JP3403851B2 - 芳香族ポリカ−ボネ−ト溶液組成物およびフィルムの製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、芳香族ポリカ−ボネ−
トフィルムの製造に使用する溶液組成物に関するもので
ある。

【０００２】また、本発明は、表示素子などの光学用途
あるいは電気・電子機器用途に有用な芳香族ポリカ−ボ
ネ−トフィルムの製造方法に関するものである。更に詳
しくは、芳香族ポリカ−ボネ−トフィルムを溶液流延法
（キャステイング法）により連続製膜する際に、半乾燥
状態にある流延フィルムを支持基板から剥離する際の剥
離性に優れた、従って表面性、透明性、光学均質性の良
好な芳香族ポリカ−ボネ−トフィルムの製造方法に関す
るものである。

【０００３】

【従来の技術】近年、液晶表示装置が消費電力が少な
く、かつ画像品質に優れている点から注目を浴び実用化
が進められている。これらの液晶表示装置においては、
偏光板、保護層、位相差板および電極基板などに高分子
フィルムが使用されている。その内、高分子電極基板す
なわちプラスチック基板は、液晶表示装置の軽薄化のた
めに従来のガラス基板の代わり用いられるもので、透過
する偏光を液晶層に正確に伝えるために極めて高い光学
等方性と均質性が求められる。さらに透明電極の製膜や
配向膜形成など加工時に加わる熱に耐えるだけの耐熱性
が求められる。そのために未延伸のポリカ−ボネ−トフ
ィルム、ポリアリレ−トフィルムなどが用いられ、耐熱
性の観点からは芳香族ポリエ−テルスルホンからなるフ
ィルムも有望視されている［高瀬純治、「電極基板フィ
ルムの最近の開発動向」、高分子学会、高分子エレクト
ロニックス研究会要旨集ｐ２０（１９９３年１１月１１
日；於上智大学）］。

【０００４】特に芳香族ポリカ−ボネ−トフィルムは光
学的特性，経済的観点からよく使用されている。しかし
ながら、芳香族ポリカ−ボネ−トは芳香族基を分子内に
含むために分極率が高く、従ってわずかな分子配向によ
っても芳香族ポリカ−ボネ−トフィルムに光学異方性を
生じる欠点を有している。かかる観点から、分子配向を
極力抑え、光学等方性に優れた芳香族ポリカ−ボネ−ト
フィルムを製膜する技術の開発が重要な課題となってい
る。

【０００５】一方、位相差フィルムは、ＳＴＮ型液晶表
示素子やＴＮ型液晶表示素子において画像の視認性を向
上させるために用いられるものであり、液晶層を透過し
た楕円偏光を直線偏光に変換する役割を担っている。こ
れらの素材として主として一軸延伸したポリカ−ボネ−
トフィルムやポリビニルアルコ−ルフィルムが用いられ
ている。先に述べたように、芳香族ポリカ−ボネ−トは
芳香族基を分子内に含むために分極率が高く、フィルム
を一軸延伸して分子配向することにより光学異方性が得
られやすい。そのために位相差フィルムに要求される位
相差をわずかな延伸で得られる点が有利であるが、その
反面、光学的に均質な配向フィルムを得ることが難し
い。かかる配向フィルムを得るためには、未延伸フィル
ム（原反フィルム）の段階で光学的に高度に等方性を有
するフィルムを用いる必要がある。

【０００６】一般に芳香族ポリカ−ボネ−トフィルムは
溶融押し出し方法または溶液のキャストによるゆわゆる
キャスティング法、特に生産性の優れた溶融押し出し法
（Ｔダイ法）により製膜される。

【０００７】Ｔダイ法はプラスチックフィルムの製膜方
法として広く用いられているが、高粘度の融液を押し出
すために、高分子鎖が配向しやすくさらには膜内に応力
歪が残りやすいため、光学等方性や均質性が得難い。溶
融粘度を下げるには、プラスチックの分子量を下げる、
あるいは製膜温度を上げることが必要であるが、分子量
を下げるとフィルムの力学特性が低下し、また製膜温度
を上げると熱劣化や着色を誘発しやすくなる。また、Ｔ
ダイから押し出した融液を直接急速冷却するためにＴダ
イによる筋、いわゆるダイラインが発生しやすく高度な
表面性を有するフィルムが得難い［高瀬純治、「電極基
板フィルムの最近の開発動向」、高分子学会 高分子エ
レクトロニックス研究会要旨集ｐ２０（１９９３年１１
月１１日；於上智大学）］。

【０００８】液晶表示装置に用いられるフィルムに要求
される表面性、光学均質性はかなり厳しい。例ば、プラ
スチック基板に対しては、表面厚み斑±５μｍ以下、位
相差１０ｎｍ以下、光学軸配向±１０゜ 以下が要求さ
れ、位相差フィルム用原反フィルムには、表面厚み斑２
μｍ以下、位相差３０ｎｍ以下、光学軸配向±１°以下
が要求される。ここで光学軸配向とは、フィルム面内で
屈折率が最大となる方向、すなわち遅相軸の向きを表
す。このような厳しい要求を溶融押し出し法により達成
することは困難であるのが実状である。

【０００９】このような状況から、高い表面性、光学等
方性、均質性を満たす芳香族ポリカ−ボネ−トフィルム
の製膜法としては溶液流延法（キャステイング法）が有
力視されている。溶液流延法とは、溶液組成物（ド−
プ）を支持基板上に流延した後、加熱して大部分の溶媒
を除去して自立性のあるフィルムとしてから支持基板か
ら剥離し、さらに加熱乾燥して残りの溶媒を除去するフ
ィルム製膜法である。液晶表示装置に用いられるポリカ
−ボネ−トフィルムの製膜法には、現在この溶液流延法
が用いられている。

【００１０】通常芳香族ポリカ−ボネ−トフィルムの溶
液流延法による製造では溶媒として塩化メチレンがしば
しば使用される。これは溶液の安定性，キャスト時の操
作性などが優れているためであるが，芳香族ポリカ−ボ
ネ−トは、通常支持基板として用いられる金属板に対す
る密着性が高い。すなわち，ド−プ流延後、加熱して大
部分の溶媒を除いた半乾燥状態のフィルムを支持基板か
ら剥離する際、密着性が高く剥離性が悪いことが多い。
このように剥離強度が高いためにフィルムに剥離筋、剥
離傷が入ったり、フィルムがある一部分で引き延ばされ
白化したりして、液晶表示装置用途に求められる光学等
方性、均質性が高く、表面性の良好なフィルムを得るこ
とが困難になる場合がしばしはある。

【００１１】かかる課題を解決する手段として容易に考
えられるのは、ド−プにフッ素系、シリコン系、ステア
リン酸系等の離型剤を添加することである。例えばラウ
リルアルコ−ルなどの高級アルコ−ルをポリカ−ボネ−
トド−プに添加する方法が提案されている（米国特許
３，１６４，６５１）。しかしながらこれらの離型剤は
フィルム製膜後もフィルム中に残存するため、フィルム
のガラス転移点の低下が避けられない。また離型剤の析
出によりフィルムが白化することがある。さらには離型
剤の入ったフィルムを液晶表示装置用途などに用いる場
合には、後加工工程における他部材との接着性の低下が
懸念され好ましくない。以上のことから芳香族ポリカ−
ボネ−トフィルムの溶液流延法に関して、フィルム物性
は損なうことなく流延フィルムの支持基板からの剥離性
を改善する方法が求められていた。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、芳香
族ポリカ−ボネ−トフィルムの溶液流延法において、流
延フィルムの支持基板からの剥離性の良好な、従って表
面性、透明性、光学均質性に優れた芳香族ポリカ−ボネ
−トフィルムを製造する方法およびその際に使用する溶
液組成物を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するために鋭意検討した結果、低級脂肪族アルコ−
ルを少量含んだ芳香族ポリカ−ボネ−ト溶液組成物を用
いると、流延フィルムの支持基板からの剥離性が良好で
あり、従って表面性、透明性、光学均質性に優れた芳香
族ポリカ−ボネ−トフィルムが得られることを見いだ
し、本発明に到達した。

【００１４】すなわち本発明は、塩化メチレンを６０重
量％以上、炭素数１〜６の直鎖状または分岐鎖状の脂肪
族アルコ−ルを１〜１０重量％含有する溶媒１５〜９０
重量部に対し、芳香族ポリカ−ボネ−ト１０重量部を溶
解させた芳香族ポリカ−ボネ−ト溶液組成物である。

【００１５】また本発明は、上記の溶液組成物を支持基
板上に流延し、溶媒を含む流延フィルムを加熱して溶媒
を蒸発させることを特徴とする芳香族ポリカ−ボネ−ト
フィルムの製造方法である。

【００１６】本発明で使用する芳香族ポリカ−ボネ−ト
について特に制約はない。希望するフィルムの諸特性が
得られる芳香族ポリカ−ボネ−トであれば特に制約はな
い。一般に，ポリカ−ボネ−トと総称される高分子材料
は，その合成手法において重縮合反応が用いられて，主
鎖が炭酸結合で結ばれているものを総称するが，これら
の内でも，一般に，フェノ−ル誘導体と，ホスゲン，ジ
フェニルカ−ボネ−トらから重縮合で得られるものを意
味する。通常，ビスフェノ−ル−Ａと呼称されている
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンをビ
スフェノ−ル成分とする繰り返し単位で表される芳香族
ポリカ−ボネ−トが好ましく選ばれるが，適宜各種ビス
フェノ−ル誘導体を選択することで，芳香族ポリカ−ボ
ネ−ト共重合体を構成することが出来る。

