JPH0720571B2 - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
- Publication number
- JPH0720571B2 JPH0720571B2 JP15109890A JP15109890A JPH0720571B2 JP H0720571 B2 JPH0720571 B2 JP H0720571B2 JP 15109890 A JP15109890 A JP 15109890A JP 15109890 A JP15109890 A JP 15109890A JP H0720571 B2 JPH0720571 B2 JP H0720571B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cup
- lid
- inner cup
- outer cup
- coating
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Liquid Crystal (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は液晶ディスプレイ（LCD）の製造工程等に用い
る塗布装置に関する。
る塗布装置に関する。
（従来の技術） ブラウン管（CRT）に代わる表示装置として液晶ディス
プレイが注目されている。
プレイが注目されている。
液晶ディスプレイは表面に画素を構成する電極や素子を
形成した２枚のガラス基板の間に液晶を注入した構造と
なっている。そして各画素を薄膜トランジスタ（TFT）
や金属／絶縁体／金属接合（MIM）などの素子で駆動せ
しめるアクティブマトリクス方式が高画質の画面が得ら
れるため主流になりつつある。
形成した２枚のガラス基板の間に液晶を注入した構造と
なっている。そして各画素を薄膜トランジスタ（TFT）
や金属／絶縁体／金属接合（MIM）などの素子で駆動せ
しめるアクティブマトリクス方式が高画質の画面が得ら
れるため主流になりつつある。
そして、上記の薄膜トランジスタをガラス基板上に形成
する技術はシリコンウェハ等に集積回路を形成する半導
体製造技術をそのまま応用している。レジスト液の塗布
も一連の工程のうちの一つであり、この工程ではインナ
ーカップ内の真空チャックにガラス基板をセットして、
ガラス基板上にレジスト液を滴下し、次いでスピンナー
によって真空チャックとインナーカップを一体的に回転
せしめ遠心力によってガラス基板表面にレジスト液を均
一に塗布するようにしている。
する技術はシリコンウェハ等に集積回路を形成する半導
体製造技術をそのまま応用している。レジスト液の塗布
も一連の工程のうちの一つであり、この工程ではインナ
ーカップ内の真空チャックにガラス基板をセットして、
ガラス基板上にレジスト液を滴下し、次いでスピンナー
によって真空チャックとインナーカップを一体的に回転
せしめ遠心力によってガラス基板表面にレジスト液を均
一に塗布するようにしている。
そして、滴下した塗布液の一部は遠心力によってインナ
ーカップ内壁に飛び散る。この塗布液をそのままにして
おくと乾燥して固化し小さな破片となって被処理物の表
面に付着することとなる。これを防止すべく従来からイ
ンナーカップの外周壁にドレインパイプを取り付け、余
分な塗布液についてはドレインパイプを介してアウター
カップ内に排出している。
ーカップ内壁に飛び散る。この塗布液をそのままにして
おくと乾燥して固化し小さな破片となって被処理物の表
面に付着することとなる。これを防止すべく従来からイ
ンナーカップの外周壁にドレインパイプを取り付け、余
分な塗布液についてはドレインパイプを介してアウター
カップ内に排出している。
（発明が解決しようとする課題） 上述したように従来の塗布装置にあっては、回転するイ
ンナーカップの外側に近接して回転しないアウターカッ
プを配設しているので、インナーカップとアウターカッ
プとの間において乱流が発生し、一旦アウターカップ内
に回収された塗布液が外部に吸引され霧状等となって浮
遊し、この浮遊している塗布液の粒子が被処理物表面に
付着してスポット的な欠陥を生じる。
ンナーカップの外側に近接して回転しないアウターカッ
