JPH08211706A - マルチスポット光学走査システム - Google Patents
マルチスポット光学走査システムInfo
- Publication number
- JPH08211706A JPH08211706A JP7295141A JP29514195A JPH08211706A JP H08211706 A JPH08211706 A JP H08211706A JP 7295141 A JP7295141 A JP 7295141A JP 29514195 A JP29514195 A JP 29514195A JP H08211706 A JPH08211706 A JP H08211706A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scan
- scanning
- light
- optical
- lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/123—Multibeam scanners, e.g. using multiple light sources or beam splitters
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/04—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
- H04N1/19—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using multi-element arrays
- H04N1/191—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using multi-element arrays the array comprising a one-dimensional array, or a combination of one-dimensional arrays, or a substantially one-dimensional array, e.g. an array of staggered elements
- H04N1/1911—Simultaneously or substantially simultaneously scanning picture elements on more than one main scanning line, e.g. scanning in swaths
- H04N1/1912—Scanning main scanning lines which are spaced apart from one another in the sub-scanning direction
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/04—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
- H04N1/113—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using oscillating or rotating mirrors
- H04N1/1135—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using oscillating or rotating mirrors for the main-scan only
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ラスタ出力スキャナ（ＲＯＳ）における実質
的にシステム共通の焦点深度を維持し、マルチスポット
ＲＯＳのライン分離を最大化する。 【解決手段】 受光体の表面を露光するためのマルチス
ポット光学走査システムでは、少なくとも２つの光ビー
ムから成る光源と受光体の表面との間の光路上には反射
走査部材としてのポリゴンが配置され、さらに、該ポリ
ゴンの光反射面に光ビームを配光させるためのプレスキ
ャン光学系が配置される。該光ビームが受光体の表面に
突き当たる前に、ポストスキャン光学系の光軸に対して
テレセントリックな経路上に前記ポリゴンの光反射面か
ら反射された光ビームを配置して、受光体の表面によっ
て定義される焦点面に関してシステム共通の焦点深度を
最大化する。
的にシステム共通の焦点深度を維持し、マルチスポット
ＲＯＳのライン分離を最大化する。 【解決手段】 受光体の表面を露光するためのマルチス
ポット光学走査システムでは、少なくとも２つの光ビー
ムから成る光源と受光体の表面との間の光路上には反射
走査部材としてのポリゴンが配置され、さらに、該ポリ
ゴンの光反射面に光ビームを配光させるためのプレスキ
ャン光学系が配置される。該光ビームが受光体の表面に
突き当たる前に、ポストスキャン光学系の光軸に対して
テレセントリックな経路上に前記ポリゴンの光反射面か
ら反射された光ビームを配置して、受光体の表面によっ
て定義される焦点面に関してシステム共通の焦点深度を
最大化する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は概して、ラスタ出力
スキャナ（ＲＯＳ）における焦点深度を向上させるため
の方法及び装置に係り、詳細には、実質的にシステム共
通の焦点深度を維持するとともに、マルチスポットＲＯ
Ｓのライン分離を最大化するためのシステムに関する。
スキャナ（ＲＯＳ）における焦点深度を向上させるため
の方法及び装置に係り、詳細には、実質的にシステム共
通の焦点深度を維持するとともに、マルチスポットＲＯ
Ｓのライン分離を最大化するためのシステムに関する。
【０００２】
【従来の技術ならびに発明が解決しようとする課題】本
発明は回転ポリゴンベースの光学系において利用され
る。これまで、ＲＯＳベースの記録システムについて多
数の特許ならびに文献が発表されている。例えば、アメ
リカ特許第３、７５０、１８９号（発行日：１９７３年
７月３１日）、アメリカ特許第４、２５３、１０２号
（発行日：１９８１年２月２４日）、アメリカ特許第
４、３９０、２３５号（発行日：１９８３年６月２８
日）、アメリカ特許第４、４０４、５７１号（発行日：
１９８３年９月１３日）、アメリカ特許第４、４７４、
４２２号（発行日：１９８４年１０月２日）、さらに、
「自己集束型ＲＯＳ（Self-Focusing ROS)」（ゼロック
スディスクロージャジャーナル、第１８巻、第２号、１
９９３年３月／４月、１５１頁乃至１５２頁）などがあ
げられる。
発明は回転ポリゴンベースの光学系において利用され
る。これまで、ＲＯＳベースの記録システムについて多
数の特許ならびに文献が発表されている。例えば、アメ
リカ特許第３、７５０、１８９号（発行日：１９７３年
７月３１日）、アメリカ特許第４、２５３、１０２号
（発行日：１９８１年２月２４日）、アメリカ特許第
４、３９０、２３５号（発行日：１９８３年６月２８
日）、アメリカ特許第４、４０４、５７１号（発行日：
１９８３年９月１３日）、アメリカ特許第４、４７４、
４２２号（発行日：１９８４年１０月２日）、さらに、
「自己集束型ＲＯＳ（Self-Focusing ROS)」（ゼロック
スディスクロージャジャーナル、第１８巻、第２号、１
９９３年３月／４月、１５１頁乃至１５２頁）などがあ
げられる。
【０００３】関連特許ならびに文献に記載されているこ
れらシステムの主な欠点は、２以上のインターレース
（２走査線幅以上の飛越走査）で２つ以上のレーザーの
使用を可能にするための、充分なライン分離の焦点深度
で焦点合わせされた走査線の生成能力がないことであ
る。単一のインターレース（１走査線幅の飛越走査）の
使用に対するかかる制約は、これらＲＯＳ設計を放射測
定的に効果的でないものとする。理由は、より高いオー
ダーのインターレースよりも単一のインターレースでビ
ームのさらに多くの切り捨てが要求されるからである。
れらシステムの主な欠点は、２以上のインターレース
（２走査線幅以上の飛越走査）で２つ以上のレーザーの
使用を可能にするための、充分なライン分離の焦点深度
で焦点合わせされた走査線の生成能力がないことであ
る。単一のインターレース（１走査線幅の飛越走査）の
使用に対するかかる制約は、これらＲＯＳ設計を放射測
