JP4739834B2 - 成形用ガラス素材の製造方法、およびガラス光学素子の製造方法 - Google Patents
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Description
0.3P ≦ Q
を満たすことが好ましい。圧力値が0.3P未満に低下した状態では、成膜室内においては、炭素濃度が低下し、水素が相対的に高い。このため、これ以上、反応を進行させても炭素含有膜の膜質が向上しない。
本発明では、まず、ガラス材料を予備成形して所定形状のガラス塊を製造した後、成膜工程において、ガラス塊の表面に炭素含有膜を形成し、成形用ガラス素材を製造する。
本発明において、ガラス塊とは、光学ガラスを所定体積、形状に予備加工したものであり、成形用ガラス素材の基材を構成している。このようなガラス塊は、例えば、得ようとするガラス光学素子の光学恒数、物性に応じて選択した光学ガラスを球形状、扁平な両凸曲面形状、円盤状などに加工したものである。
図1は、成膜装置の概略構成図である。図2は、本発明に係る炭素含有膜の成膜工程における成膜室内の圧力変化とRF出力変化を示す説明図である。なお、図2において、成膜室2内の圧力を実線L1で示し、RF出力を実線L2で示してある。
0.5(Pa) ≦ P ≦ 50(Pa)
で示される圧力値P(Pa)なったときに、成膜室2内を密閉し、炭化水素の導入を停止する。ここで、圧力値Pは、より好ましくは、下式
1.0(Pa) ≦ P ≦ 30(Pa)
を満たすことが好ましい。すなわち、成膜開始時の圧力値Pが高すぎると、ガラス塊Wの表面で炭素含有膜が粉状に堆積し、層を形成しないことがあるので、圧力値Pは、50Pa以下、好ましくは、30Pa以下であることが好ましい。これに対して、成膜開始時の圧力値Pが低すぎると、成膜効率が低すぎるため、圧力値Pは、0.5Pa以上、好ましくは、1.0Pa以上であることが好ましい。
0.3P ≦ Q ≦ 0.7P
を満たすことが好ましい。より好ましくは、成膜室2内の圧力(圧力値Q(Pa))は下式
0.5P ≦ Q ≦ 0.65P
を満たすことが好ましい。
本発明によってガラス塊に形成された炭素含有膜は、炭素を主成分(50at%以上)として含有し、他の成分として水素を含有している。この膜は、例えば特許文献1に記載の方法で形成した膜に比べ、プレス成形に際して、クモリを抑止しつつ、充分な離型性(融着、ワレの抑止)が行える。また、特許文献1の方法によると、用いる硝材によって膜厚が影響を受ける傾向がみられたが、本発明によると、成膜条件を一定にすれば、略一定膜厚の炭素含有膜が硝材に依存せずに得られた。これは、本発明の炭素含有膜は、成膜時にガラス塊表面における表面反応を実質的に伴わないためとみられる。
(1)ガラス転移点(Tg)が500℃以下の光学ガラス
(2)ガラス転移点(Tg)が500℃以下であって、かつ、モル%でP2O5が25%〜50%、BaOが20%以上、アルカリ金属酸化物を合量で3%以上、ほかに必須成分としてMgOを1%以上含有する光学ガラス
(3)ガラス転移点(Tg)が500℃以下であって、かつ、屈折率ndが1.5〜1.75、アッベ数νdが55〜70である光学ガラス
を用いることができる。
上記のように、本発明に係る炭素含有膜は、プレス成形に際して成形用ガラス素材を加熱軟化する際に、より炭素濃度の高い膜となるため、炭素含有膜の評価にあたり、以下、プレス成形温度程度に加熱し冷却した成形用ガラス素材表面の高炭素濃度膜の評価方法を説明する。
γ=γd+γp ・・(1)式
γs=γs d+γs p ・・(2)式
で表される(添字のsはSolidを表す)。同様に、(1)式を液体の表面自由エネルギーγLで考えると、
γL=γL d+γL p ・・(3)式
で表される(添字LはLiquidを表す)。
(1/2)×γL×(1+cosθ)=(γs d×γL d)1/2+(γs p×γL p)1/2 ・・(4)
