JPH08233791A - 液体クロマトグラフィー用脱気装置、並びにその基本構造体及び基本モジュール - Google Patents

液体クロマトグラフィー用脱気装置、並びにその基本構造体及び基本モジュール

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JPH08233791A
JPH08233791A JP7347322A JP34732295A JPH08233791A JP H08233791 A JPH08233791 A JP H08233791A JP 7347322 A JP7347322 A JP 7347322A JP 34732295 A JP34732295 A JP 34732295A JP H08233791 A JPH08233791 A JP H08233791A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 液体クロマトグラフィー用脱気装置と、該装
置の基本構造及び基本モジュールを提供する。 【解決手段】 周辺１０４を有する開口部１０６に配置
された支持リブ１０８を有する支持構造体１０２；及び
開口部を覆う膜を有する基本構造体１００。第一，第二
基本構造体１００ａ，ｂを有し：第二基本構造体は第一
基本構造体の表面に近接するよう第一基本構造体上に配
置され、第一基本構造体の接続開口部が第二基本構造体
の通路開口部に軸調整され、第一基本構造体の通路開口
部が第二基本構造体の接続開口部に軸調整される基本モ
ジュール。上記の基本モジュール；基本モジュールの第
一基本構造体の表面に近接する第一カバープレート；及
び第二基本構造体の表面にする第二カバープレートを有
し：第一カバープレートは第一基本構造体の通路開口部
に軸調整される２つの接続開口部を有し；第二カバープ
レートは第二基本構造体の通路開口部に軸調整される２
つの別の接続開口部を有し；第二カバープレートの表面
が支持リブ付き凹部を有する脱気装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液体クロマトグラ
フィー用脱気装置に関し、より詳細には、真空系オンラ
イン脱気装置の基本構造及び基本モジュールに関する。
【０００２】
【技術背景】液体クロマトグラフィーにおける脱気装置
の役割は用いられる溶媒に溶解したガス量を減少させる
ことである。液体クロマトグラフィーに用いられる溶媒
は、通常、周囲空気と接触して保管されている、即ち、
それらは、通常、ガス飽和状態にある。これらの溶存ガ
スはクロマトグラフィーに悪い影響を及ぼす。
【０００３】溶媒の混合体（例えば、アルコール／水）
が用いられる時、その混合体のガス溶解度は、それが含
有する液体のそれより低いであろう。そのため気泡が生
じ、系の流動の安定性と溶媒の組成に有害な影響を及ぼ
すことになる。この影響は、いわゆる低圧混合体系（ｌ
ｏｗ−ｐｒｅｓｓｕｒｅ ｍｉｘｔｕｒｅ ｓｙｓｔｅ
ｍｓ）で特に重要な役割を演ずる。
【０００４】溶媒中の溶存酸素は検出感度に悪影響を及
ぼす。溶離液における酸素の高溶解度はＵＶ検出で認め
られ、酸素濃度の大きな変動によって、２６０ｎｍ未満
の波長で著しい検出ノイズが生ずることになる。その高
い吸光度は、酸素の含有量を測定するのに十分用いるこ
とができる。
【０００５】蛍光にはいわゆるクエンチング（消光）効
果が起こり、そのため蛍光検出が抑制されることがあり
得る。この理由から、蛍光検出器での高感度測定は、脱
気溶媒の使用によってのみ実行できることになる。
【０００６】検出に及ぼす溶存ガスの影響とは別に、溶
離液と溶存ガスの化学反応も問題となる。これは、特に
生物実験において分析結果に悪影響を及ぼす虞れがあ
る。
【０００７】分析結果に及ぼす前述の溶存ガスの悪影響
という理由から、被分析液体を脱気することは絶対に必
要である。
【０００８】従来技術では、例えば、ベーキング、沸
騰、超音波脱気、ヘリウム脱気及び真空脱気を含む、い
くつかの方法が知られている。
【０００９】これらの方法は十分熟知されているもので
ある。
【００１０】いわゆる真空系オンライン脱気が有利であ
ると立証されたのは最近のことであり、その用法は広が
りつつある。
【００１１】真空系オンライン脱気装置の一例は、例え
ば、製品説明書“Ｔｈｅ ＨＰ １０５０ Ｓｅｒｉｅ
ｓ Ｏｎｌｉｎｅ Ｄｅｇａｓｓｅｒ”に記述されてい
る。
【００１２】これより、図１０を参照してこの真空系オ
ンライン脱気装置が基礎としている原理をより詳細に説
明しよう。
【００１３】溶媒容器８００にある被脱気溶媒は、供給
ライン８０４を経由して脱気装置８０８の入口接続口へ
送り込まれる。入口接続口８０６は、脱気装置８０８の
真空チャンバ８１２内部に配置されている複数の平行可
撓性管８１０に接続される。入口接続口８０６に対向す
る管８１０の端末は、脱気装置８０８の出口接続口８１
４に接続される。ポンプ８１６によって脱気した溶媒が
分析用クロマトグラフに送り出される。
【００１４】真空チャンバ８１２では、真空ポンプ８１
８によって部分真空が生ずる。真空チャンバ８１２と真
空ポンプ８１８との間には弁８２０がある。
【００１５】真空チャンバ８１２に配置された管８１０
は、薄壁のＰＴＦＥ材料（ＰＴＦＥ＝ポリテトラフルオ
ロエチレン）から作られている：何故なら、この材料
は、十分な透過性と耐薬品性を有しているからである。
【００１６】いわゆる２段真空ポンプである真空ポンプ
８１８によって、約６００ｍｂａｒの平均部分真空が作
り出される。
【００１７】可撓性管８１０を通して溶媒が流れている
間、溶媒に溶解したガスは管壁を通して拡散する。実施
次第で、溶媒のガス含有量は１ｐｐｍ酸素未満に減らさ
れる。
【００１８】米国特許第４，４６９，４９５号では、液
体クロマトグラフィーに用いられる液体から酸素又は他
の溶存ガスを排除するための、脱気される液体が螺旋形
状の管を通過する方式の脱気装置が開示されている。こ
の管は、テトラフルオロエチレンのような合成樹脂材料
から作られている。
【００１９】米国特許第４，７２９，７７３号では、ガ
スは通過させるが液体の通過は妨げるところの、フッ素
樹脂から作られた管を液体が通過する方式の液体脱気装
置が開示されている。
【００２０】上述の技術は、主として、例えば、ＰＴＦ
Ｅから作られてよい薄壁の可撓性管又は剛性管の使用に
依存するものである。いくつかの当該管は、活性拡散表
面積を増やすために並列で用いられる。
【００２１】この技術の１つの欠点は、可及的薄い壁を
有する可撓性管又は剛性管の製作には、技術的限界があ
るという事実に見出される。薄壁の可撓性管又は剛性管
は製造及び取扱いが複雑であり、コストの上昇を招く。
【００２２】別の欠点は、可撓性管又は剛性管の寸法が
脱気される液体によって変わり得るという事実に見出さ
れる。このことは、種々のガスとガス濃度を有する種々
の液体に対して、種々の管構成が与えられなければなら
ないということを意味するものである。上述の技術的限
界から、これには相当の複雑さとコスト高が包含され
る。
【００２３】
【発明の目的】従来技術と比べ、本発明の一の目的は、
薄膜の製造が容易且つ安価になり、さらに装置の使用が
単純になる、液体クロマトグラフィー用脱気装置の基本
構造を提供することにある。
【００２４】本発明の二の目的は、容易且つ安価に製造
でき、取扱いが簡単な液体クロマトグラフィー用脱気装
置の基本モジュールを提供することにある。
【００２５】本発明の三の目的は、組立が容易で、種々
の液体の脱気に適用でき、使用が簡単で、且つ低コスト
を招来する液体クロマトグラフィー用脱気装置を提供す
ることにある。
【００２６】
【発明の概要】本発明の一の目的は請求項１に記載の基
本構造で達成され、二の目的は請求項２に記載の基本モ
ジュールで達成され、三の目的は請求項３に記載の液体
クロマトグラフィー用脱気装置で達成される。
【００２７】本発明は、次の特色：開口部を囲む周辺を
有し、その開口部に配置された支持リブを有する支持構
造体；及びその開口部を覆う膜；を有する液体クロマト
グラフィー用脱気装置を提供するものである：
【００２８】本発明は、次の要素を有する液体クロマト
グラフィー用脱気装置の基本モジュールを提供するもの
である：第一及び第二の基本構造体であって、第二の基
本構造体は、膜から離れて面する第二の基本構造体の表
面が前述の膜がその上に位置する第一の基本構造体の表
面に近接するよう、第一の基本構造体上に配置されてお
り；この構成において、第一の基本構造体の接続開口部
が第二の基本構造体のそれぞれの通路開口部に軸調整さ
れ且つ第一の基本構造体の通路開口部が第二の基本構造
体のそれぞれの接続開口部に軸調整される。
【００２９】本発明は、次の要素、即ち：基本モジュー
ル；膜から離れて面している基本モジュールの第一基本
構造体の表面に近接して位置する第一のカバープレー
ト；及び第二基本構造体の膜がその上に位置している基
本モジュールの第二基本構造体の表面に近接して配置さ
れる第二のカバープレート；を有する液体クロマトグラ
フィー用脱気装置を提供するものであり、ここで：第一
のカバープレートは、基本モジュールの第一基本構造体
