JPH08269214A - 光学等方性ポリアリレート系フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、光学等方性、均質性に優れ、残留
溶媒量の少ないポリアリレート系フィルムの製造方法を
提供することを目的とする。 【構成】 ポリアリレート系樹脂およびハロゲン系溶媒
とから主としてなる溶液組成物を支持基板上に流延し、
そして溶媒を含む流延フイルムを加熱して溶媒を蒸発さ
せてフィルムを製造するに際して、半乾燥状態のフイル
ムを支持基板から剥離して加熱乾燥する工程で、幅方向
に収縮可能な状態で溶媒を含むポリアリレート系フイル
ムのガラス転移点（Ｔｇ’）の推移に合わせて特定の温
度で熱処理をする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は流延法による光学等方性
ポリアリレート系フィルムの製造方法に関し、さらに詳
しくは光学用フィルム、液晶ディスプレーに用いられる
位相差板の原反フィルム、電極基板フィルム等に有用
な、光学等方性、均質性に優れたポリアリレート系フィ
ルムの流延法による製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶表示装置が消費電力が少な
く、かつ画像品質に優れている点から注目を浴び実用化
が進められている。これらの液晶表示装置においては、
偏光板、保護層、位相差板および電極基板などに高分子
フイルムが使用されている。その内、高分子電極基板す
なわちプラスチック基板は、液晶表示装置の軽薄化のた
めに従来のガラス基板の代わり用いられるもので、透過
する偏光を液晶層に正確に伝えるために極めて高い光学
等方性と均質性、および表面性が求められる。具体的に
は表面厚み斑５μｍ以下、位相差１０ｎｍ以下、光学軸
配向±１０°以下が要求される。ここで光学軸配向と
は、フィルム面内での屈折率が最大となる方向、すなわ
ち遅相軸の向きを表す。さらに透明電極の製膜や配向膜
形成など加工時に加わる熱に耐えるだけの耐熱性が求め
られる。そのために未延伸のポリカーボネートフイル
ム、ポリアリレートフイルムなどが用いられるが、特に
耐熱性の観点からポリアリレートフィルムが好ましく用
いられる。しかしながら、ポリアリレートは芳香族基を
分子内に含むために分極率が高く、従ってわずかな分子
配向によってもポリアリレートフィルムに光学異方性を
生じる欠点を有している。

【０００３】一方、位相差フイルムは、ＳＴＮ型液晶表
示素子やＴＮ型液晶表示素子において画像の視認性を向
上させるために用いられるものであり、液晶層を透過し
た楕円偏光を直線偏光に変換する役割を担っている。こ
れらの素材として主として一軸延伸したポリカーボネー
トフイルムやポリビニルアルコールフイルムが用いられ
ている。最近更なる画像視認性の向上の要請から、液晶
層と一致した位相差（リタデーション）の波長分散性を
有する位相差フイルムが求められ、その一候補としてポ
リアリレートフィルムが挙げられている。先に述べたよ
うにポリアリレートは芳香族基を分子内に含むために分
極率が高く、フイルムを一軸延伸して分子配向させるこ
とにより光学異方性が得られやすい。そのために位相差
フイルムに要求される位相差をわずかな延伸で得られる
点が有利であるが、その反面、光学的に均質な配向フイ
ルムを得ることが難しい。かかる配向フイルムを得るた
めには、未延伸フイルム（原反フイルム）の段階で光学
的に高度に等方性を有するフイルムを用いる必要があ
り、具体的には表面厚み斑２μｍ以下、位相差３０ｎｍ
以下、光学軸配向±１°以下が要求される。

【０００４】このような厳しい要求が求められている状
況から、ポリアリレートフィルムの製膜法としては溶液
流延法（キャスティング法）が採用されている。溶液流
延法とは溶液組成物（ドープ）を支持基板上に流延した
後、加熱して大部分の溶媒を除去して自立性のあるフィ
ルムとしてから支持基板から剥離し、さらに加熱乾燥し
て残りの溶媒を除去するフィルム製膜法である。溶媒と
してはポリアリレート系樹脂に対する溶解性、ドープ安
定性が高いこと、また低沸点で除去しやすいことなどか
ら主として塩化メチレンが使われている。しかしながら
この溶液流延法では、フィルムの製膜過程、特にフィル
ムを支持基板から剥離する工程や後乾燥工程においてフ
ィルムの剥離応力、搬送や巻取りに伴う応力、フィルム
の自重に伴う応力等の様々な力が加わる。そのためこれ
らの応力に伴う変形が引き起こす光学斑、光学歪みを防
ぐことは容易ではなく、技術的に難しい問題を抱えてお
り、製膜技術の開発が重要な課題になっていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、光学等方
性、均質性に優れ、残留溶媒量の少ないポリアリレート
系フィルムの製造方法を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる従
来技術の問題点を解決すべく鋭意検討の結果、溶液流延
法による製膜において、溶媒を含むポリアリレート系フ
ィルムのガラス転移点（Ｔｇ’）が残留溶媒量を鋭敏に
反映することから、半乾燥状態の該フイルムを支持基板
から剥離して加熱乾燥する工程で、幅方向に収縮可能な
状態で溶媒を含むポリアリレート系フイルムのガラス転
移点（Ｔｇ’）の推移に合わせて特定の温度で熱処理を
すると、光学等方性、均質性等に優れたフイルムが得ら
れることを見い出し本発明に到達した。

