JPH0822418B2 - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
- Publication number
- JPH0822418B2 JPH0822418B2 JP2091685A JP9168590A JPH0822418B2 JP H0822418 B2 JPH0822418 B2 JP H0822418B2 JP 2091685 A JP2091685 A JP 2091685A JP 9168590 A JP9168590 A JP 9168590A JP H0822418 B2 JPH0822418 B2 JP H0822418B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cup
- inner cup
- lid
- outer cup
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Liquid Crystal (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は液晶ディスプレイ（LCD）の製造工程等に用
いる塗布装置に関する。
いる塗布装置に関する。
（従来の技術） ブラウン管（CRT）に代わる表示装置として液晶ディ
スプレイが注目されている。
スプレイが注目されている。
液晶ディスプレイは表面に画素を構成する電極や素子
を形成した２枚のガラス基板の間に液晶を注入した構造
となっている。そして各画素を薄膜トランジスタ（TF
T）や金属／絶縁体／金属接合（MIM）などの素子で駆動
せしめるアクティブマトリクス方式が高画質の画面が得
られるため主流になりつつある。
を形成した２枚のガラス基板の間に液晶を注入した構造
となっている。そして各画素を薄膜トランジスタ（TF
T）や金属／絶縁体／金属接合（MIM）などの素子で駆動
せしめるアクティブマトリクス方式が高画質の画面が得
られるため主流になりつつある。
そして、上記の薄膜トランジスタをガラス基板上に形
成する技術はシリコンウェハ等に集積回路を形成する半
導体製造技術をそのまま応用している。レジスト液の塗
布も一連の工程のうちの一つであり、この工程ではイン
ナーカップ内の真空チャックにガラス基板をセットし
て、ガラス基板上にレジスト液を滴下し、次いでスピン
ナーによって真空チャックとインナーカップを一体的に
回転せしめ遠心力によってガラス基板表面にレジスト液
を均一に塗布するようにしている。
成する技術はシリコンウェハ等に集積回路を形成する半
導体製造技術をそのまま応用している。レジスト液の塗
布も一連の工程のうちの一つであり、この工程ではイン
ナーカップ内の真空チャックにガラス基板をセットし
て、ガラス基板上にレジスト液を滴下し、次いでスピン
ナーによって真空チャックとインナーカップを一体的に
回転せしめ遠心力によってガラス基板表面にレジスト液
を均一に塗布するようにしている。
そして、滴下した塗布液の一部は遠心力によってイン
ナーカップ内壁に飛び散る。この塗布液をそのままにし
ておくと乾燥して固化し小さな破片となって被処理物の
表面に付着することとなる。これを防止すべく従来から
インナーカップの外周壁にドレインパイプを取り付け、
余分な塗布液についてはドレインパイプを介してアウタ
ーカップ内に排出している。
ナーカップ内壁に飛び散る。この塗布液をそのままにし
ておくと乾燥して固化し小さな破片となって被処理物の
表面に付着することとなる。これを防止すべく従来から
インナーカップの外周壁にドレインパイプを取り付け、
余分な塗布液についてはドレインパイプを介してアウタ
ーカップ内に排出している。
（発明が解決しようとする課題） 上述したように従来の塗布装置にあっては、回転する
インナーカップの外側に近接して回転しないアウターカ
ップを配設しているので、インナーカップとアウターカ
ップとの間において乱流が発生し、一旦アウターカップ
内に回収された塗布液が外部に吸引され霧状等となって
浮遊し、この浮遊している塗布液の粒子が被処理物表面
に付着してスポット的な欠陥を生じる。
インナーカップの外側に近接して回転しないアウターカ
ップを配設しているので、インナーカップとアウターカ