定的に効果的でないものとする。理由は、より高いオー
ダーのインターレースよりも単一のインターレースでビ
ームのさらに多くの切り捨てが要求されるからである。
【０００４】「ライン分離焦点深度」は、ライン分離が
公称値の指定許容範囲内にある、光軸に沿った距離を表
わす。このライン分離焦点深度は走査線に沿って変化す
ることもある。「ディファレンシャル・バウ（differen
tial bow）」は走査線に沿ったライン分離の変化であ
る。このように、ディファレンシャル・バウはライン分
離の特殊ケースであり、これはより一般的な結像パラメ
ータである。不十分なライン分離焦点深度、及びその結
果のディファレンシャル・バウ焦点深度は主として、動
作補償光学要素（ＭＣＯ）及び受光体（ＰＲ）画面との
間のシステム（系）軸と主光線との間の角度偏差に起因
する。この角度偏差によって、実行可能な焦点深度にわ
たってライン分離とディファレンシャル・バウを維持す
ることが困難となる。
公称値の指定許容範囲内にある、光軸に沿った距離を表
わす。このライン分離焦点深度は走査線に沿って変化す
ることもある。「ディファレンシャル・バウ（differen
tial bow）」は走査線に沿ったライン分離の変化であ
る。このように、ディファレンシャル・バウはライン分
離の特殊ケースであり、これはより一般的な結像パラメ
ータである。不十分なライン分離焦点深度、及びその結
果のディファレンシャル・バウ焦点深度は主として、動
作補償光学要素（ＭＣＯ）及び受光体（ＰＲ）画面との
間のシステム（系）軸と主光線との間の角度偏差に起因
する。この角度偏差によって、実行可能な焦点深度にわ
たってライン分離とディファレンシャル・バウを維持す
ることが困難となる。
【０００５】回転ポリゴンマルチスポットＲＯＳベース
のゼログラフィック（電子写真式）複写機及びプリンタ
では、必要なライン分離を正確に維持し、ディファレン
シャル・バウを最小化することが必要である。さらに、
ライン分離及びディファレンシャル・バウに対して焦点
深度を最大化することによって、複写機又はプリンタ内
の機械的構成要素の限界許容範囲を少なくすることが望
ましい。ＲＯＳベースシステムの好ましい設計では、シ
ステム共通の焦点深度（システム共通ＤＯＦ）は最大化
され、ここで、システム共通ＤＯＦはすべての性能パラ
メータが満たされる、焦点深度として特徴付けられる。
より明確には、性能パラメータは少なくとも以下の５つ
の因子（ファクタ）を含むものとされる。即ち、（１）
走査ならびに交差走査スポットサイズ、（２）ウォブ
ル、（３）ディファレンシャル・バウ、（４）ライン分
離、（５）走査直線性。システム共通ＤＯＦを最大化す
ることは、これら５つのすべてのパラメータに対して焦
点深度を同時に最大化することを意味する。
のゼログラフィック（電子写真式）複写機及びプリンタ
では、必要なライン分離を正確に維持し、ディファレン
シャル・バウを最小化することが必要である。さらに、
ライン分離及びディファレンシャル・バウに対して焦点
深度を最大化することによって、複写機又はプリンタ内
の機械的構成要素の限界許容範囲を少なくすることが望
ましい。ＲＯＳベースシステムの好ましい設計では、シ
ステム共通の焦点深度（システム共通ＤＯＦ）は最大化
され、ここで、システム共通ＤＯＦはすべての性能パラ
メータが満たされる、焦点深度として特徴付けられる。
より明確には、性能パラメータは少なくとも以下の５つ
の因子（ファクタ）を含むものとされる。即ち、（１）
走査ならびに交差走査スポットサイズ、（２）ウォブ
ル、（３）ディファレンシャル・バウ、（４）ライン分
離、（５）走査直線性。システム共通ＤＯＦを最大化す
ることは、これら５つのすべてのパラメータに対して焦
点深度を同時に最大化することを意味する。
【０００６】５つの性能パラメータを以下でさらに説明
する。即ち、「スポットサイズ」は一般には、半値全幅
（ＦＷＨＭ）、又はガウスビームの１／ｅ2 点で測定さ
れる。システムの解像度（分解能）及び画像処理必要条
件によって、所望のスポットサイズが決定される。１イ
ンチ当たり６００スポット（６００ｓｐｉ）のシステム
を設計し、ＦＷＨＭスポットサイズがラスタスペーシン
グ（間隔）に等しいと仮定すると、所望のＦＷＨＭスポ
ットサイズは以下の通りになる。
する。即ち、「スポットサイズ」は一般には、半値全幅
（ＦＷＨＭ）、又はガウスビームの１／ｅ2 点で測定さ
れる。システムの解像度（分解能）及び画像処理必要条
件によって、所望のスポットサイズが決定される。１イ
ンチ当たり６００スポット（６００ｓｐｉ）のシステム
を設計し、ＦＷＨＭスポットサイズがラスタスペーシン
グ（間隔）に等しいと仮定すると、所望のＦＷＨＭスポ
ットサイズは以下の通りになる。
【０００７】（１インチ／ 600スポット）（25.4mm／イ
ンチ）（1000μｍ／１mm）＝４２．３μｍ円形スポット このため、これらスポットは走査方向及び交差走査方向
の両方向においてＦＷＨＭでオーバーラップすることに
なる。所望のスポットサイズの変化（ばらつき）は、ス
ポットがパルス幅変調されるか否かによって生じる。グ
レーの書き込みに対して楕円形（歪像、即ち、アナモフ
ィック）のスポットが望ましいとされる（一般には交差
走査面よりも走査面において幅狭である）。特別に設計
されたエレクトロニクスでは、スポットはパルス幅変調
によってラスタ間隔及び所望のグレーレベル内で所望の
サイズに制御されることもできる。
ンチ）（1000μｍ／１mm）＝４２．３μｍ円形スポット このため、これらスポットは走査方向及び交差走査方向
の両方向においてＦＷＨＭでオーバーラップすることに
なる。所望のスポットサイズの変化（ばらつき）は、ス
ポットがパルス幅変調されるか否かによって生じる。グ
レーの書き込みに対して楕円形（歪像、即ち、アナモフ
ィック）のスポットが望ましいとされる（一般には交差
走査面よりも走査面において幅狭である）。特別に設計
されたエレクトロニクスでは、スポットはパルス幅変調
によってラスタ間隔及び所望のグレーレベル内で所望の
サイズに制御されることもできる。
【０００８】「ウォブル」は、画面上の処理方向におけ
る連続走査線の不規則な間隔である。ウォブルは人間の
眼には最終プリントにおけるバンディング（しま模様）
として見える。ウォブルの存在は、人間の眼が最も鋭敏
であるとされる周波数範囲内（一般には、０．５乃至
２．０サイクル／ｍｍ）に生じると事実上の妨害になり
得る。このため、ウォブル補正はＲＯＳ設計ではこの周
波数範囲にわたって必要不可欠とされる。ウォブルはポ
リゴンファセット（小面）のピラミッド状誤差の量に直
接関わりがある。±０．５分の物理的（機械的）ファセ
ットチルト（３０アークセカンド）は、±１分（６０ア
ークセカント）の光学チルトを生成する。
る連続走査線の不規則な間隔である。ウォブルは人間の
眼には最終プリントにおけるバンディング（しま模様）
として見える。ウォブルの存在は、人間の眼が最も鋭敏
であるとされる周波数範囲内（一般には、０．５乃至
２．０サイクル／ｍｍ）に生じると事実上の妨害になり
得る。このため、ウォブル補正はＲＯＳ設計ではこの周
波数範囲にわたって必要不可欠とされる。ウォブルはポ
リゴンファセット（小面）のピラミッド状誤差の量に直
接関わりがある。±０．５分の物理的（機械的）ファセ
ットチルト（３０アークセカンド）は、±１分（６０ア
ークセカント）の光学チルトを生成する。
【０００９】「バウ」は、走査線の走査の端から端まで
の交差走査方向における曲率の測定量である。バウは、
走査線の最先端の交差走査高度の平均をとり、そして走
査の中央の交差走査高度を差し引くことによって算出す
ることができる。マルチダイオードシステムでは、各ダ
イオードソースはそれ自体のバウ曲線を有する。「ディ
ファレンシャル・バウ」を定義する所与のシステムにお
けるマルチダイオード間に、バウ曲線の最大の差異があ
る。一般には、黒一色のマシンにおけるバウ仕様は、１
５０乃至２００μｍのオーダにあって、かなり大きい。
しかしながら、ディファレンシャル・バウ仕様は非常に
厳密に保持する必要がある。
の交差走査方向における曲率の測定量である。バウは、
走査線の最先端の交差走査高度の平均をとり、そして走
査の中央の交差走査高度を差し引くことによって算出す
ることができる。マルチダイオードシステムでは、各ダ
イオードソースはそれ自体のバウ曲線を有する。「ディ
ファレンシャル・バウ」を定義する所与のシステムにお
けるマルチダイオード間に、バウ曲線の最大の差異があ
る。一般には、黒一色のマシンにおけるバウ仕様は、１
５０乃至２００μｍのオーダにあって、かなり大きい。
しかしながら、ディファレンシャル・バウ仕様は非常に
厳密に保持する必要がある。
【００１０】必要とされる「ライン分離」は、所望のイ
ンターレースファクタによってきまる。６００ｓｐｉラ
スタ間隔に対して走査線インターレースファクタが３で
あると、ライン分離は１２７μｍである。
ンターレースファクタによってきまる。６００ｓｐｉラ
スタ間隔に対して走査線インターレースファクタが３で
あると、ライン分離は１２７μｍである。
【００１１】光学的設計は、「走査直線性」を補償する
ために光学上のｆ−Θ（ｆシータ）補正を達成する必要
がある。走査直線性は、スポットが全体の走査線を交差
する走査方向において書き込まれている均等間隔の度合
いの測定量である。一般的な走査直線性曲線は、位置誤
差のポジティブローブを有する走査の一端にあるゼロ位
置誤差から開始し、ゼロ位置誤差を備えた走査の中心と
交差し、さらに、走査の他端に向かって位置誤差のネガ
ティブローブを有する。走査直線性曲線は、走査線を横
切った数箇所の位置にゼロの画像配置誤差を有すること
もある。理想的には、該曲線は全体の走査線を横切るゼ
ロ点にあることになる。
ために光学上のｆ−Θ（ｆシータ）補正を達成する必要
がある。走査直線性は、スポットが全体の走査線を交差
する走査方向において書き込まれている均等間隔の度合
いの測定量である。一般的な走査直線性曲線は、位置誤
差のポジティブローブを有する走査の一端にあるゼロ位
置誤差から開始し、ゼロ位置誤差を備えた走査の中心と
交差し、さらに、走査の他端に向かって位置誤差のネガ
ティブローブを有する。走査直線性曲線は、走査線を横
切った数箇所の位置にゼロの画像配置誤差を有すること
もある。理想的には、該曲線は全体の走査線を横切るゼ
ロ点にあることになる。
【００１２】マルチビームのレーザーダイオードベース
のＲＯＳは、高品質且つ処理能力（処理量）の高いゼロ
グラフィック（電子写真式）印刷法に対して最も強力な
技術であると見られているが、ゼログラフィックエンジ
ン内の上記影響を除去又は制御するために許容量（トレ
ランス）の高い機械的システムが必要であることは、か
かるシステムの処理速度の向上ならびにコストの低減化
の障害となっている。従って、本発明は、所望のライン
分離を達成して処理能力レベルの向上を可能にするのみ
ならず、同時に、実質的にシステム共通の焦点深度を維
持することによって、受光体（例えば、感光体）等の他
のゼログラフィックエンジン構成要素のトレランスを低
減させて位置合わせプロセスを促進するＲＯＳシステム
に関する。
のＲＯＳは、高品質且つ処理能力（処理量）の高いゼロ
グラフィック（電子写真式）印刷法に対して最も強力な
技術であると見られているが、ゼログラフィックエンジ
ン内の上記影響を除去又は制御するために許容量（トレ
ランス）の高い機械的システムが必要であることは、か
かるシステムの処理速度の向上ならびにコストの低減化
の障害となっている。従って、本発明は、所望のライン
分離を達成して処理能力レベルの向上を可能にするのみ
ならず、同時に、実質的にシステム共通の焦点深度を維
持することによって、受光体（例えば、感光体）等の他
のゼログラフィックエンジン構成要素のトレランスを低
減させて位置合わせプロセスを促進するＲＯＳシステム
に関する。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は、受光体の表面
を露光するためのマルチスポット光学走査システムであ
って、少なくとも２つの高強度変調光ビームから成る光
源と；表面に光反射面を有し、前記光源と受光体の表面
との間の光路上に配置される反射走査部材と；前記反射
走査部材の光反射面に該ビームを配向させるためのプレ
スキャン光学系であって、コリメータと、開口と、交差
走査シリンダレンズとを有するプレスキャン光学系と；
受光体の表面に突き当たる前に、ポストスキャン光学系
の光軸に対してテレセントリックな経路上に、前記反射
走査部材の光反射面から反射された光ビームを配置し
て、受光体の表面によって定義される焦点面に関してシ
ステム共通焦点深度を最大化するための、ポストスキャ
ン光学系であって、ｆ−シータ走査レンズとウォブル補
正要素を含む、ポストスキャン光学系と；を有する。
を露光するためのマルチスポット光学走査システムであ
って、少なくとも２つの高強度変調光ビームから成る光
源と；表面に光反射面を有し、前記光源と受光体の表面
との間の光路上に配置される反射走査部材と；前記反射
走査部材の光反射面に該ビームを配向させるためのプレ
スキャン光学系であって、コリメータと、開口と、交差
走査シリンダレンズとを有するプレスキャン光学系と；
受光体の表面に突き当たる前に、ポストスキャン光学系
の光軸に対してテレセントリックな経路上に、前記反射
走査部材の光反射面から反射された光ビームを配置し
て、受光体の表面によって定義される焦点面に関してシ
ステム共通焦点深度を最大化するための、ポストスキャ
ン光学系であって、ｆ−シータ走査レンズとウォブル補
正要素を含む、ポストスキャン光学系と；を有する。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明の説明のために、画素とい
う用語を用いる。この画素は、表示媒体上の物理的に定
義可能な領域の測定可能な光学特性を表わす光学（又
は、電気）信号を示している。あらゆる状況に対する複
数の物理的に定義可能な領域は、好ましくは、材料マー
キング装置、もしくは、電気磁気マーキング装置や光学
表示装置によって描画される全体の画像の物理的に測定
可能な光学特性を表わす。
う用語を用いる。この画素は、表示媒体上の物理的に定
義可能な領域の測定可能な光学特性を表わす光学（又
は、電気）信号を示している。あらゆる状況に対する複
数の物理的に定義可能な領域は、好ましくは、材料マー
キング装置、もしくは、電気磁気マーキング装置や光学
表示装置によって描画される全体の画像の物理的に測定
可能な光学特性を表わす。
【００１５】図１は、本発明の好ましいとされるマルチ
ビームＲＯＳの実施の形態を示すブロック図である。詳
細には、デュアルレーザーダイオードドライバ５４は、
ラスタ入力スキャナ（ＲＩＳ）又は、コンピュータ、フ
ァクシミリスキャナ、及びネットワークを含むビデオ信
号の生成に適切な同様のシステム等の、ビデオ画像ソー
ス５２からの入力ビデオ信号を受信する。ビデオ信号に
応答して、該ドライバ５４はマルチレーザーダイオード
５６のデュアルビーム（Ａ及びＢ）の変調を生じさせ
る。次に、マルチレーザーダイオード５６の変調された
デュアル−ビーム出力は、プレスキャン光学系５８によ
って成形された後にポリゴン６０のファセットで反射さ
れる。反射された後に、デュアルビームは再び、ポスト
スキャン光学系６２によって成形され、その後、距離
（ｄ）だけ離れている一セットのビームとして受光体６
４の表面を横切って走査される。
ビームＲＯＳの実施の形態を示すブロック図である。詳
細には、デュアルレーザーダイオードドライバ５４は、
ラスタ入力スキャナ（ＲＩＳ）又は、コンピュータ、フ
ァクシミリスキャナ、及びネットワークを含むビデオ信
号の生成に適切な同様のシステム等の、ビデオ画像ソー
ス５２からの入力ビデオ信号を受信する。ビデオ信号に
応答して、該ドライバ５４はマルチレーザーダイオード
５６のデュアルビーム（Ａ及びＢ）の変調を生じさせ
る。次に、マルチレーザーダイオード５６の変調された
デュアル−ビーム出力は、プレスキャン光学系５８によ
って成形された後にポリゴン６０のファセットで反射さ
れる。反射された後に、デュアルビームは再び、ポスト
スキャン光学系６２によって成形され、その後、距離
（ｄ）だけ離れている一セットのビームとして受光体６
４の表面を横切って走査される。
【００１６】以下の表１は、図１乃至図７に示されるよ
うな本発明によるテレセントリックＲＯＳ光学系の一般
仕様を概略的に示している。
うな本発明によるテレセントリックＲＯＳ光学系の一般
仕様を概略的に示している。
【００１７】
【表１】
【００１８】表１に示されるように、図１乃至図７に示
される好ましい光学系の設計仕様は、１２．２インチ
（３１０ｍｍ）の走査線にわたって、インチ当たり６０
０個の画素の解像度を必要とする。２つのレーザーダイ
オードが用いられる。これらレーザーダイオードは垂直
方向に整列されて列状とされ、交差走査方向（垂直方
向）に２５μｍだけオフセットされる。レーザーダイオ
ードにより発せられるレーザービームを用いて、走査線
インターレース因子が３であるインターレース画像を形
成し、ここで、隣接する走査線間の走査線分離は１２７
μｍである。あるいはまた、走査線は、連続する又はピ
ッチ内の走査線になることもでき、各走査間の文書のブ
ロックを形成することになる。
される好ましい光学系の設計仕様は、１２．２インチ
（３１０ｍｍ）の走査線にわたって、インチ当たり６０
０個の画素の解像度を必要とする。２つのレーザーダイ
オードが用いられる。これらレーザーダイオードは垂直
方向に整列されて列状とされ、交差走査方向（垂直方
向）に２５μｍだけオフセットされる。レーザーダイオ
ードにより発せられるレーザービームを用いて、走査線
インターレース因子が３であるインターレース画像を形
成し、ここで、隣接する走査線間の走査線分離は１２７
μｍである。あるいはまた、走査線は、連続する又はピ
ッチ内の走査線になることもでき、各走査間の文書のブ
ロックを形成することになる。
【００１９】図２と図３は、記述した欠点の一般的解決
法となる好ましい実施の形態を示している。図２と図３
にそれぞれ示されたＲＯＳ装置５０の交差走査面と走査
面の図は、ダイオードウィンドウ８２を介して一対の光
ビームＡとＢを射出する一対のレーザーダイオード（図
示せず）を含む。これら光ビームＡとＢはコリメータ８
４を通過し、さらに交差走査開口絞り８６を通過する。
コリメータ８４は好ましくは、一側が非球面であり他側
が球面である単一要素のコリメータから成る。あるいは
また、コリメータ８４は多数の要素から成るコリメータ
又は屈折率分布形（ＧＲＩＮ）レンズであってもよい。
これら光ビームはさらに続けて単一要素の交差走査シリ
ンダレンズ８８を通過し、該レンズは第１のフォールド
（折り返し）ミラー９０から反射された後に、これらビ
ームを交差走査方向にアンダーフィル（ビームがポリゴ
ンのファセット面内にある）ポリゴン６０（図１参照）
のポリゴンファセット面９２上に焦点を合わせる。ポリ
ゴンファセット面９２で反射され且つ走査された後に、
光ビームＡとＢはｆ−Θ（ｆ−シータ）走査レンズ９４
を通過する。このｆ−Θ走査レンズ９４は好ましくは、
図３に示されるような２個の要素から成るレンズであ
り、第１の走査レンズ９４ａと第２の走査レンズ９４ｂ
を有する。光学系の他の要素と同様にｆ−Θ走査レンズ
の詳細は以下に示す表２に含まれる。あるいはまた、ｆ
−Θ（ｆシータ）走査レンズ９４は単一の非球面トロイ
ドレンズであってもよい。
法となる好ましい実施の形態を示している。図２と図３
にそれぞれ示されたＲＯＳ装置５０の交差走査面と走査
面の図は、ダイオードウィンドウ８２を介して一対の光
ビームＡとＢを射出する一対のレーザーダイオード（図
示せず）を含む。これら光ビームＡとＢはコリメータ８
４を通過し、さらに交差走査開口絞り８６を通過する。
コリメータ８４は好ましくは、一側が非球面であり他側
が球面である単一要素のコリメータから成る。あるいは
また、コリメータ８４は多数の要素から成るコリメータ
又は屈折率分布形（ＧＲＩＮ）レンズであってもよい。
これら光ビームはさらに続けて単一要素の交差走査シリ
ンダレンズ８８を通過し、該レンズは第１のフォールド
（折り返し）ミラー９０から反射された後に、これらビ
ームを交差走査方向にアンダーフィル（ビームがポリゴ
ンのファセット面内にある）ポリゴン６０（図１参照）
のポリゴンファセット面９２上に焦点を合わせる。ポリ
ゴンファセット面９２で反射され且つ走査された後に、
光ビームＡとＢはｆ−Θ（ｆ−シータ）走査レンズ９４
を通過する。このｆ−Θ走査レンズ９４は好ましくは、
図３に示されるような２個の要素から成るレンズであ
り、第１の走査レンズ９４ａと第２の走査レンズ９４ｂ
を有する。光学系の他の要素と同様にｆ−Θ走査レンズ
の詳細は以下に示す表２に含まれる。あるいはまた、ｆ
−Θ（ｆシータ）走査レンズ９４は単一の非球面トロイ
ドレンズであってもよい。
【００２０】ｆ−Θレンズの通過後、光ビームＡとＢは
第２のフォールド（折り返し）ミラー９６で反射され
て、シリンダミラー９８で反射された後に射出ウィンド
ウ１００を通過する。射出ウィンドウ１００をいったん
通過すると、光ビームは受光体面６４に突き当たり、図
８に示されるような２つのスポット１０４と１０６を形
成する。これら２つのスポットは各々、回転ポリゴンに
より受光体面６４を横切って走査されると、少なくとも
１２インチ（約３０５ｍｍ、即ち、少なくともページ
幅）の走査線を生成する。
第２のフォールド（折り返し）ミラー９６で反射され
て、シリンダミラー９８で反射された後に射出ウィンド
ウ１００を通過する。射出ウィンドウ１００をいったん
通過すると、光ビームは受光体面６４に突き当たり、図
８に示されるような２つのスポット１０４と１０６を形
成する。これら２つのスポットは各々、回転ポリゴンに
より受光体面６４を横切って走査されると、少なくとも
１２インチ（約３０５ｍｍ、即ち、少なくともページ
幅）の走査線を生成する。
【００２１】
【表２】
【００２２】図４及び図５を参照して、プレスキャン光
学系の詳細、即ち、図１の光学システム５８についてさ
らに説明する。図４や図５には示されていないが、デュ
アルビームＡとＢは好ましくは、デュアルダイオードレ
ーザー、又はフラットダイオードウィンドウ８２を有す
る同等の装置によって生成される。デュアルダイオード
は約２５μｍの距離だけ離れており、交差走査方向にお
いてオフセットされるように光学系へ配光される。これ
らビームはいったんウィンドウ８２を透過されると、次
に非球面レンズ８４により作用され、該レンズ８４はビ
ームをコリメートする働きがある。レンズ８４は好まし
くは、ダイオード側では球面形状を、また、そのファセ
ット側では非球面形状を示している。好ましい実施の形
態では、非球面レンズは表２に指示されるようなＰＳＫ
５０ガラスから構成される。
学系の詳細、即ち、図１の光学システム５８についてさ
らに説明する。図４や図５には示されていないが、デュ
アルビームＡとＢは好ましくは、デュアルダイオードレ
ーザー、又はフラットダイオードウィンドウ８２を有す
る同等の装置によって生成される。デュアルダイオード
は約２５μｍの距離だけ離れており、交差走査方向にお
いてオフセットされるように光学系へ配光される。これ
らビームはいったんウィンドウ８２を透過されると、次
に非球面レンズ８４により作用され、該レンズ８４はビ
ームをコリメートする働きがある。レンズ８４は好まし
くは、ダイオード側では球面形状を、また、そのファセ
ット側では非球面形状を示している。好ましい実施の形
態では、非球面レンズは表２に指示されるようなＰＳＫ
５０ガラスから構成される。
【００２３】いったん非球面コリメータレンズ８４を透
過されると、ビームはさらに、開口又は矩形絞り８６を
通過し、ここでビーム強度の一部は減衰される。矩形の
長軸は走査面にあり、矩形の短軸は交差走査面にある。
ビームＡとＢはシリンダレンズ８８によって作用され
る。シリンダレンズ８８は好ましくは、交差走査面シリ
ンダを形成するものとして特徴付けられる第１の面と、
平面状の第２の面又は出力側表面を含む。シリンダレン
ズの焦点距離ならびに位置は、ファセット面９２の交差
走査面にビームを焦点合わせする働きがある。これらビ
ームはファセット面での走査面上でコリメートされたま
まである。
過されると、ビームはさらに、開口又は矩形絞り８６を
通過し、ここでビーム強度の一部は減衰される。矩形の
長軸は走査面にあり、矩形の短軸は交差走査面にある。
ビームＡとＢはシリンダレンズ８８によって作用され
る。シリンダレンズ８８は好ましくは、交差走査面シリ
ンダを形成するものとして特徴付けられる第１の面と、
平面状の第２の面又は出力側表面を含む。シリンダレン
ズの焦点距離ならびに位置は、ファセット面９２の交差
走査面にビームを焦点合わせする働きがある。これらビ
ームはファセット面での走査面上でコリメートされたま
まである。
【００２４】シリンダレンズ８８により交差走査面で焦
点が合わされると、これらビームはさらに、第１のフォ
ールドミラー９０の平面からファセット９２の方向に反
射される。フォールドミラー９０は、好ましい実施の形
態として図示されているフォールド式光学系システムに
おいて６０度の開光反射角度で位置決めされている。プ
レスキャン光学系の要素をトラバースする（横切る）
と、第１のフォールドミラー９０から反射されたビーム
は、図４と図５ではファセット９２として示されている
図１のポリゴン６０の表面によって反射される。好まし
い実施の形態では、ポリゴン６０は、アンダーフィルの
８個の小面があるデザインとして特徴付けられる。
点が合わされると、これらビームはさらに、第１のフォ
ールドミラー９０の平面からファセット９２の方向に反
射される。フォールドミラー９０は、好ましい実施の形
態として図示されているフォールド式光学系システムに
おいて６０度の開光反射角度で位置決めされている。プ
レスキャン光学系の要素をトラバースする（横切る）
と、第１のフォールドミラー９０から反射されたビーム
は、図４と図５ではファセット９２として示されている
図１のポリゴン６０の表面によって反射される。好まし
い実施の形態では、ポリゴン６０は、アンダーフィルの
８個の小面があるデザインとして特徴付けられる。
【００２５】なお、反射面は回転ポリゴンファセットで
ある必要はないことが理解される。該反射面はまた、当
該分野において周知とされる、ガルバノメータ、ホログ
ラフィックスキャナ、又はマイクロモジュレータに対応
付けられる反射面であってもよい。回転ポリゴンのファ
セットの数は、１から、所望のシステム特性を得るのに
必要な数までの何れでもよい。さらに、反射面は、回転
ポリゴン、マイクロモジュレータ、又は他の何れの周知
のタイプの走査機構であろうと、光ビームのアンダーフ
ィルタイプであったり、光ビームのオーバーフィルタイ
プであったり、もしくはまた、限定的にフィルされるタ
イプであってもよい。さらに、図示されてはいないが、
ファセットの表面の汚れを防止するためのウィンドウ又
は同様の手段を備えたエンクロージャ（囲い）を用いて
反射面を隔離することもできる。
ある必要はないことが理解される。該反射面はまた、当
該分野において周知とされる、ガルバノメータ、ホログ
ラフィックスキャナ、又はマイクロモジュレータに対応
付けられる反射面であってもよい。回転ポリゴンのファ
セットの数は、１から、所望のシステム特性を得るのに
必要な数までの何れでもよい。さらに、反射面は、回転
ポリゴン、マイクロモジュレータ、又は他の何れの周知
のタイプの走査機構であろうと、光ビームのアンダーフ
ィルタイプであったり、光ビームのオーバーフィルタイ
プであったり、もしくはまた、限定的にフィルされるタ
イプであってもよい。さらに、図示されてはいないが、
ファセットの表面の汚れを防止するためのウィンドウ又
は同様の手段を備えたエンクロージャ（囲い）を用いて
反射面を隔離することもできる。
【００２６】図６と図７を参照しながら、表２に関連し
て、ポストスキャン光学系を詳細に説明する。明確に
は、ｆ−Θ走査レンズ９４は２つの要素、即ち、第１の
走査レンズ９４ａと第２の走査レンズ９４ｂから構成さ
れる。第１の走査レンズ９４ａはポリゴンファセットに
向き合う表面１１２上に走査面シリンドリカルパワー
（度）を有し、反対側の面１１４に交差走査シリンドリ
カルパワーを有する。ｆ−Θレンズの第２の走査レンズ
９４ｂは、表面１１８上に交差走査シリンドリカルパワ
ーを有し、表面１２０に球面パワーを有する。これらビ
ームＡとＢのそれぞれの主光線は、ｆ−Θレンズ９４の
２つの要素を通過すると、個々の位置に図示される。
て、ポストスキャン光学系を詳細に説明する。明確に
は、ｆ−Θ走査レンズ９４は２つの要素、即ち、第１の
走査レンズ９４ａと第２の走査レンズ９４ｂから構成さ
れる。第１の走査レンズ９４ａはポリゴンファセットに
向き合う表面１１２上に走査面シリンドリカルパワー
（度）を有し、反対側の面１１４に交差走査シリンドリ
カルパワーを有する。ｆ−Θレンズの第２の走査レンズ
９４ｂは、表面１１８上に交差走査シリンドリカルパワ
ーを有し、表面１２０に球面パワーを有する。これらビ
ームＡとＢのそれぞれの主光線は、ｆ−Θレンズ９４の
２つの要素を通過すると、個々の位置に図示される。
【００２７】次に、ビームは第２のフォールドミラー９
６によって反射され、該ミラー９６は、交差走査軸に対
して約６．２５度の角度をなし、１２．５度の開光角度
（インクルーデッドアングル）でシリンダミラー９８の
反射面にビームを配向させるものである。シリンダミラ
ー９８は、光軸に対して２．７５度の角度をなし、５．
５度の開光角度を生じ、ミラー９６から反射されると射
出ウィンドウ１００に対してビームを配向させる。射出
ウィンドウ１００の唯一の目的は、ゼログラフィックエ
ンジンの残りのものから光学システム５０を隔離して、
ＲＯＳ光学サブシステムからほこり等を遠ざけることで
ある。射出ウィンドウ１００を通過した後、ビームは受
光体６４の表面に突き当たり、表面を横切って走査され
ると、一対の平行光線となる。
６によって反射され、該ミラー９６は、交差走査軸に対
して約６．２５度の角度をなし、１２．５度の開光角度
（インクルーデッドアングル）でシリンダミラー９８の
反射面にビームを配向させるものである。シリンダミラ
ー９８は、光軸に対して２．７５度の角度をなし、５．
５度の開光角度を生じ、ミラー９６から反射されると射
出ウィンドウ１００に対してビームを配向させる。射出
ウィンドウ１００の唯一の目的は、ゼログラフィックエ
ンジンの残りのものから光学システム５０を隔離して、
ＲＯＳ光学サブシステムからほこり等を遠ざけることで
ある。射出ウィンドウ１００を通過した後、ビームは受
光体６４の表面に突き当たり、表面を横切って走査され
ると、一対の平行光線となる。
【００２８】なお、簡潔のため、デュアルビームＲＯＳ
として図示されるが、光学システム５０は、３個以上の
レーザーダイオードとレーザービームを有するシステム
に対し等しく適用可能である。また、奇数個のレーザー
がある場合に、中心レーザーの主光線は交差走査光軸上
に配置されることになる。
として図示されるが、光学システム５０は、３個以上の
レーザーダイオードとレーザービームを有するシステム
に対し等しく適用可能である。また、奇数個のレーザー
がある場合に、中心レーザーの主光線は交差走査光軸上
に配置されることになる。
【００２９】さらにまた、レーザーダイオード８１と８
２はそれぞれ、他のレーザーダイオードによって放出さ
れる光ビームの波長とは異なる波長で光ビームを放出で
きることを理解すべきである。最後に、システムはレー
ザーダイオードに限定されるものではない。周知の光放
出装置、例えば、固体レーザー、ガスレーザー、液体レ
ーザー、又は半導体レーザーなどの何れの装置も使用す
ることができる。さらに、放出された光ビームが（出力
されると、もしくは、マイクロモジュレータ型スキャナ
によって）変調可能である限り、発光ダイオード等を使
用することもできる。このように、フラッシュランプ等
もまた光源として使用することができる。
２はそれぞれ、他のレーザーダイオードによって放出さ
れる光ビームの波長とは異なる波長で光ビームを放出で
きることを理解すべきである。最後に、システムはレー
ザーダイオードに限定されるものではない。周知の光放
出装置、例えば、固体レーザー、ガスレーザー、液体レ
ーザー、又は半導体レーザーなどの何れの装置も使用す
ることができる。さらに、放出された光ビームが（出力
されると、もしくは、マイクロモジュレータ型スキャナ
によって）変調可能である限り、発光ダイオード等を使
用することもできる。このように、フラッシュランプ等
もまた光源として使用することができる。
【００３０】図８に示されるように、シリンダミラー９
８によって反射された後、レーザービームＡとＢは受光
体６４の面上に焦点合わせされて、走査スポット１０４
と１０６になる。最も重要なことには、レーザービーム
ＡとＢの射出主光線は本質的にはシステム光軸Ｑ−Ｑ’
に平行である。即ち、射出主光線はほぼテレセントリッ
クであり、ここで、該光線はそれぞれ約０．２２度以下
の入射角で表面に突き当たる。
８によって反射された後、レーザービームＡとＢは受光
体６４の面上に焦点合わせされて、走査スポット１０４
と１０６になる。最も重要なことには、レーザービーム
ＡとＢの射出主光線は本質的にはシステム光軸Ｑ−Ｑ’
に平行である。即ち、射出主光線はほぼテレセントリッ
クであり、ここで、該光線はそれぞれ約０．２２度以下
の入射角で表面に突き当たる。
【００３１】最後に、図９はライン分離と焦点位置との
関係を示している。このグラフから、所与のライン分離
許容範囲仕様に対するライン分離焦点深度（ＤＯＦ）を
算出することができる。例えば、１２７．０±４．０μ
ｍのライン分離仕様のライン分離ＤＯＦは７．９６６ｍ
ｍ（−４．６１６ｍｍから３．３５０ｍｍ）である。以
下に示す表３は幾つかのライン分離許容量（Δｄ）必要
条件に対する近似ライン分離ＤＯＦを示している。かか
る大きな焦点の深度では、必要なライン分離を維持しな
がら、本発明は、例えば受光体及びそれに関連した駆動
機構に対する機械的許容量において大きな許容範囲（少
なくとも９９５×Δｄ）を提供する。
関係を示している。このグラフから、所与のライン分離
許容範囲仕様に対するライン分離焦点深度（ＤＯＦ）を
算出することができる。例えば、１２７．０±４．０μ
ｍのライン分離仕様のライン分離ＤＯＦは７．９６６ｍ
ｍ（−４．６１６ｍｍから３．３５０ｍｍ）である。以
下に示す表３は幾つかのライン分離許容量（Δｄ）必要
条件に対する近似ライン分離ＤＯＦを示している。かか
る大きな焦点の深度では、必要なライン分離を維持しな
がら、本発明は、例えば受光体及びそれに関連した駆動
機構に対する機械的許容量において大きな許容範囲（少
なくとも９９５×Δｄ）を提供する。
【００３２】以上を要約すると、本発明はシステム共通
焦点深度を最大化するとともに、マルチスポットＲＯＳ
のライン分離を維持するための方法と装置である。ＲＯ
Ｓベースシステムの好ましいデザインにおいて、システ
ム共通焦点深度（システム共通ＤＯＦ）は最大化され、
ここでシステム共通ＤＯＦは、すべての性能パラメータ
が満たされる、焦点深度として特徴付けられる。本発明
の光学システム設計は１２７ミクロンのライン分離を得
るとともにシステム共通ＤＯＦを最大化する。本発明の
重要性は、ライン分離仕様の許容量が高品質印刷に対し
て減少するとともに、向上する。許容量が大きい場合、
結果として得られるライン分離ＤＯＦは一般には、良好
なマルチダイオード設計によって受容可能である。
焦点深度を最大化するとともに、マルチスポットＲＯＳ
のライン分離を維持するための方法と装置である。ＲＯ
Ｓベースシステムの好ましいデザインにおいて、システ
ム共通焦点深度（システム共通ＤＯＦ）は最大化され、
ここでシステム共通ＤＯＦは、すべての性能パラメータ
が満たされる、焦点深度として特徴付けられる。本発明
の光学システム設計は１２７ミクロンのライン分離を得
るとともにシステム共通ＤＯＦを最大化する。本発明の
重要性は、ライン分離仕様の許容量が高品質印刷に対し
て減少するとともに、向上する。許容量が大きい場合、
結果として得られるライン分離ＤＯＦは一般には、良好
なマルチダイオード設計によって受容可能である。
【００３３】
【表３】
【００３４】
【発明の効果】本発明は上記のように構成されているの
で、所望のライン分離を達成して処理能力レベルの向上
を可能にすると同時に、実質的にシステム共通の焦点深
度を維持することにより、受光体等の他のゼログラフィ
ックエンジン構成要素の許容差を低減させて位置合わせ
プロセスを促進することが可能であるという効果を有す
る。
で、所望のライン分離を達成して処理能力レベルの向上
を可能にすると同時に、実質的にシステム共通の焦点深
度を維持することにより、受光体等の他のゼログラフィ
ックエンジン構成要素の許容差を低減させて位置合わせ
プロセスを促進することが可能であるという効果を有す
る。
【図１】本発明の好ましいマルチビームＲＯＳの一例を
示すブロック図である。
示すブロック図である。
【図２】本発明を構成する要素のフォールド状交差走査
面を示す図である。
面を示す図である。
【図３】本発明を構成する要素のフォールド状走査面を
示す図である。
示す図である。
【図４】図１のプレスキャンＲＯＳ要素の走査面を詳細
に示す図である。
に示す図である。
【図５】図１のプレスキャンＲＯＳ要素の走査面を詳細
に示す図である。
に示す図である。
【図６】図１のプレスキャンＲＯＳ要素の交差走査面を
詳細に示す図である。
詳細に示す図である。
【図７】図１のプレスキャンＲＯＳ要素の走査面を詳細
に示す図である。
に示す図である。
【図８】受光体面付近の領域において、本発明の結果と
して利用できるライン分離と焦点深度を詳細に示す図で
ある。
して利用できるライン分離と焦点深度を詳細に示す図で
ある。
【図９】本発明の好ましい実施の形態のライン分離と焦
点深度との関係をグラフに示した図である。
点深度との関係をグラフに示した図である。
５０ マルチビームＲＯＳ装置 ５６ デュアル−ビームレーザーダイオード ５８ プレスキャン光学系 ６０ ポリゴン ６２ ポストスキャン光学系 ６４ 受光体面 ９２ ファセット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 スーザン イー．ダン アメリカ合衆国 10547 ニューヨーク州 モヘガン レイク クロス ロード 1497
Claims (3)
- 【請求項１】 受光体の表面を露光するためのマルチス
ポット光学走査システムであって、 少なくとも２つの高強度変調光ビームから成る光源と、 表面に光反射面を有し、前記光源と受光体の表面との間
の光路上に配置される反射走査部材と、 前記反射走査部材の光反射面に該ビームを配向させるた
めのプレスキャン光学系であって、コリメータと、開口
と、交差走査シリンダレンズとを有するプレスキャン光
学系と、 受光体の表面に突き当たる前に、ポストスキャン光学系
の光軸に対してテレセントリックな経路上に、前記反射
走査部材の光反射面から反射された光ビームを配置し
て、受光体の表面によって定義される焦点面に関してシ
ステム共通焦点深度を最大化するための、ポストスキャ
ン光学系であって、ｆ−シータ走査レンズとウォブル補
正要素を含む、ポストスキャン光学系と、 を有する、マルチスポット光学走査システム。 - 【請求項２】 前記単一要素のコリメータは、非球面と
球面とを有する、請求項１に記載のマルチスポット光学
走査システム。 - 【請求項３】 前記デュアル要素のｆ−シータレンズの
第１の要素は、前記反射走査部材に向き合う第１の面に
走査面シリンドリカルパワーと、反対側の面に交差走査
シリンドリカルパワーとを有し、 前記デュアル要素のｆ−シータレンズの第２の要素は、
前記反射走査部材に向き合う第１の面に交差走査シリン
ドリカルパワーと、反対側の面に球面パワーとを有す
る、請求項２に記載のマルチスポット光学走査システ
ム。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US342974 | 1994-11-21 | ||
| US08/342,974 US5550668A (en) | 1994-11-21 | 1994-11-21 | Multispot polygon ROS with maximized line separation depth of focus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08211706A true JPH08211706A (ja) | 1996-08-20 |
| JP3836174B2 JP3836174B2 (ja) | 2006-10-18 |
Family
ID=23344121
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29514195A Expired - Fee Related JP3836174B2 (ja) | 1994-11-21 | 1995-11-14 | マルチスポット光学走査システム |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5550668A (ja) |
| EP (1) | EP0713323B1 (ja) |
| JP (1) | JP3836174B2 (ja) |
| DE (1) | DE69531924T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007065554A (ja) * | 2005-09-02 | 2007-03-15 | Fuji Xerox Co Ltd | 光走査装置 |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5745152A (en) * | 1994-10-31 | 1998-04-28 | Hewlett Packard Company | Multiple beam laser scanner using lasers with different aperture sizes |
| US5710589A (en) * | 1996-01-11 | 1998-01-20 | Xerox Corporation | Laser diode beam intensity regulation method and apparatus |
| JP3895416B2 (ja) * | 1996-06-05 | 2007-03-22 | 株式会社リコー | マルチビーム光走査装置 |
| USRE40109E1 (en) | 1996-06-05 | 2008-02-26 | Ricoh Company, Ltd. | Multi-beam optical scanner |
| US5969877A (en) * | 1997-11-26 | 1999-10-19 | Xerox Corporation | Dual wavelength F-theta scan lens |
| JP4208210B2 (ja) * | 1998-07-09 | 2009-01-14 | フジノン株式会社 | コリメータレンズおよびこれを用いた光走査装置 |
| JP2000094746A (ja) * | 1998-09-25 | 2000-04-04 | Minolta Co Ltd | マルチビーム型画像記録装置 |
| US6078341A (en) * | 1998-12-14 | 2000-06-20 | Xerox Corporation | Laser diode raster output scanners with interlaced scan lines |
| US6057953A (en) * | 1998-12-21 | 2000-05-02 | Xerox Corporation | Dual beam double pass raster output scanner |
| US6104523A (en) * | 1998-12-21 | 2000-08-15 | Xerox Corporation | Dual beam double pass raster output scanner |
| US6441908B1 (en) | 1999-08-06 | 2002-08-27 | Metron Systems, Inc. | Profiling of a component having reduced sensitivity to anomalous off-axis reflections |
| US6621593B1 (en) * | 1999-10-01 | 2003-09-16 | Xerox Corporation | Scan line non-linearity correction using an aspheric element in a ROS system |
| US6313433B1 (en) | 2000-04-03 | 2001-11-06 | Universal Laser Systems, Inc | Laser material processing system with multiple laser sources apparatus and method |
| WO2004029540A2 (en) | 2002-09-26 | 2004-04-08 | Metron Systems, Inc. | Determination of the angular position of a laser beam |
| AU2003284961A1 (en) * | 2002-10-28 | 2004-05-25 | Metron Systems, Inc. | High precision optical imaging systems and related systems |
| AU2003285098A1 (en) * | 2002-10-29 | 2004-05-25 | Metron Systems, Inc. | Calibration for 3d measurement system |
| US7965901B2 (en) * | 2003-10-31 | 2011-06-21 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Hard imaging methods and devices and optical scanning systems |
| JP4929761B2 (ja) * | 2006-03-02 | 2012-05-09 | リコープリンティングシステムズ株式会社 | 光走査装置及びこれを使用した画像形成装置 |
| US8217975B2 (en) * | 2008-04-01 | 2012-07-10 | Xerox Corporation | Apparatus for forming an image and corresponding methods |
| DE102016117863A1 (de) | 2016-09-22 | 2018-03-22 | Océ Holding B.V. | Elektrofotografiestation und Verfahren zur Belichtung eines Bildträgers |
Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3750189A (en) * | 1971-10-18 | 1973-07-31 | Ibm | Light scanning and printing system |
| JPS6033019B2 (ja) * | 1978-06-05 | 1985-07-31 | 株式会社日立製作所 | 光記録装置 |
| US4474422A (en) * | 1979-11-13 | 1984-10-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical scanning apparatus having an array of light sources |
| GB2069176B (en) * | 1980-02-06 | 1984-10-24 | Canon Kk | Optical mechanical scanning using several light beams |
| JPS5754914A (en) * | 1980-09-18 | 1982-04-01 | Canon Inc | Plural beam scanning optical system having variable magnification function |
| US4404571A (en) * | 1980-10-14 | 1983-09-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Multibeam recording apparatus |
| JP2691717B2 (ja) * | 1987-12-21 | 1997-12-17 | キヤノン株式会社 | 走査光学装置 |
| US4796964A (en) * | 1988-03-09 | 1989-01-10 | Xerox Corporation | Method of utilizing a multiple emitter solid state laser in a raster output scanner (ROS) |
| US5270851A (en) * | 1989-01-09 | 1993-12-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Achromatic-type laser scanning optical system |
| US5179465A (en) * | 1990-02-07 | 1993-01-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical system for light beam scanning |
| JP2811988B2 (ja) * | 1991-03-12 | 1998-10-15 | 富士ゼロックス株式会社 | 画像形成装置における光走査装置 |
| US5587825A (en) * | 1991-06-26 | 1996-12-24 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Scanning optical system |
| JPH0545602A (ja) * | 1991-08-20 | 1993-02-26 | Hitachi Koki Co Ltd | レ−ザ走査装置 |
| JP3235733B2 (ja) * | 1991-11-18 | 2001-12-04 | ミノルタ株式会社 | レーザビーム走査光学系 |
| US5202784A (en) * | 1992-01-10 | 1993-04-13 | Spectra-Physics Scanning Systems, Inc. | Optical system for data reading applications |
| US5300962A (en) * | 1992-08-17 | 1994-04-05 | Xerox Corporation | Compound optics for a raster output scanner in an electrophotographic printer |
| US5264943A (en) * | 1992-09-18 | 1993-11-23 | Xerox Corporation | Apparatus and method for providing accurate layer registration for multiple layer electronic printing systems |
| TW209276B (en) * | 1993-03-11 | 1993-07-11 | Ind Tech Res Inst | Single scanning lens |
| US5373395A (en) * | 1993-05-10 | 1994-12-13 | Adachi; Yoshi | Optical system to obtain uniform illumination from diode laser |
-
1994
- 1994-11-21 US US08/342,974 patent/US5550668A/en not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-11-14 JP JP29514195A patent/JP3836174B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1995-11-21 EP EP95308316A patent/EP0713323B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-21 DE DE69531924T patent/DE69531924T2/de not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007065554A (ja) * | 2005-09-02 | 2007-03-15 | Fuji Xerox Co Ltd | 光走査装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69531924T2 (de) | 2004-08-12 |
| JP3836174B2 (ja) | 2006-10-18 |
| US5550668A (en) | 1996-08-27 |
| EP0713323A2 (en) | 1996-05-22 |
| DE69531924D1 (de) | 2003-11-20 |
| EP0713323B1 (en) | 2003-10-15 |
| EP0713323A3 (en) | 1998-05-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3836174B2 (ja) | マルチスポット光学走査システム | |
| US6292285B1 (en) | Single rotating polygon mirror with v-shaped facets for a multiple beam ROS | |
| EP1111435B1 (en) | Multiple wobble correction optical elements to reduce height of raster output (ros) system | |
| US6219168B1 (en) | Single rotating polygon mirror with adjacent facets having different tilt angles | |
| US5526166A (en) | Optical system for the correction of differential scanline bow | |
| JP2692825B2 (ja) | 高解像度光学スキャナ | |
| JP2778776B2 (ja) | 光学スキャナー | |
| JP2524567B2 (ja) | 複数ビ―ム走査光学装置 | |
| JP3693190B2 (ja) | ラスタ走査装置における光線の方向を調整する装置 | |
| EP0315428A2 (en) | Polygon scanning system with multiple beams | |
| JPH08248340A (ja) | レーザビーム走査装置 | |
| US6172787B1 (en) | Laser beam scanning optical apparatus | |
| EP0843192B1 (en) | Scanning optical device | |
| JPH10170850A (ja) | プリオブジェクティブ型スキャナ | |
| JP2002174787A (ja) | マルチビーム走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置 | |
| JP4298229B2 (ja) | 光走査装置及びそれを用いた画像形成装置 | |
| JPH10239615A (ja) | デュアルフォーマット／解像度式スキャナ | |
| EP0575988A1 (en) | A symmetrical overfilled polygon laser scanner | |
| US20030038873A1 (en) | Multibeam scanning apparatus with appropriately spaced sight source | |
| JP2000180749A (ja) | 光走査装置 | |
| JP2002148546A5 (ja) | ||
| JP2002148546A (ja) | 光走査装置 | |
| JPH07174996A (ja) | ラスター出力スキャナーイメージシステム | |
| JP3470040B2 (ja) | カラー画像形成装置 | |
| JPH09185207A (ja) | 同一波長を有する表面放射レーザーの多数のリニアアレイを有するカラー電子写真式プリンタ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060221 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060522 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060627 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060726 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100804 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110804 Year of fee payment: 5 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |