JPH08235B2 - 現像廃液の処理法 - Google Patents
現像廃液の処理法Info
- Publication number
- JPH08235B2 JPH08235B2 JP62078308A JP7830887A JPH08235B2 JP H08235 B2 JPH08235 B2 JP H08235B2 JP 62078308 A JP62078308 A JP 62078308A JP 7830887 A JP7830887 A JP 7830887A JP H08235 B2 JPH08235 B2 JP H08235B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- waste liquid
- treating
- tank
- tmah
- sludge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W10/00—Technologies for wastewater treatment
- Y02W10/10—Biological treatment of water, waste water, or sewage
Landscapes
- Activated Sludge Processes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は現像廃液の処理方法に関するものであり、詳
しくは半導体製造分野において、テトラメチルアンモニ
ウムハイドロオキサイド（以下、TMAHと略す）を洗浄剤
に用いた、レジストの現像工程から排出される現像廃液
の活性汚泥処理法による工業的有利な処理方法に関する
ものである。
しくは半導体製造分野において、テトラメチルアンモニ
ウムハイドロオキサイド（以下、TMAHと略す）を洗浄剤
に用いた、レジストの現像工程から排出される現像廃液
の活性汚泥処理法による工業的有利な処理方法に関する
ものである。
TMAHを用いたレジストの現像工程から排出される廃液
中には、TMAHを主成分とし、他に少量のレジスト由来物
（例えば、フェノール系樹脂、感光剤）を含んでおり、
高いpH（例えば10〜14）を示す。該廃液の活性汚泥法に
よる処理方法としては、処理槽内にアルカリを供給する
ことにより、TMAHの分解に伴い生成する酸を中和しなが
ら、TMAHの分解、無害化を行う方法が知られている（例
えば、造水技術vol.12 No.2 1986 65〜67ページ）。
中には、TMAHを主成分とし、他に少量のレジスト由来物
（例えば、フェノール系樹脂、感光剤）を含んでおり、
高いpH（例えば10〜14）を示す。該廃液の活性汚泥法に
よる処理方法としては、処理槽内にアルカリを供給する
ことにより、TMAHの分解に伴い生成する酸を中和しなが
ら、TMAHの分解、無害化を行う方法が知られている（例
えば、造水技術vol.12 No.2 1986 65〜67ページ）。
しかしながら、この公知の方法では、TMAHの分解は良
好に行われるが、上記廃液中に溶解するレジスト由来物
の除去には、何ら注目しておらず、従って、処理水々質
の向上には、他の処理法を併用する必要がある。
好に行われるが、上記廃液中に溶解するレジスト由来物
の除去には、何ら注目しておらず、従って、処理水々質
の向上には、他の処理法を併用する必要がある。
本発明は、前記問題点を解決するためになされたもの
であり、その要旨は、レジスト由来の樹脂を含有するTM
AH現像廃液を活性汚泥処理槽に供給して曝気条件下にて
処理するに当り、該処理槽のpHを６〜7.5に制御すると
共に不溶性無機化合物を存在させることにより、レジス
ト由来の樹脂を余剰汚泥と共に除去することを特徴とす
るレジスト由来物含有、TMAH現像廃液の処理方法であ
る。
であり、その要旨は、レジスト由来の樹脂を含有するTM
AH現像廃液を活性汚泥処理槽に供給して曝気条件下にて
処理するに当り、該処理槽のpHを６〜7.5に制御すると
共に不溶性無機化合物を存在させることにより、レジス
ト由来の樹脂を余剰汚泥と共に除去することを特徴とす
るレジスト由来物含有、TMAH現像廃液の処理方法であ
る。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明で対象となる現像廃液は、TMAHを主成分とし、
レジスト由来の樹脂、例えば、通常はフェノール樹脂、
感光剤等を含有している。これらの樹脂分の濃度は、TO