ップとの間において乱流が発生し、一旦アウターカップ
内に回収された塗布液が外部に吸引され霧状等となって
浮遊し、この浮遊している塗布液の粒子が被処理物表面
に付着してスポット的な欠陥を生じる。
特に液晶ディスプレイの製造にあってはガラス基板上
に多数のトランジスタを埋め込む（１平方センチ当たり
50個以上）こととなり、このうちの１個のトランジスタ
が不良でも基板全体が不良品ということになる。これが
アクティブマトリクス方式の液晶ディスプレイの製造と
LSIなどの半導体の製造との歩留りの面における決定的
な差となっている。
に多数のトランジスタを埋め込む（１平方センチ当たり
50個以上）こととなり、このうちの１個のトランジスタ
が不良でも基板全体が不良品ということになる。これが
アクティブマトリクス方式の液晶ディスプレイの製造と
LSIなどの半導体の製造との歩留りの面における決定的
な差となっている。
（課題を解決するための手段） 上記課題を解決すべく本発明は、スピンナーによって
回転せしめられるインナーカップの外側にインナーカッ
プからのドレインを受けるアウターカップを配置した塗
布装置において、前記インナーカップ及びアウターカッ
プは下面を閉じるとともに上面を開放し、また前記イン
ナーカップ及びアウターカップの上方には保持部材を進
退可能に配置し、この保持部材にインナーカップの上面
を覆う蓋体を回転自在に支承するとともに、アウターカ
ップの上面を覆う蓋体を回転不能に支持した。
回転せしめられるインナーカップの外側にインナーカッ
プからのドレインを受けるアウターカップを配置した塗
布装置において、前記インナーカップ及びアウターカッ
プは下面を閉じるとともに上面を開放し、また前記イン
ナーカップ及びアウターカップの上方には保持部材を進
退可能に配置し、この保持部材にインナーカップの上面
を覆う蓋体を回転自在に支承するとともに、アウターカ
ップの上面を覆う蓋体を回転不能に支持した。
（作用） インナーカップ内の真空チャック上にガラス基板等の
板状被処理物をセットし、この板状被処理物の表面に塗
布液を滴下し、次いでインナーカップ上面及びアウター
カップ上面を蓋体で閉塞した状態で真空チャックとイン
ナーカップを一体的に回転せしめ、板状被処理物の表面
に滴下した塗布液を均一に拡散せしめる。
板状被処理物をセットし、この板状被処理物の表面に塗
布液を滴下し、次いでインナーカップ上面及びアウター
カップ上面を蓋体で閉塞した状態で真空チャックとイン
ナーカップを一体的に回転せしめ、板状被処理物の表面
に滴下した塗布液を均一に拡散せしめる。
（実施例） 以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて説明す
る。
る。
第１図は本発明に係る塗布装置を組み込んだ被膜形成
ラインの平面図、第２図は同塗布装置の蓋体を上げた状
態の断面図、第３図は同塗布装置の蓋体を閉じた状態の
断面図であり、被膜形成ラインは最上流部（第１図にお
いて左端）にガラス基板等の板状被処理物Ｗの投入部１
を設け、この投入部１の下流側に本発明に係る塗布装置
２を配置し、この塗布装置２の下流側に順次、減圧乾燥
装置３、被処理物Ｗの裏面洗浄装置４及びホットプレー
ト5a…を備えた加熱部５を配置し、投入部１から加熱部
５に至るまでは搬送装置６によって被処理物Ｗの前後端
の下面を支持した状態で搬送し、加熱部５においては垂
直面内でクランク動をなす搬送装置７により被処理物Ｗ
の下面を支持した状態で各ホットプレート5a上を順次移
し換えるようにしつつ被処理物Ｗを搬送するようにして
いる。
ラインの平面図、第２図は同塗布装置の蓋体を上げた状
態の断面図、第３図は同塗布装置の蓋体を閉じた状態の
断面図であり、被膜形成ラインは最上流部（第１図にお
いて左端）にガラス基板等の板状被処理物Ｗの投入部１
を設け、この投入部１の下流側に本発明に係る塗布装置
２を配置し、この塗布装置２の下流側に順次、減圧乾燥
装置３、被処理物Ｗの裏面洗浄装置４及びホットプレー
ト5a…を備えた加熱部５を配置し、投入部１から加熱部
５に至るまでは搬送装置６によって被処理物Ｗの前後端
の下面を支持した状態で搬送し、加熱部５においては垂
直面内でクランク動をなす搬送装置７により被処理物Ｗ
の下面を支持した状態で各ホットプレート5a上を順次移
