JPH0823607B2 - 偏光膜の製造方法 - Google Patents
偏光膜の製造方法Info
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- JPH0823607B2 JPH0823607B2 JP61066931A JP6693186A JPH0823607B2 JP H0823607 B2 JPH0823607 B2 JP H0823607B2 JP 61066931 A JP61066931 A JP 61066931A JP 6693186 A JP6693186 A JP 6693186A JP H0823607 B2 JPH0823607 B2 JP H0823607B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はポリビニルアルコール又はその誘導体からな
る偏光膜の製造方法に関するものである。
る偏光膜の製造方法に関するものである。
従来の偏光膜は、延伸配向したポリビニルアルコール
又はその誘導体によう素や二色性染料を吸着せしめ、つ
いで50℃以下のホルマリン等のアルデヒドを含む水溶液
又はホウ素を含む水溶液で耐久化処理をおこなったの
ち、その両面にセルロースアセテート系樹脂やアクリル
系樹脂からなる保護膜を貼合することにより作成してい
るのが一般的である。しかしながら、これらの方法によ
って得られた偏光膜も耐久性能および偏光性能という点
ではまだ充分とは言い難い。さらに耐久性能および偏光
性能をあげるために、ホルマリン等のアルデヒドを含む
水溶液またはホウ酸を含む水溶液で耐久化処理を行うに
際し、偏光膜の耐久性能と偏光性能が向上する（特開昭
61-18902、特開昭61-20003）ことが明らかになってい
る。
又はその誘導体によう素や二色性染料を吸着せしめ、つ
いで50℃以下のホルマリン等のアルデヒドを含む水溶液
又はホウ素を含む水溶液で耐久化処理をおこなったの
ち、その両面にセルロースアセテート系樹脂やアクリル
系樹脂からなる保護膜を貼合することにより作成してい
るのが一般的である。しかしながら、これらの方法によ
って得られた偏光膜も耐久性能および偏光性能という点
ではまだ充分とは言い難い。さらに耐久性能および偏光
性能をあげるために、ホルマリン等のアルデヒドを含む
水溶液またはホウ酸を含む水溶液で耐久化処理を行うに
際し、偏光膜の耐久性能と偏光性能が向上する（特開昭
61-18902、特開昭61-20003）ことが明らかになってい
る。
しかしながら、50℃以上の高温で処理すると、それ以
下の低温で処理した場合に比べて、ポリビニルアルコー
ル又はその誘導体フィルムの横方向の収縮が大きく（い
わゆるネックインが大きく）、広幅の偏光膜が得られが
たい。広幅の偏光膜を得るために原反幅を広くする方法
が考えられるが、この方法では、延伸ムラ、染色ムラ等
が今以上に生じやすく、偏光膜の品質上問題があり、良
好な方策ではない。
下の低温で処理した場合に比べて、ポリビニルアルコー
ル又はその誘導体フィルムの横方向の収縮が大きく（い
わゆるネックインが大きく）、広幅の偏光膜が得られが
たい。広幅の偏光膜を得るために原反幅を広くする方法
が考えられるが、この方法では、延伸ムラ、染色ムラ等
が今以上に生じやすく、偏光膜の品質上問題があり、良
好な方策ではない。
本発明は、ポリビニルアルコール又はその誘導体から
なる偏光膜の耐久性能と偏光性能を向上させ、かつ、耐
久化処理時における偏光膜の横方向の収縮を軽減し、広
幅の偏光膜を安定して製造する方法を提供するものであ
る。
なる偏光膜の耐久性能と偏光性能を向上させ、かつ、耐
久化処理時における偏光膜の横方向の収縮を軽減し、広
幅の偏光膜を安定して製造する方法を提供するものであ
る。
本発明者らは、上記目的を達成するためにポリビニル
アルコール又はその誘導体からなる偏光膜の耐久化処理
工程について鋭意検討したところ、耐久化処理工程を二
段階に分けて実施する方法が効果的であることをみいだ