の通路開口部に軸調整される２つの接続開口部を有し；
第二のカバープレートは、基本モジュールの第二基本構
造体の通路開口部に軸調整される２つの別の接続開口部
を有し；且つ基本モジュールの第二基本構造体の膜に面
する第二のカバープレートの表面が支持リブ付き凹部を
有する。
【００３０】本発明は、次の要素、即ち：互いの上面に
重ねられた複数の基本モジュール；膜から離れて面する
最下部の基本モジュールの第一基本構造体の表面に近接
する第一カバープレート；及び構造体の膜がその上に配
置される最上部の基本モジュールの第二基本構造体の表
面に近接する第二カバープレート；を有する液体クロマ
トグラフィー用脱気装置を提供するものにあり、ここ
で：第一カバープレートは、最下部の基本モジュールの
第一基本構造体の通路開口部に軸調整される２つの接続
開口部を有し；第二カバープレートは、最上部の基本モ
ジュールの第二基本構造体の通路開口部に軸調整される
２つの別の接続開口部を有し；且つ最上部の基本モジュ
ールの第二基本構造体の膜に面する第二カバープレート
の表面が支持リブ付き凹部を有する。
【００３１】本発明の好ましい具体例を説明する前に、
真空系オンライン脱気装置の基礎となる原理を以下に説
明する。
【００３２】脱気は、膜を通してのガスの拡散に依存す
るものである。拡散は、１つのガスが別のガスと混合さ
れてその濃度（分圧又は部分密度）が各点で異なるとき
に起こる。それは、均一の混合体が生成されたときにの
み成就される。
【００３３】拡散によって表面を通過するガスの質量△
ｍは、表面積ρと時間△ｔに比例する：
【００３４】
【数１】△ｍ＝−Ｄ（ｄρ／ｄｘ）・△ｔ （フィックの第一法則） ここで、Ｄはｃｍ２・ｓ−１で表した拡散係数である。
【００３５】考えられる別の変数は透過である。透過は
壁又は膜を通すガスの拡散を意味するものと考えられ
る。下記に、拡散過程を計算するためにいくつかの単純
モデルを想定する。
【００３６】−静止観測、及び −液体中の一定ガス濃度 という想定の下で、下記の式が成立する：
【００３７】
【数２】Ｐ＝（ｎ・ｓ）／（Ａ・△ｐ・ｔ） ここで、 Ｐ＝透過 ｎ＝拡散されたガス量 ｓ＝膜壁の厚さ Ａ＝膜の表面積 ｔ＝時間
【００３８】よって、透過は、膜の活性表面積を増やす
か又は膜厚を減ずることによって増大することができ
る。
【００３９】液体を脱気するとき、膜材の選択は重要で
ある。従来技術では、ＰＴＦＥの可撓性管（ＰＴＦＥ＝
ポリテトラフルオロエチレン）が使用されている。ＰＴ
ＦＥは良好な透過率で特徴付けられるものである。
【００４０】透過率はまた材料の結晶性に重く依存す
る。一般に、ＰＴＦＥは脱気装置に用いられる。しか
し、必要なら、その透過率がＰＴＦＥのそれより小さい
ＦＥＰ（フッ素化エチレンプロピレン）を用いてもよ
い。しかし、結晶化の程度が高いところでは、ＰＴＦＥ
の透過性はＦＥＰのそれと同程度の大きさである、と言
わなければならない。
【００４１】他の材料、例えば、薬品に対して高い耐性
を有するフッ素化ポリマーを用いてもよい。そのような
フッ素化ポリマーとしては、例えば、ＰＣＴＦＥ（ポリ
クロロトリフルオロエチレン）、ＥＴＦＥ又はＰＶＤＦ
（ポリフッ化ビニリデン）がある。
【００４２】従来技術とは異なり、本発明は、可撓性管
又は剛性管を使わないが、その代わりにマイクロシステ
ム技術（例えば、ＬＩＧＡ−Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｉｅ
／Ｇａｌｖａｎｉｋ／Ａｂｆｏｒｍｕｎｇ−の技法（リ
ソグラフィー及びガルバニック作用で構造化するもの）
を採用している。マイクロシステム技術によって、種々
の材料、例えば、シリコン、ガラス、セラミックス又は
プラスチックで安価にミクロ構造を作り出すことが可能
となる。
【００４３】
【実施例】上記の本発明の好ましい実施例は、添付図を
参照すればより詳細に理解できるであろう。図１を参照
して、真空系オンライン脱気を可能にする液体クロマト
グラフィー用脱気装置を製造するための最小単位又は基
本要素を表す基本構造体１００を以下に説明する。基本
構造体１００は周辺１０４をもつ支持構造体１０２から
成る。この周辺１０４は、複数の支持リブ１０８がそこ
に配置されている開口部１０６を取り囲んでいる。
【００４４】図１が示すように、支持リブ１０８は開口
部１０６がジグザグ状の経路をたどるよう配列され、そ
の支持リブ１０８は支持構造体１０２のそれと同じ厚さ
である。
【００４５】加えて、基本構造体１００は、支持リブ１
０８と直角に配列され且つ支持構造体１０２のそれより
