JPH08269263A - ポリプロピレン系樹脂組成物及び成形品 - Google Patents

ポリプロピレン系樹脂組成物及び成形品

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JPH08269263A
JPH08269263A JP8015500A JP1550096A JPH08269263A JP H08269263 A JPH08269263 A JP H08269263A JP 8015500 A JP8015500 A JP 8015500A JP 1550096 A JP1550096 A JP 1550096A JP H08269263 A JPH08269263 A JP H08269263A
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polypropylene
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寛 宮田
Masayuki Yamaguchi
政之 山口
Kenichi Suzuki
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐寒性、耐白化性に優れたポリプロピレン系
樹脂組成物及び成形品を提供する。 【解決手段】 PP系樹脂(A)70〜99.9重量
%、下記(a)〜(d)の性状を有するエチレン/α−
オレフィン共重合体エラストマー(B)30〜0.1重
量%からなるPP系樹脂組成物。 (a)α−オレフィンがC4〜C20、(b)α−オレフ
ィン含量が65〜95重量%、(c)密度が0.88g
/cm3未満、(d)結晶融解ピークが観測されない

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ポリプロピレン系
樹脂組成物に関するものであり、詳しくは耐寒性、衝撃
時の耐白化性に優れたポリプロピレン系樹脂組成物及び
その成形品に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ポリプロピレン系樹脂(PP)は、耐寒
性、耐衝撃性、透明性、柔軟性改善の目的で、エチレン
/プロピレン系エラストマー(EPR)に代表されるエ
ラストマーをブレンドする手法がよく知られている。例
えば、エチレン/プロピレン共重合体を加える方法(特
公昭35−7088号公報)、エチレン含有率75乃至
30モル%のエチレン/ブテン−1共重合体を加える方
法(特公昭38−7240号公報、特公昭43−245
26号公報等が挙げられる。しかしながら、これらの方
法では耐衝撃性は改良されるものの、機械的特性、透明
性が悪化するなどの問題があった。また、透明性、耐衝
撃性の良好なポリプロピレン組成物を得る方法として、
ポリプロピレンに特定のエチレン/α−オレフィン共重
合体を加える方法が開示されている(特開昭52−72
744号公報)。
【0003】最近でも、メタロセン系の化合物により得
られたエチレン/α−オレフィンエラストマーをポリプ
ロピレンに少量添加し、耐衝撃性、透明性を改善する方
法が開示されている(特開昭62−121709号公
報、特開平6−192500号公報、特開平6−339
920号公報)。しかしながら、これらの方法で得られ
る組成物は、耐衝撃性、透明性、低温脆化性の面で優れ
るものの、衝撃が加わったときに白化が起こり、商品価
値が損なわれる等の問題があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】寒冷地での使用にも対
応するために、さらなる耐寒性の向上が望まれており、
PPのガラス転移温度低下への要求は極めて大きい。本
発明は、前記問題点を解決するためになされたものであ
り、衝撃時の耐白化性、耐寒性に優れたポリプロピレン
系樹脂組成物及びその成形品を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記目的を
達成するために鋭意検討を行った結果、本発明を完成す
るに至った。すなわち本発明は、ポリプロピレン系樹脂
(A)70〜99.9重量%、下記の(a)〜(d)の
要件を満たすエチレン/α−オレフィン共重合体エラス
トマー(B)30〜0.1重量%からなることを特徴と
するポリプロピレン系樹脂組成物及びその成型品に関す
るものである。
【0006】(a)α−オレフィンが炭素数4以上20
以下 (b)α−オレフィン含量が65重量%より多く95重
量%以下 (c)23℃における密度が0.88g/cm3未満 (d)DSC法により結晶融解ピークが観測されない 以下に、その詳細について説明する。
【0007】本発明において用いられるポリプロピレン
系樹脂(A)は、一般に使用されているものを用いるこ
とができる。例えば、プロピレン単独重合体、エチレン
含量が20〜70重量%のプロピレン/エチレンブロッ
ク共重合体、エチレン含量が0.5〜12重量%のプロ
ピレン/エチレンランダム共重合体、エチレン含量が
0.5〜12重量%,ブテン−1のようなα−オレフィ
ン含量が0.5〜20重量%のプロピレン/エチレン/
α−オレフィン三元共重合体等が挙げられる。また、プ
ロピレンの立体規則性がシンジオタクチック構造である
結晶性ポリプロピレン系樹脂を使用してもよい。
【0008】本発明において用いられるエチレン/α−
オレフィン共重合体エラストマー(B)のα−オレフィ
ンは炭素数4以上20以下のものであり、例えば、ブテ
ン−1、ペンテン−1、ヘキセン−1、4−メチル−ペ
ンテン−1、ヘプテン−1、オクテン−1、ノネン−
1、デセン−1、ウンデセン−1、ドデセン−1、トリ
デセン−1、テトラデセン−1、ペンタデセン−1、ヘ
キサデセン−1、ヘプタデセン−1、オクタデセン−
1、ノナデセン−1、エイコセン−1等が挙げられ、こ
れらの1種もしくは2種以上が用いられる。なかでも入
手が容易で、ポリプロピレン系樹脂と良好な相溶性を得
る上でブテン−1、ヘプテン−1、ヘキセン−1、オク
テン−1等が好ましい。
【0009】本発明において用いられるエチレン/α−
オレフィン系共重合体エラストマー(B)のα−オレフ
ィン含量は65重量%より多く95重量%以下、好まし
くは70重量%以上90重量%以下である。α−オレフ
ィン含量が65重量%以下では、ポリプロピレン系樹脂
(A)との相溶性が乏しく、耐白化性改良効果が小さく
なる。また、α−オレフィン含量が95重量%を越える
とエチレン/α−オレフィン共重合体エラストマーその
もののガラス転移温度が上昇し、樹脂組成物としたとき
の耐寒性改質効果が乏しくなる。また、好ましい範囲で
用いると耐白化性と耐寒性のバランスに優れた材料が得
られる。
【0010】本発明において用いられるエチレン/α−
オレフィン系共重合体エラストマー(B)の23℃にお
ける密度は、0.88g/cm3未満である。0.88
g/cm3以上のエチレン/α−オレフィン共重合体で
は耐白化性改質効果が乏しく、本発明の樹脂組成物を得
ることは困難である。
【0011】本発明において用いられるエチレン/α−
オレフィン系共重合体エラストマー(B)は、DSC法
により結晶融解ピークが観測されないことを特徴とす
る。結晶融解ピークを示すエチレン/α−オレフィン共
重合体を用いると耐白化性改質効果が乏しく、本発明の
樹脂組成物を得ることは困難である。
【0012】本発明において用いられるエチレン/α−
オレフィン系共重合体エラストマー(B)の分子量は特
に制限されるものではないが、ゲルパーミエーションク
ロマトグラフィー(GPC)によって測定した数平均分
子量がポリエチレン換算で5000〜1000000で
あることが好ましく、さらに好ましくは10000〜6
00000である。この数平均分子量が5000未満で
は、本発明の組成物の特性の改質効果が小さいととも
に、表面のべたつきの問題が生じることがあり、一方、
数平均分子量が1000000を越えると得られる組成
物の流動性が低下し、成形加工が困難となるおそれがあ
る。
【0013】本発明において用いられるエチレン/α−
オレフィン系共重合体エラストマーの分子量分布(Mw
/Mn)は特に制限はないが、3以下が好ましい。一般
に、分子量分布が大きくなると組成分布も大きくなるこ
とが知られている。組成分布が広いとエチレン/α−オ
レフィン系共重合体エラストマーとポリプロピレン系樹
脂との相溶性が悪くなり、本発明の樹脂組成物が得られ
にくくなる。組成分布の指標として、GPCにより分画
した高分子量留分10%中の平均α−オレフィン含量
(モル%)に対する低分子量留分10%中の平均α−オ
レフィン含量(モル%)の比を用いる。両者の比が0.
8以上1.2以下が好ましく、さらに好ましくは0.9
以上1.15以下である。
【0014】以上述べたエチレン/α−オレフィン系共
重合体エラストマーの製造方法は特に限定されず、チタ
ン系触媒、バナジウム系触媒またはメタロセン系の触媒
など種々の触媒を用いて製造することができる。なかで
も、上述の分子量、分子量分布及び組成分布を満たした
エチレン/α−オレフィン系共重合体エラストマーを得
ることが容易なメタロセン系の触媒を用いることが好ま
しい。
【0015】すなわち、(a)周期表4族の遷移金属を
含む遷移金属化合物、(b)これと反応してイオン性の
錯体を形成する化合物、さらに必要に応じて(c)有機
金属化合物からなる触媒の存在下で、エチレンとα−オ
レフィンを共重合することによりエチレン/α−オレフ
ィン系共重合体エラストマーを製造することができる。
【0016】本発明において用いられる(a)周期表4
族の遷移金属を含む遷移金属化合物としては、下記一般
式(1)または(2)
【0017】
【化1】
【0018】
【化2】
【0019】[式中、M1はチタン原子、ジルコニウム
原子またはハフニウム原子であり、Yは各々独立して水
素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜24のアルキル基ま
たは炭素数6〜24のアリール基、アリールアルキル基
もしくはアルキルアリール基であり、R1,R2は各々
独立して下記一般式(3)、(4)、(5)または
(6)
【0020】
【化3】
【0021】(式中、R6は各々独立して水素原子、炭
素数1〜24のアルキル基または炭素数6〜24のアリ
ール基、アリールアルキル基もしくはアルキルアリール
基である。)で表される配位子であり、該配位子はM1
と一緒にサンドイッチ構造を形成し、R3,R4は各々
独立して下記一般式(7)、(8)、(9)または(1
0)
【0022】
【化4】
【0023】(式中、R7は各々独立して水素原子、炭
素数1〜24のアルキル基または炭素数6〜24のアリ
ール基、アリールアルキル基もしくはアルキルアリール
基である。)で表される配位子であり、該配位子はM1
と一緒にサンドイッチ構造を形成し、R5は下記一般式
(11)または(12)
【0024】
【化5】
【0025】(式中、R8は各々独立して水素原子、炭
素数1〜24のアルキル基または炭素数6〜24のアリ
ール基、アリールアルキル基もしくはアルキルアリール
基であり、M2は珪素原子、ゲルマニウム原子または錫
原子である。)で表され、R3およびR4を架橋するよ
うに作用しており、mは1〜5の整数である。]で表さ
れる周期表4族の遷移金属化合物、または、下記一般式
(13)、(14)、(15)または(16)
【0026】
【化6】
【0027】[式中、M3は各々独立してチタン原子、
ジルコニウム原子またはハフニウム原子であり、Zは各
々独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜24の
アルキル基または炭素数6〜24のアリール基、アリー
ルアルキル基もしくはアルキルアリール基であり、Lは
ルイス塩基であり、wは0≦w≦3であり、JR9q-1
JR9q-2はヘテロ原子配位子であり、Jは配位数が3であ
る15族元素または配位数が2である16族元素であ
り、R9は各々独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素
数1〜24のアルキル基もしくはアルコキシ基、または
炭素数6〜24のアリール基、アリールオキシ基、アリ
ールアルキル基、アリールアルコキシ基、アルキルアリ
ール基もしくはアルキルアリールオキシ基であり、qは
元素Jの配位数であり、R10は下記一般式(17)、
(18)、(19)または(20)
【0028】
【化7】
【0029】(式中、R13は各々独立して水素原子、
炭素数1〜24のアルキル基または炭素数6〜24のア
リール基、アリールアルキル基もしくはアルキルアリー
ル基である。)で表される配位子であり、R12は下記
一般式(21)、(22)、(23)または(24)
【0030】
【化8】
【0031】(式中、R14は各々独立して水素原子、
炭素数1〜24のアルキル基または炭素数6〜24のア
リール基、アリールアルキル基もしくはアルキルアリー
ル基である。)で表され、M3に配位する配位子であ
り、R11は下記一般式(25)または(26)
【0032】
【化9】
【0033】(式中、R15は各々独立して水素原子、
炭素数1〜24のアルキル基または炭素数6〜24のア
リール基、アリールアルキル基もしくはアルキルアリー
ル基であり、M4は珪素原子、ゲルマニウム原子または
錫原子である。)で表され、R12およびJR9q-2
架橋するように作用しており、rは1〜5の整数であ
る。]で表される周期表4族の遷移金属化合物である。
【0034】前記一般式(1)または(2)で表される
化合物としては、例えば、ビス(シクロペンタジエニ
ル)チタニウムジクロライド、ビス(シクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロライド、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ハフニウムジクロライド、ビス(メチルシク
ロペンタジエニル)チタニウムジクロライド、ビス(メ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライ
ド、ビス(メチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジ
クロライド、ビス(ブチルシクロペンタジエニル)チタ
ニウムジクロライド、ビス(ブチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライド、ビス(ブチルシクロペ
ンタジエニル)ハフニウムジクロライド、ビス(ペンタ
メチルシクロペンタジエニル)チタニウムジクロライ
ド、ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロライド、ビス(ペンタメチルシクロペンタ
ジエニル)ハフニウムジクロライド、ビス(インデニ
ル)チタニウムジクロライド、ビス(インデニル)ジル
コニウムジクロライド、ビス(インデニル)ハフニウム
ジクロライド、メチレンビス(シクロペンタジエニル)
チタニウムジクロライド、メチレンビス(シクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロライド、メチレンビス
(シクロペンタジエニル)ハフニウムジクロライド、メ
チレンビス(メチルシクロペンタジエニル)チタニウム
ジクロライド、メチレンビス(メチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロライド、メチレンビス(メチ
ルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロライド、メ
チレンビス(ブチルシクロペンタジエニル)チタニウム
ジクロライド、メチレンビス(ブチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロライド、メチレンビス(ブチ
ルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロライド、メ
チレンビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)チタ
ニウムジクロライド、メチレンビス(テトラメチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、メチレ
ンビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)ハフニウ
ムジクロライド、エチレンビス(インデニル)チタニウ
ムジクロライド、エチレンビス(インデニル)ジルコニ
ウムジクロライド、エチレンビス(インデニル)ハフニ
ウムジクロライド、エチレンビス(テトラヒドロインデ
ニル)チタニウムジクロライド、エチレンビス(テトラ
ヒドロインデニル)ジルコニウムジクロライド、エチレ
ンビス(テトラヒドロインデニル)ハフニウムジクロラ
イド、エチレンビス(2−メチル−1−インデニル)チ
タニウムジクロライド、エチレンビス(2−メチル−1
−インデニル)ジルコニウムジクロライド、エチレンビ
ス(2−メチル−1−インデニル)ハフニウムジクロラ
イド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル−9−
フルオレニル)チタニウムジクロライド、イソプロピリ
デン(シクロペンタジエニル−9−フルオレニル)ジル
コニウムジクロライド、イソプロピリデン(シクロペン
タジエニル−9−フルオレニル)ハフニウムジクロライ
ド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル−2,7
−ジメチル−9−フルオレニル)チタニウムジクロライ
ド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル−2,7
−ジメチル−9−フルオレニル)ジルコニウムジクロラ
イド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル−2,
7−ジメチル−9−フルオレニル)ハフニウムジクロラ
イド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル−2,
7−ジ−t−ブチル−9−フルオレニル)チタニウムジ
クロライド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル
−2,7−ジ−t−ブチル−9−フルオレニル)ジルコ
ニウムジクロライド、イソプロピリデン(シクロペンタ
ジエニル−2,7−ジ−t−ブチル−9−フルオレニ
ル)ハフニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(シ
クロペンタジエニル−9−フルオレニル)チタニウムジ
クロライド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニ
ル−9−フルオレニル)ジルコニウムジクロライド、ジ
フェニルメチレン(シクロペンタジエニル−9−フルオ
レニル)ハフニウムジクロライド、ジフェニルメチレン
(シクロペンタジエニル−2,7−ジメチル−9−フル
オレニル)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレ
ン(シクロペンタジエニル−2,7−ジメチル−9−フ
ルオレニル)ジルコニウムジクロライド、ジフェニルメ
チレン(シクロペンタジエニル−2,7−ジメチル−9
−フルオレニル)ハフニウムジクロライド、ジフェニル
メチレン(シクロペンタジエニル−2,7−ジ−t−ブ
チル−9−フルオレニル)チタニウムジクロライド、ジ
フェニルメチレン(シクロペンタジエニル−2,7−ジ
−t−ブチル−9−フルオレニル)ジルコニウムジクロ
ライド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル−
2,7−ジ−t−ブチル−9−フルオレニル)ハフニウ
ムジクロライド、ジメチルシランジイルビス(シクロペ
ンタジエニル)チタニウムジクロライド、ジメチルシラ
ンジイルビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
クロライド、ジメチルシランジイルビス(シクロペンタ
ジエニル)ハフニウムジクロライド、ジメチルシランジ
イルビス(メチルシクロペンタジエニル)チタニウムジ
クロライド、ジメチルシランジイルビス(メチルシクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、ジメチル
シランジイルビス(メチルシクロペンタジエニル)ハフ
ニウムジクロライド、ジメチルシランジイルビス(ブチ
ルシクロペンタジエニル)チタニウムジクロライド、ジ
メチルシランジイルビス(ブチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライド、ジメチルシランジイル
ビス(ブチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロ
ライド、ジメチルシランジイルビス(2,4,5−トリ
メチルシクロペンタジエニル)チタニウムジクロライ
ド、ジメチルシランジイルビス(2,4−ジメチルシク
ロペンタジエニル)チタニウムジクロライド、ジメチル
シランジイルビス(3−メチルシクロペンタジエニル)
チタニウムジクロライド、ジメチルシランジイルビス
(4−t−ブチル−2−メチルシクロペンタジエニル)
チタニウムジクロライド、ジメチルシランジイルビス
(テトラメチルシクロペンタジエニル)チタニウムジク
ロライド、ジメチルシランジイルビス(インデニル)チ
タニウムジクロライド、ジメチルシランジイルビス(2
−メチル−インデニル)チタニウムジクロライド、ジメ
チルシランジイルビス(テトラヒドロインデニル)チタ
ニウムジクロライド、ジメチルシランジイル(シクロペ
ンタジエニル−9−フルオレニル)チタニウムジクロラ
イド、ジメチルシランジイル(シクロペンタジエニル−
2,7−ジメチル−9−フルオレニル)チタニウムジク
ロライド、ジメチルシランジイル(シクロペンタジエニ
ル−2,7−ジ−t−ブチル−9−フルオレニル)チタ
ニウムジクロライド、ジメチルシランジイルビス(2,
4,5−トリメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロライド、ジメチルシランジイルビス(2,4−
ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロラ
イド、ジメチルシランジイルビス(3−メチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、ジメチルシ
ランジイルビス(4−t−ブチル−2−メチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、ジメチルシ
ランジイルビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロライド、ジメチルシランジイルビス
(インデニル)ジルコニウムジクロライド、ジメチルシ
ランジイルビス(2−メチル−インデニル)ジルコニウ
ムジクロライド、ジメチルシランジイルビス(テトラヒ
ドロインデニル)ジルコニウムジクロライド、ジメチル
シランジイル(シクロペンタジエニル−9−フルオレニ
ル)ジルコニウムジクロライド、ジメチルシランジイル
(シクロペンタジエニル−2,7−ジメチル−9−フル
オレニル)ジルコニウムジクロライド、ジメチルシラン
ジイル(シクロペンタジエニル−2,7−ジ−t−ブチ
ル−9−フルオレニル)ジルコニウムジクロライド、ジ
メチルシランジイルビス(2,4,5−トリメチルシク
ロペンタジエニル)ハフニウムジクロライド、ジメチル
シランジイルビス(2,4−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)ハフニウムジクロライド、ジメチルシランジイル
ビス(3−メチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジ
クロライド、ジメチルシランジイルビス(4−t−ブチ
ル−2−メチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジク
ロライド、ジメチルシランジイルビス(テトラメチルシ
クロペンタジエニル)ハフニウムジクロライド、ジメチ
ルシランジイルビス(インデニル)ハフニウムジクロラ
イド、ジメチルシランジイルビス(2−メチル−インデ
ニル)ハフニウムジクロライド、ジメチルシランジイル
ビス(テトラヒドロインデニル)ハフニウムジクロライ
ド、ジメチルシランジイル(シクロペンタジエニル−9
−フルオレニル)ハフニウムジクロライド、ジメチルシ
ランジイル(シクロペンタジエニル−2,7−ジメチル
−9−フルオレニル)ハフニウムジクロライド、ジメチ
ルシランジイル(シクロペンタジエニル−2,7−ジ−
t−ブチル−9−フルオレニル)ハフニウムジクロライ
ド、ジエチルシランジイルビス(2,4,5−トリメチ
ルシクロペンタジエニル)チタニウムジクロライド、ジ
エチルシランジイルビス(2,4−ジメチルシクロペン
タジエニル)チタニウムジクロライド、ジエチルシラン
ジイルビス(3−メチルシクロペンタジエニル)チタニ
ウムジクロライド、ジエチルシランジイルビス(4−t
−ブチル−2−メチルシクロペンタジエニル)チタニウ
ムジクロライド、ジエチルシランジイルビス(テトラメ
チルシクロペンタジエニル)チタニウムジクロライド、
ジエチルシランジイルビス(インデニル)チタニウムジ
クロライド、ジエチルシランジイルビス(2−メチル−
インデニル)チタニウムジクロライド、ジエチルシラン