【００１７】かかる共重合成分としてこのビスフェノ−
ル−Ａ以外に，ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン，１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘ
キサン，９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フル
オレン，１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
３，３，５−トリメチルシクロヘキサン，２，２−ビス
（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン，
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−フェニ
ルエタン，２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
１，１，１，３，３，３−ヘキサフロロプロパン，ビス
（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン，ビス
（４−ヒドロキシフェニル）サルファイド，ビス（４−
ヒドロキシフェニル）スルフォン、１，１−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロ
ヘキサン等をあげることができる。

【００１８】また，一部にテレフルタル酸および／また
はイソフタル酸成分を含む芳香族ポリエステルカ−ボネ
−トを使用することも可能である。このような構成単位
をビスフェノ−ル−Ａからなる芳香族ポリカ−ボネ−ト
の構成成分の一部に使用することにより芳香族ポリカ−
ボネ−トの性質、例えば耐熱性、溶解性を改良すること
が出来るが，このような共重合体についても本発明は有
効である。

【００１９】ここで用いられる芳香族ポリカ−ボネ−ト
の粘度平均分子量は、１０，０００以上、２００，００
０以下であれば好適に用いられる。粘度平均分子量２万
〜１２万が特に好ましい。粘度平均分子量が１０，００
０より低い樹脂を使用すると得られるフィルムの機械的
強度が不足する場合があり，また４００，０００以上の
高分子量になるとド−プの粘度が大きくなり過ぎ取扱い
上問題を生じるので好ましくない。

【００２０】本発明において、芳香族ポリカ−ボネ−ト
溶液組成物に用いる溶媒の６０重量％以上を塩化メチレ
ンが、炭素数１〜６の脂肪族アルコ−ルが１〜１０重量
％を占めるわけであるが、その他残りの溶媒としては芳
香族ポリカ−ボネ−トを高濃度に溶解し、かつアルコ−
ルと相溶性があること、さらには低沸点溶媒であれば特
に限定はない。しかしながら、そのような溶媒は意外に
少ない。芳香族ポリカ−ボネ−トに対して溶解力のある
溶媒として、塩化メチレン以外にクロロホルム、１，２
−ジクロロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、ク
ロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒、１，３−ジオキソ
ラン、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等の環
状エ−テル系の溶媒、シクロヘキサノン等のケトン系の
溶媒が挙げられる。

【００２１】剥離性の改良効果の面では水もまたその作
用を示すが，塩化メチレンの場合には、水は塩化メチレ
ンとは殆ど混ざり合わない、水が存在すると塩化メチレ
ンの分解による塩化水素の発生を無視する事が出来ず使
用する装置の金属部分に錆や腐食を発生させることがあ
る等の問題がある。このような理由によりアルコ−ルが
好適に用いられる。塩化メチレンを６０重量％以上、好
ましくは７０重量％以上含有する溶媒であり、脂肪族ア
ルコ−ルを１〜１０重量％含む他は全て塩化メチレンで
あることがより好ましいが他の溶媒を使用することがで
きる。すなわち、溶媒は、塩化メチレンを９０〜９９重
量％、炭素数１〜６の直鎖状または分岐鎖状の脂肪族ア
ルコ−ルを１〜１０重量％含有することが好ましい。他
の溶媒を使用する場合は特に限定はなく、効果を勘案し
て用いればよい。ここでいう効果とは、溶解性や安定性
を犠牲にしない範囲で溶媒を混合することによる、たと
えば溶液流延法により製膜したフイルムの表面性の改善
（レベリング効果）、蒸発速度や系の粘度調節、結晶化
抑制効果などである。これらの効果の度合により混合す
る溶媒の種類や添加量を決定すればよく、また混合する
溶媒として１種または２種以上用いてもかまわない。

【００２２】好適に用いられる他の溶媒としてはクロロ
ホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン系溶
媒、トルエン、キシレンなどの炭化水素系溶媒、アセト
ン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケト
ン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶
媒、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、メトキシエ
チルアセテ−トなどのエ−テル系溶媒が挙げられる。

【００２３】加えるアルコ−ルの種類は用いる溶媒によ
り制限される。アルコ−ルと該溶媒とが相溶性があるこ
とが必要条件である。これらは単独で加えても良いし、
２種類以上組み合わせても問題ない。本発明におけるア
ルコ−ルとしては、炭素数１〜６、好ましくは１〜４、
より好ましくは２〜４の鎖状、あるいは分岐した脂肪族
アルコ−ルが好ましい。具体的にはメタノ−ル、エタノ
−ル、イソプロパノ−ル、タ−シャリ−ブタノ−ルなど
が挙げられる。これらのうちエタノ−ル、イソプロパノ
−ル、タ−シャリ−ブタノ−ルはほぼ同等の効果が得ら
れるが、メタノ−ルはやや効果が低い。理由は明らかで
ないが溶媒の沸点、すなわち乾燥時の飛び易さが関係し
ているものと推測している。それ以上の高級アルコ−ル
は、高沸点であるためフィルム製膜後も残留しやすくな
るので好ましくない。

【００２４】アルコ−ルの添加量は慎重に選択されなけ
ればならない。これらは芳香族ポリカ−ボネ−トに対す
る溶解性には全く乏しく、完全な貧溶媒である。従って
あまり多く加えることはできず、満足すべき剥離性が得
られる最少量とすべきである。一般には全溶媒量に対し
て１〜１０重量％、好ましくは１〜８重量％、さらに好
ましくは１．５〜５重量％である。添加量が１０重量％
を超えると該溶媒のポリマ−に対する溶解性、ド−プ安
定性が低下するので好ましくなく、１重量％以下では剥
離性改善の効果に乏しくなる。

【００２５】本発明の溶液組成物は、結果としてヘイズ
の低い透明な溶液が得られればいかなる方法で調製して
もよい。あらかじめある溶媒に溶解させた芳香族ポリカ
−ボネ−ト溶液に、アルコ−ルを所定量添加してもよい
し、アルコ−ルを含む混合溶媒に芳香族ポリカ−ボネ−
トを溶解させてもよい。ただ先にも述べた様にアルコ−
ルは貧溶媒であるため、前者のあとから添加する方法で
はポリマ−の析出によるド−プ白濁の可能性があるた
め、後者の混合溶媒に溶解させる方法が好ましい。

【００２６】本発明における芳香族ポリカ−ボネ−トの
溶液濃度は、用いる共溶媒、芳香族ポリカ−ボネ−トの
分子量にも依存するが、芳香族ポリカ−ボネ−ト１０重
量部に対して溶媒量が１５〜９０重量部、好ましくは２
０〜５０重量部である。溶媒量がこれを越えると溶液の
安定性は問題ないが、芳香族ポリカ−ボネ−トの実効濃
度が低いために好ましくないばかりかこの溶液組成物を
用いて溶液流延法で製膜した場合、溶液粘度が低いため
に外部擾乱が起きやすく表面平滑性が得られず好ましく
ない。逆に溶媒量がこれ未満では安定なド−プが得られ
にくい。これらの濃度は主としてド−プの安定性、溶液
粘度を勘案して決定される。

【００２７】本発明においては、芳香族ポリカ−ボネ−
ト溶液組成物（ド−プ）を支持基板上に流延した後、溶
媒を蒸発させることによりフイルムを得る。加熱により
溶媒を蒸発させることができる。工業的連続製膜工程は
一般に流延工程、前乾燥工程、後乾燥工程の３工程から
なる。流延工程はド−プを平滑に流延する工程であり、
前乾燥工程は流延したド−プから大部分の溶媒を蒸発除
去する工程であり、後乾燥工程は残りの溶媒を除去する
工程である。

【００２８】流延工程では、ダイから押し出す方法、ド
クタ−ブレ−ドによる方法、リバ−スロ−ルコ−タによ
る方法等が用いられる。工業的には、ダイからド−プを
ベルト状もしくはドラム状の支持基板に連続的に押し出
す方法が最も一般的である。用いられる支持基板として
はガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基
板、ポリエチレンテレフタレ−ト等のプラスチック基板
などがある。支持基板の材質、表面状態も流延フィルム
の剥離性に大きな影響を与えることは言うまでもない。
例えば表面張力の極めて低いテフロン等でコ−ティング
された基板では、剥離性は良好である。しかしながら高
度に表面性、光学均質性の優れたフィルムを工業的に連
続製膜するには、表面を鏡面仕上げした金属基板が最も
一般的に用いられており、本発明はそのような金属基板
で効果が認められるものである。

【００２９】一般にド−プから透明かつ平滑なフイルム
を製膜するにあたり溶液粘度は極めて重要な因子であ
る。溶液粘度はポリマ−の濃度、分子量および溶媒の種
類に依存するが、本発明の溶液組成物の粘度は、５００
〜５０，０００ｃｐｓ、好ましくは７００〜３０，００
０ｃｐｓである。これを越えると溶液の流動性が下がる
ために平滑なフイルムが得られないことがあり好ましく
ない。また、それ未満では流動性が高すぎ、通常キャス
トに用いるＴダイからド−プが均一に吐出しにくくなっ
たり、外部擾乱のために表面に乱れが生じ均質・平滑な
フイルムが得られない。アルコ−ルを添加することによ
る溶液粘度への影響は、添加量が微量なこともありわず
かなものである。

【００３０】本発明の流延時の温度は用いる溶媒による
が、１０〜４０℃、好ましくは１５〜３５℃の範囲で行
われる。平滑性の優れたフィルムを得るためにはダイか
ら押し出された溶液が支持基板上で流延・平滑化する必
要がある。この際流延温度が高すぎると、平滑になる前
に表面の乾燥・固化が起きるため好ましくない。また温
度が低すぎると、流延溶液が冷却されて粘度が上昇し、
平滑性が得られにくいばかりか結露するために好ましく
ない。

【００３１】流延工程から乾燥工程に移る前に、ある程
度の時間乾燥を抑制しド−プの流動性を確保することに
より、フィルムの表面性を高度に平滑化（レベリング効
果）することが可能である。

【００３２】前乾燥工程においては、できるだけ短時間
に支持基板上に流延されたド−プから大部分の溶媒を蒸
発除去する必要がある。しかしながら、急激な蒸発が起
こると発泡による変形を受けるために、乾燥条件は慎重
に選択すべきである。本発明においては、使用する溶媒
の中で最も低い沸点、好適にはその（沸点−５℃）を上
限とする範囲から乾燥を開始すべきである。その後、逐
次的あるいは連続的に昇温して乾燥効率をあげるべきで
ある。この工程における最終段階での温度の上限は、１
２０℃、好ましくは１００℃が採用される。この工程で
は、残留溶媒が多い場合は２５重量％も含まれるため
に、それ以上高温にすると発泡が生じるために好ましく
ない。また、必要に応じて風を送ってもよい。その場
合、一般には風速２０ｍ／秒以下、好ましくは１５ｍ／
秒以下の範囲が用いられる。それを越えると風の擾乱の
ために平滑面が得られないために好ましくない。風速は
段階的ないしは連続的に増大させてもよいし、むしろ好
ましい。初期の段階では風の擾乱を避けるために無風で
もよい。

【００３３】この前乾燥工程ではフィルムは基板上にあ
り、工程の最後に基板から剥離される。その際に残留溶
媒量が多いとフィルムが柔らかいために変形が起き、ま
た残留溶媒が少ないと、本発明の溶液組成物からキャス
トした流延フィルムでも、支持基板との密着性が高くな
り剥離性が悪くなるため応力歪、剥離筋、剥離傷が生じ
る。従って残留溶媒量は重要な因子であり、好適には残
留溶媒量５〜２５重量％、さらに好適には７〜２０重量
％の範囲が選択される。金属基板を用いた溶液流延法で
は、一般に製膜開始当初は剥離性良好であるが、剥離を
繰り返すうちに次第に剥離性が低下していくことが多
い。この原因は定かではないが、次第に基板表面に表面
張力の高い金属原子が多く露出してくる、あるいは極微
量のポリマ−が表面に付着していき、それがいわば接着
層のように働き始める、などと推定している。この対策
として定期的に基板表面を洗浄する、例えば水で基板面
を拭くなどすれば剥離性は回復させることができるが、
工業的な連続製膜工程では極めてわずらわしい作業であ
り効率的ではない。本発明によれば、そのような作業を
することなく支持基板からの流延フィルムの剥離性を良
好に維持することができる。

【００３４】後乾燥工程においては、基板より剥離した
フィルムをさらに乾燥し、残留溶媒量を３重量％以下、
好ましくは１重量％以下、さらに好ましくは０．５重量
％以下にする必要がある。残留溶媒が多いと経時的に変
形が起こったり、その後の例えば液晶表示装置などへの
加工工程で熱が加わると寸法変化、いわゆる熱収縮が起
こるためである。一般に後乾燥工程は、工業的にはピン
テンタ−方式あるいはロ−ル懸垂方式等でフィルムを搬
送しながら乾燥する方法が採られるが、これらの方法で
は乾燥途中でフィルムに様々な力が加わる。従って液晶
表示装置用途等、光学的に高度な均質性が求められるフ
ィルムの製膜では乾燥温度はフィルムの変形が生じない
範囲から選択しなくてはならない。一般には、用いる芳
香族ポリポリカ−ボネ−トのガラス転移温度をＴｇ
（℃）とするとき、（Ｔｇ−１２０℃）〜Ｔｇの範囲、
好ましくは（Ｔｇ−１００℃）〜（Ｔｇ−１０℃）の範
囲が選ばれる。それ以上ではフィルムの熱変形が起こり
好ましくなく、それ以下では乾燥速度が著しく遅くなる
ために好ましくない。熱変形は残留溶媒が少なくなるに
つれて起きにくくなる。従って、該範囲内で初期に低温
で、その後段階的ないしは連続的に昇温する方法をとる
ことが好ましい。この後乾燥工程においては前乾燥工程
と同様に送風してもよい。

【００３５】本発明においては、上記芳香族ポリカ−ボ
ネ−トフィルムを製造する際に、溶媒ガス濃度が高く、
窒素ガス、炭酸ガス等の不活性ガス雰囲気中で乾燥を実
施してもよい。可燃性の溶媒を使用する場合は、溶媒の
爆発限界を考慮した安全性の面からこの不活性ガス雰囲
気中での乾燥方法が好ましい。この場合、溶媒のガス濃
度は乾燥の熱エネルギ−，回収効率を勘案すると３ｖｏ
ｌ％以上が望ましい。また不活性ガス雰囲気中の酸素濃
度は１０ｖｏｌ％以下が望ましい。

【００３６】本発明のフィルムの厚みは、１０〜３００
μｍ、好ましくは５０〜２００μｍの範囲である。特に
液晶表示装置を構成するプラスチック基板、位相差フィ
ルム用原反フィルムには５０〜２００μｍの厚みが好ん
で用いられる。これより厚いと残留溶媒を除去すること
が困難であり、これより薄いと厚み斑を抑制することが
困難である。

【００３７】

【発明の効果】本発明によれば、低級脂肪族アルコ−ル
を少量含む芳香族ポリカ−ボネ−ト溶液をド−プとして
用いることにより、剥離性の良好なフィルムを形成する
芳香族ポリカ−ボネ−ト組成物が得られる。また、本発
明によれば、該溶液をド−プとして用いることにより、
溶液流延法において流延フィルムの支持基板からの剥離
性の良好な、従って表面性、透明性、光学均質性に優れ
た芳香族ポリカ−ボネ−トフィルムを連続的に得ること
ができる。

【００３８】

【実施例】以下に実施例により本発明を詳述する。ただ
し本発明はこれに限定されるものではない。なお実施例
で行った各測定は以下の方法で実施した。 溶液粘度：東京計器（株）製Ｂ型粘度計ＢＨ型を使用
し、３０℃で測定した。 ガラス転移温度：ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ製 ２
９２０型ＤＳＣを使用し、昇温速度は２０℃／分で測定
した。 フィルム膜厚：アンリツ（株）製触針式膜厚計を使用し
た。 光線透過率：島津製作所（株）製紫外可視分光器（ＵＶ
−２４０）を使用。 ヘイズ値：日本電色工業（株）製自動デジタルヘイズメ
−タ−ＵＤＨ−２０Ｄを使用した。 位相差および遅相軸：自動複屈折計ＫＯＢＵＲＡ−２１
ＡＤＨ（ＫＳシステムズ（株）製）を使用した。 残留溶媒の定量：窒素雰囲気中で２００℃で１６時間加
熱し、その前後の重量測定により求めた。

【００３９】［実施例１］メタノ−ルを２重量％含む塩
化メチレンとメタノ−ルの混合溶媒４０重量部に対し
て、ビスフェノ−ルＡを構成単位とするポリカ−ボネ−
ト樹脂（帝人化成（株）製、パンライトＣ−１４００、
粘度換算分子量３７，０００、ガラス転移点＝１５６
℃）１０重量部、を２５℃で撹拌しながら溶解して、透
明で粘ちょうなド−プを得た。このド−プの１５℃にお
ける溶液粘度は７．５×１０³ ｃｐｓであった。

【００４０】ド−プを孔径５μｍのフィルタ−を用いて
濾別後、ドクタ−ブレ−ドを用いてフェロタイプ基板上
に流延した。この基板は新品のフェロタイプ板を十分に
洗浄、乾燥したものである。

【００４１】引き続き４０℃で１０分間、６０℃で１０
分間加熱乾燥してからフィルムを基板から剥離した。剥
離性は極めてよかった。なおこの剥離時点でのフィルム
中の残留溶媒量は１５．９％、膜厚は１１０μｍであっ
た。この剥離したフィルムを１００℃で１０分、１４０
℃で１時間乾燥した。フィルム表面に剥離傷、剥離筋等
は見られなかった。

【００４２】同一基板を用いてこの操作を繰り返し、フ
ィルム表面に剥離傷、剥離筋などが付くことなく剥離可
能な回数を調べることで剥離性を評価することにして、
この場合さらに６回繰り返したが剥離性は変化すること
なく、いづれも良好であった。これらの結果を表１に纏
めた。

【００４３】［実施例２］エタノ−ルを３重量％含む、
塩化メチレンとエタノ−ルの混合溶媒４０重量部に対し
て実施例１で用いた芳香族ポリカ−ボネ−ト１０重量部
を２５℃で撹拌しながら溶解して、透明で粘ちょうなド
−プを得た。このド−プの１５℃における溶液粘度は
７．１×１０³ ｃｐｓであった。実施例１と同様に濾過
後製膜して剥離性を調べたが、６回繰り返していづれも
剥離性良好であった。これらの結果を表１に纏めた。

【００４４】［実施例３］イソプロパノ−ルを３重量％
含む、塩化メチレンとイソプロパノ−ルの混合溶媒４０
重量部に対して実施例１で用いた芳香族ポリカ−ボネ−
ト１０重量部を２０℃で撹拌しながら溶解して、透明で
粘ちょうなド−プを得た。このド−プの１５℃における
溶液粘度は６．９×１０³ ｃｐｓであった。実施例１と
同様に濾過後製膜して剥離性を調べたが、６回繰り返し
ていづれも剥離性良好であった。これらの結果を表１に
纏めた。

【００４５】［実施例４］タ−シャリ−ブタノ−ルを３
重量％含む、塩化メチレンとブタノ−ルの混合溶媒４０
重量部に対して実施例１で用いた芳香族ポリカ−ボネ−
ト１０重量部を２０℃で撹拌しながら溶解して、透明で
粘ちょうなド−プを得た。このド−プの１５℃における
溶液粘度は７．６×１０³ ｃｐｓであった。実施例１と
同様に濾過後製膜して剥離性を調べたが、６回繰り返し
ていづれも剥離性良好であった。これらの結果を表１に
纏めた。

【００４６】［比較例１］塩化メチレン４０重量部に対
して実施例１で用いた芳香族ポリカ−ボネ−ト１０重量
部を２５℃で撹拌しながら溶解して、透明で粘ちょうな
ド−プを得た。このド−プの１５℃における溶液粘度は
６．８×１０³ ｃｐｓであった。実施例１と同様に濾過
後製膜して剥離性を調べたところ、２回目までは剥離性
良好であったが、３回目からは剥離強度が高くなり、フ
ィルム表面に多数の剥離筋が見られた。これらの結果を
表１に纏めた。

【００４７】［比較例２］メタノ−ルを０．５重量％含
む塩化メチレンの混合溶媒４０重量部に対して実施例１
で用いた芳香族ポリカ−ボネ−ト１０重量部を２５℃で
撹拌しながら溶解して、透明で粘ちょうなド−プを得
た。このド−プの１５℃における溶液粘度は６．８×１
０³ ｃｐｓであった。実施例１と同様に濾過後製膜して
剥離性を調べたところ、２回目までは剥離性良好であっ
たが、３回目からは剥離強度が高くなり、フィルム表面
に多数の剥離筋が見られた。これらの結果を表１に纏め
た。

【００４８】［比較例３］エタノ−ルを１２重量％含
む、塩化メチレンとエタノ−ルの混合溶媒４０重量部に
対して実施例１で用いた芳香族ポリカ−ボネ−ト１０重
量部を２５℃で撹拌しながら溶解させたが、溶解性が低
く白濁したド−プしか得られなかった。これらの結果を
表１に纏めた。

【００４９】［実施例５］エタノ−ルを３重量％含む塩
化メチレンの混合溶媒５７重量部に対して、９，９−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン単位を１０モ
ル％及びビスフェノ−ルＡ単位９０モル％よりなる芳香
族ポリカ−ボネ−ト［粘度平均分子量６．２万、ガラス
転移点＝１７３℃］１０重量部を２５℃で撹拌しながら
溶解して、透明で粘ちょうなド−プを得た。

【００５０】このド−プの３０℃における溶液粘度は１
０．４×１０³ ｃｐｓであった。このド−プを孔径５μ
ｍのフィルタ−を用いて濾別後、ドクタ−ブレ−ドを用
いてフェロタイプ基板上に流延した。この基板は新品の
フェロタイプ板を十分に洗浄、乾燥したものである。引
き続き４０℃で１０分間、６０℃で１０分間加熱乾燥し
てからフィルムを基板から剥離した。剥離性は極めてよ
く、フィルム表面に剥離傷、剥離筋等は見られなかっ
た。なおこの剥離時点でのフィルム中の残留溶媒量は１
５．５％、膜厚は１０８μｍであった。同一基板を用い
てこの操作をさらに５回繰り返したが剥離性は変化する
ことなくいづれも良好であった。これらの結果を表１に
纏めた。

【００５１】［実施例６］イソプロパノ−ルを３重量％
含む塩化メチレンとイソプロパノ−ルの混合溶媒２３重
量部に対して１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン５７モル％と
ビスフェノ−ルＡ単位４３モル％よりなる芳香族ポリカ
−ボネ−ト［ＢＡＹＥＲ社製、ＡＰＥＣ−ＨＴ、粘度平
均分子量＝２．２万，ガラス転移点＝２０７℃］１０重
量部を２５℃で撹拌しながら溶解して、透明で粘ちょう
なド−プを得た。このド−プの１５℃における溶液粘度
は８．８×１０³ ｃｐｓであった。実施例１と同様に濾
過後製膜して剥離性を調べたが、６回繰り返していづれ
も剥離性は良好であった。これらの結果を表１に纏め
た。

【００５２】［比較例４］塩化メチレン５７重量部に対
して実施例５で用いた共重合芳香族ポリカ−ボネ−ト１
０重量部を２５℃で撹拌しながら溶解して、透明で粘ち
ょうなド−プを得た。このド−プの３０℃における溶液
粘度は９．８×１０³ ｃｐｓであった。実施例５と同様
に濾過後製膜して剥離性を調べたところ２回目までは剥
離性良好であったが、３回目からは剥離強度が高くな
り、フィルム表面に多数の剥離筋が見られた。これらの
結果を表１に纏めた。

【００５３】［比較例５］塩化メチレンとエタノ−ルの
混合溶媒２３重量部に対して実施例６で用いた共重合芳
香族ポリカ−ボネ−ト１０重量部を２５℃で撹拌しなが
ら溶解して、透明で粘ちょうなド−プを得た。このド−
プの３０℃における溶液粘度は８．９×１０³ ｃｐｓで
あった。実施例６と同様に濾過後製膜して剥離性を調べ
たところ３回目までは剥離性良好であったが、４回目か
らは剥離強度が高くなり、フィルム表面に多数の剥離筋
が見られた。これらの結果を表１に纏めた。

【００５４】

【表１】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩田 薫 東京都日野市旭が丘４丁目３番２号 帝 人株式会社 東京研究センター内 (56)参考文献 特開 平６−313104（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C08J 5/18 C08L 69/00

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 塩化メチレンを６０重量％以上、炭素数
   １〜６の直鎖状または分岐鎖状の脂肪族アルコ−ルを１
   〜１０重量％含有する溶媒１５〜９０重量部に対し、芳
   香族ポリカ−ボネ−ト１０重量部を溶解させた芳香族ポ
   リカ−ボネ−ト溶液組成物。
2. 【請求項２】 芳香族ポリカ−ボネ−トが、２，２−ビ
   ス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンからの繰り返し
   単位で構成される芳香族ポリカ−ボネ−トである請求項
   １記載の溶液組成物。
3. 【請求項３】 芳香族ポリカ−ボネ−トが、２，２−ビ
   ス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンおよび他の芳香
   族ポリカ−ボネ−トからの繰り返し単位で構成される芳
   香族ポリカ−ボネ−ト共重合体である請求項１記載の溶
   液組成物。
4. 【請求項４】 他の芳香族ポリカ−ボネ−トが、ビス
   （４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４
   −ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、９，９−ビス
   （４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、１，１−ビス
   （４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル
   シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−
   メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロ
   キシフェニル）−２−フェニルエタン、２，２−ビス
   （４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３
   −ヘキサフロロプロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニ
   ル）ジフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニ
   ル）サルファイド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ス
   ルフォンおよび１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
   ル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンからなる
   群より選ばれる少なくとも一種である請求項３記載の溶
   液組成物。
5. 【請求項５】 芳香族ポリカ−ボネ−トの粘度平均分子
   量が、１０，０００以上、２００，０００以下である請
   求項１記載の溶液組成物。
6. 【請求項６】 溶媒が、塩化メチレンを９０〜９９重量
   ％、炭素数１〜６の直鎖状または分岐鎖状の脂肪族アル
   コ−ルを１〜１０重量％含有する請求項１記載の溶液組
   成物。
7. 【請求項７】 溶媒の残りの成分が、クロロホルム、
   １，２−ジクロロエタン、トルエン、キシレン、アセト
   ン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチ
   ル、酢酸ブチル、エチレングリコ−ルジメチルエ−テ
   ル、メトキシエチルアセテ−トからなる群より選ばれる
   少なくとも一種である請求項１記載の溶液組成物。
8. 【請求項８】 脂肪族アルコ−ルが、メタノ−ル、エタ
   ノ−ル、イソプロパノ−ル、タ−シャリ−ブタノ−ルか
   らなる群より選ばれる少なくとも一種である請求項１記
   載の溶液組成物。
9. 【請求項９】 請求項１〜８に記載の溶液組成物を、支
   持基板上に流延し溶媒を含む流延フィルムから溶媒を蒸
   発させることを特徴とする芳香族ポリカ−ボネ−トフィ
   ルムの製造方法。
10. 【請求項１０】 流延および溶媒の蒸発除去を連続で行
    う請求項９記載の製造方法。
11. 【請求項１１】 流延工程、前乾燥工程、後乾燥工程か
    らなる請求項９記載の製造方法。