薄い厚みをもつ横断リブ１１０より成る。
【００４６】開口部１０６とは別に、支持構造体１０２
の周辺１０４は他の開口部を有する。２つの接続開口部
１１２は周辺１０４に位置し且つ開口部１０６に接続さ
れ、２つの通路開口部１１４は周辺１０４に設けられ
る。図１が示すように、この具体例では、接続開口部１
１２と通路開口部１１４は互いに対称的に配列される。
【００４７】接続開口部１１２を有する支持構造体１０
２の側面と通路開口部１１４を有する支持構造体１０３
の側面とを識別するため、標識１１６が支持構造体１０
２の接続開口部１１２の隣に設けられる。
【００４８】図２ａ及び図２ｂは、それぞれ、上方及び
下方からみた図１の基本構造体のさらに別の表示を示す
ものである。ここでは、図１で用いられたものと同じ参
照記号を用いる。
【００４９】図３ａ及び図３ｂには完成された基本構造
体１００が表示されており、ここでは膜１１８が開口部
１０６を覆っている。
【００５０】図１〜３に示される基本構造体はマイクロ
脱気装置を製造する際に用いられる基本要素を表してい
る。その構造は、熟練した当業者に熟知されているマイ
クロシステム技術を用いて実現されるものである。
【００５１】ここで主要な要素は極薄い膜１１８を作り
出すことである。好ましい具体例では、この膜の厚みは
僅かに数ミクロンである。機械的に極めて不安定である
ところの膜を支持するため、支持リブ１０８と横断リブ
１１０が設けられる。図１〜３は、単に、基本構造体が
より容易に理解されることを狙った略図である。本発明
の実施例では、支持リブ１０８と横断リブ１１０とで形
成されるセルの寸法は、ミクロンの範囲にある。これら
のセルにより、膜１１８を薄くし且つ耐圧を持たせるこ
とが可能となる。
【００５２】支持リブ１０８のジグザグ構成によって、
基本構造体１００の底面上にジグザグ“チャネル”が形
成される。これによって、脱気中の液体が多重基本構造
体から成る脱気装置のチャネルを通って流れることが可
能となる。用いられる基本構造体の数に依存して、被脱
気液体、その容積、そこに溶解されたガス濃度、等に基
づいて有効な膜面積を調整してよい。
【００５３】膜１１８は、コーティング又は堆積法のよ
うな在来法で支持構造体１０２の上に載せられる。
【００５４】膜１１８は、優れた透過率を持つ材料、例
えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）又はフ
ッ素化エチレンプロピレン（ＦＥＰ）から成る。さら
に、他の材料、例えばフッ素化ポリマーの群に属し、薬
品に対し高耐性を有する全ての材料を用いてよい。前述
のフッ素化ポリマーには、例えば、ＰＣＴＦＥ（ポリク
ロロトリフルオロエチレン）、ＥＴＦＥ又はＰＶＤＦ
（ポリフッ化ビニリデン）がある。ポリオレフィン（例
えば、ポリプロピレン）に属する材料も用いてよい。ポ
リプロピレンは、微細加工に関連した工程に関しては非
臨界性であり、且つ薬品に対して高耐性でもある。
【００５５】本発明の具体例の追加説明では、以後の図
の同一要素に対して同一の参照記号を用いる。
【００５６】図４及び図５は、２つの基本構造体がどの
ように連結されて基本モジュールを形成するかを示すも
のである。
【００５７】図４及び図５に示すように、基本構造体１
００ｂは、膜１１８ｂから離れて面する基本構造体１０
０ｂの表面１２０ｂが膜１１８ａを載せた基本構造体１
００ａの表面１２２ａと近接するように、基本構造体１
００ａ上に配列される。
【００５８】基本構造体１００ａの接続開口部１１２ａ
は基本構造体１００ｂの各通路開口部１１４ｂと軸調整
され、基本構造体１００ａの通路開口部１１４ａは基本
構造体１００ｂの各接続開口部１１２ｂと軸調整され
る。
【００５９】図４及び図５に示すように、上述の基本構
造体１００ａ及び１００ｂを配列する操作は、２つの基
本構造体上の標識１１６ａ及び１１６ｂがあるため簡便
化される。即ち、２つの基本構造体１００ａ及び１００
ｂは、そのように形成される基本モジュールの対向側面
に標識１１６ａ及び１１６ｂがくるよう配列される。
【００６０】図６はそのようにして作られた基本モジュ
ール１５０を示す。
【００６１】基本構造体１００ａ及び１００ｂは、微細
加工に共通に使用される接合技術を使って接合され基本
モジュール１５０を形成する。
【００６２】図７は、２つの基本モジュール１５０ａと
１５０ｂとの組合せを示す。２つの基本モジュール１５
０ａと１５０ｂとは互いの頂上面上に積み重ねられる。
基本モジュール１５０ａの下側には、第一カバープレー