C換算で10〜500ppmである。また、現像廃液のpHはTMAH
によって10〜14の高塩基性を呈している。
レジスト由来の樹脂、例えば、通常はフェノール樹脂、
感光剤等を含有している。これらの樹脂分の濃度は、TO
C換算で10〜500ppmである。また、現像廃液のpHはTMAH
によって10〜14の高塩基性を呈している。
本発明は、このような現像廃液を公知の方法に従っ
て、活性汚泥処理槽に供給し曝気条件下にて処理するこ
とを基本とするものである。活性汚泥処理に利用する汚
泥としては、特に制限はないが、下水処理場等の汚泥を
予め該廃液で馴養処理して用いる。
て、活性汚泥処理槽に供給し曝気条件下にて処理するこ
とを基本とするものである。活性汚泥処理に利用する汚
泥としては、特に制限はないが、下水処理場等の汚泥を
予め該廃液で馴養処理して用いる。
活性汚泥処理は、通常汚泥槽に必須栄養塩として、不
足分の窒素源およびリン源を供給しながら運転される
が、本発明方法では、処理対象の廃液中にTMAHとして十
分な窒素源が含まれているので、これについては別途供
給する必要はない。リン源としては、公知の方法と同様
に、例えば、リン酸、リン酸アンモニウム、リン酸水素
カリウム等が用いられる。
足分の窒素源およびリン源を供給しながら運転される
が、本発明方法では、処理対象の廃液中にTMAHとして十
分な窒素源が含まれているので、これについては別途供
給する必要はない。リン源としては、公知の方法と同様
に、例えば、リン酸、リン酸アンモニウム、リン酸水素
カリウム等が用いられる。
また、本発明方法では、高塩基性の現像廃液を汚泥槽
に供給するが、該廃液中のTMAHの分解によって、主とし
てNO2 -、NO3 -が生成し槽内pHが酸性側に低下する。よっ
て本発明では、TMAH分解速度の高い槽内pHである６〜7.
5を維持するために、通常アルカリを添加してpH制御を
行うが、前記酸根の生成速度が遅いような場合には、適
宜酸を添加して槽内pHを前記範囲に制御する必要があ
る。アルカリとしては、通常、水酸化ナトリウムが用い
られるが、他に水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム等も
用いられることがある。また、酸としては、硫酸、塩酸
等が用いられる。
に供給するが、該廃液中のTMAHの分解によって、主とし
てNO2 -、NO3 -が生成し槽内pHが酸性側に低下する。よっ
て本発明では、TMAH分解速度の高い槽内pHである６〜7.
5を維持するために、通常アルカリを添加してpH制御を
行うが、前記酸根の生成速度が遅いような場合には、適
宜酸を添加して槽内pHを前記範囲に制御する必要があ
る。アルカリとしては、通常、水酸化ナトリウムが用い
られるが、他に水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム等も
用いられることがある。また、酸としては、硫酸、塩酸
等が用いられる。
更に、本発明では、活性汚泥処理槽内に、不溶性無機
化合物を共存させるが、これにより生物分解されない現
像廃液中の樹脂分を効率的に除去できるのである。すな
わち、樹脂分は廃液中では、溶解しており、それがため
汚泥との共沈作用によっても除去することは、ほぼ不可
能である。また、廃液のpHを例えば４以下にまで低下さ
せれば、不溶物として析出させることもできるが、pH値
が中性付近を外れると汚泥槽でのTMAH分解速度が低下す
るという問題が生じる。勿論、樹脂分の処理と、TMAHの
処理とを別工程で実施することも不可能ではないが、工
程数の増加、pH調整の煩わしさ等があって、工業的に有
利な方法とはならない。
化合物を共存させるが、これにより生物分解されない現
像廃液中の樹脂分を効率的に除去できるのである。すな
わち、樹脂分は廃液中では、溶解しており、それがため
汚泥との共沈作用によっても除去することは、ほぼ不可
能である。また、廃液のpHを例えば４以下にまで低下さ
せれば、不溶物として析出させることもできるが、pH値
が中性付近を外れると汚泥槽でのTMAH分解速度が低下す
るという問題が生じる。勿論、樹脂分の処理と、TMAHの
処理とを別工程で実施することも不可能ではないが、工
程数の増加、pH調整の煩わしさ等があって、工業的に有
利な方法とはならない。
尚、本発明において、不溶性無機化合物により溶解樹
脂分が除去できる理由は、必ずしも明らかではないが、
おそらく吸着現像によるものであり、特に後述するリン
