JPH08248434A - 液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置Info
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- JPH08248434A JPH08248434A JP5217995A JP5217995A JPH08248434A JP H08248434 A JPH08248434 A JP H08248434A JP 5217995 A JP5217995 A JP 5217995A JP 5217995 A JP5217995 A JP 5217995A JP H08248434 A JPH08248434 A JP H08248434A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 液晶表示装置に関し、液晶パネルの表示試験
の際に現れた表示欠陥が液晶パネル側の欠陥に起因する
ものか、ドライバーＬＳＩ等の欠陥に起因するものかを
容易に確認する手段を提供する。 【構成】 透明絶縁性基板１の上にゲート（行電極）ま
たはドレインバスライン（列電極）２を層間絶縁膜を挟
んで交差して形成し、その交差部近傍にＴＦＴを配設
し、行電極とＴＦＴのゲート電極、列電極とドレイン電
極を接続し、ソース電極に画素電極を接続したＴＦＴ基
板において、ゲートまたはドレインバスライン２に接続
された外部接続用端子４の少なくとも１つに検査端子７
を形成し、この検査端子７に絶縁性保護膜３のコンタク
トホール５を通してＩＴＯ膜等の接触パッド８を形成す
る。検査端子７上の絶縁性保護膜３の上に接触パッド８
を形成しておき、必要が生じたときに、レーザ光を照射
してその間を接続することもできる。単純マトリクスに
も適用できる。
の際に現れた表示欠陥が液晶パネル側の欠陥に起因する
ものか、ドライバーＬＳＩ等の欠陥に起因するものかを
容易に確認する手段を提供する。 【構成】 透明絶縁性基板１の上にゲート（行電極）ま
たはドレインバスライン（列電極）２を層間絶縁膜を挟
んで交差して形成し、その交差部近傍にＴＦＴを配設
し、行電極とＴＦＴのゲート電極、列電極とドレイン電
極を接続し、ソース電極に画素電極を接続したＴＦＴ基
板において、ゲートまたはドレインバスライン２に接続
された外部接続用端子４の少なくとも１つに検査端子７
を形成し、この検査端子７に絶縁性保護膜３のコンタク
トホール５を通してＩＴＯ膜等の接触パッド８を形成す
る。検査端子７上の絶縁性保護膜３の上に接触パッド８
を形成しておき、必要が生じたときに、レーザ光を照射
してその間を接続することもできる。単純マトリクスに
も適用できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＴＦＴ基板のゲートま
たはドレインバスラインに検査端子を有する液晶表示装
置に関する。
たはドレインバスラインに検査端子を有する液晶表示装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図４は、従来の液晶表示装置の一例の構
成説明図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は断面図であ
る。この図において、３１は透明絶縁性基板、３２はゲ
ートまたはドレインバスライン、３３は絶縁性保護膜、
３４は外部接続用端子、３５は表示領域である。
成説明図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は断面図であ
る。この図において、３１は透明絶縁性基板、３２はゲ
ートまたはドレインバスライン、３３は絶縁性保護膜、
３４は外部接続用端子、３５は表示領域である。
【０００３】この従来の液晶表示装置においては、透明
絶縁性基板３１の上に、基板３１の周辺に位置する外部
接続用端子３４から、表示領域３５に延在する複数のゲ
ートまたはドレインバスライン３２が形成され、その上
にゲートまたはドレインバスライン３２を保護するため
のＳｉＯ，ＳｉＮ等の絶縁性保護膜３３が形成されてい
る。そして、この外部接続用端子３４と表示領域３５の
端の間のゲートまたはドレインバスライン３２には検査
端子が形成されていない。
絶縁性基板３１の上に、基板３１の周辺に位置する外部
接続用端子３４から、表示領域３５に延在する複数のゲ
ートまたはドレインバスライン３２が形成され、その上
にゲートまたはドレインバスライン３２を保護するため
のＳｉＯ，ＳｉＮ等の絶縁性保護膜３３が形成されてい
る。そして、この外部接続用端子３４と表示領域３５の
端の間のゲートまたはドレインバスライン３２には検査
端子が形成されていない。
【０００４】このように、透明絶縁性基板の上にゲート
またはドレインバスラインである複数の行電極と列電極
が層間絶縁膜を挟んで交差して配設され、行電極と列電
極の各交差部近傍に薄膜トランジスタが配設され、行電
極と該薄膜トランジスタのゲート電極が接続され、列電
極と該薄膜トランジスタのドレイン電極が接続され、薄
膜トランジスタのソース電極に透明導電膜からなる画素
電極が接続された薄膜トランジスタマトリクスが配設さ
れた表示部分を有する第１の基板（ＴＦＴ基板）と、透
明絶縁性基板の上に少なくとも透明導電膜を有する第２
の基板の間の間隙に液晶を注入し、封止して液晶パネル
を形成する。
またはドレインバスラインである複数の行電極と列電極
が層間絶縁膜を挟んで交差して配設され、行電極と列電
極の各交差部近傍に薄膜トランジスタが配設され、行電
極と該薄膜トランジスタのゲート電極が接続され、列電
極と該薄膜トランジスタのドレイン電極が接続され、薄
膜トランジスタのソース電極に透明導電膜からなる画素
電極が接続された薄膜トランジスタマトリクスが配設さ
れた表示部分を有する第１の基板（ＴＦＴ基板）と、透
明絶縁性基板の上に少なくとも透明導電膜を有する第２
の基板の間の間隙に液晶を注入し、封止して液晶パネル
を形成する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述の従来の液晶表示
装置においては、透明電極を有する一対の基板の間に液
晶を注入して液晶パネルを形成した後、この液晶パネル
の外部接続用端子３４にドライバーＬＳＩまたはフレキ
シブル印刷配線を介してＩＣチップを接続し、その後、
表示試験を行っていた。
装置においては、透明電極を有する一対の基板の間に液
晶を注入して液晶パネルを形成した後、この液晶パネル
の外部接続用端子３４にドライバーＬＳＩまたはフレキ
シブル印刷配線を介してＩＣチップを接続し、その後、
表示試験を行っていた。
【０００６】ところが、液晶パネルの外側に露出するゲ
ートまたはドレインバスライン３２の幅が極めて狭く
て、この部分に精密な位置合わせを用いないでコンタク
トをとることができないため、表示試験の際に現れた表
示欠陥が、液晶パネルのゲートまたはドレインバスライ
ン３２やＴＦＴ等の欠陥に起因するものか、ドライバー
ＬＳＩ等の欠陥に起因するものかを確認することが困難
であった。
ートまたはドレインバスライン３２の幅が極めて狭く
て、この部分に精密な位置合わせを用いないでコンタク
トをとることができないため、表示試験の際に現れた表
示欠陥が、液晶パネルのゲートまたはドレインバスライ
ン３２やＴＦＴ等の欠陥に起因するものか、ドライバー
ＬＳＩ等の欠陥に起因するものかを確認することが困難
であった。
【０００７】本発明は、表示試験の際に現れた表示欠陥
が、液晶パネル側の欠陥に起因するものか、ドライバー
ＬＳＩ等の欠陥に起因するものかを確認することができ
る液晶表示装置を提供することを目的とする。さらに
は、製造工程、搬送工程、検査工程等において、静電気
によって、ゲートまたはドレインバスラインの交差点の
層間絶縁膜の絶縁破壊やＴＦＴの損傷を低減する検査方
法を確立することを目的とする。
が、液晶パネル側の欠陥に起因するものか、ドライバー
ＬＳＩ等の欠陥に起因するものかを確認することができ
る液晶表示装置を提供することを目的とする。さらに
は、製造工程、搬送工程、検査工程等において、静電気
によって、ゲートまたはドレインバスラインの交差点の
層間絶縁膜の絶縁破壊やＴＦＴの損傷を低減する検査方
法を確立することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明にかかる液晶表示
装置においては、間隙を保って対向して配置され、内側
に電極を有する一対の基板と、該一対の基板の間の間隙
に注入された液晶からなる液晶表示装置において、表示
領域の外側に該電極のそれぞれの一端に、外部からの信
号を受け取るための外部接続用端子を有し、該外部接続
用端子の少なくとも１つに、該表示領域の外側で、か
つ、該外部接続用端子の内側に、該電極に接続された検
査端子を有する構成を採用した。
装置においては、間隙を保って対向して配置され、内側
に電極を有する一対の基板と、該一対の基板の間の間隙
に注入された液晶からなる液晶表示装置において、表示
領域の外側に該電極のそれぞれの一端に、外部からの信
号を受け取るための外部接続用端子を有し、該外部接続
用端子の少なくとも１つに、該表示領域の外側で、か
つ、該外部接続用端子の内側に、該電極に接続された検
査端子を有する構成を採用した。
【０００９】この場合、基板の上にゲートまたはドレイ
ンバスラインである複数の行電極と列電極が層間絶縁膜
を挟んで交差して配設され、該行電極と列電極の各交差
部近傍に薄膜トランジスタが配設され、該行電極と該薄
膜トランジスタのゲート電極が接続され、該列電極と該
薄膜トランジスタのドレイン電極が接続され、該薄膜ト
ランジスタのソース電極に透明導電膜からなる画素電極
が接続された薄膜トランジスタマトリクスが形成された
表示部分を有する第１の基板と、基板の上に少なくとも
透明導電膜を有する第２の基板とで液晶を挟んだ液晶表
示装置においては、表示領域の外側に該行電極と列電極
のそれぞれの一端には外部からの信号を受け取るための
外部接続用端子を有し、該外部接続用端子の少なくとも
１つに、該表示領域の外側で、かつ、該外部接続用端子
の内側に、該行電極または列電極に接続された検査端子
を有する構成とすることができる。
ンバスラインである複数の行電極と列電極が層間絶縁膜
を挟んで交差して配設され、該行電極と列電極の各交差
部近傍に薄膜トランジスタが配設され、該行電極と該薄
膜トランジスタのゲート電極が接続され、該列電極と該
薄膜トランジスタのドレイン電極が接続され、該薄膜ト
ランジスタのソース電極に透明導電膜からなる画素電極
が接続された薄膜トランジスタマトリクスが形成された
表示部分を有する第１の基板と、基板の上に少なくとも
透明導電膜を有する第２の基板とで液晶を挟んだ液晶表
示装置においては、表示領域の外側に該行電極と列電極
のそれぞれの一端には外部からの信号を受け取るための
外部接続用端子を有し、該外部接続用端子の少なくとも
１つに、該表示領域の外側で、かつ、該外部接続用端子
の内側に、該行電極または列電極に接続された検査端子
を有する構成とすることができる。
【００１０】この場合、検査端子を、基板の上に形成さ
れた電極と同じ金属膜とＩＴＯ膜等の導電性保護膜から
なる接触パッドを積層した構成とすることができる。
れた電極と同じ金属膜とＩＴＯ膜等の導電性保護膜から
なる接触パッドを積層した構成とすることができる。
【００１１】また、この場合、検査端子を、透明絶縁性
基板の上に形成された電極と同じ金属膜と絶縁性保護膜
とＩＴＯ膜等の導電性保護膜からなる接触パッドを積層
し、該金属膜と接触パッドの間が該絶縁性保護膜に形成
したコンタクトホールによって接続されている構成とす
ることができる。
基板の上に形成された電極と同じ金属膜と絶縁性保護膜
とＩＴＯ膜等の導電性保護膜からなる接触パッドを積層
し、該金属膜と接触パッドの間が該絶縁性保護膜に形成
したコンタクトホールによって接続されている構成とす
ることができる。
【００１２】また、この場合、検査端子を、透明絶縁性
基板の上に形成された電極と同じ金属膜と絶縁性保護膜
とＩＴＯ膜等の導電性保護膜からなる接触パッドを積層
した構成とし、検査端子を用いた検査が必要な場合に、
該検査端子と接触パッドの間を短絡するようにすること
ができる。
基板の上に形成された電極と同じ金属膜と絶縁性保護膜
とＩＴＯ膜等の導電性保護膜からなる接触パッドを積層
した構成とし、検査端子を用いた検査が必要な場合に、
該検査端子と接触パッドの間を短絡するようにすること
ができる。
【００１３】
【作用】本発明のように、表示領域の外側に該行電極と
列電極のそれぞれの一端には外部からの信号を受け取る
ための外部接続用端子を有し、該外部接続用端子の少な
くとも１つに、該表示領域の外側で、かつ、該外部接続
用端子の内側に、該行電極または列電極に接続された検
査端子を有する構成をとることによって、表示試験の際
に現れた表示欠陥が、液晶パネルのゲートまたはドレイ
ンバスライン３２やＴＦＴ等の欠陥に起因するものか、
ドライバーＬＳＩ等の欠陥に起因するものかを確認し、
製造工程にフィードバックすることができる。
列電極のそれぞれの一端には外部からの信号を受け取る
ための外部接続用端子を有し、該外部接続用端子の少な
くとも１つに、該表示領域の外側で、かつ、該外部接続
用端子の内側に、該行電極または列電極に接続された検
査端子を有する構成をとることによって、表示試験の際
に現れた表示欠陥が、液晶パネルのゲートまたはドレイ
ンバスライン３２やＴＦＴ等の欠陥に起因するものか、
ドライバーＬＳＩ等の欠陥に起因するものかを確認し、
製造工程にフィードバックすることができる。
【００１４】この場合、検査端子を、基板の上に形成さ
れた電極と同じ金属膜とＩＴＯ膜等の導電性保護膜から
なる接触パッドを積層した構成をとることによって、検
査端子を形成する工程を省略することができ、検査端子
の表面が酸化等によって検査用プローブとの接触抵抗を
低く保つことができる。
れた電極と同じ金属膜とＩＴＯ膜等の導電性保護膜から
なる接触パッドを積層した構成をとることによって、検
査端子を形成する工程を省略することができ、検査端子
の表面が酸化等によって検査用プローブとの接触抵抗を
低く保つことができる。
【００１５】また、この場合、検査端子を、透明絶縁性
基板の上に形成された電極と同じ金属膜と絶縁性保護膜
と導電性保護膜からなる接触パッドを積層し、該金属膜
と接触パッドの間が該絶縁性保護膜に形成したコンタク
トホールによって接続されている構成とすると、検査端
子の表面の酸化を防止して、検査用プローブと検査端子
の接触抵抗をより確実に低くすることができ、接触パッ
ドを表示領域の表面と一致させることができ、顕微鏡に
よる検査用プローブの接触パッドへの位置決めを容易に
することができる。
基板の上に形成された電極と同じ金属膜と絶縁性保護膜
と導電性保護膜からなる接触パッドを積層し、該金属膜
と接触パッドの間が該絶縁性保護膜に形成したコンタク
トホールによって接続されている構成とすると、検査端
子の表面の酸化を防止して、検査用プローブと検査端子
の接触抵抗をより確実に低くすることができ、接触パッ
ドを表示領域の表面と一致させることができ、顕微鏡に
よる検査用プローブの接触パッドへの位置決めを容易に
することができる。
【００１６】また、検査端子を、透明絶縁性基板の上に
形成された電極と同じ金属膜と絶縁性保護膜と導電性保
護膜からなる接触パッドを積層した構成とし、検査端子
を用いた検査が必要な場合に、該検査端子と接触パッド
の間を短絡することができるようにすると、該検査端子
と接触パッドの間を短絡するまでは、比較的広い面積を
有する接触パッドに静電気が生じても、接触パッドと検
査端子の間を絶縁性保護膜によって絶縁しているため、
電極の交差点の絶縁性保護膜の絶縁破壊や、ＴＦＴの損
傷を防ぐことができる。本発明は、ＴＦＴを有するアク
ティブマトリクスだけでなく、ＴＦＴをもたない単純マ
トリクス基板に適用することもできる。
形成された電極と同じ金属膜と絶縁性保護膜と導電性保
護膜からなる接触パッドを積層した構成とし、検査端子
を用いた検査が必要な場合に、該検査端子と接触パッド
の間を短絡することができるようにすると、該検査端子
と接触パッドの間を短絡するまでは、比較的広い面積を
有する接触パッドに静電気が生じても、接触パッドと検
査端子の間を絶縁性保護膜によって絶縁しているため、
電極の交差点の絶縁性保護膜の絶縁破壊や、ＴＦＴの損
傷を防ぐことができる。本発明は、ＴＦＴを有するアク
ティブマトリクスだけでなく、ＴＦＴをもたない単純マ
トリクス基板に適用することもできる。
【００１７】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。 （第１実施例）図１は、第１実施例の液晶表示装置の構
成説明図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は断面図であ
る。この図において、１は透明絶縁性基板、２はゲート
またはドレインバスライン、３は絶縁性保護膜、４は外
部接続用端子、５はコンタクトホール、６は表示領域、
７は検査端子、８は接触パッドである。
成説明図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は断面図であ
る。この図において、１は透明絶縁性基板、２はゲート
またはドレインバスライン、３は絶縁性保護膜、４は外
部接続用端子、５はコンタクトホール、６は表示領域、
７は検査端子、８は接触パッドである。
【００１８】この実施例の液晶表示装置においては、透
明絶縁性基板１の上に、透明絶縁性基板１の周辺に位置
する外部接続用端子４から、表示領域６に延在する複数
のゲートまたはドレインバスライン２が形成され、その
上にゲートまたはドレインバスライン２を保護するＳｉ
Ｏ，ＳｉＮ等の絶縁性保護膜３が形成されている。
明絶縁性基板１の上に、透明絶縁性基板１の周辺に位置
する外部接続用端子４から、表示領域６に延在する複数
のゲートまたはドレインバスライン２が形成され、その
上にゲートまたはドレインバスライン２を保護するＳｉ
Ｏ，ＳｉＮ等の絶縁性保護膜３が形成されている。
【００１９】そして、この外部接続用端子４と表示領域
６の端の間のゲートまたはドレインバスライン２には、
ゲートまたはドレインバスライン２と同じ金属膜からな
り、ゲートまたはドレインバスライン２の幅の数十〜数
百倍、すなわち、縦横数百μｍ〜数ｍｍの検査端子７が
形成され、この検査端子７には絶縁性保護膜３のコンタ
クトホール５を経て検査端子７と同じ大きさのＩＴＯ膜
等の導電性保護膜からなる接触パッド８が形成されてい
る。
６の端の間のゲートまたはドレインバスライン２には、
ゲートまたはドレインバスライン２と同じ金属膜からな
り、ゲートまたはドレインバスライン２の幅の数十〜数
百倍、すなわち、縦横数百μｍ〜数ｍｍの検査端子７が
形成され、この検査端子７には絶縁性保護膜３のコンタ
クトホール５を経て検査端子７と同じ大きさのＩＴＯ膜
等の導電性保護膜からなる接触パッド８が形成されてい
る。
【００２０】そのため、精密な位置決め装置を用いるこ
となく、検査用プローブを接触パッドに正確に接触させ
ることが容易になり、表示試験の際に現れた表示欠陥
が、液晶パネルのゲートまたはドレインバスライン３２
やＴＦＴ等の欠陥に起因するものか、ドライバーＬＳＩ
等の欠陥に起因するものかを確認することができる。
となく、検査用プローブを接触パッドに正確に接触させ
ることが容易になり、表示試験の際に現れた表示欠陥
が、液晶パネルのゲートまたはドレインバスライン３２
やＴＦＴ等の欠陥に起因するものか、ドライバーＬＳＩ
等の欠陥に起因するものかを確認することができる。
【００２１】この実施例によると、検査端子７を、透明
絶縁性基板の上に形成されたゲートまたはドレインバス
ライン２と同じ金属膜で形成するため、検査端子７を形
成する工程を省略することができ、また、接触パッド８
を、ゲートまたはドレインバスライン等の金属層の酸化
を防ぐために用いられるＩＴＯ膜を利用して形成するた
め、接触パッド８を形成する工程を省略することがで
き、検査端子７の表面の酸化を防ぎ、検査用プローブと
の接触抵抗を低く保つことができる。
絶縁性基板の上に形成されたゲートまたはドレインバス
ライン２と同じ金属膜で形成するため、検査端子７を形
成する工程を省略することができ、また、接触パッド８
を、ゲートまたはドレインバスライン等の金属層の酸化
を防ぐために用いられるＩＴＯ膜を利用して形成するた
め、接触パッド８を形成する工程を省略することがで
き、検査端子７の表面の酸化を防ぎ、検査用プローブと
の接触抵抗を低く保つことができる。
【００２２】この実施例の液晶表示装置においては、検
査端子７をＩＴＯ膜等の導電性保護膜によって覆ってい
るが、ゲートまたはドレインバスライン２が耐酸化性を
有する場合は、この導電性保護膜からなる接触パッド８
を省略することができる。
査端子７をＩＴＯ膜等の導電性保護膜によって覆ってい
るが、ゲートまたはドレインバスライン２が耐酸化性を
有する場合は、この導電性保護膜からなる接触パッド８
を省略することができる。
【００２３】ところが、この実施例の液晶表示装置にお
いては、検査端子７および接触パッド８が、ゲートまた
はドレインバスラインの幅の数十ないし数百倍と大きい
ため、製造工程、搬送工程、検査工程等において、検査
端子や接触パッドが静電気を集め易く、この静電気によ
って、ゲートまたはドレインバスラインの交差点の絶縁
性保護膜の絶縁破壊や、ＴＦＴの損傷を生じ易いという
問題を有している。
いては、検査端子７および接触パッド８が、ゲートまた
はドレインバスラインの幅の数十ないし数百倍と大きい
ため、製造工程、搬送工程、検査工程等において、検査
端子や接触パッドが静電気を集め易く、この静電気によ
って、ゲートまたはドレインバスラインの交差点の絶縁
性保護膜の絶縁破壊や、ＴＦＴの損傷を生じ易いという
問題を有している。
【００２４】また、ゲートまたはドレインバスラインの
内、検査端子７を有しているものだけが、大きな電気容
量をもち、大量の電荷を蓄積することになるため、その
バスラインによって駆動される画素が、他の画素と異な
る表示状態を示すという問題を生じていた。
内、検査端子７を有しているものだけが、大きな電気容
量をもち、大量の電荷を蓄積することになるため、その
バスラインによって駆動される画素が、他の画素と異な
る表示状態を示すという問題を生じていた。
【００２５】（第２実施例）図２は、第２実施例の液晶
表示装置の構成説明図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）
は断面図である。この図において、１１は透明絶縁性基
板、１２はゲートまたはドレインバスライン、１３は絶
縁性保護膜、１４は外部接続用端子、１５はコンタクト
ホール、１６は表示領域、１７は検査端子、１８は接触
パッドである。
表示装置の構成説明図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）
は断面図である。この図において、１１は透明絶縁性基
板、１２はゲートまたはドレインバスライン、１３は絶
縁性保護膜、１４は外部接続用端子、１５はコンタクト
ホール、１６は表示領域、１７は検査端子、１８は接触
パッドである。
【００２６】この実施例の液晶表示装置においては、透
明絶縁性基板１１の上に、透明絶縁性基板１１の周辺に
位置する外部接続用端子１４から、表示領域１６に延在
する複数のゲートまたはドレインバスライン１２が形成
され、その上にゲートまたはドレインバスライン１２を
保護するＳｉＯ，ＳｉＮ等の絶縁性保護膜１３が形成さ
れている。
明絶縁性基板１１の上に、透明絶縁性基板１１の周辺に
位置する外部接続用端子１４から、表示領域１６に延在
する複数のゲートまたはドレインバスライン１２が形成
され、その上にゲートまたはドレインバスライン１２を
保護するＳｉＯ，ＳｉＮ等の絶縁性保護膜１３が形成さ
れている。
【００２７】そして、この外部接続用端子１４と表示領
域１６の端の間のゲートまたはドレインバスライン１２
には、ゲートまたはドレインバスライン１２と同じ金属
膜からなり、ゲートまたはドレインバスライン１２の幅
の数十〜数百倍、すなわち、縦横数百μｍ〜数ｍｍの大
きさの検査端子１７が形成され、この検査端子１７に
は、この検査端子１７の上の絶縁性保護膜１３の一部を
除去して形成したコンタクトホール１５を経て、検査端
子１７と同程度の大きさのＩＴＯ膜等の導電性保護膜か
らなる接触パッド１８を形成している。
域１６の端の間のゲートまたはドレインバスライン１２
には、ゲートまたはドレインバスライン１２と同じ金属
膜からなり、ゲートまたはドレインバスライン１２の幅
の数十〜数百倍、すなわち、縦横数百μｍ〜数ｍｍの大
きさの検査端子１７が形成され、この検査端子１７に
は、この検査端子１７の上の絶縁性保護膜１３の一部を
除去して形成したコンタクトホール１５を経て、検査端
子１７と同程度の大きさのＩＴＯ膜等の導電性保護膜か
らなる接触パッド１８を形成している。
【００２８】この実施例の液晶表示装置においては、検
査端子１７の表面を保護することができ、かつ、接触パ
ッドを表示領域の表面と一致させることができ、検査用
プローブの接触パッドへの接触を容易にすることができ
る。また、検査端子１７を小さくすることによって、検
査端子１７を形成したゲートまたはドレインバスライン
１２と、検査端子１７を形成しないゲートまたはドレイ
ンバスライン１２の間の容量の差を低減することができ
る。
査端子１７の表面を保護することができ、かつ、接触パ
ッドを表示領域の表面と一致させることができ、検査用
プローブの接触パッドへの接触を容易にすることができ
る。また、検査端子１７を小さくすることによって、検
査端子１７を形成したゲートまたはドレインバスライン
１２と、検査端子１７を形成しないゲートまたはドレイ
ンバスライン１２の間の容量の差を低減することができ
る。
【００２９】ところがこの実施例の液晶表示装置におい
ては、検査端子あるいは接触パッドが、ゲートまたはド
レインバスラインの幅の数十ないし数百倍と大きいた
め、製造工程、搬送工程、検査工程等において、検査端
子や接触パッドが静電気を集め易く、静電気によって、
ゲートまたはドレインバスラインの交差点の絶縁性保護
膜の絶縁破壊や、ＴＦＴの損傷をまねき易いという問題
を有している。
ては、検査端子あるいは接触パッドが、ゲートまたはド
レインバスラインの幅の数十ないし数百倍と大きいた
め、製造工程、搬送工程、検査工程等において、検査端
子や接触パッドが静電気を集め易く、静電気によって、
ゲートまたはドレインバスラインの交差点の絶縁性保護
膜の絶縁破壊や、ＴＦＴの損傷をまねき易いという問題
を有している。
【００３０】（第３実施例）図３は、第３実施例の液晶
表示装置の構成説明図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）
は断面図である。この図において、２１は透明絶縁性基
板、２２はゲートまたはドレインバスライン、２３は絶
縁性保護膜、２４は外部接続用端子、２６は表示領域、
２７は検査端子、２８は接触パッド、２９はレーザ光、
３０は導電性領域である。
表示装置の構成説明図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）
は断面図である。この図において、２１は透明絶縁性基
板、２２はゲートまたはドレインバスライン、２３は絶
縁性保護膜、２４は外部接続用端子、２６は表示領域、
２７は検査端子、２８は接触パッド、２９はレーザ光、
３０は導電性領域である。
【００３１】この実施例の液晶表示装置においては、透
明絶縁性基板２１の上に、透明絶縁性基板２１の周辺に
位置する外部接続用端子２４から表示領域２６に延在す
る複数のゲートまたはドレインバスライン２２が形成さ
れ、その上にゲートまたはドレインバスライン２２を保
護するＳｉＯ，ＳｉＮ等の絶縁性保護膜２３が形成され
ている。
明絶縁性基板２１の上に、透明絶縁性基板２１の周辺に
位置する外部接続用端子２４から表示領域２６に延在す
る複数のゲートまたはドレインバスライン２２が形成さ
れ、その上にゲートまたはドレインバスライン２２を保
護するＳｉＯ，ＳｉＮ等の絶縁性保護膜２３が形成され
ている。
【００３２】そして、表示試験の結果、検査端子２７に
よる検査が必要になった場合には、検査端子２７の上の
絶縁性保護膜２３の表面のＩＴＯ膜等の接触パッド２８
にレーザ光２９を照射して、検査端子２７と接触パッド
２８の間の絶縁性保護膜２３を破壊し、検査端子２７と
接触パッド２８を溶融することによって導電性領域３０
を形成して検査端子２７と接触パッド２８の間の導通を
とることによって、液晶パネルの表示欠陥を生じる原因
となる部分を特定することができる。
よる検査が必要になった場合には、検査端子２７の上の
絶縁性保護膜２３の表面のＩＴＯ膜等の接触パッド２８
にレーザ光２９を照射して、検査端子２７と接触パッド
２８の間の絶縁性保護膜２３を破壊し、検査端子２７と
接触パッド２８を溶融することによって導電性領域３０
を形成して検査端子２７と接触パッド２８の間の導通を
とることによって、液晶パネルの表示欠陥を生じる原因
となる部分を特定することができる。
【００３３】この実施例の液晶表示装置によると、製造
工程、搬送工程、検査工程等において、検査端子２７に
よる検査が必要になる場合を除いて、大きな面積を有す
る接触パッド２８が検査端子２７と接触されていないた
め、静電気によって、ゲートまたはドレインバスライン
の交差点の絶縁性保護膜の絶縁破壊や、ＴＦＴの損傷を
まねく機会を低減することができる。
工程、搬送工程、検査工程等において、検査端子２７に
よる検査が必要になる場合を除いて、大きな面積を有す
る接触パッド２８が検査端子２７と接触されていないた
め、静電気によって、ゲートまたはドレインバスライン
の交差点の絶縁性保護膜の絶縁破壊や、ＴＦＴの損傷を
まねく機会を低減することができる。
【００３４】前記の第１実施例、第２実施例、第３実施
例の液晶表示装置においては、検査端子は液晶パネルの
左右（右については図示されていない）２個形成されて
いるだけであるが、ＴＦＴ基板の欠陥は個々のゲートま
たはドレインバスライン、あるいはこのゲートまたはド
レインバスラインに接続されている個々のＴＦＴに生じ
る場合もあるが、ＴＦＴ全体にわたって生じる場合が多
いため、このようにスペース的に余裕がある場所に検査
端子を形成することによって所期の目的を達成すること
ができる。
例の液晶表示装置においては、検査端子は液晶パネルの
左右（右については図示されていない）２個形成されて
いるだけであるが、ＴＦＴ基板の欠陥は個々のゲートま
たはドレインバスライン、あるいはこのゲートまたはド
レインバスラインに接続されている個々のＴＦＴに生じ
る場合もあるが、ＴＦＴ全体にわたって生じる場合が多
いため、このようにスペース的に余裕がある場所に検査
端子を形成することによって所期の目的を達成すること
ができる。
【００３５】前記の実施例においては、ＴＦＴを有する
アクティブマトリクス基板について説明したが、本発明
は、ＴＦＴを有しない単純マトリクス方式の液晶表示装
置に適用することもできる。この場合は、単純マトリク
スを構成する平行電極の欠陥と、外部回路素子の欠陥を
識別することができる。
アクティブマトリクス基板について説明したが、本発明
は、ＴＦＴを有しない単純マトリクス方式の液晶表示装
置に適用することもできる。この場合は、単純マトリク
スを構成する平行電極の欠陥と、外部回路素子の欠陥を
識別することができる。
【００３６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の液晶表示
装置においては、ゲートまたはドレインバスラインに検
査端子を設けることによって、液晶パネルにドライバー
ＬＳＩまたはフレキシブル印刷配線を介してＩＣチップ
を接続した後に行う表示試験の際に現れた欠陥が、ＴＦ
Ｔ基板または単純マトリクスの平行電極に起因するの
か、ドライバーＬＳＩ等の外部回路素子に起因するのか
を確定することができ、その結果を製造工程にフィード
バックすることによって品質管理を行うことが可能にな
り、製造歩留りを向上することができる。
装置においては、ゲートまたはドレインバスラインに検
査端子を設けることによって、液晶パネルにドライバー
ＬＳＩまたはフレキシブル印刷配線を介してＩＣチップ
を接続した後に行う表示試験の際に現れた欠陥が、ＴＦ
Ｔ基板または単純マトリクスの平行電極に起因するの
か、ドライバーＬＳＩ等の外部回路素子に起因するのか
を確定することができ、その結果を製造工程にフィード
バックすることによって品質管理を行うことが可能にな
り、製造歩留りを向上することができる。
【００３７】さらには、製造工程、搬送工程、検査工程
等において、静電気によって、ゲートまたはドレインバ
スラインの交差点の絶縁性保護膜の絶縁破壊やＴＦＴの
損傷を低減するという点から、検査方法の向上に寄与す
るところが大きい。
等において、静電気によって、ゲートまたはドレインバ
スラインの交差点の絶縁性保護膜の絶縁破壊やＴＦＴの
損傷を低減するという点から、検査方法の向上に寄与す
るところが大きい。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１実施例の液晶表示装置の構成説明図であ
り、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は断面図である。
り、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は断面図である。
【図２】第２実施例の液晶表示装置の構成説明図であ
り、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は断面図である。
り、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は断面図である。
【図３】第３実施例の液晶表示装置の構成説明図であ
り、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は断面図である。
り、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は断面図である。
【図４】従来の液晶表示装置の一例の構成説明図であ
り、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は断面図である。
り、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は断面図である。
１ 透明絶縁性基板 ２ ゲートまたはドレインバスライン ３ 絶縁性保護膜 ４ 外部接続用端子 ５ コンタクトホール ６ 表示領域 ７ 検査端子 ８ 接触パッド １１ 透明絶縁性基板 １２ ゲートまたはドレインバスライン １３ 絶縁性保護膜 １４ 外部接続用端子 １５ コンタクトホール １６ 表示領域 １７ 検査端子 １８ 接触パッド ２１ 透明絶縁性基板 ２２ ゲートまたはドレインバスライン ２３ 絶縁性保護膜 ２４ 外部接続用端子 ２６ 表示領域 ２７ 検査端子 ２８ 接触パッド ２９ レーザ光 ３０ 導電性領域 ３１ 透明絶縁性基板 ３２ ゲートまたはドレインバスライン ３３ 絶縁性保護膜 ３４ 外部接続用端子 ３５ 表示領域
Claims (6)
- 【請求項１】 間隙を保って対向して配置され、内側に
電極を有する一対の基板と、該一対の基板の間の間隙に
注入された液晶からなる液晶表示装置において、表示領
域の外側に該電極のそれぞれの一端に、外部からの信号
を受け取るための外部接続用端子を有し、該外部接続用
端子の少なくとも１つに、該表示領域の外側で、かつ、
該外部接続用端子の内側に、該電極に接続された検査端
子を有することを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項２】 基板の上にゲートまたはドレインバスラ
インである複数の行電極と列電極が層間絶縁膜を挟んで
交差して配設され、該行電極と列電極の各交差部近傍に
薄膜トランジスタが配設され、該行電極と該薄膜トラン
ジスタのゲート電極が接続され、該列電極と該薄膜トラ
ンジスタのドレイン電極が接続され、該薄膜トランジス
タのソース電極に透明導電膜からなる画素電極が接続さ
れた薄膜トランジスタマトリクスが形成された表示部分
を有する第１の基板と、基板の上に少なくとも導電膜を
有する第２の基板とで液晶を挟んだ液晶表示装置におい
て、表示領域の外側に該行電極と列電極のそれぞれの一
端には外部からの信号を受け取るための外部接続用端子
を有し、該外部接続用端子の少なくとも１つに、該表示
領域の外側で、かつ、該外部接続用端子の内側に、該行
電極または列電極に接続された検査端子を有することを
特徴とする請求項１に記載された液晶表示装置。 - 【請求項３】 検査端子が、基板の上に形成された電極
と同じ金属膜と導電性保護膜からなる接触パッドを積層
した構成を有することを特徴とする請求項１また請求項
２に記載された液晶表示装置。 - 【請求項４】 検査端子が、基板の上に形成された電極
と同じ金属膜と絶縁性保護膜と導電性保護膜からなる接
触パッドを積層し、該金属膜と接触パッドの間が該絶縁
性保護膜に形成したコンタクトホールによって接続され
ていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載
された液晶表示装置。 - 【請求項５】 導電性保護膜がＩＴＯ膜であることを特
徴とする請求項３または請求項４に記載された液晶表示
装置。 - 【請求項６】 検査端子が、基板の上に形成された電極
と同じ金属膜と絶縁性保護膜と導電性保護膜からなる接
触パッドを積層した構成を有し、検査端子を用いた検査
が必要な場合に、該検査端子と接触パッドの間を短絡す
ることができるようにしたことを特徴とする請求項１に
記載された液晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05217995A JP3541328B2 (ja) | 1995-03-13 | 1995-03-13 | 液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05217995A JP3541328B2 (ja) | 1995-03-13 | 1995-03-13 | 液晶表示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08248434A true JPH08248434A (ja) | 1996-09-27 |
| JP3541328B2 JP3541328B2 (ja) | 2004-07-07 |
Family
ID=12907591
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05217995A Expired - Fee Related JP3541328B2 (ja) | 1995-03-13 | 1995-03-13 | 液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3541328B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100264162B1 (ko) * | 1997-08-28 | 2000-08-16 | 구본준 | 액정표시장치의 기판에 형성되는 패드의 구조 및 그 제조방법 |
| US6955951B2 (en) * | 2000-12-07 | 2005-10-18 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Liquid crystal display device having an auxiliary wiring |
| KR20060093574A (ko) * | 2005-02-22 | 2006-08-25 | 삼성전자주식회사 | 표시패널 |
| KR101307545B1 (ko) * | 2006-11-21 | 2013-09-12 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 |
| WO2022180985A1 (ja) * | 2021-02-25 | 2022-09-01 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 調光装置 |
-
1995
- 1995-03-13 JP JP05217995A patent/JP3541328B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100264162B1 (ko) * | 1997-08-28 | 2000-08-16 | 구본준 | 액정표시장치의 기판에 형성되는 패드의 구조 및 그 제조방법 |
| US6955951B2 (en) * | 2000-12-07 | 2005-10-18 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Liquid crystal display device having an auxiliary wiring |
| KR20060093574A (ko) * | 2005-02-22 | 2006-08-25 | 삼성전자주식회사 | 표시패널 |
| KR101307545B1 (ko) * | 2006-11-21 | 2013-09-12 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 |
| WO2022180985A1 (ja) * | 2021-02-25 | 2022-09-01 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 調光装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3541328B2 (ja) | 2004-07-07 |
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