ト１５２が設けられ、それは基本モジュール１５０ａの
下部基本構造体の通路開口部に軸調整された開口部１５
４を有する。基本モジュール１５０ｂの上側には、第二
カバープレート１５６が配置され、これは開口部１５８
ａと開口部１５８ｂとを有する。これらの開口部１５８
ａと開口部１５８ｂは、上部基本モジュール１５０ｂの
上部基本構造体の通路開口部と軸調整される。
【００６３】２つの基本モジュール１５０ａと１５０ｂ
とのこの組合せによって、２つの分離チャンバ１６０と
１６２とが形成され、それによって、一般参照記号１１
８で示される個々の膜は平行に配置されることになる。
この平行配列は、それによって脱気効率が最適化され同
時に低コストであるという理由から、本発明の重要な特
色である。
【００６４】第一カバープレート１５２の開口部１５４
に真空ポンプ（図示せず）を取付け、且つ接続開口部１
５８ｂを被脱気液体を流入させる入口接続口にそして開
口部１５８ａを脱気した液体を流出させる出口接続口に
接続することにより、マイクロ脱気装置が形成される。
このマイクロ脱気装置により、矢印Ａで示すように、開
口部１５４を経由して排気系が作動され；矢印Ｂで示す
ように、開口部１５８ｂを介して被脱気溶媒が流入さ
れ；それが基本モジュールで規定されたチャネルを通過
しそして膜を経て溶媒中の溶存ガスを放出し；脱気され
た溶媒は、矢印Ｃで示すように、開口部１５８ａ経由で
マイクロ脱気装置から出ていく。
【００６５】基本モジュール１５０ａと１５０ｂの数
は、被脱気溶媒と、その溶媒が含有しているガスと、さ
らに考えられる他のパラメーターとに依存して変更され
てよいことは、熟練した当業者には明かである。例え
ば、ある構成では単一の基本モジュールを用いれば十分
かも知れないが、それに反し、他の構成ではいくつかの
基本モジュールが要るかも知れない。
【００６６】図８及び図９は、液体クロマトグラフィー
に使用される基本モジュールを２基備えたマイクロ脱気
装置の構造を示す。
【００６７】図８及び図９に示された脱気装置は、互い
の上面上に積み重ねられる２つの基本モジュール１５０
ａと１５０ｂとから成る。膜から離れて面している最下
部基本モジュール１５０ａの第一基本構造体１００ａの
表面１２０ａに近接して第一カバープレート１５２があ
り、そして構造体の膜がその上に配置されている最上部
基本モジュール１５０ｂの第二基本構造体１００ｂの表
面に近接して第二カバープレート１５６がある。
【００６８】第一カバープレート１５２は２つの接続開
口部１５４を有しており、これらは最下部基本モジュー
ル１５０ａの第一基本構造体１００ａの通路開口部１１
４ａに軸調整される。第二カバープレート１５６は別の
２つの接続開口部１５８を有しており、これらは最上部
基本モジュール１５０ｂの第二基本構造体１００ｂの通
路開口部１１４ｂに軸調整される。また、最上部基本モ
ジュール１５０ｂの第二基本構造体１００ｂの膜１１８
ｂに面している第二カバープレート１５６の表面１２２
ｂは支持リブ１６６を有する凹部１６４を有している。
【００６９】図９で分かるように、第二カバープレート
１５６の支持リブ１６６は、最上部基本モジュール１５
０ｂの第一基本構造体１００ａの支持リブ１０８に軸調
整される。
【００７０】ミクロ構造技術の真空ポンプ１６８は、最
上部基本モジュール１５０ｂから離れて面する第二カバ
ープレート１５６の表面１７０上に配置される。
【００７１】マイクロ真空ポンプ１６８も最下部基本モ
ジュール１５０ａから離れて面している第一カバープレ
ート１５２の表面１７２上に配置してよいことは、熟練
した当業者には明かである。
【００７２】脱気装置と流体リンクを形成するため、こ
れらの真空ポンプ１６８と近接しない開口部は、液体が
それを通して流入又は流出できる吸込及び出口接続口を
備えている（図８及び図９では、これらは第一カバープ
レート１５２の接続口１５４である）。
【００７３】上記のマイクロ脱気装置はマイクロシステ
ム技術の支援で製造されているので、基本モジュールを
追加要素と組合せることは可能である。例えば、（被脱
気溶媒の入口及び出口に使用されるような）関連マイク
ロ弁及びそれらのための制御回路を一体化することは可
能である。また、例えば、図８及び図９に示した脱気装
置に酸素センサを備えて、このセンサの出力信号に応答
して脱気プロセスを精密に制御すること（例えば、マイ
クロ真空ポンプを制御すること）も可能である。
【００７４】マイクロ脱気装置を他のマイクロシステム
部品と組合せることができるということは、本発明の重
要な特性である。この方法で、完全に統合されたユニッ
