JPH08217468A - 光学レンズの製造方法 - Google Patents
光学レンズの製造方法Info
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- JPH08217468A JPH08217468A JP2163295A JP2163295A JPH08217468A JP H08217468 A JPH08217468 A JP H08217468A JP 2163295 A JP2163295 A JP 2163295A JP 2163295 A JP2163295 A JP 2163295A JP H08217468 A JPH08217468 A JP H08217468A
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- Japan
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- carbon film
- film
- preform
- optical lens
- carbon
- Prior art date
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- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B40/00—Preventing adhesion between glass and glass or between glass and the means used to shape it, hold it or support it
- C03B40/02—Preventing adhesion between glass and glass or between glass and the means used to shape it, hold it or support it by lubrication; Use of materials as release or lubricating compositions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 成形時の加熱においても組成が安定してお
り、成形型との融着を防止することのできる極めて薄い
炭素膜を、プリフォームをリヒートプレス法で成形する
前に、ガラスプリフォーム表面に形成する工程を経る光
学レンズの製造方法を提供すること。 【構成】 炭化水素ガスの熱分解により炭素膜をガラス
プリフォームの表面に形成し、その後該ガラスプリフォ
ームを成形することを特徴とするガラスレンズの製造方
法
り、成形型との融着を防止することのできる極めて薄い
炭素膜を、プリフォームをリヒートプレス法で成形する
前に、ガラスプリフォーム表面に形成する工程を経る光
学レンズの製造方法を提供すること。 【構成】 炭化水素ガスの熱分解により炭素膜をガラス
プリフォームの表面に形成し、その後該ガラスプリフォ
ームを成形することを特徴とするガラスレンズの製造方
法
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はリヒートプレス法による
光学レンズの製造方法、特に型とプリフォームの融着の
ない光学レンズの製造方法に関する。
光学レンズの製造方法、特に型とプリフォームの融着の
ない光学レンズの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学レンズの製造方法としてリヒートプ
レス法が注目され、現在主流となりつつある。リヒート
プレス法はプリフォームを柔らかくなる温度まで再加熱
して型により加圧成形する方法である。プリフォームと
は光学レンズの仕上り形状の基礎をなす形状を有するガ
ラス基板または素材であり、加圧成形は型の酸化防止の
ために非酸化性ガス雰囲気中で行われている。
レス法が注目され、現在主流となりつつある。リヒート
プレス法はプリフォームを柔らかくなる温度まで再加熱