【０００７】すなわち本発明は、ポリアリレート系樹脂
およびハロゲン系溶媒とから主としてなる溶液組成物を
支持基板上に流延し、そして溶媒を含む流延フィルムを
加熱して溶媒を蒸発させてフィルムを製造するに際し
て、（１）溶媒の含有量が５〜２５重量％になるまで溶
媒を蒸発させて自立性のある前乾燥フィルムを形成する
前乾燥工程と、（２）支持体から剥離したのち、前記前
乾燥フィルムを幅方向に収縮可能な状態で加熱乾燥する
後乾燥工程、ここでの乾燥温度（Ｔ℃）が下記式（１）

【０００８】

【数２】 Ｔｇ’−５０＜Ｔ＜Ｔｇ’ ・・・（１） ［ただし、Ｔｇ’（℃）は残留溶媒を含むポリアリレー
ト系フィルムのガラス転移点であり、この温度は乾燥が
進むにつれ残留溶媒含有量の減少とともに上昇する。］
を満足するようにＴｇ’の推移に合わせて連続的にまた
は段階的に昇温していく、とで乾燥を実施することを特
徴とする光学等方性ポリアリレート系フィルムの製造方
法である。

【０００９】また先に述べたように、ポリアリレートの
溶液流延法における溶媒には主として塩化メチレンが使
われているが、本発明には、この主として塩化メチレン
を溶媒とする溶液組成物を用いた上記製造法も含まれ
る。

【００１０】以下に本発明について詳述する。

【００１１】本発明において用いられる溶液組成物は、
ポリアリレート系樹脂およびハロゲン系溶媒とから主と
してなる。かかるポリアリレート系樹脂は、ビスフェノ
ール成分と芳香族ジカルボン酸成分とのポリエステルか
ら主としてなるポリマーである。かかるポリアリレート
系樹脂としては、下記式（２）で表される繰り返し単位
を全体の５０モル％以上、好ましくは７５モル％以上、
特に好ましくは１００モル％含有するものが、得られる
フィルムの透明性が良好であり好ましい。

【００１２】

【化１】

【００１３】［式（２）中、Ａｒは炭素数６〜１２の芳
香族炭化水素基であり、Ｘは炭素数１〜１５の二価の炭
化水素基、スルホン基およびスルフィド基からなる群か
ら選ばれる少なくとも一種の基である。Ｒ¹〜Ｒ⁴は同一
または異なり、水素、ハロゲン、または炭素数１〜５の
炭化水素基である。］ ここで上記式（２）において好適なＡｒは炭素数６〜１
０の芳香族炭化水素基で、具体的にはｍ−フェニレン
基、ｐ−フェニレン基、ナフチレン基が挙げられ、特に
好ましいのはｍ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基であ
る。

【００１４】Ｘは炭素数１〜１５の二価の炭化水素基、
スルホン基およびスルフィド基からなる群から選ばれる
少なくとも一種の基であり、詳しくは炭素数１〜１５の
二価の脂肪族炭化水素基、脂環族炭化水素基、アラアル
キレン基、スルホン基、およびスルフィド基からなる群
より選ばれる。好適には炭素数１〜１０の二価の脂肪族
炭化水素基、脂環族炭化水素基、およびアラアルキレン
基である。具体的にはメチレン基、１，１−エチレン
基、２，２−プロピレン基、２，２−ブチレン基、４−
メチル−２，２−ペンチレン基などの脂肪族炭化水素
基、１，１−シクロヘキシレン基、３，３，５−トリメ
チル−１，１−シクロヘキシレン基などの脂環族炭化水
素基、１−フェニル−１，１−エチレン基、ジフェニル
メチレン基、１，１−フルオレン基などのアラアルキレ
ン基が例示できる。これらの中で特に２，２−プロピレ
ン基が好ましい。