トが形成され、それは、全体として、下記の総合的構成
を有するものである： −微細加工技術を使って作られた真空ポンプ −微細加工技術で作られた弁 −微細加工技術で作られた酸素センサ／回路 を結合した１つ以上の基本モジュール。
【００７５】以上のように、本発明は、〔１〕開口部
（１０６）を囲む周辺（１０４）を有し、その開口部
（１０６）に配置された支持リブ（１０８）を有する支
持構造体（１０２）；及びその開口部（１０６）を覆う
膜（１１８）；を有する液体クロマトグラフィー用脱気
装置の基本構造体（１００）に関し、次のような好まし
い実施態様を有する。
【００７６】〔２〕支持リブ（１０８）は開口部（１０
６）がジグザグ状の経路をたどるような配置で開口部
（１０６）に配列されており、前記支持リブ（１０８）
の厚みが支持構造体（１０２）のそれと同一である
〔１〕記載の基本構造体（１００）。
【００７７】〔３〕横断リブが支持リブ（１０８）と直
角に配列され且つ支持構造体（１０２）のそれより薄い
厚みをもつ〔１〕又は〔２〕記載の基本構造体（１０
０）。
【００７８】〔４〕開口部（１０６）に接続される少な
くとも２つの接続開口部（１１２）と２つの通路開口部
（１１４）とが周辺（１０４）に配置されることを特徴
とする〔１〕〜〔３〕に記載の基本構造体（１００）。
【００７９】〔５〕接続開口部（１１２）と通路開口部
（１１４）が互いに対称的に配置される〔４〕記載の基
本構造体（１００）。
【００８０】〔６〕支持構造体（１０２）が接続開口部
（１１２）に隣合って標識（１１６）を有する〔４〕又
は〔５〕記載の基本構造体（１００）。
【００８１】〔７〕膜（１１８）が高透過率を有する材
料から成る〔１〕〜〔６〕記載の基本構造体（１０
０）。
【００８２】〔８〕膜（１１８）がポリテトラフルオロ
エチレン（ＰＴＦＥ）から成る〔７〕記載の基本構造体
（１００）。
【００８３】
〔９〕膜（１１８）がフッ素化エチレンプ
ロピレン（ＦＥＰ）から成る〔７〕記載の基本構造体
（１００）。
【００８４】〔１０〕膜（１１８）が、ＰＣＴＦＥ（ポ
リクロロトリフルオロエチレン）、ＥＴＦＥ又はＰＶＤ
Ｆ（ポリフッ化ビニリデン）を含む、フッ素化ポリマー
の群に属する材料の１つから作られる〔７〕記載の基本
構造体（１００）。
【００８５】〔１１〕前記膜が、ポリプロピレンを含
む、ポリオレフィンの群に属する材料の１つから成る
〔７〕記載の基本構造体（１００）。
【００８６】また本発明は、〔１２〕液体クロマトグラ
フィー用脱気装置の基本モジュールであって：〔４〕〜
〔９〕に記載の第一及び第二の基本構造体（１００ａ、
１００ｂ）を有し：その構成において、第二基本構造体
（１００ｂ）は、膜（１１８ｂ）から離れて面する第二
の基本構造体（１００ｂ）の表面（１２０ｂ）が膜（１
１８ｂ）がその上に位置する第一基本構造体（１００
ａ）の表面（１２２ａ）に近接するよう、第一基本構造
体（１００ａ）上に配置されており、且つ、第一基本構
造体（１００ａ）の接続開口部（１１２ａ）が第二基本
構造体（１００ｂ）のそれぞれの通路開口部（１１４
ｂ）に軸調整され、且つ第一基本構造体（１００ａ）の
通路開口部（１１４ａ）が第二基本構造体（１００ｂ）
のそれぞれの接続開口部（１１２ｂ）に軸調整されるこ
と：を特徴とする液体クロマトグラフィー用脱気装置の
基本モジュール（１５０）に関する。
【００８７】さらに、本発明は、〔１３〕液体クロマト
グラフィー用脱気装置であって： 〔１２〕記載の基本モジュール（１５０）；膜（１１８
ｂ）から離れて面している基本モジュール（１５０）の
第一基本構造体（１００ａ）の表面に近接して配置され
る第一のカバープレート（１５２）；及び第二基本構造
体（１００ｂ）の膜（１１８ｂ）がその上に位置してい
る基本モジュール（１５０）の第二基本構造体（１００
ｂ）の表面に近接して配置される第二のカバープレート
（１５６）；を有し、ここで：第一カバープレート（１
５２）は、基本モジュール（１５０）の第一基本構造体
（１００ａ）の通路開口部（１１４ａ）に軸調整される
２つの接続開口部（１５４）を有し；第二カバープレー
ト（１５６）は、基本モジュール（１５０）の第二基本
構造体（１００ｂ）の通路開口部（１１４ｂ）に軸調整
される２つの別の接続開口部を有し；且つ基本モジュー
ル（１５０）の第二基本構造体（１００ｂ）の膜（１１
８ｂ）に面する第二カバープレート（１５６）の表面
（１２２ｂ）が支持リブ（１６６）付き凹部（１６４）
を有すること：を特徴とする脱気装置に関し、次のよう
な好ましい実施態様を有する。
【００８８】〔１４〕第二カバープレート（１５６）の