して型により加圧成形する方法である。プリフォームと
は光学レンズの仕上り形状の基礎をなす形状を有するガ
ラス基板または素材であり、加圧成形は型の酸化防止の
ために非酸化性ガス雰囲気中で行われている。
【０００３】リヒートプレス法では型とプリフォームの
融着をいかにうまく回避するかが技術の大きな要であ
る。型とプリフォームの融着を防止するための技術が例
えば特公平２−３１０１２号公報あるいは特開平４−７
７３２１号公報等に開示されている。特公平２−３１０
１２号公報にはガラスプリフォームと型との相互に対向
する両表面のうちの少なくとも一方の表面に一般的な真
空蒸着法、スパッタ法、イオンプレンーティング法によ
り厚さ５０〜５０００Åの炭素膜を形成し離型性をよく
し、プリフォーム成型後その炭素膜を酸化処理によって
除去する方法が開示されている。特開平４−７７３２１
号公報にはプリフォーム表面に１０〜５０Åの透明度の
よい炭化水素膜（水素濃度：５〜６０％）を形成し離型
膜とし、成型後もそのまま使用する技術が開示されてい
る。
融着をいかにうまく回避するかが技術の大きな要であ
る。型とプリフォームの融着を防止するための技術が例
えば特公平２−３１０１２号公報あるいは特開平４−７
７３２１号公報等に開示されている。特公平２−３１０
１２号公報にはガラスプリフォームと型との相互に対向
する両表面のうちの少なくとも一方の表面に一般的な真
空蒸着法、スパッタ法、イオンプレンーティング法によ
り厚さ５０〜５０００Åの炭素膜を形成し離型性をよく
し、プリフォーム成型後その炭素膜を酸化処理によって
除去する方法が開示されている。特開平４−７７３２１
号公報にはプリフォーム表面に１０〜５０Åの透明度の
よい炭化水素膜（水素濃度：５〜６０％）を形成し離型
膜とし、成型後もそのまま使用する技術が開示されてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら特公平２
−３１０１２号公報に開示されているように、真空蒸着
法、スパッタ法、イオンプレーティング法でガラス表面
に炭素膜を形成すると、得られる薄膜は硬く伸びにく
く、ひび割れが生じレンズに傷が付き易い。そのため、
加圧成形によるガラスの変化量に制限があり、得ようと
するレンズによく似た形状のプリフォームを必要とする
煩わしさがあった。膜厚が５０〜５０００Åの厚みにも
なると上記現象がより顕著となりプリフォームの形状が
制限される問題がある。
−３１０１２号公報に開示されているように、真空蒸着
法、スパッタ法、イオンプレーティング法でガラス表面
に炭素膜を形成すると、得られる薄膜は硬く伸びにく
く、ひび割れが生じレンズに傷が付き易い。そのため、
加圧成形によるガラスの変化量に制限があり、得ようと
するレンズによく似た形状のプリフォームを必要とする
煩わしさがあった。膜厚が５０〜５０００Åの厚みにも
なると上記現象がより顕著となりプリフォームの形状が
制限される問題がある。
【０００５】さらにこれらの方法で得られる薄膜は密着
力が強く、除去するためには例えば高温で酸化処理する
必要があり、仕上がり形状に損傷を与える危険性があ
る。また完全に炭素薄膜を除去しておかないと後の工程
で反射防止膜等を作製するとき、付着力等が低下する問
題がある。
力が強く、除去するためには例えば高温で酸化処理する
必要があり、仕上がり形状に損傷を与える危険性があ
る。また完全に炭素薄膜を除去しておかないと後の工程
で反射防止膜等を作製するとき、付着力等が低下する問
題がある。
【０００６】特開平４−７７３２１号公報に開示されて
いるように１０〜５０Åの透明度のよい炭化水素膜（水
素濃度：５〜６０％）を形成しその膜を最終的に得られ
るレンズの構成要素としてそのまま使用する場合でも、
１０〜５０Åの範囲で水素濃度の均一な炭化水素の薄膜
を得ることは技術的に困難であるばかりか、リヒートプ
レスすると、加熱により炭化水素膜が分解して水素が発
生し易い。水素発生により炭化水素膜は薄くなり組成が
不安定な膜となるため、その結果融着しやすくなる。水
素が発生すると透明度が低下するという問題もある。炭
素薄膜形成初期の状態を維持したままで最終製品の光学
レンズを得ることは困難である。
いるように１０〜５０Åの透明度のよい炭化水素膜（水
素濃度：５〜６０％）を形成しその膜を最終的に得られ
るレンズの構成要素としてそのまま使用する場合でも、
１０〜５０Åの範囲で水素濃度の均一な炭化水素の薄膜
を得ることは技術的に困難であるばかりか、リヒートプ
レスすると、加熱により炭化水素膜が分解して水素が発
生し易い。水素発生により炭化水素膜は薄くなり組成が
不安定な膜となるため、その結果融着しやすくなる。水
素が発生すると透明度が低下するという問題もある。炭
素薄膜形成初期の状態を維持したままで最終製品の光学
レンズを得ることは困難である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みなされたものであり、成形時の加熱においても組成が
安定しており、成形型との融着を防止することのできる
極めて薄い炭素膜を、プリフォームをリヒートプレス法
で成形する前に、ガラスプリフォーム表面に形成する工
程を経る光学レンズの製造方法を提供することを目的と
する。
みなされたものであり、成形時の加熱においても組成が
安定しており、成形型との融着を防止することのできる
極めて薄い炭素膜を、プリフォームをリヒートプレス法
で成形する前に、ガラスプリフォーム表面に形成する工
程を経る光学レンズの製造方法を提供することを目的と
する。
【０００８】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は炭化水
素ガスの熱分解により炭素膜をガラスプリフォームの表
面に形成し、その後該ガラスプリフォームを成形するこ
とを特徴とするガラスレンズの製造方法に関する。
素ガスの熱分解により炭素膜をガラスプリフォームの表
面に形成し、その後該ガラスプリフォームを成形するこ
とを特徴とするガラスレンズの製造方法に関する。
【０００９】ガラスプリフォームとは光学レンズの仕上
り形状の基礎をなす形状を有するガラス基板または素材
をいい、その表面に炭化水素ガスの熱分解により炭素膜
を形成する。
り形状の基礎をなす形状を有するガラス基板または素材
をいい、その表面に炭化水素ガスの熱分解により炭素膜
を形成する。
【００１０】本発明において形成する炭素膜は、例えば
アセチレン、エチレン、ブタン、エタン等の炭化水素ガ
スを、熱化学蒸着法（ＣＶＤ）で１０〜２００Ｔｏｒ
ｒ、好ましくは５０〜２００Torrの圧力で熱分解するこ
とにより形成される。
アセチレン、エチレン、ブタン、エタン等の炭化水素ガ
スを、熱化学蒸着法（ＣＶＤ）で１０〜２００Ｔｏｒ
ｒ、好ましくは５０〜２００Torrの圧力で熱分解するこ
とにより形成される。
【００１１】熱分解温度は炭化水素ガス種、アセチレ
ン、エチレン、ブタン、エタン等により異なるが一般に
は炭化水素ガスの熱分解温度より１０〜３００℃、好ま
しくは３０〜１５０℃高い温度である。炭化水素の熱分
解温度とは真空中に炭化水素ガスを封入し、炭素と水素
に分解を開始する温度(重合温度)をいう。熱分解温度よ
り３００℃より高い温度で熱分解を行うと反応が急激に
起こり、爆発の危険がある。また目的としているガラス
プリフォームが溶けてしまう。１０℃より低い温度で熱
分解を行うと反応に時間がかかり効率が悪い。また、反
応が不十分で未反応の炭化水素が残る。
ン、エチレン、ブタン、エタン等により異なるが一般に
は炭化水素ガスの熱分解温度より１０〜３００℃、好ま
しくは３０〜１５０℃高い温度である。炭化水素の熱分
解温度とは真空中に炭化水素ガスを封入し、炭素と水素
に分解を開始する温度(重合温度)をいう。熱分解温度よ
り３００℃より高い温度で熱分解を行うと反応が急激に
起こり、爆発の危険がある。また目的としているガラス
プリフォームが溶けてしまう。１０℃より低い温度で熱
分解を行うと反応に時間がかかり効率が悪い。また、反
応が不十分で未反応の炭化水素が残る。
【００１２】使用する炭化水素ガスは高純度（９９．９
９％以上）のものを使用しなければならない。純度の低
いガス、例えば溶接用アセチレン、燃料用ブタン等を用
いると得られる炭素膜は膜中に微小な炭素粒が形成さ
れ、レンズ表面が荒れてしまい、光学レンズとしての鏡
面性を損ねてしまう。また一般的な真空蒸着法、プラズ
マＣＶＤ法、スパッタ法では本発明が有効とする極めて
薄い膜を均一に製作することは困難であり実用的ではな
い。
９％以上）のものを使用しなければならない。純度の低
いガス、例えば溶接用アセチレン、燃料用ブタン等を用
いると得られる炭素膜は膜中に微小な炭素粒が形成さ
れ、レンズ表面が荒れてしまい、光学レンズとしての鏡
面性を損ねてしまう。また一般的な真空蒸着法、プラズ
マＣＶＤ法、スパッタ法では本発明が有効とする極めて
薄い膜を均一に製作することは困難であり実用的ではな
い。
【００１３】熱分解によると厚み１０〜５０Åの均一な
薄膜の形成が容易にできる。厚みの制御は熱分解温度、
炭化水素の圧力、反応時間を制御することにより行うこ
とができる。このような１０〜５０Åの厚みの熱分解炭
素膜は融着することもなく仕上がり形状に損傷を与える
危険性もない。膜厚が１０Åより薄いと硝種、成形条件
によっては融着する場合がある。また膜厚が５０Å〜１
００Å程度までは同様の効果が確認できるが、必要以上
の厚さの炭素膜を形成するのは材料費や時間の点でコス
トアップにつながるので、炭素膜の膜厚は５０Å以下で
十分である。また５０Åより厚い炭素膜を形成しても仕
上がり後炭素膜を除去する必要が生じる。より好ましい
膜厚は２０〜４０Åである。
薄膜の形成が容易にできる。厚みの制御は熱分解温度、
炭化水素の圧力、反応時間を制御することにより行うこ
とができる。このような１０〜５０Åの厚みの熱分解炭
素膜は融着することもなく仕上がり形状に損傷を与える
危険性もない。膜厚が１０Åより薄いと硝種、成形条件
によっては融着する場合がある。また膜厚が５０Å〜１
００Å程度までは同様の効果が確認できるが、必要以上
の厚さの炭素膜を形成するのは材料費や時間の点でコス
トアップにつながるので、炭素膜の膜厚は５０Å以下で
十分である。また５０Åより厚い炭素膜を形成しても仕
上がり後炭素膜を除去する必要が生じる。より好ましい
膜厚は２０〜４０Åである。
【００１４】炭化水素ガスの熱分解により得た炭素膜は
伸び易い特徴があり、炭素膜中の水素の含有量は５％未
満、好ましくは３％未満である。水素含有量が５％以上
であるとリヒートプレス時の加熱工程により、水素が膜
中からぬけ出して、膜組成が不安定な膜となり、さらに
膜厚も薄くなって融着しやすくなる。なお本発明におい
て水素含有量とは重量％(ｗｔ％)をいう。
伸び易い特徴があり、炭素膜中の水素の含有量は５％未
満、好ましくは３％未満である。水素含有量が５％以上
であるとリヒートプレス時の加熱工程により、水素が膜
中からぬけ出して、膜組成が不安定な膜となり、さらに
膜厚も薄くなって融着しやすくなる。なお本発明におい
て水素含有量とは重量％(ｗｔ％)をいう。
【００１５】本発明により表面に炭素膜が形成されたガ
ラスプリフォームをリヒートプレス法により軟化状態で
加圧成形することにより光学レンズを成形する。成形の
方法は従来からの方法を使用することができる。本発明
においてはガラスと成形型との間に極めて薄い安定な炭
素膜が介在しており、軟化状態のガラスと型との融着が
防止される。
ラスプリフォームをリヒートプレス法により軟化状態で
加圧成形することにより光学レンズを成形する。成形の
方法は従来からの方法を使用することができる。本発明
においてはガラスと成形型との間に極めて薄い安定な炭
素膜が介在しており、軟化状態のガラスと型との融着が
防止される。
【００１６】本発明によりガラスプリフォーム表面に形
成された炭素膜はプリフォームとの密着性は弱く、例え
ば酸素プラズマアッシングなどで容易に除去できるが極
めて薄いのであえて除去せずとも後の洗浄等の工程で自
然に除去される。
成された炭素膜はプリフォームとの密着性は弱く、例え
ば酸素プラズマアッシングなどで容易に除去できるが極
めて薄いのであえて除去せずとも後の洗浄等の工程で自
然に除去される。
【００１７】
【実施例】本発明の実施装置を図１に示す。この装置は
加熱機構と真空排気系よりなる炭素膜製造装置であり、
一定量の原料ガスを充填して使用するクローズドループ
の熱ＣＶＤ装置である。この他、原料ガスを流しながら
使用するオープンループの熱ＣＶＤ装置であってもよ
い。
加熱機構と真空排気系よりなる炭素膜製造装置であり、
一定量の原料ガスを充填して使用するクローズドループ
の熱ＣＶＤ装置である。この他、原料ガスを流しながら
使用するオープンループの熱ＣＶＤ装置であってもよ
い。
【００１８】図１中、参照番号１は加熱機構となる電気
炉である。これは光加熱方式でもよく、真空チャンバー
２内のボート８を十分に効率よく加熱できるものであれ
ば特に制限されない。真空チャンバー２は少なくとも電
気炉で覆われているところが透明石英で構成され、蓋３
で密閉されて、その内部はバルブ４を介して真空ポンプ
につながっている。ボート８上にプリフォームを載置す
る。炭化水素はボンベ５から圧力調整器６およびガスバ
ルブ１０を介して真空チャンバー２に接続されており、
真空チャンバー２に一定圧力で炭化水素ガスが供給され
るように構成されている。チャンバー２内の圧力は圧力
計７により測定し、温度は温度測定用の熱電対９で測定
する。１１は希釈ガスの導入バルブである。
炉である。これは光加熱方式でもよく、真空チャンバー
２内のボート８を十分に効率よく加熱できるものであれ
ば特に制限されない。真空チャンバー２は少なくとも電
気炉で覆われているところが透明石英で構成され、蓋３
で密閉されて、その内部はバルブ４を介して真空ポンプ
につながっている。ボート８上にプリフォームを載置す
る。炭化水素はボンベ５から圧力調整器６およびガスバ
ルブ１０を介して真空チャンバー２に接続されており、
真空チャンバー２に一定圧力で炭化水素ガスが供給され
るように構成されている。チャンバー２内の圧力は圧力
計７により測定し、温度は温度測定用の熱電対９で測定
する。１１は希釈ガスの導入バルブである。
【００１９】実施例１ アセチレンを用いてシリカホウ酸系ガラス（Ｔｇ：５５
７℃）のプリフォームに炭素薄膜を形成する方法を述べ
る。
７℃）のプリフォームに炭素薄膜を形成する方法を述べ
る。
【００２０】アセチレンは重合温度が４００℃と比較的
他の炭化水素ガスより低いため、上記のような軟化点の
低いガラスには有効である。まずプリフォームとモニタ
ー用のシリコン基板をボート８に載置し、そのボートを
真空チャンバー２内に装入した。真空チャンバー内を真
空ポンプで０．００１Ｔｏｒｒ程度まで真空にした。
他の炭化水素ガスより低いため、上記のような軟化点の
低いガラスには有効である。まずプリフォームとモニタ
ー用のシリコン基板をボート８に載置し、そのボートを
真空チャンバー２内に装入した。真空チャンバー内を真
空ポンプで０．００１Ｔｏｒｒ程度まで真空にした。
【００２１】所定の真空度に達したら圧力調整器６を
０．１ｋｇ／ｃｍ2の圧力に設定して真空チャンバー２
にアセチレンを導入した。圧力計７が２００Ｔｏｒｒを
示すまでアセチレンを導入しバルブ１０を閉じた。電気
炉１に通電して真空チャンバー２中のアセチレンを４５
０℃まで加熱した。温度は熱電対９で管理し、電気炉１
にフィードバックして制御した。チャンバー内ではＣ2
Ｈ2→２Ｃ＋Ｈ2の反応が起こる。約１０分間反応を行
い、冷却し、希釈ガスバルブ１１よりアルゴンを導入し
ながら希釈して大気圧に戻し、チャンバー内よりボート
８を取り出した。
０．１ｋｇ／ｃｍ2の圧力に設定して真空チャンバー２
にアセチレンを導入した。圧力計７が２００Ｔｏｒｒを
示すまでアセチレンを導入しバルブ１０を閉じた。電気
炉１に通電して真空チャンバー２中のアセチレンを４５
０℃まで加熱した。温度は熱電対９で管理し、電気炉１
にフィードバックして制御した。チャンバー内ではＣ2
Ｈ2→２Ｃ＋Ｈ2の反応が起こる。約１０分間反応を行
い、冷却し、希釈ガスバルブ１１よりアルゴンを導入し
ながら希釈して大気圧に戻し、チャンバー内よりボート
８を取り出した。
【００２２】モニター用シリコン基板上に形成された炭
素膜をエリプソメーターで測定したところ、厚さ１０〜
１５Åの極めて薄い炭素膜が得られた。またフーリエ変
換赤外吸収スペクトル（ＦＴ−ＩＲ）法で膜中の水素濃
度を測定した結果、３％以下であった。さらに走査顕微
鏡（ＳＥＭ）で観察したところ、炭素膜は大きさの極め
て揃った微粒子の集合体であり、完全に炭素膜状になっ
ておらず、一部ガラス面が観察されたが、得られたプリ
フォームを用いてリヒートプレス法で光学レンズを作製
したところ、融着等の問題も発生せず良好な光学レンズ
が得られた。
素膜をエリプソメーターで測定したところ、厚さ１０〜
１５Åの極めて薄い炭素膜が得られた。またフーリエ変
換赤外吸収スペクトル（ＦＴ−ＩＲ）法で膜中の水素濃
度を測定した結果、３％以下であった。さらに走査顕微
鏡（ＳＥＭ）で観察したところ、炭素膜は大きさの極め
て揃った微粒子の集合体であり、完全に炭素膜状になっ
ておらず、一部ガラス面が観察されたが、得られたプリ
フォームを用いてリヒートプレス法で光学レンズを作製
したところ、融着等の問題も発生せず良好な光学レンズ
が得られた。
【００２３】得られた光学レンズに５層の反射防止膜を
真空蒸着法で作製した。一般のレンズと同様に蒸着前に
洗浄液で洗浄し乾燥した。炭素膜はその膜厚が１０〜１
５Åと極めて薄いため、洗浄工程で炭素膜はほぼ除去さ
れており、蒸着膜の付着力の低下や白濁は認められなか
った。意図的に炭素膜除去工程を通さずとも従来の反射
防止膜作製工程そのままで良好な反射防止膜を有する光
学レンズが得られた。
真空蒸着法で作製した。一般のレンズと同様に蒸着前に
洗浄液で洗浄し乾燥した。炭素膜はその膜厚が１０〜１
５Åと極めて薄いため、洗浄工程で炭素膜はほぼ除去さ
れており、蒸着膜の付着力の低下や白濁は認められなか
った。意図的に炭素膜除去工程を通さずとも従来の反射
防止膜作製工程そのままで良好な反射防止膜を有する光
学レンズが得られた。
【００２４】実施例２ エチレンを用いてシリカホウ酸バリウム系ガラス（Ｔ
ｇ：６５８℃）のプリフォームに炭素薄膜を形成する方
法を述べる。
ｇ：６５８℃）のプリフォームに炭素薄膜を形成する方
法を述べる。
【００２５】エチレンは重合温度が５１３℃とアセチレ
ンより若干高めであるが、アセチレンより化学的に安全
で安価である。まずプリフォームとモニター用のシリコ
ン基板をボート８に載置し、そのボートを真空チャンバ
ー２内に装入した。真空チャンバー内を真空ポンプで
０．００１Ｔｏｒｒ程度まで真空にした。
ンより若干高めであるが、アセチレンより化学的に安全
で安価である。まずプリフォームとモニター用のシリコ
ン基板をボート８に載置し、そのボートを真空チャンバ
ー２内に装入した。真空チャンバー内を真空ポンプで
０．００１Ｔｏｒｒ程度まで真空にした。
【００２６】所定の真空度に達したら圧力調整器６を
０．１５ｋｇ／ｃｍ2の圧力に設定して真空チャンバー
２にエチレンを導入した。圧力計７が１００Ｔｏｒｒを
示すまでエチレンを導入しバルブ１０を閉じた。電気炉
１に通電して真空チャンバー２中のエチレンを５５０℃
まで加熱した。温度は熱電対９で管理し、電気炉１にフ
ィードバックして制御した。チャンバー内ではＣ2Ｈ4→
２Ｃ＋２Ｈ2の反応が起こる。約２０分間反応を行い、
冷却し、希釈ガスバルブ１１より窒素ガスを導入しなが
ら希釈して大気圧に戻し、チャンバー内よりボート８を
取り出した。
０．１５ｋｇ／ｃｍ2の圧力に設定して真空チャンバー
２にエチレンを導入した。圧力計７が１００Ｔｏｒｒを
示すまでエチレンを導入しバルブ１０を閉じた。電気炉
１に通電して真空チャンバー２中のエチレンを５５０℃
まで加熱した。温度は熱電対９で管理し、電気炉１にフ
ィードバックして制御した。チャンバー内ではＣ2Ｈ4→
２Ｃ＋２Ｈ2の反応が起こる。約２０分間反応を行い、
冷却し、希釈ガスバルブ１１より窒素ガスを導入しなが
ら希釈して大気圧に戻し、チャンバー内よりボート８を
取り出した。
【００２７】モニター用シリコン基板上に形成された炭
素膜をエリプソメーターで測定したところ、厚さ３０〜
３５Åの極めて薄い炭素膜が得られた。またＦＴ−ＩＲ
法で膜中の水素濃度を測定した結果、０．２％以下であ
った。さらにＳＥＭで観察したところ、炭素膜は大きさ
の極めて揃った微粒子の集合体であることが観察され
た。この状態が伸び易い炭素膜であることを示してい
る。
素膜をエリプソメーターで測定したところ、厚さ３０〜
３５Åの極めて薄い炭素膜が得られた。またＦＴ−ＩＲ
法で膜中の水素濃度を測定した結果、０．２％以下であ
った。さらにＳＥＭで観察したところ、炭素膜は大きさ
の極めて揃った微粒子の集合体であることが観察され
た。この状態が伸び易い炭素膜であることを示してい
る。
【００２８】得られたプリフォームを用いてリヒートプ
レス法で光学レンズを作製したところ、融着等の問題も
発生せず良好な光学レンズが得られた。
レス法で光学レンズを作製したところ、融着等の問題も
発生せず良好な光学レンズが得られた。
【００２９】得られた光学レンズに３層の反射防止膜を
真空蒸着法で作製した。一般のレンズと同様に蒸着前に
洗浄液で洗浄し乾燥した。炭素膜はその膜厚が３０〜３
５Åと極めて薄いため、洗浄工程で炭素膜はほぼ除去さ
れており、蒸着膜の付着力の低下や白濁は認められなか
った。意図的に炭素膜除去工程を通さずとも従来の反射
防止膜作製工程そのままで良好な反射防止膜を有する光
学レンズが得られた。
真空蒸着法で作製した。一般のレンズと同様に蒸着前に
洗浄液で洗浄し乾燥した。炭素膜はその膜厚が３０〜３
５Åと極めて薄いため、洗浄工程で炭素膜はほぼ除去さ
れており、蒸着膜の付着力の低下や白濁は認められなか
った。意図的に炭素膜除去工程を通さずとも従来の反射
防止膜作製工程そのままで良好な反射防止膜を有する光
学レンズが得られた。
【００３０】比較例 従来例の比較例として実施例１と同様の手順でアセチレ
ンを用いてシリカホウ酸系ガラス（Ｔｇ：５５７℃）の
プリフォームに炭素薄膜を形成した。アセチレンの導入
圧力２００Ｔｏｒｒ、温度４５０℃の条件下で、反応を
６０分間行った。得られた炭素膜の厚さは約７０Åであ
った。
ンを用いてシリカホウ酸系ガラス（Ｔｇ：５５７℃）の
プリフォームに炭素薄膜を形成した。アセチレンの導入
圧力２００Ｔｏｒｒ、温度４５０℃の条件下で、反応を
６０分間行った。得られた炭素膜の厚さは約７０Åであ
った。
【００３１】このプリフォームを用いてリヒートプレス
法で光学レンズを作製したところ、融着等の問題も発生
せず良好な光学レンズが得られた。
法で光学レンズを作製したところ、融着等の問題も発生
せず良好な光学レンズが得られた。
【００３２】しかし、得られた光学レンズに３層の反射
防止膜を真空蒸着法で作製してみると、実施例１と同様
の一般のレンズの蒸着前の洗浄工程で炭素膜が完全に除
去されておらず、蒸着膜の付着力の低下が認められた。
このように厚い蒸着膜を形成した場合、炭素膜除去工程
が不可欠となる。
防止膜を真空蒸着法で作製してみると、実施例１と同様
の一般のレンズの蒸着前の洗浄工程で炭素膜が完全に除
去されておらず、蒸着膜の付着力の低下が認められた。
このように厚い蒸着膜を形成した場合、炭素膜除去工程
が不可欠となる。
【００３３】以上の実施例と比較例の結果を下記表１に
示す。
示す。
【表１】
【００３４】
【発明の効果】本発明によるとガラスと成形型との間に
極めて薄い炭素膜が介在していることにより、リヒート
プレス法で光学レンズを作製するときに問題となる金型
との融着を回避でき、良好な光学レンズが得られる。ま
た炭素膜は極めて薄いためレンズの成形曲面を損なわず
経済的にも優れた効果を有する。
極めて薄い炭素膜が介在していることにより、リヒート
プレス法で光学レンズを作製するときに問題となる金型
との融着を回避でき、良好な光学レンズが得られる。ま
た炭素膜は極めて薄いためレンズの成形曲面を損なわず
経済的にも優れた効果を有する。
【図１】 炭素膜製造装置の概略構成図を示す。
１：電気炉、２：真空チャンバー、３：蓋、４：バル
ブ、５：ボンベ、６：圧力調整器、７：圧力計、８：ボ
ート、９：熱電対、１０：ガスバルブ、１１：希釈ガス
バルブ
ブ、５：ボンベ、６：圧力調整器、７：圧力計、８：ボ
ート、９：熱電対、１０：ガスバルブ、１１：希釈ガス
バルブ
Claims (1)
- 【請求項１】 炭化水素ガスの熱分解により炭素膜をガ
ラスプリフォームの表面に形成し、その後該ガラスプリ
フォームを成形することを特徴とするガラスレンズの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2163295A JPH08217468A (ja) | 1995-02-09 | 1995-02-09 | 光学レンズの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2163295A JPH08217468A (ja) | 1995-02-09 | 1995-02-09 | 光学レンズの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08217468A true JPH08217468A (ja) | 1996-08-27 |
Family
ID=12060451
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2163295A Pending JPH08217468A (ja) | 1995-02-09 | 1995-02-09 | 光学レンズの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08217468A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8174770B2 (en) | 2009-07-24 | 2012-05-08 | Panasonic Corporation | Optical component and method for producing the same |
| US8194327B2 (en) | 2009-07-24 | 2012-06-05 | Panasonic Corporation | Optical component and method for producing the same |
| JP5428858B2 (ja) * | 2007-07-23 | 2014-02-26 | 旭硝子株式会社 | フロートガラスの製造方法及びフロートガラスの製造設備 |
-
1995
- 1995-02-09 JP JP2163295A patent/JPH08217468A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5428858B2 (ja) * | 2007-07-23 | 2014-02-26 | 旭硝子株式会社 | フロートガラスの製造方法及びフロートガラスの製造設備 |
| KR101455890B1 (ko) * | 2007-07-23 | 2014-11-03 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 플로트 유리의 제조 방법 및 플로트 유리의 제조 설비 |
| US8174770B2 (en) | 2009-07-24 | 2012-05-08 | Panasonic Corporation | Optical component and method for producing the same |
| US8194327B2 (en) | 2009-07-24 | 2012-06-05 | Panasonic Corporation | Optical component and method for producing the same |
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