ジイルビス(テトラヒドロインデニル)チタニウムジク
ロライド、ジエチルシランジイル(シクロペンタジエニ
ル−9−フルオレニル)チタニウムジクロライド、ジエ
チルシランジイル(シクロペンタジエニル−2,7−ジ
メチル−9−フルオレニル)チタニウムジクロライド、
ジエチルシランジイル(シクロペンタジエニル−2,7
−ジ−t−ブチル−9−フルオレニル)チタニウムジク
ロライド、ジエチルシランジイルビス(2,4,5−ト
リメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロラ
イド、ジエチルシランジイルビス(2,4−ジメチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、ジエ
チルシランジイルビス(3−メチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライド、ジエチルシランジイル
ビス(4−t−ブチル−2−メチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライド、ジエチルシランジイル
ビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロライド、ジエチルシランジイルビス(インデニ
ル)ジルコニウムジクロライド、ジエチルシランジイル
ビス(2−メチル−インデニル)ジルコニウムジクロラ
イド、ジエチルシランジイルビス(テトラヒドロインデ
ニル)ジルコニウムジクロライド、ジエチルシランジイ
ル(シクロペンタジエニル−9−フルオレニル)ジルコ
ニウムジクロライド、ジエチルシランジイル(シクロペ
ンタジエニル−2,7−ジメチル−9−フルオレニル)
ジルコニウムジクロライド、ジエチルシランジイル(シ
クロペンタジエニル−2,7−ジ−t−ブチル−9−フ
ルオレニル)ジルコニウムジクロライド、ジエチルシラ
ンジイルビス(2,4,5−トリメチルシクロペンタジ
エニル)ハフニウムジクロライド、ジエチルシランジイ
ルビス(3−メチルシクロペンタジエニル)ハフニウム
ジクロライド、ジエチルシランジイルビス(4−t−ブ
チル−2−メチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジ
クロライド、ジエチルシランジイルビス(テトラメチル
シクロペンタジエニル)ハフニウムジクロライド、ジエ
チルシランジイルビス(インデニル)ハフニウムジクロ
ライド、ジエチルシランジイルビス(2−メチル−イン
デニル)ハフニウムジクロライド、ジエチルシランジイ
ルビス(テトラヒドロインデニル)ハフニウムジクロラ
イド、ジエチルシランジイル(シクロペンタジエニル−
9−フルオレニル)ハフニウムジクロライド、ジエチル
シランジイル(シクロペンタジエニル−2,7−ジメチ
ル−9−フルオレニル)ハフニウムジクロライド、ジエ
チルシランジイル(シクロペンタジエニル−2,7−ジ
−t−ブチル−9−フルオレニル)ハフニウムジクロラ
イド、ジフェニルシランジイルビス(2,4,5−トリ
メチルシクロペンタジエニル)チタニウムジクロライ
ド、ジフェニルシランジイルビス(2,4−ジメチルシ
クロペンタジエニル)チタニウムジクロライド、ジフェ
ニルシランジイルビス(3−メチルシクロペンタジエニ
ル)チタニウムジクロライド、ジフェニルシランジイル
ビス(4−t−ブチル−2−メチルシクロペンタジエニ
ル)チタニウムジクロライド、ジフェニルシランジイル
ビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)チタニウム
ジクロライド、ジフェニルシランジイルビス(インデニ
ル)チタニウムジクロライド、ジフェニルシランジイル
ビス(2−メチル−インデニル)チタニウムジクロライ
ド、ジフェニルシランジイルビス(テトラヒドロインデ
ニル)チタニウムジクロライド、ジフェニルシランジイ
ル(シクロペンタジエニル−9−フルオレニル)チタニ
ウムジクロライド、ジフェニルシランジイル(シクロペ
ンタジエニル−2,7−ジメチル−9−フルオレニル)
チタニウムジクロライド、ジフェニルシランジイル(シ
クロペンタジエニル−2,7−ジ−t−ブチル−9−フ
ルオレニル)チタニウムジクロライド、ジフェニルシラ
ンジイルビス(2,4,5−トリメチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロライド、ジフェニルシラン
ジイルビス(2,4−ジメチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロライド、ジフェニルシランジイルビ
ス(3−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
クロライド、ジフェニルシランジイルビス(4−t−ブ
チル−2−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
ジクロライド、ジフェニルシランジイルビス(テトラメ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライ
ド、ジフェニルシランジイルビス(インデニル)ジルコ
ニウムジクロライド、ジフェニルシランジイルビス(2
−メチル−インデニル)ジルコニウムジクロライド、ジ
フェニルシランジイルビス(テトラヒドロインデニル)
ジルコニウムジクロライド、ジフェニルシランジイル
(シクロペンタジエニル−9−フルオレニル)ジルコニ
ウムジクロライド、ジフェニルシランジイル(シクロペ
ンタジエニル−2,7−ジメチル−9−フルオレニル)
ジルコニウムジクロライド、ジフェニルシランジイル
(シクロペンタジエニル−2,7−ジ−t−ブチル−9
−フルオレニル)ジルコニウムジクロライド、ジフェニ
ルシランジイルビス(2,4,5−トリメチルシクロペ
ンタジエニル)ハフニウムジクロライド、ジフェニルシ
ランジイルビス(3−メチルシクロペンタジエニル)ハ
フニウムジクロライド、ジフェニルシランジイルビス
(4−t−ブチル−2−メチルシクロペンタジエニル)
ハフニウムジクロライド、ジフェニルシランジイルビス
(テトラメチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジク
ロライド、ジフェニルシランジイルビス(インデニル)
ハフニウムジクロライド、ジフェニルシランジイルビス
(2−メチル−インデニル)ハフニウムジクロライド、
ジフェニルシランジイルビス(テトラヒドロインデニ
ル)ハフニウムジクロライド、ジフェニルシランジイル
(シクロペンタジエニル−9−フルオレニル)ハフニウ
ムジクロライド、ジフェニルシランジイル(シクロペン
タジエニル−2,7−ジメチル−9−フルオレニル)ハ
フニウムジクロライド、ジフェニルシランジイル(シク
ロペンタジエニル−2,7−ジ−t−ブチル−9−フル
オレニル)ハフニウムジクロライド等のジクロル体及び
上記4族遷移金属化合物のジメチル体、ジエチル体、ジ
ヒドロ体、ジフェニル体、ジベンジル体等を例示するこ
とができる。
【0035】前記一般式(13)、(14)、(15)
または(16)で表される化合物としては、例えば、ペ
ンタメチルシクロペンタジエニル−ジ−t−ブチルホス
フィノチタニウムジクロライド、ペンタメチルシクロペ
ンタジエニル−ジ−t−ブチルアミドチタニウムジクロ
ライド、ペンタメチルシクロペンタジエニル−n−ブト
キシドチタニウムジクロライド、ペンタメチルシクロペ
ンタジエニル−ジ−t−ブチルホスフィノジルコニウム
ジクロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニル−ジ
−t−ブチルアミドジルコニウムジクロライド、ペンタ
メチルシクロペンタジエニル−n−ブトキシドジルコニ
ウムジクロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニル
−ジ−t−ブチルホスフィノハフニウムジクロライド、
ペンタメチルシクロペンタジエニル−ジ−t−ブチルア
ミドハフニウムジクロライド、ペンタメチルシクロペン
タジエニル−n−ブトキシドハフニウムジクロライド、
(t−ブチルアミド)ジメチル(テトラメチル−η5−
シクロペンタジエニル)シランチタニウムジクロライ
ド、(t−ブチルアミド)(t−ブチル−η5−シクロ
ペンタジエニル)ジメチルシランチタニウムジクロライ
ド、(t−ブチルアミド)ジメチル(トリメチルシリル
−η5−シクロペンタジエニル)シランチタニウムジク
ロライド、ジメチル(フェニルアミド)(テトラメチル