プを配設しているので、インナーカップとアウターカッ
プとの間において乱流が発生し、一旦アウターカップ内
に回収された塗布液が外部に吸引され霧状等となって浮
遊し、この浮遊している塗布液の粒子が被処理物表面に
付着してスポット的な欠陥を生じる。
特に液晶ディスプレイの製造にあってはガラス基板上に
多数のトランジスタを埋め込む（１平方センチ当たり50
個以上）こととなり、このうちの１個のトランジスタが
不良でも基板全体が不良品ということになる。これがア
クティブマトリクス方式の液晶ディスプレイの製造とLS
Iなどの半導体の製造との歩留まりの面における決定的
な差となっている。
多数のトランジスタを埋め込む（１平方センチ当たり50
個以上）こととなり、このうちの１個のトランジスタが
不良でも基板全体が不良品ということになる。これがア
クティブマトリクス方式の液晶ディスプレイの製造とLS
Iなどの半導体の製造との歩留まりの面における決定的
な差となっている。
そこで、本出願人は先にインナーカップ及びアウターカ
ップの開放された上面を蓋体で覆うことで基板状に浮遊
粒子が落下しないようにした提案を行った。このように
することで浮遊粒子の落下を大幅を低減できたが、イン
ナーカップ上面を覆う蓋体とアウターカップ上面を覆う
蓋体との間にはある程度のスペースがあり、このスペー
ス内で乱流が生じ細かな塵埃が浮遊し、蓋を開けた時等
にこの塵埃が基板上に落下することがある。
ップの開放された上面を蓋体で覆うことで基板状に浮遊
粒子が落下しないようにした提案を行った。このように
することで浮遊粒子の落下を大幅を低減できたが、イン
ナーカップ上面を覆う蓋体とアウターカップ上面を覆う
蓋体との間にはある程度のスペースがあり、このスペー
ス内で乱流が生じ細かな塵埃が浮遊し、蓋を開けた時等
にこの塵埃が基板上に落下することがある。
（課題を解決するための手段） 上記課題を解決すべく本発明は、スピンナーによって回
転せしめられるインナーカップの外側にインナーカップ
からのドレインを受けるアウターカップを配置した塗布
装置において、前記インナーカップの上面及びアウター
カップの上面をそれぞれ開閉自在な蓋体で覆うととも
に、アウターカップの上面を覆う蓋体の下面に一定の間
隔をあけて防塵板を取り付けるようにした。
転せしめられるインナーカップの外側にインナーカップ
からのドレインを受けるアウターカップを配置した塗布
装置において、前記インナーカップの上面及びアウター
カップの上面をそれぞれ開閉自在な蓋体で覆うととも
に、アウターカップの上面を覆う蓋体の下面に一定の間
隔をあけて防塵板を取り付けるようにした。
（作用） インナーカップ内の真空チャック上にガラス基板等の板
状被処理物をセットし、この板状被処理物の表面に塗布
液を滴下し、次いでインナーカップ上面及びアウターカ
ップ上面を蓋体で閉塞した状態で真空チャックとインナ
ーカップを一体的に回転せしめ、板状被処理物の表面に
滴下した塗布液を均一に拡散せしめる。
状被処理物をセットし、この板状被処理物の表面に塗布
液を滴下し、次いでインナーカップ上面及びアウターカ
ップ上面を蓋体で閉塞した状態で真空チャックとインナ
ーカップを一体的に回転せしめ、板状被処理物の表面に
滴下した塗布液を均一に拡散せしめる。
（実施例） 以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて説明する。
第１図は本発明に係る塗布装置を組み込んだ被膜形成ラ
インの平面図、第２図は同塗布装置の蓋体を上げた状態
の断面図、第３図は同塗布装置の蓋体を閉じた状態の断
面図であり、被膜形成ラインは最上流部（第１図におい
て左端）にガラス基板等の板状被処理物Ｗの投入部１を
設け、この投入部１の下流側に本発明に係る塗布装置２
を配置し、この塗布装置２の下流側に順次、減圧乾燥装
置３、被処理物Ｗの裏面洗浄装置４及びホットプレート
5a…を備えた加熱部５を配置し、投入部１から加熱部５
に至るまで搬送装置６によって被処理物Ｗの前後端の下
面を支持した状態で搬送し、加熱部５においては垂直面
内でクランク動をなす搬送装置７により被処理物Ｗの下
面を支持した状態で各ホットプレート5a上を順次移し換