【００１５】Ｒ¹〜Ｒ⁴は同一または異なり、水素、ハロ
ゲン、または炭素数１〜５の炭化水素基であるが、好ま
しくは水素、臭素またはメチル基である。

【００１６】これらのポリアリレート系樹脂の中で、使
用原料の経済性、得られるポリマーの物性等の面から最
も広く使われているものは、ビスフェノールＡと呼称さ
れている２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロ
パンをビスフェノール成分とし、テレフタル酸および／
またはイソフタル酸を芳香族ジカルボン酸成分とする下
記繰り返し単位からなるものである。

【００１７】

【化２】

【００１８】本発明のポリアリレート系樹脂は、上記式
（２）で表される繰り返し単位の１種または２種以上の
繰り返し単位からなる組成物または共重合体であっても
よく、例えば２種類以上の異なるビスフェノール成分を
含む共重合体であってもよい。共重合体を用いることに
より、ポリマーの溶解性、ドープ安定性が向上する場合
が多く、本発明の溶液流延法への用途には好適である。

【００１９】上記ポリアリレート系樹脂は、下記式
（３）で表される繰り返し単位を５０モル％以下、好ま
しくは２５モル％以下含有してなるポリエステルカーボ
ネートであってもよい。

【００２０】

【化３】

【００２１】［式（３）中、Ｙは前記式（２）中のＸと
同義である。Ｒ⁵〜Ｒ⁸は同一または異なり、水素、ハロ
ゲン、炭素数１〜５の炭化水素基である。］ 上記式（３）において、Ｙは前記式（２）中のＸと同義
であり、好適には炭素数１〜１０の二価の脂肪族炭化水
素基、脂環族炭化水素基、およびアラアルキレン基から
なる群から選ばれる。具体的にはメチレン基、１，１−
エチレン基、２，２−プロピレン基、２，２−ブチレン
基、４−メチル−２，２−ペンチレン基などの脂肪族炭
化水素基、１，１−シクロヘキシレン基、３，３，５−
トリメチル−１，１−シクロヘキシレン基などの脂環族
炭化水素基、１−フェニル−１，１−エチレン基、ジフ
ェニルメチレン基、１，１−フルオレン基などのアラア
ルキレン基が例示できる。これらの中で特に２，２−プ
ロピレン基が好ましい。

【００２２】Ｒ⁵〜Ｒ⁸は同一または異なり、水素、ハロ
ゲン、または炭素数１〜５の炭化水素基であるが、好ま
しくは水素、臭素またはメチル基である。

【００２３】本発明で用いるポリアリレート系樹脂は、
上記式（２）および上記式（３）で表される繰り返し単
位からなる共重合体であってもよいし、混合物であって
もよい。

【００２４】上記ポリアリレート系樹脂は通常、界面重
縮合、溶融重縮合あるいは溶液重縮合などの公知の方法
により合成されるが、主鎖の芳香族基がエステル結合で
結ばれる上記ポリアリレート系樹脂は、得られるポリマ
ーの着色が少ない点で界面重縮合で得られるものが好ま
しい。例えば、アルカリ水溶液に溶解させたビスフェノ
ール類と塩化メチレンに溶解させた芳香族ジカルボン酸
ジクロライド類とを、界面移動触媒存在下で接触させる
ことにより重合することができる。また、上記式（２）
および（３）からなる共重合体は、この界面重縮合法に
より得ることができるが、かかる式（２）および式
（３）で表される繰り返し単位からなるそれぞれのポリ
マーを溶融混練することにより、所望のポリアリレート
系樹脂を得ることもできる。

【００２５】本発明において用いられるポリアリレート
系樹脂の分子量は、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算
の数平均分子量で１０，０００以上１００，０００以
下、好ましくは１５，０００以上７０，０００以下であ
る。かかる分子量が１０，０００より小さいと丈夫なフ
ィルムが得られず、また１００，０００を超えるとポリ
マーが得にくいばかりか溶解性が低下するために好まし
くない。