支持リブ（１６６）が基本モジュール（１５０）の第一
基本構造体（１００ａ）の支持リブ（１０８）に軸調整
される〔１３〕記載の脱気装置。
【００８９】〔１５〕マイクロ真空ポンプ（１６８）が
基本モジュール（１５０）から離れて面している第二カ
バープレート（１５６）の表面（１７０）上に配列され
る〔１３〕又は〔１４〕記載の脱気装置。
【００９０】〔１６〕マイクロ真空ポンプ（１６８）が
基本モジュール（１５０）から離れて面している第一カ
バープレート（１５２）の表面（１７２）上に配列され
る〔１３〕又は〔１４〕記載の脱気装置。
【００９１】〔１７〕一体化ユニットが、マイクロ真空
ポンプと結合された基本モジュール（１５０）と、全て
マイクロ加工技術を使って作られた弁、酸素センサ及び
電気回路とを包含する〔１３〕〜〔１６〕記載の脱気装
置。
【００９２】そして、本発明は、〔１８〕液体クロマト
グラフィー用脱気装置であって：互いの上面に積み重ね
られた、〔１２〕記載の複数の基本モジュール（１５０
ａ、１５０ｂ）；膜（１１８ａ）から離れて面する最下
部の基本モジュール（１５０ａ）の第一基本構造体（１
００ａ）の表面（１２０ａ）に近接して配置される第一
カバープレート（１５２）；及び第二基本構造体（１０
０ｂ）の膜がその上に置かれる最上部の基本モジュール
（１５０ｂ）の第二基本構造体（１００ｂ）の表面（１
２２ｂ）に近接して配置される第二カバープレート（１
５６）；を有し、ここで：第一カバープレート（１５
２）は、最下部の基本モジュール（１５０ａ）の第一基
本構造体（１００ａ）の通路開口部（１１４ａ）に軸調
整される２つの接続開口部（１５４）を有し；第二カバ
ープレート（１５６）は、最上部の基本モジュール（１
５０ｂ）の第二基本構造体（１００ｂ）の通路開口部
（１１４ｂ）に軸調整される２つの別の接続開口部（１
５８）を有し；且つ最上部の基本モジュール（１５０
ｂ）の第二基本構造体（１００ｂ）の膜（１１８ｂ）に
面する第二カバープレート（１５６）の表面（１２２
ｂ）が支持リブ付き凹部（１６４）を有すること：を特
徴とする脱気装置に関し、次のような好ましい実施態様
を有する。
【００９３】〔１９〕第二カバープレート（１５６）の
支持リブ（１６６）が最上部の基本モジュール（１５
０）の第一基本構造体（１００ａ）の支持リブ（１０
８）に軸調整される〔１８〕記載の脱気装置。
【００９４】〔２０〕マイクロ真空ポンプ（１６８）が
最上部の基本モジュール（１５０ｂ）から離れて面して
いる第二カバープレート（１５６）の表面（１７０）上
に配列される〔１８〕又は〔１９〕記載の脱気装置。
【００９５】〔２１〕マイクロ真空ポンプ（１６８）が
最下部の基本モジュール（１５０ａ）から離れて面して
いる第一カバープレート（１５２）の表面（１７２）上
に配列される〔１３〕又は〔１４〕記載の脱気装置。
【００９６】〔２２〕一体化ユニットが、マイクロ真空
ポンプ及び弁と結合された複数の基本モジュール（１５
０）と、全てマイクロ加工技術を使って作られた、酸素
センサ及び電気回路とを含んで成る〔１８〕〜〔２１〕
記載の脱気装置。
【００９７】
【発明の効果】本発明によれば、製造が容易且つ安価
で、しかも取扱いが簡単で、その上、組立も容易で、種
々の液体の脱気に適用できる液体クロマトグラフィー用
脱気装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】下方から見た本発明の基本構造体の拡大図を示
す。
【図２】（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ、上方及び下方
から見た図１の基本構造体を示す。
【図３】（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ、上方及び下方
から見た膜付きの基本構造体を示す。
【図４】上方から見た、基本モジュールを形成する２つ
の基本構造体を示す。
【図５】下方から見た、基本モジュールを形成する２つ
の基本構造体を示す。
【図６】基本モジュールの外観を示す。
【図７】２つの基本モジュールを組合わせたものの断面
を示す。
【図８】上方から見た液体クロマトグラフィーの組立体
を表す。
【図９】下方から見た液体クロマトグラフィーの組立体
を表す。
【図１０】従来技術の真空オンライン脱気装置を示す。
【符号の説明】