えるようにしつつ被処理物Ｗを搬送するようにしてい
る。
インの平面図、第２図は同塗布装置の蓋体を上げた状態
の断面図、第３図は同塗布装置の蓋体を閉じた状態の断
面図であり、被膜形成ラインは最上流部（第１図におい
て左端）にガラス基板等の板状被処理物Ｗの投入部１を
設け、この投入部１の下流側に本発明に係る塗布装置２
を配置し、この塗布装置２の下流側に順次、減圧乾燥装
置３、被処理物Ｗの裏面洗浄装置４及びホットプレート
5a…を備えた加熱部５を配置し、投入部１から加熱部５
に至るまで搬送装置６によって被処理物Ｗの前後端の下
面を支持した状態で搬送し、加熱部５においては垂直面
内でクランク動をなす搬送装置７により被処理物Ｗの下
面を支持した状態で各ホットプレート5a上を順次移し換
えるようにしつつ被処理物Ｗを搬送するようにしてい
る。
次に塗布装置２の詳細について第２図及び第３図に基づ
いて説明する。
いて説明する。
塗布装置２はスピンナー装置の軸21に取り付けられたイ
ンナーカップ22の外側にアウターカップ23を固設してい
る。これらインナーカップ22及びアウターカップ23は下
面を閉じ上面を開放し、インナーカップ22内の中央部に
は被処理物Ｗを吸着固定する真空チャック24を設け、更
にインナーカップ22の側壁下部にはドレインパイプ25を
取り付けている。また、アウターカップ23内にはドレイ
ン回収リング26を配置している。このドレイン回収リン
グ26は内側壁を外側壁よりも低くして前記ドレインパイ
プ25の先端を臨ませ且つ底壁を一方に傾斜せしめ最も低
くなった位置にドレイン回収パイプ27を取り付けてい
る。また、アウターカップ23の閉じられた下面には排気
口28が形成されている。
ンナーカップ22の外側にアウターカップ23を固設してい
る。これらインナーカップ22及びアウターカップ23は下
面を閉じ上面を開放し、インナーカップ22内の中央部に
は被処理物Ｗを吸着固定する真空チャック24を設け、更
にインナーカップ22の側壁下部にはドレインパイプ25を
取り付けている。また、アウターカップ23内にはドレイ
ン回収リング26を配置している。このドレイン回収リン
グ26は内側壁を外側壁よりも低くして前記ドレインパイ
プ25の先端を臨ませ且つ底壁を一方に傾斜せしめ最も低
くなった位置にドレイン回収パイプ27を取り付けてい
る。また、アウターカップ23の閉じられた下面には排気
口28が形成されている。
一方、インナーカップ22及びアウターカップ23の上方に
は第１図に示すようにアーム29、30を配置している。こ
れらアーム29、30は直線動、回転動、上下動或いはこれ
らを合成した動きが可能で互いに干渉しないようになっ
ている。そして、アーム29にはレジスト液等の塗布液を
滴下するノズルを取り付け、アーム30の先端には下方に
伸びる軸31を取り付け、この軸31にはノズル孔32を穿設
し、このノズル孔32をジョイント33及びアーム30内を通
るホース34を介してチッ素ガスなどの圧気源につなげて
いる。
は第１図に示すようにアーム29、30を配置している。こ
れらアーム29、30は直線動、回転動、上下動或いはこれ
らを合成した動きが可能で互いに干渉しないようになっ
ている。そして、アーム29にはレジスト液等の塗布液を
滴下するノズルを取り付け、アーム30の先端には下方に
伸びる軸31を取り付け、この軸31にはノズル孔32を穿設
し、このノズル孔32をジョイント33及びアーム30内を通
るホース34を介してチッ素ガスなどの圧気源につなげて
いる。
また、前記軸31にはベアリング35及び磁気シール36を介
してボス部37を回転自在に嵌合し、このボス部37にイン
ナーカップ22の上面開口を閉塞するための円板状をなす
アルミニウム製の蓋体38を取り付けている。また、この
蓋体38の上方のアーム30の先端下面にはアウターカップ
23の上面開口を閉塞するための蓋体39を固着している。
してボス部37を回転自在に嵌合し、このボス部37にイン
ナーカップ22の上面開口を閉塞するための円板状をなす
アルミニウム製の蓋体38を取り付けている。また、この
蓋体38の上方のアーム30の先端下面にはアウターカップ
23の上面開口を閉塞するための蓋体39を固着している。
そして、蓋体38の下面にはビス40によって整流板41を取
り付けている。この整流板41の外径寸法はインナーカッ
プ22の内径寸法よりも若干小径とされ、また蓋体38の下
面と整流板41上面との間に形成される空間に前記ノズル
孔32が開口する。
り付けている。この整流板41の外径寸法はインナーカッ
プ22の内径寸法よりも若干小径とされ、また蓋体38の下
面と整流板41上面との間に形成される空間に前記ノズル
孔32が開口する。
更に、アウターカップ23の上面開口を閉塞するための蓋
体39の下面にはスペーサ42を介して一定間隔をあけて防
塵板43を取り付けている。この防塵板43は前記ボス部37
外周面との間に隙間44を形成しインナーカップ22の回転
とともにボス部37が回転する際にボス部37に防塵板43が
接触しないようにし、また防塵板43外端と蓋体39のスカ
ート部内周面との間にも隙間45を形成し、蓋体39と防塵
板43との間のスペースに入り込んだ微細な塵埃を排出す
るようにしている。
体39の下面にはスペーサ42を介して一定間隔をあけて防
塵板43を取り付けている。この防塵板43は前記ボス部37
外周面との間に隙間44を形成しインナーカップ22の回転
とともにボス部37が回転する際にボス部37に防塵板43が
接触しないようにし、また防塵板43外端と蓋体39のスカ
ート部内周面との間にも隙間45を形成し、蓋体39と防塵
板43との間のスペースに入り込んだ微細な塵埃を排出す
るようにしている。
以上において、ガラス基板等の被処理物Ｗ表面にレジス
ト液を均一に塗布するには、インナーカップ22及びアウ
ターカップ23の上面を開放して真空チャック24上に固着
されている被処理物Ｗの表面にアーム29に取り付けられ
ているノズルからレジスト液を滴下し、次いでアーム29
を後退せしめて第２図に示すようにインナーカップ22及
びアウターカップ23上にアーム30を回動させて蓋体38、
39を臨ませる。そして第３図に示すように、アーム30を
下降することで蓋体38によりインナーカップ22の上面を
閉塞し、蓋体39によりアウターカップ23の上面開口を閉
塞したならば、スピンナーによって真空チャックとイン
ナーカップ22を一体的に回転せしめ、遠心力によりレジ
スト液を被処理物Ｗの表面に均一に拡散塗布する。
ト液を均一に塗布するには、インナーカップ22及びアウ
ターカップ23の上面を開放して真空チャック24上に固着
されている被処理物Ｗの表面にアーム29に取り付けられ
ているノズルからレジスト液を滴下し、次いでアーム29
を後退せしめて第２図に示すようにインナーカップ22及
びアウターカップ23上にアーム30を回動させて蓋体38、
39を臨ませる。そして第３図に示すように、アーム30を
下降することで蓋体38によりインナーカップ22の上面を
閉塞し、蓋体39によりアウターカップ23の上面開口を閉
塞したならば、スピンナーによって真空チャックとイン
ナーカップ22を一体的に回転せしめ、遠心力によりレジ
スト液を被処理物Ｗの表面に均一に拡散塗布する。
そして、以上の処理においてインナーカップ２内は減圧
状態になっているので、レジスト液が均一に塗布された
被処理物Ｗを取り出すには、先ずノズル孔32を介して蓋
体38と整流板41の間の空間に窒素ガス等を導入し減圧状
態を解除して行う。このときノズル孔32からのガスは整
流板41があるため、被処理物Ｗ表面のレジスト液に直接
吹き付けられることがない。
状態になっているので、レジスト液が均一に塗布された
被処理物Ｗを取り出すには、先ずノズル孔32を介して蓋
体38と整流板41の間の空間に窒素ガス等を導入し減圧状
態を解除して行う。このときノズル孔32からのガスは整
流板41があるため、被処理物Ｗ表面のレジスト液に直接
吹き付けられることがない。
尚、実施例にあってはアウターカップの開口を閉じる蓋
体39をアーム30の先端下面に取り付けるようにしたが、
アーム30以外の部材に取り付けるようにしてもよい。
体39をアーム30の先端下面に取り付けるようにしたが、
アーム30以外の部材に取り付けるようにしてもよい。
（効果） 以上説明したように本発明によれば、塗布装置のインナ
ーカップ及びアウターカップの上面開口を蓋体で閉塞し
た状態でインナーカップを回転せしめるにあたり、アウ
ターカップの上面開口を塞ぐ蓋体の下面に防塵板を取り
付けるようにしたので、アウターカップ内に一旦回収し
た塗布液が霧状になって外部に飛散して浮遊することが
防げ、また塗布後に蓋体を開けて被処理物を取り出す際
等に上下の蓋体間に存在する微細なゴミなどが被処理物
表面に付着して欠陥品となることを防止でき歩留まりが
大幅に向上する。
ーカップ及びアウターカップの上面開口を蓋体で閉塞し
た状態でインナーカップを回転せしめるにあたり、アウ
ターカップの上面開口を塞ぐ蓋体の下面に防塵板を取り
付けるようにしたので、アウターカップ内に一旦回収し
た塗布液が霧状になって外部に飛散して浮遊することが
防げ、また塗布後に蓋体を開けて被処理物を取り出す際
等に上下の蓋体間に存在する微細なゴミなどが被処理物
表面に付着して欠陥品となることを防止でき歩留まりが
大幅に向上する。
第１図は本発明に係る塗布装置を組み込んだ被膜形成ラ
インの平面図、第２図は同塗布装置の蓋体を上げた状態
の断面図、第３図は同塗布装置の蓋体を閉じた状態の断
面図である。 尚、図面中１は被膜形成ライン、２は塗布装置、22はイ
ンナーカップ、23はアウターカップ、32はノズル孔、3
8、39は蓋体、41は整流板、43は防塵板、Ｗは板状被処
理物である。
インの平面図、第２図は同塗布装置の蓋体を上げた状態
の断面図、第３図は同塗布装置の蓋体を閉じた状態の断
面図である。 尚、図面中１は被膜形成ライン、２は塗布装置、22はイ
ンナーカップ、23はアウターカップ、32はノズル孔、3
8、39は蓋体、41は整流板、43は防塵板、Ｗは板状被処
理物である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 橋本 道夫 岡山県後月郡芳井町種646 (72)発明者 川上 和志 岡山県小田郡矢掛町東三成2397―１
Claims (1)
- 【請求項１】スピンナーによって回転せしめられるイン
ナーカップの外側にインナーカップからのドレインを受
けるアウターカップを配置した塗布装置において、前記
インナーカップ及びアウターカップは下面を閉じるとと
もに上面を開放し、これらインナーカップとアウターカ
ップの開放された上面を開閉自在な蓋体で覆うとともに
アウターカップの上面を覆う蓋体下面には一定の間隔を
あけて防塵板を取り付けたことを特徴とする塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15109890A JPH0720571B2 (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15109890A JPH0720571B2 (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | 塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0445865A JPH0445865A (ja) | 1992-02-14 |
| JPH0720571B2 true JPH0720571B2 (ja) | 1995-03-08 |
Family
ID=15511295
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15109890A Expired - Fee Related JPH0720571B2 (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0720571B2 (ja) |
-
1990
- 1990-06-08 JP JP15109890A patent/JPH0720571B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0445865A (ja) | 1992-02-14 |
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Legal Events
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