【００２６】本発明における溶液組成物は、ハロゲン系
溶媒１５〜９０重量部、および１０重量部のポリアリレ
ート系樹脂とからなる。

【００２７】本発明において、ポリアリレート系樹脂を
含有する溶液組成物に用いるハロゲン系溶媒としては、
ポリアリレート系樹脂を高濃度に溶解してかつ低沸点溶
媒であれば特に限定はなく、塩化メチレン、クロロホル
ム、１，２−ジクロロエタン、１，１，２−トリクロロ
エタン、クロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒が挙げら
れる。このうち先にも述べたようにポリアリレート系樹
脂に対する溶解性、ドープ安定性が高いこと、低沸点、
不燃性で取り扱いが容易なことなどから、主として塩化
メチレンからなるハロゲン系溶媒が好ましい。この場
合、全溶媒量の６０重量％以上、好ましくは７０重量％
以上、特に好ましくは１００重量％が塩化メチレンであ
る。塩化メチレンが６０重量％よりも少ないと、ポリア
リレート系樹脂を高濃度に溶解しにくくなり、得られる
ドープの安定性も低くなる。また得られるフィルムが白
化しやすくなる。ハロゲン系溶媒、特に塩化メチレン以
外の溶媒を他の溶媒として少量使用する場合の溶媒は特
に限定はなく、効果を勘案して用いればよい。ここでい
う効果とは、溶解性や安定性を犠牲にしない範囲で溶媒
を混合することによる、例えば溶液流延法により製膜し
たフィルムの表面性の改善（レベリング効果）、蒸発速
度や系の粘度調節、結晶化抑制効果などである。これら
の効果の度合いにより混合する溶媒の種類や添加量を決
定すればよく、また混合する溶媒として１種または２種
以上用いてもかまわない。好適に用いられる他の溶媒と
してはクロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハ
ロゲン系溶媒、トルエン、キシレンなどの炭化水素系溶
媒、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン
などのケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエ
ステル系溶媒、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソ
ラン、１，４−ジオキサンなどの環状エーテル系の溶
媒、エチレングリコールジメチルエーテル、メトキシエ
チルアセテートなどのエーテル系溶媒が挙げられる。

【００２８】調製したドープ中に不純物、微結晶などの
不溶物、浮遊物がある場合、あるいはドープにヘーズが
認められる場合には、濾過などの処理によりこれらを取
り除かなければならない。かかる処理を実施しないと製
膜したフィルムの光学特性を悪化させることがあり、ま
た調製したドープ自体の保存安定性を低下させることが
ある。一般に溶液流延法ではドープの濾過工程は必須で
あり、この時点で微少な不純物等を取り除けることが溶
融押し出し法に対する利点の一つである。

【００２９】本発明における溶液組成物中のポリアリレ
ート系樹脂の濃度は、用いる溶媒、ポリアリレート系樹
脂の分子量等にも依存するが、ポリアリレート系樹脂１
０重量部に対して溶媒量が１５〜９０重量部、好ましく
は２０〜５０重量部である。溶媒量が９０重量部を越え
ると溶液の安定性は問題ないが、ポリアリレート系樹脂
の実効濃度が低いために好ましくないばかりかこの溶液
組成物を用いて溶液流延法で製膜した場合、溶液粘度が
低いために外部擾乱が起きやすく表面平滑性が得られず
好ましくない。逆に溶媒量が１５重量部未満では安定な
ドープが得られにくい。これらの濃度は主としてドープ
の安定性、溶液粘度を勘案して決定される。

【００３０】本発明においては、ポリアリレート系樹脂
溶液組成物（ドープ）を支持基板上に流延した後、加熱
して溶媒を蒸発させることによりフイルムを得る。工業
的連続製膜工程は一般に流延工程、前乾燥工程、後乾燥
工程の３工程からなる。流延工程はドープを平滑に流延
する工程であり、前乾燥工程は流延したドープから大部
分の溶媒を蒸発除去する工程であり、後乾燥工程は残り
の溶媒を除去する工程である。

【００３１】流延工程では、ダイから押し出す方法、ド
クターブレードによる方法、リバースロールコータによ
る方法等が用いられる。工業的には、ダイから溶液をベ
ルト状もしくはドラム状の支持基板に連続的に押し出す
方法が最も一般的である。用いられる支持基板としては
特に限定はないが、ガラス基板、ステンレスやフェロタ
イプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレート等のプ
ラスチック基板が用いられる。しかし本発明の主眼にな
る高度に光学等方性、均質性の優れたフィルムを工業的
に連続製膜するには、鏡面仕上げした金属基板が最も一
般的に用いられる。

【００３２】一般にドープから透明かつ平滑なフイルム
を製膜するにあたり溶液粘度は極めて重要な因子であ
る。溶液粘度は樹脂の濃度、分子量および溶媒の種類に
依存するが、本発明の溶液組成物の粘度は、５００〜５
０，０００ｃｐｓ、好ましくは７００〜３０，０００ｃ
ｐｓである。これを越えると溶液の流動性が下がるため
に平滑なフイルムが得られないことがあり好ましくな
い。また、それ未満では流動性が高すぎ、通常キャスト
に用いるＴダイから溶液が均一に吐出しにくくなった
り、外部擾乱のために表面の乱れが生じ均質・平滑なフ
イルムが得られない。