−η5−シクロペンタジエニル)シランチタニウムジク
ロライド、(t−ブチルアミド)メチルフェニル(テト
ラメチル−η5−シクロペンタジエニル)シランチタニ
ウムジクロライド、(p−n−ブチルフェニルアミド)
ジメチル(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニ
ル)シランチタニウムジクロライド、ジメチル(p−メ
トキシフェニルアミド)(テトラメチル−η5−シクロ
ペンタジエニル)シランチタニウムジクロライド、(t
−ブチル−η5−シクロペンタジエニル)(2,5−ジ
−t−ブチル−フェニルアミド)ジメチルシランチタニ
ウムジクロライド、(t−ブチルアミド)ジメチル(η
5−インデニル)シランチタニウムジクロライド、(シ
クロヘキシルアミド)ジメチル(テトラメチル−η5−
シクロペンタジエニル)シランチタニウムジクロライ
ド、(シクロヘキシルアミド)ジメチル(フルオレニ
ル)シランチタニウムジクロライド、(シクロドデシル
アミド)ジメチル(テトラメチル−η5−シクロペンタ
ジエニル)シランチタニウムジクロライド、(t−ブチ
ルアミド)ジメチル(テトラメチル−η5−シクロペン
タジエニル)シランジルコニウムジクロライド、(t−
ブチルアミド)(t−ブチル−η5−シクロペンタジエ
ニル)ジメチルシランジルコニウムジクロライド、(t
−ブチルアミド)ジメチル(トリメチルシリル−η5−
シクロペンタジエニル)シランジルコニウムジクロライ
ド、ジメチル(フェニルアミド)(テトラメチル−η5
−シクロペンタジエニル)シランジルコニウムジクロラ
イド、(t−ブチルアミド)メチルフェニル(テトラメ
チル−η5−シクロペンタジエニル)シランジルコニウ
ムジクロライド、(p−n−ブチルフェニルアミド)ジ
メチル(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)
シランジルコニウムジクロライド、ジメチル(p−メト
キシフェニルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペ
ンタジエニル)シランジルコニウムジクロライド、(t
−ブチル−η5−シクロペンタジエニル)(2,5−ジ
−t−ブチル−フェニルアミド)ジメチルシランジルコ
ニウムジクロライド、(t−ブチルアミド)ジメチル
(η5−インデニル)シランジルコニウムジクロライ
ド、(シクロヘキシルアミド)ジメチル(テトラメチル
−η5−シクロペンタジエニル)シランジルコニウムジ
クロライド、(シクロヘキシルアミド)ジメチル(フル
オレニル)シランジルコニウムジクロライド、(シクロ
ドデシルアミド)ジメチル(テトラメチル−η5−シク
ロペンタジエニル)シランジルコニウムジクロライド、
(t−ブチルアミド)ジメチル(テトラメチル−η5−
シクロペンタジエニル)シランハフニウムジクロライ
ド、(t−ブチルアミド)(t−ブチル−η5−シクロ
ペンタジエニル)ジメチルシランハフニウムジクロライ
ド、(t−ブチルアミド)ジメチル(トリメチルシリル
−η5−シクロペンタジエニル)シランハフニウムジク
ロライド、ジメチル(フェニルアミド)(テトラメチル
−η5−シクロペンタジエニル)シランハフニウムジク
ロライド、(t−ブチルアミド)メチルフェニル(テト
ラメチル−η5−シクロペンタジエニル)シランハフニ
ウムジクロライド、(p−n−ブチルフェニルアミド)
ジメチル(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニ
ル)シランハフニウムジクロライド、ジメチル(p−メ
トキシフェニルアミド)(テトラメチル−η5−シクロ
ペンタジエニル)シランハフニウムジクロライド、(t
−ブチル−η5−シクロペンタジエニル)(2,5−ジ
−t−ブチル−フェニルアミド)ジメチルシランハフニ
ウムジクロライド、(t−ブチルアミド)ジメチル(η
5−インデニル)シランハフニウムジクロライド、(シ
クロヘキシルアミド)ジメチル(テトラメチル−η5−
シクロペンタジエニル)シランハフニウムジクロライ
ド、(シクロヘキシルアミド)ジメチル(フルオレニ
ル)シランハフニウムジクロライド、(シクロドデシル
アミド)ジメチル(テトラメチル−η5−シクロペンタ
ジエニル)シランハフニウムジクロライド等のジクロル
体及び上記4族遷移金属化合物のジメチル体、ジエチル
体、ジヒドロ体、ジフェニル体、ジベンジル体等を例示
することができる。
【0036】また、上記有機遷移金属化合物(a)と反
応してイオン性の錯体を形成する化合物(b)として
は、イオン性の錯体を形成するものであればいずれでも
よく、特に非配位性の嵩高いアニオンを有する一般式
(27)で示されるイオン化イオン性化合物が好ましく
用いられる。
【0037】
【化10】
【0038】上記一般式(27)中、[C+]はカチオ
ンであり、具体的には、活性プロトンを含有するものと
してプロトンそれ自身またはトリメチルアンモニウム、
トリエチルアンモニウム、トリプロピルアンモニウム、
トリブチルアンモニウム、N,N−ジメチルアニリニウ
ム、N,N−ジエチルアニリニウム、トリフェニルホス
ホニウム、トリ(o−トリル)ホスホニウム、トリ(p
−トリル)ホスホニウム、トリ(メシチル)ホスホニウ
ム等で表されるようなブレンステッド酸、活性プロトン
を含有しないカルボニウム、オキソニウムまたはスルホ
ニウムカチオンであり、具体的にはトリフェニルカルベ
ニウム、トロピリウムイオン、トリメチルオキソニウ
ム、トリエチルオキソニウム、トリフェニルオキソニウ
ム等で表されるような化合物、さらに金属原子や有機金
属の陽イオンであるリチウムイオン、マグネシウムイオ
ン、パラジウムイオン、白金イオン、銅イオン、銀イオ
ン、金イオン、水銀イオン及びこれらにエーテルなどの
塩基が配位したエーテラート化合物、フェロセニウムイ
オン、ジメチルフェロセニウムイオンなどを挙げること
ができるが、これらに限定されるものではない。
【0039】また、[A-]はアニオンであり、特に限
定はないが、上記した有機遷移金属化合物成分(a)と
は反応せずに弱く配位し得るアニオンが用いられ、例え
ば電荷を有するマグネシウム、アルミニウムなどの金属
あるいはハロゲン、ホウ素、リンなどのような非金属を
含み、かさ高く、非求核性であるアニオンが好ましい。
具体的には[AlR4-]、[BR4-]、[PR6-]また
は[ClO4-]で示されるアニオンであり、さらに具体
的にはテトラフェニルボレート、テトラ(ペンタフルオ
ロフェニル)ボレート、テトラ(o−フルオロフェニ
ル)ボレート、テトラ(p−フルオロフェニル)ボレー
ト、テトラ(m−フルオロフェニル)ボレート、テトラ
(2,5−ジフルオロフェニル)ボレート、テトラ
(1,5−ジフルオロフェニル)ボレート、テトラ
(1,6−ジフルオロフェニル)ボレート、テトラ(o
−トリル)ボレート、テトラ(p−トリル)ボレート、
テトラ(2,5−ジメチルフェニル)ボレート、テトラ
(1,5−ジメチルフェニル)ボレート、テトラフェニ
ルアルミネート、テトラ(ペンタフルオロフェニル)ア
ルミネート、テトラ(o−フルオロフェニル)アルミネ
ート、テトラ(p−フルオロフェニル)アルミネート、
テトラ(m−フルオロフェニル)アルミネート、テトラ
(2,5−ジフルオロフェニル)アルミネート、テトラ
(1,5−ジフルオロフェニル)アルミネート、テトラ
(1,6−ジフルオロフェニル)アルミネート、テトラ
(o−トリル)アルミネート、テトラ(p−トリル)ア
ルミネート、テトラ(2,5−ジメチルフェニル)アル
ミネート、テトラ(1,5−ジメチルフェニル)アルミ
ネート、オクタデカボレート、ドデカボレート、1−カ
ルバウンデカボレート、1−カルバドデカボレート等が
挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【0040】イオン化イオン性化合物としては、具体的
にはリチウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレー
ト、アニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボ
レート、トリフェニルカルベニウムテトラキスペンタフ
ルオロフェニルボレート、トロピニウムテトラキスペン
タフルオロフェニルボレート、リチウムテトラキスペン
タフルオロフェニルアルミネート、アニリニウムテトラ
キスペンタフルオロフェニルアルミネート、トリフェニ
ルカルベニウムテトラキスペンタフルオロフェニルアル
ミネート、トロピニウムテトラキスペンタフルオロフェ