酸カルシウム、硫酸アルミニウム等を用いた場合には、
イオン的な吸着現象によるものと推定される。
脂分が除去できる理由は、必ずしも明らかではないが、
おそらく吸着現像によるものであり、特に後述するリン
酸カルシウム、硫酸アルミニウム等を用いた場合には、
イオン的な吸着現象によるものと推定される。
不溶性無機化合物としては、特に制限はないが通常
は、リン酸カルシウム、硫酸アルミニウム、硫酸第１
鉄、硫酸第２鉄等が挙げられるが、少量の存在量で効果
的なものは、リン酸カルシウム、硫酸アルミニウムであ
り、特にリン酸カルシウムが好ましい。リン酸カルシウ
ムとしては、活性汚泥槽内に、塩化カルシウム、硝酸カ
ルシウム、酢酸カルシウム等の水溶性カルシウム化合物
とリン化合物を添加して該槽内で生成したものを用いる
こともできる。この場合、リン化合物としては、必須栄
養塩として供給されているものを利用でき、従って、過
剰のリン化合物を予め添加してある場合は、水溶性カル
シウム化合物のみを添加すれば足りる。
は、リン酸カルシウム、硫酸アルミニウム、硫酸第１
鉄、硫酸第２鉄等が挙げられるが、少量の存在量で効果
的なものは、リン酸カルシウム、硫酸アルミニウムであ
り、特にリン酸カルシウムが好ましい。リン酸カルシウ
ムとしては、活性汚泥槽内に、塩化カルシウム、硝酸カ
ルシウム、酢酸カルシウム等の水溶性カルシウム化合物
とリン化合物を添加して該槽内で生成したものを用いる
こともできる。この場合、リン化合物としては、必須栄
養塩として供給されているものを利用でき、従って、過
剰のリン化合物を予め添加してある場合は、水溶性カル
シウム化合物のみを添加すれば足りる。
前記不溶性の無機化合物の存在量は、これが多いほど
樹脂分の除去の点からは好ましいが、通常は、50〜10,0
00ppm、好ましくは200〜1,000ppmである。
樹脂分の除去の点からは好ましいが、通常は、50〜10,0
00ppm、好ましくは200〜1,000ppmである。
本発明による活性汚泥処理法は連続法、回分法のいず
れによっても実施できるが、現像廃液量が少量の場合
は、回分法によるのが有利である。回分法では、予め廃
液を中和処理した後、所定時間曝気処理してTMAHの分解
と樹脂分の除去を行い、汚泥を静置沈降後上澄液を処理
水として中間パイプから抜き出す。また、樹脂分を捕捉
した不活性無機化合物は、余剰汚泥と共に抜き出され
る。
れによっても実施できるが、現像廃液量が少量の場合
は、回分法によるのが有利である。回分法では、予め廃
液を中和処理した後、所定時間曝気処理してTMAHの分解
と樹脂分の除去を行い、汚泥を静置沈降後上澄液を処理
水として中間パイプから抜き出す。また、樹脂分を捕捉
した不活性無機化合物は、余剰汚泥と共に抜き出され
る。
以下、実施例により、本発明をさらに詳細に説明す
る。
る。
実施例１ 容量５の処理槽に、予め馴養処理された汚泥と中和
したレジスト廃液を各々2.5ずつ供給しさらに、リン
酸アンモニウム水和物3.6g量と、塩化カルシウム2.68g
量を添加後、曝気処理を行った。汚泥濃度3000ppm、処
理温度20℃、槽内pH7.0で制御し、35時間処理した。そ
の後１時間静置して汚泥を沈降分離した後、上澄液の分
析を行った。得られた分析結果を以下に示す。尚添加し
た塩化カルシウムから、計算上500ppmのリン酸カルシウ
ムが生成存在する。
したレジスト廃液を各々2.5ずつ供給しさらに、リン
酸アンモニウム水和物3.6g量と、塩化カルシウム2.68g
量を添加後、曝気処理を行った。汚泥濃度3000ppm、処
理温度20℃、槽内pH7.0で制御し、35時間処理した。そ
の後１時間静置して汚泥を沈降分離した後、上澄液の分
析を行った。得られた分析結果を以下に示す。尚添加し
た塩化カルシウムから、計算上500ppmのリン酸カルシウ
ムが生成存在する。
槽内初期濃度 TMAH 950ppm 樹脂分（TOC換算） 60ppm 処理後上澄液 TMAH 0.2ppm以下 樹脂分（TOC換算） 10 ppm 比較例１ 実施例１において、塩化カルシウムを添加しないほか
は、全く同様に処理を行ったところ、上澄液の樹脂分
（TOC換算）は58ppmであった。
は、全く同様に処理を行ったところ、上澄液の樹脂分
（TOC換算）は58ppmであった。
本発明において、現像廃液を処理するに当り、活性汚
泥槽内のpHを６〜7.5に制御することにより、高効率か
つ安定的に、TMAHの完全な分解、無害化が行える。さら