【００３３】本発明の流延時のドープ温度は用いる溶媒
によるが、１０〜６０℃、好ましくは１５〜４０℃、塩
化メチレンを溶媒として用いる場合は１０〜４０℃、好
ましくは１５〜３５℃の範囲で行われる。平滑性の優れ
たフィルムを得るためにはダイから押し出された溶液が
支持基板上で流延・平滑化する必要がある。この際流延
温度が高すぎると、平滑になる前に表面の乾燥・固化が
起きるため好ましくない。また、温度が低すぎると、流
延溶液が冷却されて粘度が上昇し、平滑性が得られにく
いばかりか結露するために好ましくない。

【００３４】流延工程から乾燥工程に移る前に、ある程
度の時間乾燥を抑制しドープの流動性を確保することに
より、フィルムの表面性を高度に平滑化（レベリング効
果）することが可能である。

【００３５】前乾燥工程においては、できるだけ短時間
に支持基板上に流延されたドープから大部分の溶媒を蒸
発除去する必要がある。しかしながら、急激な蒸発が起
こると発泡による変形を受けるために、乾燥条件は慎重
に選択すべきである。本発明においては、使用する溶媒
の中で最も低い沸点、好適にはその（沸点−５）℃を上
限とする範囲から乾燥を開始するのがよい。その後、逐
次的あるいは連続的に昇温して乾燥効率を上げていくこ
とが好ましい。この工程における最終段階での温度の上
限は、１２０℃、好ましくは１００℃が採用される。こ
の工程では、残留溶媒が多い場合は２５重量％も含まれ
るために、それ以上高温にすると発泡が生じるために好
ましくない。また、必要に応じて風を送ってもよい。そ
の場合、一般には風速２０ｍ／秒以下、好ましくは１５
ｍ／秒以下の範囲が用いられる。それを越えると風の擾
乱のために平滑面が得られないために好ましくない。風
速は段階的ないしは連続的に増大させてもよいし、むし
ろ好ましい。初期の段階では風の擾乱を避けるために無
風でもよい。

【００３６】この前乾燥工程ではフイルムは基板上にあ
り、該工程の最後に、自立性のあるフィルムとして基板
から剥離される。その際に残留溶媒量が多いと該フイル
ムが柔らかいために変形が起き、また残留溶媒が少ない
と、流延フィルムの支持基板との密着性が高くなり剥離
性が悪くなるため応力歪、剥離筋、剥離傷が生じる。従
って残留溶媒量は重要な因子であり、好適には残留溶媒
量５〜２５重量％、さらに好適には７〜２０重量％の範
囲が選択される。

【００３７】後乾燥工程においては、基板より剥離した
フイルムをさらに乾燥し、残留溶媒量を３重量％以下、
好ましくは１重量％以下、さらに好ましくは０．５重量
％以下にする必要がある。残留溶媒が多いと経時的に変
形が起こったり、後加工工程で熱が加わると寸法変化、
いわゆる熱収縮がおこるためである。一般に後乾燥工程
は、工業的にはピンテンター方式あるいはロール懸垂方
式等でフイルムを搬送しながら乾燥する方法が採られ
る。ピンテンター方式では、フィルムの自重、溶媒の蒸
発による収縮、あるいは風圧等のためにフィルムに不均
一に力が加わる。また、懸垂方式でも巻取りのために加
わるＭＤ方向（フィルムの搬送方向）の力、風圧により
加わる力は避けられない。これらの力は一見僅かなよう
であるが、液晶表示装置用途等、高度に光学等方性が要
求されるフィルムの製膜には無視できない。なぜなら
ば、この工程に入る段階の大量に残留溶媒を含んだポリ
アリレート系フィルムは非常に変形を受けやすい状況に
あるからである。後述する参考例（図１）で立証するよ
うにポリアリレート系フィルムのガラス転移点は残留溶
媒量に大きく依存し、残留溶媒量の増加と共に顕著に低
下する。そのガラス転移点以上の温度では、フィルムの
弾性率が激減し、フイルムは著しく変形しやすくなる。
このような観点から、この工程での乾燥温度は特に厳密
に制御する必要があることが分かった。

【００３８】本発明においては、フィルムの幅方向に収
縮可能な状態、すなわち幅方向に無緊張状態で乾燥温度
を下記式（１）

【００３９】

【数３】 Ｔｇ’−５０＜ Ｔ ＜ Ｔｇ’ ・・・（１） ［ただし、Ｔｇ’（℃）は残留溶媒を含むポリアリレー
ト系フイルムのガラス転移点である。］の温度（Ｔ）の
範囲で、そのＴｇ’の推移に合わせて連続的または段階
的に昇温して乾燥することで実施される。ここで乾燥温
度（Ｔ℃）とは、乾燥雰囲気温度である。