し、本発明に至ったものである。
アルコール又はその誘導体からなる偏光膜の耐久化処理
工程について鋭意検討したところ、耐久化処理工程を二
段階に分けて実施する方法が効果的であることをみいだ
し、本発明に至ったものである。
すなわち本発明は、偏光素子例えばよう素あるいは二
色性染料を吸着配向させたポリビニルアルコール又はそ
の誘導体のフィルムからなる偏光膜を耐久化処理液で処
理、又は偏光素子を吸着させたポリビニルアルコール又
はその誘導体からなるフィルムを耐久化処理液中で湿式
延伸及び耐久化処理するに際して、耐久化処理工程を二
段階に分け、第１処理浴を10〜55℃、第２処理浴を55〜
80℃の温度範囲にして、両処理浴にて連続してあるい
は、他工程を間にはさみ断続して処理することを特徴と
する偏光膜の製造方法に関するものである。このように
耐久化処理を二段階に分けておこなうことにより、偏光
膜の耐久性能と偏光性能を向上させ、かつ、偏光膜の横
方向の収縮が軽減され、偏光膜の広幅化が達成されるも
のである。
色性染料を吸着配向させたポリビニルアルコール又はそ
の誘導体のフィルムからなる偏光膜を耐久化処理液で処
理、又は偏光素子を吸着させたポリビニルアルコール又
はその誘導体からなるフィルムを耐久化処理液中で湿式
延伸及び耐久化処理するに際して、耐久化処理工程を二
段階に分け、第１処理浴を10〜55℃、第２処理浴を55〜
80℃の温度範囲にして、両処理浴にて連続してあるい
は、他工程を間にはさみ断続して処理することを特徴と
する偏光膜の製造方法に関するものである。このように
耐久化処理を二段階に分けておこなうことにより、偏光
膜の耐久性能と偏光性能を向上させ、かつ、偏光膜の横
方向の収縮が軽減され、偏光膜の広幅化が達成されるも
のである。
また耐久化処理液中で湿式延伸を行なう場合は、第１
処理浴中で、できるだけ低温で実施するのが好ましい。
本発明に用いる耐久化処理液としては、ホルマリン等の
アルデヒドを含む水溶液、ホウ酸を含む水溶液等が有効
である。耐久化処理液は第１処理浴、第２処理浴とも同
一種類の耐久化処理液を用いてもよいし、異なる種類の
耐久化処理液を用いることもできる。
処理浴中で、できるだけ低温で実施するのが好ましい。
本発明に用いる耐久化処理液としては、ホルマリン等の
アルデヒドを含む水溶液、ホウ酸を含む水溶液等が有効
である。耐久化処理液は第１処理浴、第２処理浴とも同
一種類の耐久化処理液を用いてもよいし、異なる種類の
耐久化処理液を用いることもできる。
耐久化処理液としてはホウ酸水溶液を好適に用いるこ
とができる。この場合のホウ酸の濃度は１〜15wt％、好
ましくは５〜10wt％程度である。
とができる。この場合のホウ酸の濃度は１〜15wt％、好
ましくは５〜10wt％程度である。
さらに、ホウ酸水溶液等の耐久化処理液のなかに、よ
う素を偏光素子とした偏光膜の場合には、よう素又はよ
う化カリウム又はよう素とよう化カリウムを、二色性染
料を偏光素子とした偏光膜の場合には、偏光膜の調製の
際に用いたのと同一の二色性染料を、それぞれ添加する
とさらに効果的である。
う素を偏光素子とした偏光膜の場合には、よう素又はよ
う化カリウム又はよう素とよう化カリウムを、二色性染
料を偏光素子とした偏光膜の場合には、偏光膜の調製の
際に用いたのと同一の二色性染料を、それぞれ添加する
とさらに効果的である。
さらにホウ酸水溶液等の耐久化処理液のなかに無機塩
を併用して添加すると、偏光膜の広幅化（すなわち横方
向の収縮の軽減化）においてさらに効果的となる。この
場合、耐久化処理工程の両処理浴に無機塩を添加しても
よく、一方に添加する場合には、より高温の第二処理浴
に添加するとよい。無機塩の種類としては、アルカリ金
属、アルカリ土類金属の硫酸塩、硝酸塩、塩酸塩等を一
般的に用いることができる。なかでも硫酸ナトリウムは
特に有用である。耐久化処理液のなかに用いる無機塩は
一般的には１〜15％、好ましくは３〜10％程度である。
を併用して添加すると、偏光膜の広幅化（すなわち横方
