JP5526639B2 - プレス成形用ガラス素材の製造方法及び製造装置 - Google Patents
プレス成形用ガラス素材の製造方法及び製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5526639B2 JP5526639B2 JP2009179238A JP2009179238A JP5526639B2 JP 5526639 B2 JP5526639 B2 JP 5526639B2 JP 2009179238 A JP2009179238 A JP 2009179238A JP 2009179238 A JP2009179238 A JP 2009179238A JP 5526639 B2 JP5526639 B2 JP 5526639B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- glass material
- tube
- heat treatment
- oxygen gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 77
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 72
- 238000000465 moulding Methods 0.000 title claims description 50
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 40
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 86
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 73
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims description 73
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 69
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 69
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 66
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 41
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 38
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 28
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 28
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 27
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 30
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 25
- 230000008569 process Effects 0.000 description 21
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 19
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 13
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 13
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 12
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 10
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005385 borate glass Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- GJJSDZSDOYNJSW-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);borate Chemical compound [La+3].[O-]B([O-])[O-] GJJSDZSDOYNJSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002829 nitrogen Chemical class 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002926 oxygen Chemical class 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N propyne Chemical compound CC#C MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
Landscapes
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
第1の酸素ガス供給量を変化させた以外は実施例1と同様の条件で、炭素膜を有するプレス成形用ガラス素材を製造した。このとき、アセチレンガスの流量は100sccmで固定し、酸素ガスの流量を、表1に記載の流量となるようにした。実施例1と同様に膜厚を測定し、それらの結果を表1に示した。
さらに、混合ガス中の第1の酸素ガス供給量を4sccm(実施例4)、8sccm(実施例5)とした以外は実施例1と同様の条件で、炭素膜を有するプレス成形用ガラス素材を製造した。このとき、実施例4で平均膜厚が30.57nm、実施例5で平均膜厚が69.84nmとなり、酸素ガスの供給量を増やして雰囲気中の酸素濃度を上げることで成膜速度が向上することが確認できた。
酸素ガスを供給しない以外は実施例1と同様の条件で、炭素膜を有するプレス成形用ガラス素材を製造した。実施例1と同様に膜厚を測定し、その結果を表1に示した。
膜厚の評価方法は、以下のように光の透過率を測ることによって判断した。
実施例及び比較例で得られたプレス成形用ガラス素材に、350〜800nmの光を照射して、その透過率を測定した。このとき、350〜800nm、特に400nm付近の透過率を比較すると、炭素膜が厚い場合には透過率が低くなり、薄い場合には透過率が高くなる。事前に透過率と膜厚の相関をとっておき、判定は透過率より膜厚を計算して表1の結果を得た。
実施例及び比較例により得られたプレス成形用ガラス素材の離型性について、以下のように評価を行った。
離型性の良し悪しは光学素子成型素材をプレス成形し、冷却していったときにガラスが型から離れる温度により確認、判断する方法(特開平4−317426号記載の方法)を用いた。この時、離型時の温度が高いほど離型性が良いと判定できる。
ここで、プレス条件は、到達真空度 7Pa、窒素置換時間 5分、酸素濃度を10ppm以下とし、上下金型温度はAt+(At−Tg)/4に加熱し(ここで、Atはガラス屈伏点温度、Tgはガラス転移点温度)、ガラス加熱温度は上下金型温度+150℃、プレス時間 3分で、プレス成形用ガラス素材をプレスし、その後、10℃/分の速度で冷却して、ガラスサイズ φ12.0±0.03mm、厚さ 2.5mm、ガラス変化量は厚さで0.5mmである光学素子を製造した。
離型性の評価は、上記した通り、離型温度を比較することで行った。
Claims (8)
- ガラス素材を収容した熱処理炉内に炭化水素ガスを供給し、減圧下、供給した炭化水素を熱分解させて、前記ガラス素材表面に炭素膜を形成するプレス成形用ガラス素材の製造方法において、