本発明によって得られた成形用ガラス素材を用いて、プレス成形を行う場合、公知の方法を適用することができる。例えば、不活性ガス雰囲気、又は真空下において、成形用ガラス素材をその軟化温度以上に加熱し、所定形状に精密加工された成形型中に供給する。そして、成形型に所定の荷重をかけることによりプレス成形を行う。ここで、成形型の成形面には、滑り性や離型性を改善するための炭素膜や貴金属膜を形成しておくことが好ましい。
図1に示す成膜装置1を用いて、ガラス塊Wの表面に炭素含有膜を形成する、本発明の実施例を説明する。
上記工程で得られた成形用ガラス素材を用いて、両凸レンズを成形した。まず、得ようとするレンズ形状を基に精密加工した成形面を有する成形型を備えた成形装置内に成形用ガラス素材を設置した。同装置内で、窒素ガス雰囲気中で、成形型と成形用ガラス素材を580℃まで加熱し、ガラス素材が軟化した状態で、150kgfの圧力で加圧し、成形型の成形面を転写した。
上記実施例と同様のガラス塊を用い、アセチレンの熱分解成膜装置により、ガラス塊に炭素含有膜を成膜した比較例を以下に説明する。
C2H2→2C+H2
の反応(熱分解)が起こり、ガラス塊の表面に炭素膜が形成された。
2 成膜室
3 容器
4 高周波電極
7 ガスボンベ
61 排気手段
Claims (8)
- 加熱により軟化した状態でのプレス成形が施される成形用ガラス素材の製造方法において、
予備成形したガラス塊を配置した成膜室内を排気した後、該成膜室内に炭化水素を導入し、該成膜室内の圧力が0.5Pa以上50Pa以下の範囲内の所定の圧力値Pになってから炭化水素の導入を停止し、前記成膜室を密閉した状態で前記炭化水素をプラズマ化し、
前記成膜室内の圧力が前記圧力値Pよりも低い所定の圧力値Qまで低下したときに炭化水素のプラズマ化を停止することにより前記ガラス塊の表面に炭素含有膜を形成する成膜工程を有し、
予め、1回あたりの前記成膜工程により前記ガラス塊の表面に形成される前記炭素含有膜の膜厚と前記圧力値Pとの相関関係を求め、
該相関関係に基づき、1回あたりの前記成膜工程で形成される前記炭素含有膜の膜厚がサブナノメータ単位となる前記圧力値Pの値を選択して、前記成膜工程を行うことを特徴とする成形用ガラス素材の製造方法。 - 前記成膜工程を経た成形用ガラス素材をプレス成形温度に近似する温度で加熱することにより、前記成形用ガラス素材の表面自由エネルギーを60mJ/m 2 以下とし、且つ、前記成形用ガラス素材の表面自由エネルギーの分散項比を80%以上とすることを特徴とする請求項1に記載の成形用ガラス素材の製造方法。
- 前記圧力値Pおよび前記圧力値Qは、下式で示す関係
0.3P ≦ Q
を満たすことを特徴とする請求項1または2に記載の成形用ガラス素材の製造方法。 - 前記炭化水素として、炭素と水素が原子%比で1:1の炭化水素を用いることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の成形用ガラス素材の製造方法。
- 前記炭化水素として、アセチレンを用いることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の成形用ガラス素材の製造方法。
- 前記成膜工程では、前記成膜室内の排気、当該成膜室内への炭化水素の導入、当該成膜室内への炭化水素の導入を停止した状態での炭化水素のプラズマ化、および当該炭化水素のプラズマ化の停止を1サイクルとした成膜処理を複数回、繰り返すことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の成形用ガラス素材の製造方法。
- 前記ガラス塊は、溶融ガラスを受け型に流下または滴下することによって予備成形してなることを特徴とする請求項1乃至6の何れか一項に記載の成形用ガラス素材の製造方法。
- 請求項1乃至7の何れか一項に記載の方法によって製造した前記成形用ガラス素材を、加熱により軟化させるとともに成形型によってプレス成形することを特徴とするガラス光学素子の製造方法。
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