ噴射させることにより、純水2
6およびエア27のウエハ1に対する噴射力を増減変化
させることができるため、純水26およびエア27の噴
射力による洗浄作用をより一層高めることができる。
【0024】(4) 逆方向に回転される各回転アーム
19の回転軸17に対する取付傾斜角度を変更調節可能
に構成することにより、各純水噴射ノズル21および各
エア噴射ノズル22から純水26およびエア27を正回
転するウエハ1に対して回転方向に向かうようにそれぞ
れ噴射させることができるため、純水26およびエア2
7のウエハ1に対する噴射による洗浄効率をより一層高
めることができる。
【0025】(5) 各純水噴射ノズル21および各エ
ア噴射ノズル22の回転アーム19に対する取付傾斜角
度を変更調節可能に構成することにより、純水噴射ノズ
ル21およびエア噴射ノズル22同士の相対関係を適宜
に調節することができるため、最適の噴射状態を選定す
ることができ、純水26およびエア27のウエハ1に対
する噴射による洗浄効率をより一層高めることができ
る。
【0026】図3は本発明の実施例2であるウエハの洗
浄装置を示しており、(a)は斜視図、(b)は正面断
面図である。図4(a)はノズルを示す正面断面図、
(b)はその作用を説明するための正面断面図である。
【0027】本実施例2が前記実施例1と異なる点は、
洗浄液としての純水および洗浄ガスとしてのエアの噴射
形態にある。すなわち、昇降台13には伸縮アーム31
がその後端を固定されて水平に支持されており、伸縮ア
ーム31は昇降台13に対して伸縮作動することによ
り、その前端を洗浄台11の回転中心の真上に対して変
位するようになっている。伸縮アーム31の自由端部の
下面には純水およびエア兼用噴射ノズル(以下、兼用ノ
ズルという。)32が直角方向下向きに装備されてお
り、兼用ノズル32は伸縮アーム31に球面継手部33
によって結合されることにより、その噴射角度を三次元
方向に変更調節可能に構成されている。
【0028】さらに、兼用ノズル32の噴射口34はそ
の内周面を円錐形状部35に形成されるとともに、円錐
形状の噴射形態制御体36が配置されることにより、純
水およびエアを円錐筒形状に噴射し得るように構成され
ている。噴射形態制御体36は噴射口34の中心線上に
進退自在に配置されたロッド37に支持されており、ロ
ッド37は伸縮アーム31の上面に設備されたシリンダ
装置等の往復直線運動駆動装置38によって進退駆動さ
れるようになっている。兼用ノズル32の噴射口34に
は伸縮アーム31の内部に開設された純水およびエア兼
用供給路(以下、兼用供給路という。)39が接続され
ており、兼用供給路39は純水供給源およびエア供給源
に切換弁(いずれも図示せず)を介して交互に流体連結
されるようになっている。
【0029】次に、前記構成に係るウエハの洗浄装置1
0による本発明の一実施例であるウエハの洗浄方法につ
いて説明する。
【0030】被洗浄物としてのダイシング後のウエハ1
は洗浄台11にシート4の裏面を真空吸着されて保持さ
れる。続いて、ウエハ1は洗浄台11によって一方向に
回転される。
【0031】一方、各伸縮アーム31は兼用ノズル32
がウエハ1の回転中心の真上に通過するように伸縮駆動
装置(図示せず)によって繰り返し伸縮作動される。兼
用ノズル32がウエハ1の回転中心の真上に通って往復
移動されると、昇降台13が昇降駆動装置12によって
昇降されながら、兼用ノズル32に兼用供給路39から
洗浄液としての純水26および洗浄ガスとしてのエア2
7が交互に供給されて噴射口34からウエハ1の表面に
噴射される。
【0032】この際、図4に示されているように、噴射
形態制御体36が往復直線運動駆動装置38によってロ
ッド37を介して上昇作動される。この制御体36の上
昇作動により、噴射口34から交互に噴射される純水2
6およびエア27の円錐筒形状の頂角が小から大へ連続
的に変更するため、純水26およびエア27のウエハ1
に対する噴射点の軌跡は図3(b)に示されているよう
に、ウエハ1の中央から周辺部へ次第に移動して行く状
態になり、ウエハ1の表面に付着した異物は外側へと押
し出される状態になる。この噴射点の移動は昇降台13
の昇降作動による兼用ノズル32の昇降作動によって助
長される。
【0033】純水26およびエア27の円錐筒形状のウ
エハ1に対する傾きは、兼用ノズル32の伸縮アーム3
1に対する取付傾斜角度を球面継手部33を起点として
変更調節することにより、適宜に調整することができ
る。
【0034】以上のようにして兼用ノズル32から純水
26およびエア27が交互にかつ噴射点を連続的に移行
されながら、回転するウエハ1の表面に交互に噴射され
ると、ウエハ1の表面に付着した異物(図示せず)は純
水26およびエア27の洗浄作用の相剰効果および移動
による押し出し作用によって効率的に洗い落とされるた
め、ウエハ1の被洗浄面である表面はきわめて効果的に
洗浄される。
【0035】前記実施例2によれば次の効果が得られ
る。 (1) 兼用ノズル32から純水26およびエア27を
ウエハ1の被洗浄である表面に交互に噴射させることに
より、ウエハ1の表面に付着した異物を純水26および
エア27の洗浄作用の相剰効果により効率的に洗い落と
すことができるため、ウエハ1の表面をきわめて効果的
に洗浄することができる。
【0036】(2) 兼用ノズル32から純水26およ
びエア27をウエハ1への噴射点を連続的に移行させな
がらウエハ1の表面に噴射させることにより、ウエハ1
の表面に付着した異物を純水26およびエア27の洗浄
作用および移動による押し出し作用によって効率的に洗
い落とすことができるため、ウエハ1の表面をより一層
効果的に洗浄することができる。
【0037】(3) 兼用ノズル32を昇降させながら
ウエハ1の中心の真上を進退移動させ、かつ、ウエハ1
を回転させながら、兼用ノズル32から純水26および
エア27をウエハ1の表面に噴射させることにより、純
水26およびエア27のウエハ1に対する噴射力を増減
させることができるとともに、ウエハ1の表面全体に純
水26およびエア27を万遍なく作用させることができ
るため、ウエハ1の表面全体を均一に洗浄することがで
きる。
【0038】(4) 純水26およびエア27の円錐筒
形状のウエハ1に対する傾きを兼用ノズル32の伸縮ア
ーム31に対する取付傾斜角度を球面継手部33を起点
として変更調節することにより、適宜に調整することが
できるため、ウエハ1の汚染状況に応じて洗浄条件を適
宜変更することができる。
【0039】図5は本発明の実施例3であるウエハの洗
浄装置を示しており、(a)は斜視図、(b)は正面断
面図である。
【0040】本実施例3は前記実施例2の変形例であ
り、本実施例3が前記実施例2と異なる点は、純水噴射
ノズル40およびエア噴射ノズル41がそれぞれ専用的
に装備されている点にある。
【0041】本実施例3によれば、純水噴射ノズル40
とエア噴射ノズル41とから純水26およびエア27を
同時にまたは交互に噴射させることができるため、洗浄
効率をより一層高めることができる。
【0042】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。
【0043】洗浄液としては純水を使用するに限らず、
比抵抗を下げるための炭酸ガスを混入した純水や、界面
活性剤を混入した純水等を使用してもよい。また、洗浄
ガスとしてはエアを使用するに限らず、除電ガス(ウエ
ハの静電気を除去するガス)や窒素ガス等を使用しても
よい。
【0044】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるダイシ
ング後のウエハの洗浄技術に適用した場合について説明
したが、それに限定されるものではなく、ダイシング工
程以外の工程におけるウエハの洗浄技術全般、さらに、
液晶パネルやプリント配線基板等のウエハ以外の板状物
の洗浄技術全般に適用することができる。
【0045】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。
【0046】洗浄液および洗浄ガスを板状物の被洗浄面
に噴射することにより、被洗浄面に付着した異物を洗浄
液および洗浄ガスの洗浄作用の相剰効果により効率的に
洗い落とすことができるため、被洗浄面をきわめて効果
的に洗浄することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例であるウエハの洗浄装置を示
しており、(a)は斜視図、(b)は正面断面図であ
る。
【図2】(a)は回転アームの取付部を示す拡大部分斜
視図、(b)はノズルの取付部を示す拡大した一部切断
斜視図である。
【図3】本発明の実施例2であるウエハの洗浄装置を示
しており、(a)は斜視図、(b)は正面断面図であ
る。
【図4】(a)は兼用ノズルを示す正面断面図、(b)
はその作用を説明するための正面断面図である。
【図5】本発明の実施例3であるウエハの洗浄装置を示
しており、(a)は斜視図、(b)は正面断面図であ
る。
【符合の説明】
1…ウエハ(被洗浄板状物)、2…ペレット、3…被洗
浄面(表面)、4…シート、10…ウエハの洗浄装置
(板状物の洗浄装置)、11…洗浄台、12…昇降駆動
装置、13…昇降台、14…支持アーム、15…軸受装
置、16…回転駆動装置、17…回転軸、18…軸受
穴、19…回転アーム、20…軸部、21…純水噴射ノ
ズル(洗浄液噴射ノズル)、22…エア噴射ノズル(洗
浄ガス噴射ノズル)、23…純水供給路、24…エア供
給路、25…球面継手部、26…純水(洗浄液)、27
…エア(洗浄ガス)、31…伸縮アーム、32…純水お
よびエア兼用噴射ノズル、33…球面継手部、34…ノ
ズル噴射口、35…円錐形状部、36…噴射形態制御
体、37…ロッド、38…往復直線運動駆動装置、39
…純水およびエア兼用供給路、40…純水噴射ノズル
(洗浄液噴射ノズル)、41…エア噴射ノズル(洗浄ガ
ス噴射ノズル)。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 板状物の被洗浄面に洗浄液と洗浄ガスと
    を同時にまたは交互にそれぞれ噴射することを特徴とす
    る板状物の洗浄方法。
  2. 【請求項2】 洗浄液噴射ノズルと洗浄ガス噴射ノズル
    とを備えていることを特徴とする板状物の洗浄装置。
  3. 【請求項3】 洗浄液と洗浄ガスとを交互に噴射する兼
    用噴射ノズルを備えていることを特徴とする板状物の洗
    浄装置。
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