し換えるようにしつつ被処理物Ｗを搬送するようにして
いる。
次に塗布装置２の詳細について第２図及び第３図に基
づいて説明する。
づいて説明する。
塗布装置２はスピンナー装置の軸21に取り付けられた
インナーカップ22の外側にアウターカップ23を固設して
いる。これらインナーカップ22及びアウターカップ23は
下面を閉じ上面を開放し、インナーカップ22内の中央部
には被処理物Ｗを吸着固定する真空チャック24を設け、
更にインナーカップ22の側壁下部にはドレインパイプ25
を取り付けている。また、アウターカップ23内にはドレ
イン回収リング26を配置している。このドレイン回収リ
ング26は内側壁を外側壁よりも低くして前記ドレインパ
イプ25の先端を臨ませ且つ底壁を一方に傾斜せしめ最も
低くなった位置にドレイン回収パイプ27を取り付けてい
る。また、アウターカップ23の閉じられた下面には排気
口28が形成されている。
インナーカップ22の外側にアウターカップ23を固設して
いる。これらインナーカップ22及びアウターカップ23は
下面を閉じ上面を開放し、インナーカップ22内の中央部
には被処理物Ｗを吸着固定する真空チャック24を設け、
更にインナーカップ22の側壁下部にはドレインパイプ25
を取り付けている。また、アウターカップ23内にはドレ
イン回収リング26を配置している。このドレイン回収リ
ング26は内側壁を外側壁よりも低くして前記ドレインパ
イプ25の先端を臨ませ且つ底壁を一方に傾斜せしめ最も
低くなった位置にドレイン回収パイプ27を取り付けてい
る。また、アウターカップ23の閉じられた下面には排気
口28が形成されている。
一方、インナーカップ22及びアウターカップ23の上方
には第１図に示すようにアーム29、30を配置している。
これらアーム29、30は直線動、回転動、上下動或いはこ
れらを合成した動きが可能で互いに干渉しないようにな
っている。そして、アーム29にはレジスト液等の塗布液
を滴下するノズルを取り付け、アーム30の先端には下方
に伸びる軸31を取り付け、これらアーム30と軸31とで保
持部材となし、この軸31にベアリング32及び磁気シール
33を介してボス部34を回転自在に嵌合し、このボス部34
にインナーカップ22の上面開口を閉塞するための円板状
をなすアルミニウム製の蓋体35を取り付けている。ま
た、この蓋体35の上方のアーム30の先端下面にはアウタ
ーカップ23の上面開口を閉塞するための蓋体36を固着し
ている。
には第１図に示すようにアーム29、30を配置している。
これらアーム29、30は直線動、回転動、上下動或いはこ
れらを合成した動きが可能で互いに干渉しないようにな
っている。そして、アーム29にはレジスト液等の塗布液
を滴下するノズルを取り付け、アーム30の先端には下方
に伸びる軸31を取り付け、これらアーム30と軸31とで保
持部材となし、この軸31にベアリング32及び磁気シール
33を介してボス部34を回転自在に嵌合し、このボス部34
にインナーカップ22の上面開口を閉塞するための円板状
をなすアルミニウム製の蓋体35を取り付けている。ま
た、この蓋体35の上方のアーム30の先端下面にはアウタ
ーカップ23の上面開口を閉塞するための蓋体36を固着し
ている。
また、前記軸31にはノズル孔37を穿設し、このノズル
孔37をジョイント38を介してチッ素ガスなどの圧気源に
つなげている。
孔37をジョイント38を介してチッ素ガスなどの圧気源に
つなげている。
一方、蓋体35の下面にはビス39によって整流板40を取
り付けている。この整流板40の外径寸法はインナーカッ
プ22の内径寸法よりも若干小径とされ、また蓋体35の下
面と整流板40上面との間に形成される空間に前記ノズル
孔37が開口する。
り付けている。この整流板40の外径寸法はインナーカッ
プ22の内径寸法よりも若干小径とされ、また蓋体35の下
面と整流板40上面との間に形成される空間に前記ノズル
孔37が開口する。
以上において、ガラス基板等の被処理物Ｗ表面にレジ
スト液を均一に塗布するには、インナーカップ22及びア
ウターカップ23の上面を開放して真空チャック24上に固
着されている被処理物Ｗの表面にアーム29に取り付けら
れているノズルからレジスト液を滴下し、次いでアーム
29を後退せしめて第２図に示すようにインナーカップ22
及びアウターカップ23上にアーム30を回動させて蓋体3
5、36を臨ませる。そして第３図に示すように、アーム3
0を下降することで蓋体35によりインナーカップ22の上
面を閉塞し、蓋体36によりアウターカップ23の上面開口
を閉塞したならば、スピンナーによって真空チャックと
インナーカップ22を一体的に回転せしめ、遠心力により
レジスト液を被処理物Ｗの表面に均一に拡散塗布する。
スト液を均一に塗布するには、インナーカップ22及びア
ウターカップ23の上面を開放して真空チャック24上に固
着されている被処理物Ｗの表面にアーム29に取り付けら
れているノズルからレジスト液を滴下し、次いでアーム
29を後退せしめて第２図に示すようにインナーカップ22
及びアウターカップ23上にアーム30を回動させて蓋体3
5、36を臨ませる。そして第３図に示すように、アーム3
0を下降することで蓋体35によりインナーカップ22の上
面を閉塞し、蓋体36によりアウターカップ23の上面開口
を閉塞したならば、スピンナーによって真空チャックと
インナーカップ22を一体的に回転せしめ、遠心力により
レジスト液を被処理物Ｗの表面に均一に拡散塗布する。
そして、以上の処理においてインナーカップ22内は減
圧状態になっているので、レジスト液が均一に塗布され
た被処理物Ｗを取り出すには、先ずノズル孔37を介して
蓋体35と整流板40の間の空間に窒素ガス等を導入し減圧
状態が解除して行う。このときノズル孔37からのガスは
整流板40があるため、被処理物Ｗ表面のレジスト液に直
接吹き付けられることがない。
圧状態になっているので、レジスト液が均一に塗布され
た被処理物Ｗを取り出すには、先ずノズル孔37を介して
蓋体35と整流板40の間の空間に窒素ガス等を導入し減圧
状態が解除して行う。このときノズル孔37からのガスは
整流板40があるため、被処理物Ｗ表面のレジスト液に直
接吹き付けられることがない。
尚、実施例にあってはアウターカップの開口を閉じる
蓋体36をアーム30の先端下面に取り付けるようにした
が、アーム30以外の部材に取り付けるようにしてもよ
い。
蓋体36をアーム30の先端下面に取り付けるようにした
が、アーム30以外の部材に取り付けるようにしてもよ
い。
（効果） 以上に説明したように本発明によれば、塗布装置のイ
ンナーカップ及びアウターカップの上面開口を蓋体で閉
塞した状態でインナーカップを回転せしめるようにした
ので、アウターカップ内に一旦回収した塗布液が霧状に
なって外部に飛散して浮遊することが防げる。したがっ
て、塗布後に蓋体を開けて被処理物を取り出す際等に空
気中を浮遊している塗布液が固化した粉体が被処理物表
面に付着して欠陥品となることを防止でき歩留まりが大
幅に向上する。
ンナーカップ及びアウターカップの上面開口を蓋体で閉
塞した状態でインナーカップを回転せしめるようにした
ので、アウターカップ内に一旦回収した塗布液が霧状に
なって外部に飛散して浮遊することが防げる。したがっ
て、塗布後に蓋体を開けて被処理物を取り出す際等に空
気中を浮遊している塗布液が固化した粉体が被処理物表
面に付着して欠陥品となることを防止でき歩留まりが大
幅に向上する。
第１図は本発明に係る塗布装置を組み込んだ被膜形成ラ
インの平面図、第２図は同塗布装置の蓋体を上げた状態
の断面図、第３図は同塗布装置の蓋体を閉じた状態の断
面図である。 尚、図面中１は被膜形成ライン、２は塗布装置、22はイ
ンナーカップ、23はアウターカップ、35、36は蓋体、37
はノズル孔、40は整流板、Ｗは板状被処理物である。
インの平面図、第２図は同塗布装置の蓋体を上げた状態
の断面図、第３図は同塗布装置の蓋体を閉じた状態の断
面図である。 尚、図面中１は被膜形成ライン、２は塗布装置、22はイ
ンナーカップ、23はアウターカップ、35、36は蓋体、37
はノズル孔、40は整流板、Ｗは板状被処理物である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027 (72)発明者 橋本 道夫 岡山県後月郡芳井町種646 (72)発明者 川上 和志 岡山県小田郡矢掛町東三成2397―１ 審査官 三浦 均 (56)参考文献 特開 平１−135565（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】スピンナーによって回転せしめられるイン
ナーカップ（22）の外側にインナーカップ（22）からの
ドレイン（25）を受けるアウターカップ（23）を配置し
た塗布装置において、前記インナーカップ（22）及びア
ウターカップ（23）は下面を閉じるとともに上面を開放
し、また前記インナーカップ（22）及びアウターカップ
（23）の上方には保持部材（30,31）が進退可能に配置
され、この保持部材（30,31）にはインナーカップ（2
2）の上面を覆う蓋体（35）が回転自在に支承されると
ともに、アウターカップ（23）の上面を覆う蓋体（35）
が回転不能に支持されていることを特徴とする塗布装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2091685A JPH0822418B2 (ja) | 1990-04-06 | 1990-04-06 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2091685A JPH0822418B2 (ja) | 1990-04-06 | 1990-04-06 | 塗布装置 |
Related Child Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7122029A Division JPH08224527A (ja) | 1995-05-22 | 1995-05-22 | 塗布方法 |
| JP8501597A Division JP2942213B2 (ja) | 1997-04-03 | 1997-04-03 | 塗布方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03293056A JPH03293056A (ja) | 1991-12-24 |
| JPH0822418B2 true JPH0822418B2 (ja) | 1996-03-06 |
Family
ID=14033358
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2091685A Expired - Lifetime JPH0822418B2 (ja) | 1990-04-06 | 1990-04-06 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0822418B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3395264B2 (ja) * | 1993-07-26 | 2003-04-07 | 東京応化工業株式会社 | 回転カップ式塗布装置 |
| JP3388628B2 (ja) * | 1994-03-24 | 2003-03-24 | 東京応化工業株式会社 | 回転式薬液処理装置 |
| JP3194071B2 (ja) * | 1995-03-15 | 2001-07-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜形成方法及びその装置 |
| CN110673444B (zh) * | 2019-09-12 | 2020-06-09 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 超大超重衬底表面光刻胶均匀涂覆的旋涂设备 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0669545B2 (ja) * | 1987-11-23 | 1994-09-07 | タツモ株式会社 | 塗布装置 |
-
1990
- 1990-04-06 JP JP2091685A patent/JPH0822418B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03293056A (ja) | 1991-12-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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