向の収縮の軽減化）においてさらに効果的となる。この
場合、耐久化処理工程の両処理浴に無機塩を添加しても
よく、一方に添加する場合には、より高温の第二処理浴
に添加するとよい。無機塩の種類としては、アルカリ金
属、アルカリ土類金属の硫酸塩、硝酸塩、塩酸塩等を一
般的に用いることができる。なかでも硫酸ナトリウムは
特に有用である。耐久化処理液のなかに用いる無機塩は
一般的には１〜15％、好ましくは３〜10％程度である。
従来、ポリビニルアルコール又はその誘導体フィルム
の延伸は30℃以下の低温で湿式法にておこなわれてい
る。高温で湿式延伸することも可能ではあるが、高温に
すれば水分によって分子間の水素結合が切断され易くな
り、分子の運動性が増すために安定加工は容易ではなく
延伸ムラが生じやすくなるので好ましくない。そのため
今まで50℃以上の温度で耐久化処理をおこなえば、ネッ
クインが大きく延伸方向に割れが生じたり、延伸軸と90
度をなす方向に切断しやすくなるなどの問題があり、安
定的に耐久化処理をおこなうことが困難であった。しか
し、このような方法で延伸した偏光膜の場合でも本発明
のように耐久化処理工程を二段階に分けておこなうこと
により、横方向の収縮の軽減された耐久化処理が可能と
なり、偏光膜の耐久性能と偏光性能が向上する。
の延伸は30℃以下の低温で湿式法にておこなわれてい
る。高温で湿式延伸することも可能ではあるが、高温に
すれば水分によって分子間の水素結合が切断され易くな
り、分子の運動性が増すために安定加工は容易ではなく
延伸ムラが生じやすくなるので好ましくない。そのため
今まで50℃以上の温度で耐久化処理をおこなえば、ネッ
クインが大きく延伸方向に割れが生じたり、延伸軸と90
度をなす方向に切断しやすくなるなどの問題があり、安
定的に耐久化処理をおこなうことが困難であった。しか
し、このような方法で延伸した偏光膜の場合でも本発明
のように耐久化処理工程を二段階に分けておこなうこと
により、横方向の収縮の軽減された耐久化処理が可能と
なり、偏光膜の耐久性能と偏光性能が向上する。
本発明者らは先に乾式法にて20℃以上130℃以下の温
度でポリビニルアルコール又はその誘導体の圧縮延伸配
向を延伸ムラなく安定的におこなえることを見い出して
いる（特開昭57-212025）。
度でポリビニルアルコール又はその誘導体の圧縮延伸配
向を延伸ムラなく安定的におこなえることを見い出して
いる（特開昭57-212025）。
したがって、本発明に用いるポリビニルアルコール又
はその誘導体のより好ましい延伸処理方法は50℃以上の
温度で乾式法にて圧縮延伸をおこなうことである。
はその誘導体のより好ましい延伸処理方法は50℃以上の
温度で乾式法にて圧縮延伸をおこなうことである。
本発明により得られた偏光膜はその片面あるいは両面
に光学的透視感のすぐれたフィルム、例えば、三酢酸セ
ルロースのごときセルロース系フィルム、アクリル系樹
脂からなるフィルム、ポリエステル系樹脂からなるフィ
ルム等を設け偏光板とすることができる。
に光学的透視感のすぐれたフィルム、例えば、三酢酸セ
ルロースのごときセルロース系フィルム、アクリル系樹
脂からなるフィルム、ポリエステル系樹脂からなるフィ
ルム等を設け偏光板とすることができる。
このようにして得られた偏光板は、液晶表示体の用途
あるいは各種の光学的用途に有用である。
あるいは各種の光学的用途に有用である。
以下実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、
これらは例示的なものであり、これらに限定されるもの
ではない。
これらは例示的なものであり、これらに限定されるもの
ではない。
なお、本発明における偏光度とは偏光膜あるいは偏光
板を２枚準備しこの２枚の偏光板を重ね合わせた状態で
光線透過率曲線を測定し（測定器：島津製作所UV-210分
光光度計）、以下の式により求めた値である。
板を２枚準備しこの２枚の偏光板を重ね合わせた状態で
光線透過率曲線を測定し（測定器：島津製作所UV-210分
光光度計）、以下の式により求めた値である。
ここでＨ‖は２枚のサンプルの重ね合せ時において偏
光膜の配向方向が同一方向になるように重ね合せた状態
で測定した値（平行透過率と呼ばれている）であり、Ｈ
⊥は２枚のサンプルの重ね合せ時において偏光膜の配向
方向が互いに直交する方向になるように重ね合せた状態
で測定した値（直交透過率と呼ばれている）である。
光膜の配向方向が同一方向になるように重ね合せた状態
で測定した値（平行透過率と呼ばれている）であり、Ｈ
⊥は２枚のサンプルの重ね合せ時において偏光膜の配向
方向が互いに直交する方向になるように重ね合せた状態
で測定した値（直交透過率と呼ばれている）である。
実施例１ 厚さ75μのポリビニルアルコールフィルム（クラレビ
ニロン ＃7500）を縦一軸に105℃で４倍の延伸を施
し、偏光膜基材とした。このポリビニルアルコール４倍
延伸フィルムを緊張状態に保ったままよう素10g、よう
化カリウム150g、水3300gからなる23℃の液に約60秒間
浸漬した。さらにホウ酸150g、水2,000gからなる40℃の
第１処理液に約180秒間浸漬後同じ組成で65℃の第２処
理液に約180秒間浸漬した。さらに20℃の水で洗浄を施
し、偏光膜を得た。この偏光膜の横方向の収縮率は初期
幅に対して約18％であった。この偏光膜の両面に市販の
セルローストリアセテートフィルム（80μ、富士写真フ
ィルム製）をウレタン系接着剤を用いて貼合した。こう
して得られた偏光膜を60℃‐90％RHの恒温恒湿槽に96時
間放置（耐湿テスト）したのち、偏光性能を測定し、初
期性能からの低下度をみた。結果を第１表に示す。同様
にして他の偏光板を80℃の熱風乾燥器内に96時間放置
（耐熱テスト）したのち、偏光性能を測定し、初期性能
からの低下度をみた。同じく結果を第１表に示す。
ニロン ＃7500）を縦一軸に105℃で４倍の延伸を施
し、偏光膜基材とした。このポリビニルアルコール４倍
延伸フィルムを緊張状態に保ったままよう素10g、よう
化カリウム150g、水3300gからなる23℃の液に約60秒間
浸漬した。さらにホウ酸150g、水2,000gからなる40℃の
第１処理液に約180秒間浸漬後同じ組成で65℃の第２処
理液に約180秒間浸漬した。さらに20℃の水で洗浄を施
し、偏光膜を得た。この偏光膜の横方向の収縮率は初期
幅に対して約18％であった。この偏光膜の両面に市販の
セルローストリアセテートフィルム（80μ、富士写真フ
ィルム製）をウレタン系接着剤を用いて貼合した。こう
して得られた偏光膜を60℃‐90％RHの恒温恒湿槽に96時
間放置（耐湿テスト）したのち、偏光性能を測定し、初
期性能からの低下度をみた。結果を第１表に示す。同様
にして他の偏光板を80℃の熱風乾燥器内に96時間放置
（耐熱テスト）したのち、偏光性能を測定し、初期性能
からの低下度をみた。同じく結果を第１表に示す。
比較例１ 偏光膜の耐久化処理をホウ酸150g、よう化カリウム70
g、水2,000gからなる65℃の液に約300秒間浸漬した以外
は実施例１と全く同様に実施し、偏光膜を得た。この偏
光膜の横方向の収縮率は約27％であった。実施例１と同
様にセルローストリアセテートフィルムを両面に貼合
し、同一の耐久性試験を実施した。結果を同じく第１表
に示す。
g、水2,000gからなる65℃の液に約300秒間浸漬した以外
は実施例１と全く同様に実施し、偏光膜を得た。この偏
光膜の横方向の収縮率は約27％であった。実施例１と同
様にセルローストリアセテートフィルムを両面に貼合
し、同一の耐久性試験を実施した。結果を同じく第１表
に示す。
比較例２ 偏光膜の耐久化処理をホウ酸150g、よう化カリウム70
g、水2,000gからなる45℃の液に約300秒間浸漬した以外
は実施例１と全く同様に実施し、偏光膜を得た。この偏
光膜の横方向の収縮率は約19％であった。実施例１と同
様にセルローストリアセテートフィルムを両面に貼合
し、同一の耐久性試験を実施した。結果を同じく第１表
に示す。
g、水2,000gからなる45℃の液に約300秒間浸漬した以外
は実施例１と全く同様に実施し、偏光膜を得た。この偏
光膜の横方向の収縮率は約19％であった。実施例１と同
様にセルローストリアセテートフィルムを両面に貼合
し、同一の耐久性試験を実施した。結果を同じく第１表
に示す。
実施例２ 第１耐久化処理液のなかに無水芒硝を60g、第２耐久
化処理液のなかに無水芒硝を80g添加する以外は実施例
１と全く同様に実施し、偏光膜を得た。この偏光膜の横
方向の収縮率は、初期幅に対して約18％であった。実施
例１と同様にセルローストリアセテートフィルムを両面
に貼合し、同一の耐久性試験を実施した。結果を同じく
第１表に示す。
化処理液のなかに無水芒硝を80g添加する以外は実施例
１と全く同様に実施し、偏光膜を得た。この偏光膜の横
方向の収縮率は、初期幅に対して約18％であった。実施
例１と同様にセルローストリアセテートフィルムを両面
に貼合し、同一の耐久性試験を実施した。結果を同じく
第１表に示す。
実施例３ 第１および第２耐久化処理液のなかによう化カリウム
70gを添加する以外は実施例１と全く同様に実施し、偏
光膜を得た。この偏光膜の横方向の収縮率は実施例１と
全く同様であり、初期幅に対して約18％であった。実施
例１と同様にセルローストリアセテートフィルムを両面
に貼合し、同一の耐久性試験を実施した。結果を同じく
第１表に示す。
70gを添加する以外は実施例１と全く同様に実施し、偏
光膜を得た。この偏光膜の横方向の収縮率は実施例１と
全く同様であり、初期幅に対して約18％であった。実施
例１と同様にセルローストリアセテートフィルムを両面
に貼合し、同一の耐久性試験を実施した。結果を同じく
第１表に示す。
実施例４ 第１耐久化処理液のなかに無水芒硝を60g、第２耐久
化処理液のなかに無水芒硝を80g添加する以外は実施例
３と全く同様に実施し、偏光膜を得た。この偏光膜の横
方向の収縮率は初期幅に対して約13％であった。実施例
１と同様にセルローストリアセテートフィルムを両面に
貼合し、同一の耐久性試験を実施した。結果を同じく第
１表に示す。
化処理液のなかに無水芒硝を80g添加する以外は実施例
３と全く同様に実施し、偏光膜を得た。この偏光膜の横
方向の収縮率は初期幅に対して約13％であった。実施例
１と同様にセルローストリアセテートフィルムを両面に
貼合し、同一の耐久性試験を実施した。結果を同じく第
１表に示す。
Claims (6)
- 【請求項１】偏光素子を吸着配向させたポリビニルアル
コール又はその誘導体のフィルムからなる偏光膜を耐久
化処理液で処理、又は、偏光素子を吸着させたポリビニ
ルアルコール又はその誘導体からなるフィルムを耐久化
処理液中で湿式延伸及び耐久化処理するに際して、第１
処理浴を10〜55℃、第２処理浴を55〜80℃の温度範囲に
して、両処理浴にて処理することを特徴とする偏光膜の
製造方法。 - 【請求項２】耐久化処理液がホウ酸水溶液である特許請
求の範囲第１項記載の偏光膜の製造方法。 - 【請求項３】ホウ酸水溶液のなかに無機塩類を併用して
添加した耐久化処理液で処理することを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の偏光膜の製造方法。 - 【請求項４】ホウ酸水溶液のなかによう素、又はよう化
カリウム、又はよう素とよう化カリウムを併用して添加
した耐久化処理液で処理をおこなうことを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の偏光膜の製造方法。 - 【請求項５】ホウ酸水溶液のなかに、無機塩類と、よう
素、又はよう化カリウム、又はよう素とよう化カリウム
を併用して添加した耐久化処理液で処理をおこなうこと
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の偏光膜の製造
方法。 - 【請求項６】ポリビニルアルコール又は、その誘導体の
フィルムが50℃以上130℃以下の温度範囲にある対をな
す加圧ロールにより一軸方向に圧縮延伸されたものであ
る特許請求の範囲第１項記載の偏光膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61066931A JPH0823607B2 (ja) | 1986-03-25 | 1986-03-25 | 偏光膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61066931A JPH0823607B2 (ja) | 1986-03-25 | 1986-03-25 | 偏光膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62223704A JPS62223704A (ja) | 1987-10-01 |
| JPH0823607B2 true JPH0823607B2 (ja) | 1996-03-06 |
Family
ID=13330229
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61066931A Expired - Fee Related JPH0823607B2 (ja) | 1986-03-25 | 1986-03-25 | 偏光膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0823607B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2663440B2 (ja) * | 1987-06-12 | 1997-10-15 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 偏光フィルムの製造方法 |
| JPH01227102A (ja) * | 1988-03-08 | 1989-09-11 | Toray Ind Inc | 改質偏光フィルム |
| JPH01227101A (ja) * | 1988-03-08 | 1989-09-11 | Toray Ind Inc | 偏光フィルム |
| JP2001290026A (ja) * | 2000-04-04 | 2001-10-19 | Nitto Denko Corp | 偏光板の製造方法とこの偏光板を備えた液晶表示装置 |
| WO2004113973A1 (ja) * | 2003-06-24 | 2004-12-29 | Nitto Denko Corporation | 偏光子の製造方法、偏光子、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置 |
| WO2006095815A1 (ja) * | 2005-03-10 | 2006-09-14 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | ヨウ素系偏光フィルム、その製造方法及びそれを用いた偏光板 |
| JP4919403B2 (ja) * | 2006-09-14 | 2012-04-18 | 日本化薬株式会社 | 高耐久性偏光板 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6120003A (ja) * | 1984-07-06 | 1986-01-28 | Sumitomo Chem Co Ltd | 偏光膜の耐久化処理方法 |
-
1986
- 1986-03-25 JP JP61066931A patent/JPH0823607B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62223704A (ja) | 1987-10-01 |
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