１００ 基本構造体 １０２ 支持構造体 １０４ 支持構造体１０２の周辺 １０６，１１２，１１４，１５４，１５８ 開口部 １０８，１６６ 支持リブ １１０ 横断リブ １１６ 標識 １１８ 膜 １２０，１２２ 基本構造体１００の表面 １５０ 基本モジュール １５２ 第一カバープレート １５６ 第二カバープレート １６０，１６２ 分離チャンバ １６４ 凹部 １６８ 真空ポンプ １７０ 第二カバープレート１５６の表面 １７２ 第一カバープレート１５２の表面

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 開口部（１０６）を囲む周辺（１０４）
    を有し、その開口部（１０６）に配置された支持リブ
    （１０８）を有する支持構造体（１０２）；及びその開
    口部（１０６）を覆う膜（１１８）；を有する液体クロ
    マトグラフィー用脱気装置の基本構造体（１００）。
  2. 【請求項２】 液体クロマトグラフィー用脱気装置の基
    本モジュールであって：第一及び第二の基本構造体（１
    ００ａ、１００ｂ）を有し：その構成において、第二基
    本構造体（１００ｂ）は、膜（１１８ｂ）から離れて面
    する第二の基本構造体（１００ｂ）の表面（１２０ｂ）
    が膜（１１８ｂ）がその上に位置する第一基本構造体
    （１００ａ）の表面（１２２ａ）に近接するよう、第一
    基本構造体（１００ａ）上に配置されており、且つ、第
    一基本構造体（１００ａ）の接続開口部（１１２ａ）が
    第二基本構造体（１００ｂ）のそれぞれの通路開口部
    （１１４ｂ）に軸調整され、且つ第一基本構造体（１０
    ０ａ）の通路開口部（１１４ａ）が第二基本構造体（１
    ００ｂ）のそれぞれの接続開口部（１１２ｂ）に軸調整
    されること：を特徴とする液体クロマトグラフィー用脱
    気装置の基本モジュール（１５０）。
  3. 【請求項３】 液体クロマトグラフィー用脱気装置であ
    って：請求項２記載の基本モジュール（１５０）；膜
    （１１８ｂ）から離れて面している基本モジュール（１
    ５０）の第一基本構造体（１００ａ）の表面に近接して
    配置される第一のカバープレート（１５２）；及び第二
    基本構造体（１００ｂ）の膜（１１８ｂ）がその上に位
    置している基本モジュール（１５０）の第二基本構造体
    （１００ｂ）の表面に近接して配置される第二のカバー
    プレート（１５６）；を有し、ここで：第一カバープレ
    ート（１５２）は、基本モジュール（１５０）の第一基
    本構造体（１００ａ）の通路開口部（１１４ａ）に軸調
    整される２つの接続開口部（１５４）を有し；第二カバ
    ープレート（１５６）は、基本モジュール（１５０）の
    第二基本構造体（１００ｂ）の通路開口部（１１４ｂ）
    に軸調整される２つの別の接続開口部を有し；且つ基本
    モジュール（１５０）の第二基本構造体（１００ｂ）の
    膜（１１８ｂ）に面する第二カバープレート（１５６）
    の表面（１２２ｂ）が支持リブ（１６６）付き凹部（１
    ６４）を有すること：を特徴とする脱気装置。
  4. 【請求項４】 液体クロマトグラフィー用脱気装置であ
    って：互いの上面に積み重ねられた、請求項２記載の複
    数の基本モジュール（１５０ａ、１５０ｂ）；膜（１１
    ８ａ）から離れて面する最下部の基本モジュール（１５
    ０ａ）の第一基本構造体（１００ａ）の表面（１２０
    ａ）に近接して配置される第一カバープレート（１５
    ２）；及び第二基本構造体（１００ｂ）の膜がその上に
    置かれる最上部の基本モジュール（１５０ｂ）の第二基
    本構造体（１００ｂ）の表面（１２２ｂ）に近接して配
    置される第二カバープレート（１５６）；を有し、ここ
    で：第一カバープレート（１５２）は、最下部の基本モ
    ジュール（１５０ａ）の第一基本構造体（１００ａ）の
    通路開口部（１１４ａ）に軸調整される２つの接続開口
    部（１５４）を有し；第二カバープレート（１５６）
    は、最上部の基本モジュール（１５０ｂ）の第二基本構
    造体（１００ｂ）の通路開口部（１１４ｂ）に軸調整さ
    れる２つの別の接続開口部（１５８）を有し；且つ最上
    部の基本モジュール（１５０ｂ）の第二基本構造体（１
    ００ｂ）の膜（１１８ｂ）に面する第二カバープレート
    （１５６）の表面（１２２ｂ）が支持リブ付き凹部（１
    ６４）を有すること：を特徴とする脱気装置。
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