ニルアルミネートなどが挙げられるが、これらに限定さ
れるものではない。
【0041】さらに、化合物成分(b)の例としてアル
ミニウムと酸素の結合を有するものを挙げることがで
き、具体的な例として、下記一般式(28)または(2
9)
【0042】
【化11】
【0043】[式中、R16は各々独立して水素原子、
ハロゲン原子、炭素数1〜24のアルキル基もしくはア
ルコキシ基、または炭素数6〜24のアリール基、アリ
ールオキシ基、アリールアルキル基、アリールアルコキ
シ基、アルキルアリール基もしくはアルキルアリールオ
キシ基であり、少なくとも1つのR16は水素原子、炭
素数1〜24のアルキル基または炭素数6〜24のアリ
ール基、アリールアルキル基もしくはアルキルアリール
基であり、tは0〜100の整数である。]で表される
アルミノキサンである。R16の具体的な例として塩
素、臭素、ヨウ素、メトキシ基、エトキシ基、プロポキ
シ基、ブトキシ基、フェノキシ基、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、フェニル基、
ベンジル基、トリル基、シクロヘキシル基等を挙げるこ
とができる。
【0044】この種の化合物の製法は公知であり、
(1)吸着水を有する化合物、結晶水を含有する塩類
(硫酸マグネシウム水和物、硫酸銅水和物、硫酸アルミ
ニウム水和物など)の炭化水素媒体懸濁液に、トリアル
キルアルミニウムを添加して反応させる方法、あるいは
(2)直接水を炭化水素媒体中のトリアルキルアルミニ
ウムと作用させる方法を例示することができる。
【0045】以上、有機遷移金属化合物(a)と反応し
てイオン性の錯体を形成する化合物(b)を例示した
が、有機遷移金属化合物(a)をイオン性の錯体にする
化合物であれば特に限定はなく、いずれも使用すること
ができ、さらに2種類以上の成分を組み合わせて用いる
こともできる。
【0046】また、上記触媒では必要に応じて有機金属
化合物(c)を用いることができる。その有機金属化合
物(c)としては、下記一般式(30)
【0047】
【化12】
【0048】[式中、M5は周期表1、2、13族、S
nまたはZnの元素である。R17は各々独立して水素
原子、炭素数1〜24のアルキル基もしくはアルコキシ
基、または炭素数6〜24のアリール基、アリールオキ
シ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、ア
ルキルアリール基もしくはアルキルアリールオキシ基で
あり、少なくとも1つのR17は水素原子、炭素数1〜
24のアルキル基または炭素数6〜24のアリール基、
アリールアルキル基もしくはアルキルアリール基であ
る。sはM5の酸化数に等しい。]で表される有機金属
化合物である。
【0049】前記一般式(30)で表される化合物とし
ては、メチルリチウム、ブチルリチウムなどのアルキル
リチウム、トリエチルボランなどのアルキルボラン、ト
リメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ
イソブチルアルミニウムなどのアルキルアルミニウム、
ジメチルアルミニウムフルオライド、ジメチルアルミニ
ウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジ
イソブチルアルミニウムクロライドなどのアルキルアル
ミニウムハライド、ジエチルアルミニウムハイドライ
ド、ジイソブチルアルミニウムハイドライドなどのアル
キルアルミニウムハイドライド、ジブチルマグネシウ
ム、ブチルエチルマグネシウムなどのアルキルマグネシ
ウム、塩化メチルマグネシウム、臭化メチルマグネシウ
ム、塩化ブチルマグネシウム、臭化ブチルマグネシウム
などのグリニャール化合物、ジエチル亜鉛、ジフェニル
亜鉛などのアルキル亜鉛などを挙げることができるが、
これらに限られるものではない。これらの有機金属化合
物(c)は目的に応じて単独でも、2種類以上を組合わ
せて用いても良いが、単独で用いる際には、好ましくは
アルミニウムを有する化合物が用いられる。
【0050】ここで触媒調整の際の成分(a)と成分
(b)の比は特に制限はないが、好ましくは成分(a)
と成分(b)のモル比が成分(a):成分(b)=10
0:1〜1:1000000の範囲であり、特に好まし
くは1:1〜100000の範囲である。これらの成分
(a)と成分(b)から触媒を調整する方法に関して特
に制限はなく、調整の方法の例として、各成分に関して
不活性な溶媒中あるいは重合を行うモノマーを溶媒とし
て混合させることを挙げることができる。また、これら
の成分を反応させる順番に関しても特に制限はない。こ
の処理を行う温度も特に制限はなく、また処理時間も特
に制限はない。
【0051】触媒調整の際の成分(a)と成分(c)の
比は特に制限はないが、好ましくは成分(a)と成分
(c)のモル比が成分(a):成分(c)=100:0
〜1:1000000の範囲であり、特に好ましくは
1:1〜100000の範囲である。
【0052】また、本発明で用いられるエチレン/α−
オレフィン共重合体エラストマー(B)の製造は液相中
で行うことができ、その場合の溶媒としては一般に用い
られる有機溶剤であればいずれでもよく、具体的にはベ
ンゼン、トルエン、キシレン、ペンタン、ヘキサン、ヘ
プタン、塩化メチレン等が挙げられ、またはα−オレフ
ィン自身を溶媒として用いることもできる。
【0053】さらに、上記した触媒系を用いた本発明で
用いられるエチレン/α−オレフィン共重合体エラスト
マー(B)の製造における重合温度は特に制限はない
が、−100〜300℃の範囲で行うことが好ましく、
また重合圧力は特に制限はないが、通常、常圧〜200
0kg/cm2で行われる。
【0054】重合は、バッチ式、半連続式、連続式のい
ずれの方法でも行うことが可能であり、重合条件を変え
て2段以上に分けて行うことも可能である。また、重合
終了後に得られる共重合体は、従来公知の方法により重
合溶液から分離回収され、乾燥して固体状の共重合体を
得る。
【0055】本発明の樹脂組成物は、ポリプロピレン系
樹脂(A)とエチレン/α−オレフィン共重合体エラス
トマー(B)からなり、そのブレンド比はポリプロピレ
ン系樹脂(A)70〜99.9重量%、エチレン/α−
オレフィン共重合体エラストマー(B)30〜0.1重
量%であり、目的とする用途、要求物性に応じて任意に
変えることができる。エチレン/α−オレフィン共重合
体エラストマー(B)が30重量%を越えると、組成物
は柔軟性、耐衝撃性に富むものの、剛性の要求される用
途には不適であるとともに、表面のべたつきの問題が生
じる可能性がある。また、エチレン/α−オレフィン共
重合体が0.1重量%未満では、耐寒性改良効果が小さ
く好ましくない。
【0056】本発明の樹脂組成物は、動的粘弾性の温度
依存性から得られる損失正接(tanδ)の極大温度に
より評価されるポリプロピレン相のガラス転移温度が、
ポリプロピレン系樹脂(A)単独と比較して1℃以上低
下することを特徴とする。このガラス転移温度の低下
は、エチレン/α−オレフィン共重合体のα−オレフィ
ンの種類、ブレンド比により変化するが、本性質によ
り、耐寒性、難白化性に優れた組成物となる。
【0057】本発明の樹脂組成物は、動的粘弾性の温度
依存性から得られる損失正接(tanδ)のピークが、
−80〜30℃の温度域に1つだけ存在することが好ま
しい。これにより耐寒性が向上するとともに、衝撃時の
白化の発生を低減することができる。
【0058】動的粘弾性の測定は、引張、せん断、圧
縮、ねじり、曲げなど様々なモードで行うことが可能で
あり、いずれも0.1〜1000Hz程度の周波数領域
で測定されるのが一般的である。
【0059】また、本発明の樹脂組成物は、0.01ミ
クロン以上の大きさを有する分散相が存在しないことが
好ましい。これによって、本発明の樹脂組成物の衝撃時
の耐白化特性がさらに優れたものになる。構造の観察
は、四酸化ルテニウムの蒸気に暴露した試験片を透過型
電子顕微鏡で観察することが好ましい。他の構造観察法
では、わずかな相分離構造を観測できない場合があるの
で注意が必要である。
【0060】なお、本発明の組成物には、必要に応じて
炭酸カルシウム、マイカ、タルク、シリカ、硫酸バリウ
ム、硫酸カルシウム、カオリン、クレー、パイロフェラ
イト、ベントナイト、セリサナイト、ゼオライト、ネフ
ェリンシナイト、アタパルジャイト、ウォラストナイ
ト、フェライト、ケイ酸カルシウム、炭酸マグネシウ
ム、ドロマイト、三酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化チ
タン、酸化マグネシウム、酸化鉄、二硫化モリブデン、
黒鉛、石こう、ガラスビーズ、ガラスパウダー、ガラス
バルーン、石英、石英ガラスなどの無機充填剤や有機,
無機顔料を配合することもできる。また、結晶核剤、透
明化剤、離型剤、帯電防止剤、スリップ剤、滑剤、耐熱
安定剤、耐候性安定剤、発泡剤、防錆剤、イオントラッ
プ剤、難燃剤、難燃助剤等を必要に応じて添加してもよ
い。さらに、本発明の組成物を他の樹脂へブレンドする
ことも可能である。この場合、第3成分として本樹脂組
成物と他の樹脂との相溶化剤を併用することも可能であ
る。
【0061】本発明の樹脂組成物は、通常用いられてい
る方法によりポリプロピレン系樹脂(A)とエチレン/
α−オレフィン共重合体エラストマー(B)とをブレン
ドすることにより得られるが、ニーダー、ロール、バン
バリミキサー、押出機等を用いて溶融ブレンドにより製
造することが好ましい。
【0062】本発明のポリプロピレン系樹脂組成物を射
出、圧縮、押出、真空、圧空またはブローのいずれかの
成形法により成形し得られた成形品は、耐寒性に優れる
とともに、衝撃時の耐白化特性に優れた成形物となる。
【0063】
【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明を説明する
が、これらは例示的なものであって、限定的なものでは
ない。実施例中の各種測定は、下記の方法により行っ
た。
【0064】(エチレン/α−オレフィン共重合体のα
−オレフィン含量の測定)o−ジクロロベンゼン/ベン
ゼン−d6(75/25容量%)を溶媒に、100MH
z、13C−NMRスペクトル(日本電子(株)製 JN
M GX400)測定を行い、以下の文献に従い算出し
た。
【0065】エチレン/プロピレン共重合体:Macr
omolecules 15,1150(1982) エチレン/ブテン−1共重合体:Macromolec
ules 15,353(1982) エチレン/ヘキセン−1共重合体:Macromole
cules 15,1402(1982) エチレン/オクテン−1共重合体:Polymer 2
5,441(1984) (分子量、分子量分布の測定)溶媒にo−ジクロロベン
ゼンを用いて、140℃におけるゲルパーミエーション
クロマトグラフィー(ミリポア(株)社製 150C型
GPC)を用いてポリエチレン換算で求めた。
【0066】(動的粘弾性の測定)非共振型強制振動法
に基づく測定装置である動的粘弾性測定装置DVE V
−4(レオロジ社製)を用いて、測定周波数10Hz、
引っ張りモードにて、−80〜30℃の温度領域を2℃
/分の昇温速度で損失正接(tanδ)の温度依存性を
測定した。なお、試験片は1mm厚みの板を5mm×3
0mmに切り抜き用いた。また、与えた歪みは0.1%
以下の線形領域で行った。本測定において観測されるt
anδのピーク温度を(T−B)とした。なお、複数の
ピークが観測された場合には、ポリプロピレン系樹脂の
ガラス転移温度に相当する高温側のピーク温度を(T−
B)とした。これとは別途、用いたポリプロピレン系樹
脂を単独で成形した試料に関しても同様の測定を行い、
tanδがピークを示した温度(T−PP)を求めた。
(T−PP)から(T−B)を差し引いた温度をポリプ
ロピレン系樹脂のガラス転移温度のシフト温度として求
め、耐寒性向上の指標とした。また、ピークの数も求め
た。
【0067】(相構造の観察)透過型電子顕微鏡 JE
OL JEM−2000FX(TEM)を用いて、加速
電圧200kV、観測倍率5000倍にて観測した。試
料は1mm厚みの板を用い、ウルトラミクロトームで−
100℃の雰囲気下、0.1ミクロンの超薄切片に仕上
げ、これを四酸化オスニウムの蒸気に暴露して染色した
後、観測に用いた。得られた写真を画像処理し、平均粒
子径を求めた。但し、0.01ミクロン未満の平均粒子
径を有するものはカウントしなかった。
【0068】(Izod衝撃試験)JIS K7110
に準拠し、23℃の温度においてIzod衝撃試験を行
った。ひょう量は1.96J、打撃速度3.35m/秒
とした。試料は厚み3.2mmの板を幅12.7mm、
長さ63.5mmに切り出し、2.54mmのVノッチ
をつけて測定した。
【0069】(折り曲げ白化試験)1mm厚みの成形品
を180゜折り曲げて、白化の有無を観察した。
【0070】(衝撃白化試験) A法:高さ80cmより荷重1000g、打撃錘径0.
5πの打撃体を平板上に落下させた後の試験片を目視に
て観察することにより白化を評価した。受け台内径43
mmとして、2mmの平板を50mm×50mmにカッ
トして用いた。 評価結果 ○:良好 ×:著しく白化 B法:デュポン衝撃試験機を用い、打撃芯径12.7m
m、受け台径13mmの条件で、200gの打撃体を高
さ0.1m(衝撃強度0.02kg・m)、高さ0.2
m(衝撃強度0.04kg・m)あるいは400gの打
撃体を高さ0.5m(衝撃強度0.2kg・m)から落
下させ、3時間経過後の白化面積を評価した。試験は厚
さ2mmの成形体を用いた。
【0071】参考例1 エチレン/ブテン−1共重合体エラストマーの合成 5lのオートクレーブにトルエン1000ml及びブテ
ン−1 500mlを加え40℃に昇温した。さらに、
全圧が8kg/cm2になるようにエチレンを導入し
た。次に、別の反応容器にトルエン10ml、メチルア
ルミノキサン5mmol、公知の方法により合成した
(ジメチル(t−ブチルアミド)(テトラメチル−η5
−シクロペンタジエニル)シラン)ジクロライドチタン
5μmolを加え、この混合溶液を20分間撹拌した
後、オートクレーブに導入し、重合を開始した。この重
合は、全圧を8kg/cm2に保つようにエチレンを連
続的に導入し、40℃で30分間行った。
【0072】重合終了後、多量のエタノールによりポリ
マーを洗浄し、60℃で12時間減圧乾燥を行った。そ
の結果、ブテン−1含量が72重量%のエチレン/ブテ
ン−1共重合体エラストマーを44g得た。数平均分子
量108000、Mw/Mn=2.2、密度は0.86
4g/cm3であった。
【0073】実施例1 プロピレン/エチレンランダム共重合体(東ソーポリプ
ロJ6080A、エチレン含量:3.2%、MFR:8
g/10分)60g、参考例1で得たエチレン/ブテン
−1共重合体エラストマー 20g、熱安定剤としてヒ
ンダードフェノール系安定剤(イルガノックス1010
(チバ・ガイギー社製))、リン系安定剤(イルガフォ
ス168(チバ・ガイギー社製))をそれぞれ2000
ppm、滑剤としてステアリン酸カルシウム5000p
pmをラボプラストミル(内容積100cc)を用い
て、60rpmで200℃、5分間溶融ブレンドした。
その後、得られた組成物をプレス成形機を用いて200
℃にて10分間加圧し、1mm及び3.2mmの厚みに
成形し、成形品を得た。冷却温度は30℃とした。評価
結果を表1に示す。
【0074】参考例2 エチレン/ブテン−1共重合体エラストマーの合成 5lのオートクレーブにトルエン400ml及びブテン
−1 1100mlを加え40℃に昇温した。さらに、
全圧が8kg/cm2になるようにエチレンを導入し
た。次に、別の反応容器にトルエン10ml、メチルア
ルミノキサン3mmol、公知の方法により合成したジ
フェニルメチレン(シクロペンタジエニル−9−フルオ
レニル)ジルコニウムジクロライド 3μmolを加
え、この混合溶液を20分間撹拌した後、オートクレー
ブに導入し、重合を開始した。この重合は、全圧を8k
g/cm2に保つようにエチレンを連続的に導入し、4
0℃で60分間行った。
【0075】重合終了後、多量のエタノールによりポリ
マーを洗浄し、60℃で12時間減圧乾燥を行った。そ
の結果、ブテン−1含量が77重量%のエチレン/ブテ
ン−1共重合体エラストマーを102g得た。数平均分
子量45000、Mw/Mn=2.6、密度は0.86
3g/cm3であった。
【0076】ブテン−1の量を変化させて、上記と同一
操作を行うことにより、種々のエチレン/ブテン−1共
重合体エラストマーを得た。また、ブテン−1をヘキセ
ン−1、オクテン−1、プロピレンに変え、種々のエチ
レン/α−オレフィン共重合体エラストマーを得た。合
成した共重合体は、表1にまとめた。
【0077】実施例2 実施例1において用いたエチレン/ブテン−1共重合体
エラストマーの代わりに参考例2で得たエチレン/ブテ
ン−1共重合体エラストマーを用い、実施例1と同様の
方法で成形品を得た。評価結果を表1に示す。
【0078】実施例3 実施例1において用いたエチレン/ブテン−1共重合体
エラストマーの代わりにヘキセン−1含量が77重量%
のエチレン/ヘキセン−1共重合体エラストマーを用
い、実施例1と同様の方法で成形品を得た。評価結果を
表1に示す。
【0079】実施例4 実施例1において用いたエチレン/ブテン−1共重合体
エラストマーの代わりにヘキセン−1含量が82重量%
のエチレン/ヘキセン−1共重合体エラストマーを用
い、実施例1と同様の方法で成形品を得た。評価結果を
表1に示す。
【0080】実施例5 実施例1において用いたエチレン/ブテン−1共重合体
エラストマーの代わりにオクテン−1含量が88重量%
のエチレン/オクテン−1共重合体エラストマーを用
い、実施例1と同様の方法で成形品を得た。評価結果を
表1に示す。
【0081】実施例6 プロピレン/エチレンランダム共重合体の代わりにプロ
ピレン単独重合体(東ソーポリプロJ5100A、MF
R:11g/10分)を用いた以外は実施例1と同様の
方法で成形品を得た。評価結果を表1に示す。
【0082】
【表1】
【0083】比較例1 実施例1で用いたプロピレン/エチレンランダム共重合
体を単独でプレス成形し、成形品を得た。但し、成形条
件は実施例1と全く同様に行った。評価結果を表2に示
す。
【0084】比較例2 実施例6で用いたプロピレン単独重合体を単独でプレス
成形し、成形品を得た。但し、成形条件は実施例1と全
く同様に行った。評価結果を表2に示す。
【0085】比較例3 実施例1において用いたエチレン/ブテン−1共重合体
エラストマーの代わりにブテン−1含量が63重量%の
エチレン/ブテン−1共重合体エラストマーを用い、実
施例1と同様の方法で成形品を得た。評価結果を表2に
示す。
【0086】比較例4 実施例1において用いたエチレン/ブテン−1共重合体
エラストマーの代わりにヘキセン−1含量が61重量%
のエチレン/ヘキセン−1共重合体エラストマーを用
い、実施例1と同様の方法で成形品を得た。評価結果を
表2に示す。
【0087】比較例5 実施例1において用いたエチレン/ブテン−1共重合体
エラストマーの代わりにヘキセン−1含量が54重量%
のエチレン/ヘキセン−1共重合体エラストマーを用
い、実施例1と同様の方法で成形品を得た。評価結果を
表2に示す。
【0088】比較例6 実施例1において用いたエチレン/ブテン−1共重合体
エラストマーの代わりにオクテン−1含量が60重量%
のエチレン/オクテン−1共重合体エラストマーを用
い、実施例1と同様の方法で成形品を得た。評価結果を
表2に示す。
【0089】比較例7 実施例1において用いたエチレン/ブテン−1共重合体
エラストマーの代わりにプロピレン含量が75重量%の
エチレン/プロピレン共重合体エラストマーを用い、実
施例1と同様の方法で成形品を得た。評価結果を表2に
示す。
【0090】参考例3 エチレン/ブテン−1共重合体エラストマーの合成 5lのオートクレーブにトルエン500ml及びブテン
−1 1000mlを加え40℃に昇温した。さらに、
全圧が4kg/cm2になるようにエチレンを導入し
た。次に、別の反応容器にトルエン10ml、メチルア
ルミノキサン3mmol、公知の方法により合成したジ
メチルシランジイルビス(2−メチルインデニル)ジル
コニウムジクロライド 3μmolを加え、この混合溶
液を20分間撹拌した後、オートクレーブに導入し、重
合を開始した。この重合は、全圧を4kg/cm2に保
つようにエチレンを連続的に導入し、40℃で30分間
行った。
【0091】重合終了後、多量のエタノールによりポリ
マーを洗浄し、60℃で12時間減圧乾燥を行った。そ
の結果、ブテン−1含量が96重量%のエチレン/ブテ
ン−1共重合体エラストマーを54g得た。数平均分子
量76000、Mw/Mn=2.4、密度は0.882
g/cm3であった。DSC測定により、主ピークとし
て測定される結晶融点は45℃であった。
【0092】比較例8 実施例1において用いたエチレン/ブテン−1共重合体
エラストマーの代わりに参考例3で得たエチレン/ブテ
ン−1共重合体エラストマーを用い、実施例1と同様の
方法で成形品を得た。評価結果を表2に示す。
【0093】
【表2】
【0094】実施例7 プロピレン単独重合体(東ソーポリプロJ5100A、
MFR:11g/10分)630g、ヘキセン−1含量
が73重量%のエチレン/ヘキセン−1共重合体エラス
トマーを70g、熱安定剤としてヒンダードフェノール
系安定剤(イルガノックス1010(チバ・ガイギー社
製))、リン系安定剤(イルガフォス168(チバ・ガ
イギー社製))をそれぞれ1000ppm、滑剤として
ステアリン酸カルシウム2000ppmを2軸混練機
(内容積1l)を用いて、30rpmで200℃,15
分間溶融ブレンドした。その後、得られた組成物をペレ
ット化し、射出成形機を用いて1mm、2mm及び3.
2mmの成形品を得た。評価結果を表3に示す。
【0095】実施例8〜10、 実施例7において用いたプロピレン単独重合体の代わり
にプロピレン/エチレンブロック共重合体(東ソーポリ
プロJ7090B、MFR:8.5g/10分)を用
い、プロピレン/エチレンブロック共重合体とエチレン
/ヘキセン−1共重合体を90/10、97.5/2.
5、99/1(重量%)でブレンドし、実施例7と同様
の方法で成形品を得た。評価結果を表3に示す。
【0096】比較例9 実施例7において用いたプロピレン単独重合体を単独で
射出成形し、成形品を得た。但し、成形条件は実施例7
と全く同様に行った。評価結果を表3に示す。
【0097】比較例10 実施例7において用いたエチレン/ヘキセン−1共重合
体エラストマーの代わりにヘキセン−1含量が56重量
%のエチレン/ヘキセン−1共重合体エラストマーを用
い、実施例7と同様の方法で成形品を得た。評価結果を
表3に示す。
【0098】比較例11 実施例8において用いたプロピレン/エチレンブロック
共重合体を単独で射出成形し、成形品を得た。但し、成
形条件は実施例8と全く同様に行った。評価結果を表3
に示す。
【0099】比較例12 実施例8において用いたエチレン/ヘキセン−1共重合
体エラストマーの代わりにヘキセン−1含量が56重量
%のエチレン/ヘキセン−1共重合体エラストマーを用
い、実施例8と同様の方法で成形品を得た。評価結果を
表3に示す。
【0100】
【表3】
【0101】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の樹脂組成物
及びその成形品は、ガラス転移温度が大きく低下し、耐
寒性が向上するとともに、衝撃時の耐白化性に優れたも
のである。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ポリプロピレン系樹脂(A)70〜99.
    9重量%、下記の(a)〜(d)の要件を満たすエチレ
    ン/α−オレフィン共重合体エラストマー(B)30〜
    0.1重量%からなることを特徴とするポリプロピレン
    系樹脂組成物。 (a)α−オレフィンが炭素数4以上20以下 (b)α−オレフィン含量が65重量%より多く95重
    量%以下 (c)23℃における密度が0.88g/cm3未満 (d)DSC法により結晶融解ピークが観測されない
  2. 【請求項2】動的粘弾性の温度依存性から得られる損失
    正接(tanδ)の極大ピーク温度であるポリプロピレ
    ン相のガラス転移温度が、ポリプロピレン系樹脂(A)
    単独と比較して1℃以上低下することを特徴とする請求
    項1に記載のポリプロピレン系樹脂組成物。
  3. 【請求項3】動的粘弾性の温度依存性から得られる損失
    正接(tanδ)のピークが、−80〜30℃の温度域
    に1つだけ存在することを特徴とする請求項1または2
    に記載のポリプロピレン系樹脂組成物。
  4. 【請求項4】0.01ミクロン以上の大きさを有する分
    散相が存在しないことを特徴とする請求項1乃至3に記
    載のポリプロピレン系樹脂組成物。
  5. 【請求項5】請求項1乃至4に記載の組成物から得られ
    る成形品。
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JP2017222849A (ja) * 2016-06-08 2017-12-21 三井化学株式会社 プロピレン系樹脂組成物およびその製造方法、ならびに該プロピレン系樹脂組成物を用いた成形体

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