【００４０】ここでいうＴｇ’は、ＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅ
ｒｅｎｔｉａｌ ＳｃａｎｎｉｎｇＣａｌｏｒｉｍｅｔ
ｒｙ）法により、密閉セル内に試料を封入し、昇温速度
２０℃／ｍｉｎで測定した時の立ち下がり温度と定義す
る。Ｔｇ’−５０℃未満では効率的に乾燥することが出
来なくなり好ましくない。逆にＴｇ’を越えると歪が生
じるために好ましくない。Ｔはさらに好ましくは、

【００４１】

【数４】Ｔｇ’−３０＜Ｔ＜Ｔｇ’ の範囲である。

【００４２】後乾燥工程では、フイルムが搬送されて行
く過程で残留溶媒が減少していき、それに伴ってＴｇ’
は上昇して行く。従って、この工程でフイルムの歪を生
じさせずに効率的に乾燥するためには、ＴをＴｇ’に合
わせて昇温させることが必要である。温度は連続的に昇
温させてもよいが、設備的には３〜１０段階、好ましく
は４〜７段階に分けてそのＴｇ’に応じて段階的に昇温
する方法が好適に採用される。なおこのＴｇ’は残留溶
媒量に依存するばかりでなく溶媒の種類にも依存する。

【００４３】この後乾燥工程においては前乾燥工程と同
様に送風してもよい。またフィルム搬送速度は、特に限
定はないが一般には、０．５〜１５ｍ／分、好ましくは
１〜１０ｍ／分の範囲で行われる。

【００４４】本発明において、上記ポリアリレート系フ
ィルムを製造する際に、溶媒ガス濃度が高く、窒素ガ
ス、炭酸ガス等の不活性ガス雰囲気中で乾燥を実施して
もよい。可燃性の溶媒を使用する場合は、溶媒の爆発限
界を考慮した安全性の面からこの不活性ガス雰囲気中で
の乾燥方法が好ましい。この場合、溶媒のガス濃度は３
ｖｏｌ％以上が望ましい。また不活性ガス雰囲気中の酸
素濃度は１０ｖｏｌ％以下が望ましい。

【００４５】本発明により得られるフィルムの厚みは、
１０〜３００μｍ、好ましくは５０〜２００μｍの範囲
である。特に液晶表示装置を構成するプラスチック基
板、位相差フィルム用原反フィルムには５０〜２００μ
ｍの厚みが好んで用いられる。これより厚いと残留溶媒
を除去することが困難であり、これより薄いと厚み斑を
抑制することが困難である。

【００４６】本発明により得られるフィルムは、延伸し
て位相差フィルム等に好適に用いることができる。

【００４７】

【発明の効果】本発明によれば、ポリアリレート系樹脂
の溶液組成物からフィルムを製膜する際、その乾燥条件
を厳密に制御することにより、光学的な等方性および均
質性に優れ、さらに残留溶媒量の極めて少ない透明・平
滑フィルムを得ることができる。かかるフィルムは、液
晶表示装置を構成するプラスチック基板、位相差フィル
ム等に有用である。

【００４８】

【実施例】以下に実施例により本発明を詳述する。但
し、本発明はこれに限定されるものではない。なお実施
例で行った測定項目は以下の方法で測定した。

【００４９】溶液粘度：東京計器（株）製Ｂ型粘度計Ｂ
Ｈ型を使用し、３０℃で測定した。 ガラス転移温度：ＴＡＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ製 ２９
２０型ＤＳＣを使用し、昇温速度は２０℃／分で測定し
た。 フィルム膜厚：アンリツ（株）製触針式膜厚計を使用し
た。 光線透過率：島津製作所（株）製紫外可視分光器（ＵＶ
−２４０）を使用した。 ヘイズ値：日本電色工業（株）製自動デジタルヘイズメ
ータ−ＵＤＨ−２０Ｄを使用した。 位相差および遅相軸：自動複屈折計ＫＯＢＵＲＡ−２１
ＡＤＨ（ＫＳシステムズ（株）製）を使用した。 残留溶媒の定量：窒素雰囲気中で２００℃で１６時間加
熱し、その前後の重量測定により求めた。

【００５０】［参考例１］前記式（２）中のビスフェノ
ール成分において、Ｘが２，２−プロピレン基、Ｒ¹〜
Ｒ⁴が全て水素であるものが６０モル％、Ｘがメチレン
基、Ｒ¹〜Ｒ⁴がいずれもメチル基であるものが４０モル
％であり、前記式（２）中の芳香族ジカルボン酸成分に
おけるＡｒがｐ−フェニレン基およびｍ−フェニレン基
である（モル比率７：３）繰り返し単位からなる共重合
ポリアリレート樹脂［数平均分子量＝３７，０００（ポ
リスチレン換算）、ガラス転移点＝２１１℃］を塩化メ
チレンに溶解し、濃度２０重量％の透明な粘ちょう溶液
を調製した。この溶液の３０℃における溶液粘度は６．
４×１０³ｃｐｓであった。この溶液から乾燥条件を変
化させることにより残留溶媒量の異なる膜厚１００μｍ
のフィルムを作製した。これらのフィルムのガラス転移
点（Ｔｇ’）を図１（Ａ）に示す。図から明らかなよう
にＴｇ’は残留溶媒量が増すに従って著しく低下した。

【００５１】［参考例２］ポリアリレート系樹脂とし
て、前記式（２）中のＸが２，２−プロピレン基、Ａｒ
がｐ−フェニレン基およびｍ−フェニレン基（モル比率
１：１）、Ｒ¹〜Ｒ⁴が全て水素であり、前記式（３）中
のＹが２，２−プロピレン基、Ｒ⁵〜Ｒ⁸が全て水素であ
る繰り返し単位からなり、前記式（２）および（３）で
表される繰り返し単位の比率が８８／１２であるポリエ
ステルカーボネート［数平均分子量＝２９，０００（ポ
リスチレン換算）、ガラス転移点＝１８９℃］を用い、
塩化メチレンに溶解して濃度２０重量％の透明な粘ちょ
う溶液を調製した。この溶液の３０℃における溶液粘度
は２．１×１０³ｃｐｓであった。この溶液を用い、参
考例１と同様にしてフィルムのガラス転移点と残留溶媒
量との関係を調べた。その結果を同じく図１（Ｂ）に示
す。図から明らかなようにＴｇ’は残留溶媒量が増すに
従って著しく低下した。

【００５２】［実施例１］参考例１で用いたポリアリレ
ート樹脂の２０重量％塩化メチレン溶液を用いて連続製
膜を行った。キャスティング装置は、ろ過工程を経てド
ープをダイからベルトへ押し出し、ベルトが４段階に区
分された前乾燥炉に接続されている方式を採用した。ま
た、後乾燥炉はベルトから剥離したフィルムが６段階に
区分されたピンテンター方式の炉を採用した。この装置
を用いて流延した後、前乾燥炉の温度を段階的に、３５
℃（無風）、５５℃（風速１ｍ／秒）、７５℃（風速５
ｍ／秒）に昇温し、最後に４０℃にして冷却した。そし
て残留溶媒量が１５重量％の自立性のあるフィルムにし
た。この段階でベルトからフィルムを剥離して後乾燥炉
に送った。後乾燥炉では幅方向に収縮可能な状態で、温
度を残留溶媒量、従ってＴｇ’に応じて７５℃（残留溶
媒量１５重量％、Ｔｇ’＝８７℃）、１００℃（残留溶
媒量１０重量％、Ｔｇ’＝１１５℃）、１３０℃（残留
溶媒量６重量％、Ｔｇ’＝１４４℃）、１５５℃（残留
溶媒量３．５重量％、Ｔｇ’＝１６８℃）、１７５℃
（残留溶媒量２重量％、Ｔｇ’＝１８４℃）、１８５℃
（残留溶媒量１重量％、Ｔｇ’＝１９７℃）に段階的に
昇温して乾燥フィルムを得た。かくして得られたフィル
ムは発泡、柚子肌、波打ち現象がなく厚みは１００±
１．２μｍであり、極めて均質であった。残留溶媒量は
０．１重量％であり極めて微量であった。また５５０ｎ
ｍの波長における光線透過率は９０．７％、ヘイズ値は
０．３％であり光学的に透明であった。波長５９０ｎｍ
における位相差は１０ｎｍ以下であり、またフィルム内
でのバラツキも少なかった。また遅相軸（フィルム面内
で屈折率が最大となる方向）のバラツキも±１０°以下
であり光学的にも均質なフィルムであった。

【００５３】［比較例１］フィルム剥離段階までは実施
例１と同様に作製したフィルムを剥離後、後乾燥炉の第
１〜３段階では１２５℃、第４〜６段階では１７０℃に
して後乾燥を行った。得られたフィルムの残留溶媒量は
０．１重量％であった。また５５０ｎｍの波長における
光線透過率は９０．７％、ヘイズ値は０．３％であり光
学的に透明であった。しかしながら波長５９０ｎｍにお
ける位相差を求めたところ３５±１０ｎｍであり、また
遅相軸のバラツキは±３０°もあり光学異方性およびそ
の斑は顕著に高く、光学歪が高いことが分かった。

【００５４】［実施例２］参考例２で用いたポリアリレ
ート系樹脂の２０重量％塩化メチレン溶液を用いて連続
製膜を行った。キャスティング装置および乾燥炉は、実
施例１で使用したものと同じものを使用した。この装置
を用いて流延した後、前乾燥炉の温度を段階的に、３５
℃（無風）、５５℃（風速０．５ｍ／秒）、７５℃（風
速５ｍ／秒）に昇温し、最後に４０℃にして冷却した。
そして残留溶媒量が１５重量％の自立性のあるフィルム
にした。この段階でベルトからフィルムを剥離して後乾
燥炉に送った。後乾燥炉の温度を残留溶媒量、従ってＴ
ｇ’に応じて６５℃（残留溶媒量１５重量％、Ｔｇ’＝
７５℃）、８０℃（残留溶媒量１１重量％、Ｔｇ’＝９
６℃）、１１５℃（残留溶媒量６重量％、Ｔｇ’＝１２
９℃）、 １３５℃（残留溶媒量４重量％、Ｔｇ’＝１
４２℃）、１５５℃（残留溶媒量２重量％、Ｔｇ’＝１
６５℃）、１７５℃（残留溶媒量１重量％、Ｔｇ’＝１
７９℃）に昇温して乾燥フィルムを得た。かくして得ら
れたフィルムは発泡、柚子肌、波打ち現象がなく厚みは
１００±１．１μｍであり、極めて均質であった。残留
溶媒量は０．１重量％であり極めて微量であった。また
５５０ｎｍにおける光線透過率は９０．１％、ヘイズ値
は０．４％であり光学的に透明であった。波長５９０ｎ
ｍにおける位相差は１０ｎｍ以下であり、またフィルム
面内でのバラツキも少なかった。また遅相軸のバラツキ
も±１０°以下であり光学的にも均質なフィルムであっ
た。

【００５５】［比較例２］フィルム剥離段階までは実施
例２と同様に作製したフィルムを剥離後、後乾燥炉の第
１〜３段階では１１０℃、第４〜６段階では１７０℃に
して後乾燥を行った。得られたフィルムの残留溶媒量は
０．１重量％であった。また５５０ｎｍの波長における
光線透過率は９０．２％、ヘイズ値は０．３％であり光
学的に透明であった。しかしながら波長５９０ｎｍにお
ける位相差を求めたところ３０±１５ｎｍであり、また
遅相軸のバラツキは±２０°もあり光学異方性およびそ
の斑は顕著に高く、光学歪が高いことが分かった。

【図面の簡単な説明】

【図１】参考例１および２で作製したフィルムのガラス
転移点（Ｔｇ’）と残留溶媒量との関係を示す曲線。

【符号の説明】

Ａ（●） 参考例１で作製したポリアリレート系フィル
ム。 Ｂ（○） 参考例２で作製したポリアリレート系フィル
ム。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ポリアリレート系樹脂およびハロゲン系
   溶媒とから主としてなる溶液組成物を支持基板上に流延
   し、そして溶媒を含む流延フィルムを加熱して溶媒を蒸
   発させてフィルムを製造するに際して、 （１）溶媒の含有量が５〜２５重量％になるまで溶媒を
   蒸発させて自立性のある前乾燥フィルムを形成する前乾
   燥工程と、 （２）支持体から剥離したのち、前記前乾燥フィルムを
   幅方向に収縮可能な状態で加熱乾燥する後乾燥工程、 ここでの乾燥温度（Ｔ℃）が下記式（１） 【数１】 Ｔｇ’−５０＜Ｔ＜Ｔｇ’ ・・・（１） ［ただし、Ｔｇ’（℃）は残留溶媒を含むポリアリレー
   ト系フィルムのガラス転移点であり、この温度は乾燥が
   進むにつれ残留溶媒含有量の減少とともに上昇する。］
   を満足するようにＴｇ’の推移に合わせて連続的にまた
   は段階的に昇温していく、とで乾燥を実施することを特
   徴とする光学等方性ポリアリレート系フィルムの製造方
   法。
2. 【請求項２】 溶液組成物が、塩化メチレンを６０重量
   ％以上含有するハロゲン系溶媒１５〜９０重量部、およ
   び１０重量部のポリアリレート系樹脂とからなることを
   特徴とする、請求項１記載の光学等方性ポリアリレート
   系フィルムの製造方法。