に、該汚泥槽内に不溶性無機化合物を存在させることに
よりレジスト由来の樹脂分が除去され、処理水々質が向
上する。
泥槽内のpHを６〜7.5に制御することにより、高効率か
つ安定的に、TMAHの完全な分解、無害化が行える。さら
に、該汚泥槽内に不溶性無機化合物を存在させることに
よりレジスト由来の樹脂分が除去され、処理水々質が向
上する。
Claims (4)
- 【請求項１】レジスト由来の樹脂を含有するテトラメチ
ルアンモニウムハイドロオキサイド現像廃液を活性汚泥
槽に供給し曝気条件下にて処理するに当り、該処理槽内
のpHを６〜7.5に制御すると共に不溶性無機化合物を存
在させることにより、レジスト由来の樹脂を余剰汚泥と
共に除去することを特徴とする現像廃液の処理法。 - 【請求項２】不溶性無機化合物が、リン酸カルシウム、
硫酸アルミニウム、硫酸第１鉄または、硫酸第２鉄であ
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の現像廃
液の処理法。 - 【請求項３】リン酸カルシウムが、活性汚泥処理槽内に
水溶性のカルシウム化合物とリン化合物とを供給して形
成されたものであることを特徴とする特許請求の範囲第
２項記載の現像廃液の処理方法。 - 【請求項４】不溶性無機化合物の存在量が50〜10,000pp
mであることを特徴とする特許請求の範囲第１項ないし
第３項のいずれかに記載の現像廃液の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62078308A JPH08235B2 (ja) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | 現像廃液の処理法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62078308A JPH08235B2 (ja) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | 現像廃液の処理法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63242396A JPS63242396A (ja) | 1988-10-07 |
| JPH08235B2 true JPH08235B2 (ja) | 1996-01-10 |
Family
ID=13658301
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62078308A Expired - Lifetime JPH08235B2 (ja) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | 現像廃液の処理法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08235B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5106182B2 (ja) * | 2008-03-05 | 2012-12-26 | オルガノ株式会社 | 水処理方法および水処理装置 |
| JP4859863B2 (ja) * | 2008-03-24 | 2012-01-25 | オルガノ株式会社 | 水処理方法および水処理装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3007782A1 (de) * | 1980-02-29 | 1981-09-17 | Linde Ag, 6200 Wiesbaden | Verfahren und vorrichtung zur biologischen reinigung von abwasser |
| JPS5942094A (ja) * | 1982-09-01 | 1984-03-08 | Green Kaken:Kk | 医療用ｘ線写真廃液中のｃｏｄを減少させる方法 |
-
1987
- 1987-03-31 JP JP62078308A patent/JPH08235B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63242396A (ja) | 1988-10-07 |
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