前記熱処理炉内に、炭化水素ガスと同時に酸素ガスを供給することを特徴とするプレス成形用ガラス素材の製造方法。 - 前記炭化水素ガス及び酸素ガスを、混合ガスとして供給することを特徴とする請求項1記載のプレス成形用ガラス素材の製造方法。
- 前記酸素ガスとは別に、前記熱処理炉内を撹拌するように酸素ガスを供給することを特徴とする請求項1又は2記載のプレス成形用ガラス素材の製造方法。
- 前記炭化水素ガスと前記酸素ガスとの混合比が、モル比で炭化水素ガス100に対して酸素ガスが0.2〜2.2であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載のプレス成形用ガラス素材の製造方法。
- 前記炭化水素ガス及び酸素ガスの導入前に、前記熱処理炉内を減圧してから窒素ガスを導入し、熱処理炉内を乾燥処理することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載のプレス成形用ガラス素材の製造方法。
- ガラス素材を収容し、その内部を加熱することができる熱処理炉と、
前記熱処理炉内に炭化水素ガスを供給する炭化水素供給手段と、
前記熱処理炉内に酸素ガスを供給する酸素供給手段と、
前記熱処理炉内を減圧する真空排気手段と、
からなることを特徴とするプレス成形用ガラス素材の製造装置。 - 前記熱処理炉内に窒素ガスを供給する窒素供給手段を有することを特徴とする請求項6記載のプレス成形用ガラス素材の製造装置。
- 前記熱処理炉内に、前記酸素ガスとは別に、熱処理炉内を撹拌するように酸素ガスを供給する第2の酸素ガス供給手段を有することを特徴とする請求項6又は7記載のプレス成形用ガラス素材の製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009179238A JP5526639B2 (ja) | 2009-07-31 | 2009-07-31 | プレス成形用ガラス素材の製造方法及び製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009179238A JP5526639B2 (ja) | 2009-07-31 | 2009-07-31 | プレス成形用ガラス素材の製造方法及び製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011032122A JP2011032122A (ja) | 2011-02-17 |
JP5526639B2 true JP5526639B2 (ja) | 2014-06-18 |
Family
ID=43761571
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009179238A Active JP5526639B2 (ja) | 2009-07-31 | 2009-07-31 | プレス成形用ガラス素材の製造方法及び製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5526639B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4148402B2 (ja) * | 2002-10-18 | 2008-09-10 | 東北リコー株式会社 | Cvdによるカーボン皮膜の選択的形成方法 |
JP4148403B2 (ja) * | 2002-10-18 | 2008-09-10 | 東北リコー株式会社 | Cvdによるカーボン皮膜の形成方法 |
JP4007957B2 (ja) * | 2003-01-08 | 2007-11-14 | Hoya株式会社 | プレス成形用ガラス素材及びガラス光学素子の製造方法 |
-
2009
- 2009-07-31 JP JP2009179238A patent/JP5526639B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011032122A (ja) | 2011-02-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP3489194A1 (en) | A method and system for producing graphene on a copper substrate by modified chemical vapour deposition (ap-cvd) | |
KR20150088749A (ko) | 종형 열처리 장치, 열처리 방법 및 기억 매체 | |
KR20100110822A (ko) | 열처리 장치 및 그 제어 방법 | |
KR101217419B1 (ko) | Sr-Ti-O계 막의 성막 방법 및 기억 매체 | |
US7497963B2 (en) | Etching method | |
JP2011238832A (ja) | 基板処理装置 | |
JP5526639B2 (ja) | プレス成形用ガラス素材の製造方法及び製造装置 | |
US6472057B2 (en) | Low stress, water-clear zinc sulfide | |
JP6773711B2 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | |
US20030182964A1 (en) | Press-forming method and machine for glass | |
US20200185259A1 (en) | Semiconductor reaction device and method | |
JP2010265124A (ja) | ガラス光学部材の熱処理方法およびガラス光学素子の製造方法 | |
CN107641796B (zh) | 制程设备及化学气相沉积制程 | |
JP5690475B2 (ja) | 成形装置及び成形品の製造方法 | |
JP5936487B2 (ja) | アモルファス合金、成形用型および光学素子の製造方法 | |
JP4157718B2 (ja) | 窒化シリコン膜作製方法及び窒化シリコン膜作製装置 | |
US20140331918A1 (en) | Method for Growing an AIN Monocrystal and Device for Implementing Same | |
JPH08217468A (ja) | 光学レンズの製造方法 | |
WO2014094263A1 (zh) | 利用原子层沉积制备薄膜的方法 | |
JP4007957B2 (ja) | プレス成形用ガラス素材及びガラス光学素子の製造方法 | |
JP2010147265A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2013089911A (ja) | 基板処理装置および半導体装置の製造方法 | |
JP5265460B2 (ja) | 成膜方法および成膜装置 | |
JP3180930B2 (ja) | 薄膜作製装置 | |
JP6406939B2 (ja) | アモルファス合金、成形用型及び光学素子の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120305 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130425 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130507 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140318 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140331 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5526639 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |