JP3836174B2 - マルチスポット光学走査システム - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は概して、ラスタ出力スキャナ（ＲＯＳ）における焦点深度を向上させるための方法及び装置に係り、詳細には、実質的にシステム共通の焦点深度を維持するとともに、マルチスポットＲＯＳのライン分離を最大化するためのシステムに関する。
【０００２】
【従来の技術ならびに発明が解決しようとする課題】
本発明は回転ポリゴンベースの光学系において利用される。これまで、ＲＯＳベースの記録システムについて多数の特許ならびに文献が発表されている。例えば、アメリカ特許第３、７５０、１８９号（発行日：１９７３年７月３１日）、アメリカ特許第４、２５３、１０２号（発行日：１９８１年２月２４日）、アメリカ特許第４、３９０、２３５号（発行日：１９８３年６月２８日）、アメリカ特許第４、４０４、５７１号（発行日：１９８３年９月１３日）、アメリカ特許第４、４７４、４２２号（発行日：１９８４年１０月２日）、さらに、「自己集束型ＲＯＳ（Self-Focusing ROS)」（ゼロックスディスクロージャジャーナル、第１８巻、第２号、１９９３年３月／４月、１５１頁乃至１５２頁）などがあげられる。
【０００３】
関連特許ならびに文献に記載されているこれらシステムの主な欠点は、２以上のインターレース（２走査線幅以上の飛越走査）で２つ以上のレーザーの使用を可能にするための、充分なライン分離の焦点深度で焦点合わせされた走査線の生成能力がないことである。単一のインターレース（１走査線幅の飛越走査）の使用に対するかかる制約は、これらＲＯＳ設計を放射測定的に効果的でないものとする。理由は、より高いオーダーのインターレースよりも単一のインターレースでビームのさらに多くの切り捨てが要求されるからである。
【０００４】
「ライン分離焦点深度」は、ライン分離が公称値の指定許容範囲内にある、光軸に沿った距離を表わす。このライン分離焦点深度は走査線に沿って変化することもある。「ディファレンシャル・バウ（differential bow）」は走査線に沿ったライン分離の変化である。このように、ディファレンシャル・バウはライン分離の特殊ケースであり、これはより一般的な結像パラメータである。不十分なライン分離焦点深度、及びその結果のディファレンシャル・バウ焦点深度は主として、動作補償光学要素（ＭＣＯ）及び受光体（ＰＲ）画面との間のシステム（系）軸と主光線との間の角度偏差に起因する。この角度偏差によって、実行可能な焦点深度にわたってライン分離とディファレンシャル・バウを維持することが困難となる。
【０００５】
回転ポリゴンマルチスポットＲＯＳベースのゼログラフィック（電子写真式）複写機及びプリンタでは、必要なライン分離を正確に維持し、ディファレンシャル・バウを最小化することが必要である。さらに、ライン分離及びディファレンシャル・バウに対して焦点深度を最大化することによって、複写機又はプリンタ内の機械的構成要素の限界許容範囲を少なくすることが望ましい。ＲＯＳベースシステムの好ましい設計では、システム共通の焦点深度（システム共通ＤＯＦ）は最大化され、ここで、システム共通ＤＯＦはすべての性能パラメータが満たされる、焦点深度として特徴付けられる。より明確には、性能パラメータは少なくとも以下の５つの因子（ファクタ）を含むものとされる。即ち、（１）走査ならびに交差走査スポットサイズ、（２）ウォブル、（３）ディファレンシャル・バウ、（４）ライン分離、（５）走査直線性。システム共通ＤＯＦを最大化することは、これら５つのすべてのパラメータに対して焦点深度を同時に最大化することを意味する。
【０００６】
５つの性能パラメータを以下でさらに説明する。
即ち、「スポットサイズ」は一般には、半値全幅（ＦＷＨＭ）、又はガウスビームの１／ｅ2 点で測定される。システムの解像度（分解能）及び画像処理必要条件によって、所望のスポットサイズが決定される。１インチ当たり６００スポット（６００ｓｐｉ）のシステムを設計し、ＦＷＨＭスポットサイズがラスタスペーシング（間隔）に等しいと仮定すると、所望のＦＷＨＭスポットサイズは以下の通りになる。
【０００７】
（１インチ／ 600スポット）（25.4mm／インチ）（1000μｍ／１mm）
＝４２．３μｍ円形スポット
このため、これらスポットは走査方向及び交差走査方向の両方向においてＦＷＨＭでオーバーラップすることになる。所望のスポットサイズの変化（ばらつき）は、スポットがパルス幅変調されるか否かによって生じる。グレーの書き込みに対して楕円形（歪像、即ち、アナモフィック）のスポットが望ましいとされる（一般には交差走査面よりも走査面において幅狭である）。特別に設計されたエレクトロニクスでは、スポットはパルス幅変調によってラスタ間隔及び所望のグレーレベル内で所望のサイズに制御されることもできる。
【０００８】
「ウォブル」は、画面上の処理方向における連続走査線の不規則な間隔である。ウォブルは人間の眼には最終プリントにおけるバンディング（しま模様）として見える。ウォブルの存在は、人間の眼が最も鋭敏であるとされる周波数範囲内（一般には、０．５乃至２．０サイクル／ｍｍ）に生じると事実上の妨害になり得る。このため、ウォブル補正はＲＯＳ設計ではこの周波数範囲にわたって必要不可欠とされる。ウォブルはポリゴンファセット（小面）のピラミッド状誤差の量に直接関わりがある。±０．５分の物理的（機械的）ファセットチルト（３０アークセカンド）は、±１分（６０アークセカント）の光学チルトを生成する。
【０００９】
「バウ」は、走査線の走査の端から端までの交差走査方向における曲率の測定量である。バウは、走査線の最先端の交差走査高度の平均をとり、そして走査の中央の交差走査高度を差し引くことによって算出することができる。マルチダイオードシステムでは、各ダイオードソースはそれ自体のバウ曲線を有する。「ディファレンシャル・バウ」を定義する所与のシステムにおけるマルチダイオード間に、バウ曲線の最大の差異がある。一般には、黒一色のマシンにおけるバウ仕様は、１５０乃至２００μｍのオーダにあって、かなり大きい。しかしながら、ディファレンシャル・バウ仕様は非常に厳密に保持する必要がある。
【００１０】
必要とされる「ライン分離」は、所望のインターレースファクタによってきまる。６００ｓｐｉラスタ間隔に対して走査線インターレースファクタが３であると、ライン分離は１２７μｍである。
【００１１】
光学的設計は、「走査直線性」を補償するために光学上のｆ−Θ（ｆシータ）補正を達成する必要がある。走査直線性は、スポットが全体の走査線を交差する走査方向において書き込まれている均等間隔の度合いの測定量である。一般的な走査直線性曲線は、位置誤差のポジティブローブを有する走査の一端にあるゼロ位置誤差から開始し、ゼロ位置誤差を備えた走査の中心と交差し、さらに、走査の他端に向かって位置誤差のネガティブローブを有する。走査直線性曲線は、走査線を横切った数箇所の位置にゼロの画像配置誤差を有することもある。理想的には、該曲線は全体の走査線を横切るゼロ点にあることになる。
【００１２】
マルチビームのレーザーダイオードベースのＲＯＳは、高品質且つ処理能力（処理量）の高いゼログラフィック（電子写真式）印刷法に対して最も強力な技術であると見られているが、ゼログラフィックエンジン内の上記影響を除去又は制御するために許容量（トレランス）の高い機械的システムが必要であることは、かかるシステムの処理速度の向上ならびにコストの低減化の障害となっている。従って、本発明は、所望のライン分離を達成して処理能力レベルの向上を可能にするのみならず、同時に、実質的にシステム共通の焦点深度を維持することによって、受光体（例えば、感光体）等の他のゼログラフィックエンジン構成要素のトレランスを低減させて位置合わせプロセスを促進するＲＯＳシステムに関する。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明は、受光体の表面を露光するためのマルチスポット光学走査システムであって、少なくとも２つの高強度変調光ビームから成る光源と、表面に光反射面を有し、前記光源と受光体の表面との間の光路上に配置される反射走査部材と、前記反射走査部材の光反射面に該ビームを配向させるためのプレスキャン光学系であって、非球面と球面とを有する単一要素の１つのコリメータと、１つの開口と、１つの交差走査シリンダレンズとを有するプレスキャン光学系と、受光体の表面に突き当たる前に、ポストスキャン光学系の光軸に対してテレセントリックな経路上に、前記反射走査部材の光反射面から反射された光ビームを配置して、受光体の表面によって定義される焦点面に関してシステム共通焦点深度を最大化するためのポストスキャン光学系とを備え、当該ポストスキャン光学系は、デュアル要素からなり、第１の要素が前記反射走査部材に向き合う第１の面に走査面シリンドリカルパワーと、反対側の面に交差走査シリンドリカルパワーとを有し、第２の要素が前記反射走査部材に向き合う第１の面に交差走査シリンドリカルパワーと、反対側の面に球面パワーとを有する、１つのｆ−シータ走査レンズと、受光体表面での連続走査線の不規則な間隔を補正する１つの光学要素とを含む。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本発明の説明のために、画素という用語を用いる。この画素は、表示媒体上の物理的に定義可能な領域の測定可能な光学特性を表わす光学（又は、電気）信号を示している。あらゆる状況に対する複数の物理的に定義可能な領域は、好ましくは、材料マーキング装置、もしくは、電気磁気マーキング装置や光学表示装置によって描画される全体の画像の物理的に測定可能な光学特性を表わす。
【００１５】
図１は、本発明の好ましいとされるマルチビームＲＯＳの実施の形態を示すブロック図である。詳細には、デュアルレーザーダイオードドライバ５４は、ラスタ入力スキャナ（ＲＩＳ）又は、コンピュータ、ファクシミリスキャナ、及びネットワークを含むビデオ信号の生成に適切な同様のシステム等の、ビデオ画像ソース５２からの入力ビデオ信号を受信する。ビデオ信号に応答して、該ドライバ５４はマルチレーザーダイオード５６のデュアルビーム（Ａ及びＢ）の変調を生じさせる。次に、マルチレーザーダイオード５６の変調されたデュアル−ビーム出力は、プレスキャン光学系５８によって成形された後にポリゴン６０のファセットで反射される。反射された後に、デュアルビームは再び、ポストスキャン光学系６２によって成形され、その後、距離（ｄ）だけ離れている一セットのビームとして受光体６４の表面を横切って走査される。
【００１６】
以下の表１は、図１乃至図７に示されるような本発明によるテレセントリックＲＯＳ光学系の一般仕様を概略的に示している。
【００１７】
【表１】
【００１８】
表１に示されるように、図１乃至図７に示される好ましい光学系の設計仕様は、１２．２インチ（３１０ｍｍ）の走査線にわたって、インチ当たり６００個の画素の解像度を必要とする。２つのレーザーダイオードが用いられる。これらレーザーダイオードは垂直方向に整列されて列状とされ、交差走査方向（垂直方向）に２５μｍだけオフセットされる。レーザーダイオードにより発せられるレーザービームを用いて、走査線インターレース因子が３であるインターレース画像を形成し、ここで、隣接する走査線間の走査線分離は１２７μｍである。あるいはまた、走査線は、連続する又はピッチ内の走査線になることもでき、各走査間の文書のブロックを形成することになる。
【００１９】
図２と図３は、記述した欠点の一般的解決法となる好ましい実施の形態を示している。図２と図３にそれぞれ示されたＲＯＳ装置５０の交差走査面と走査面の図は、ダイオードウィンドウ８２を介して一対の光ビームＡとＢを射出する一対のレーザーダイオード（図示せず）を含む。これら光ビームＡとＢはコリメータ８４を通過し、さらに交差走査開口絞り８６を通過する。コリメータ８４は好ましくは、一側が非球面であり他側が球面である単一要素のコリメータから成る。あるいはまた、コリメータ８４は多数の要素から成るコリメータ又は屈折率分布形（ＧＲＩＮ）レンズであってもよい。これら光ビームはさらに続けて単一要素の交差走査シリンダレンズ８８を通過し、該レンズは第１のフォールド（折り返し）ミラー９０から反射された後に、これらビームを交差走査方向にアンダーフィル（ビームがポリゴンのファセット面内にある）ポリゴン６０（図１参照）のポリゴンファセット面９２上に焦点を合わせる。ポリゴンファセット面９２で反射され且つ走査された後に、光ビームＡとＢはｆ−Θ（ｆ−シータ）走査レンズ９４を通過する。このｆ−Θ走査レンズ９４は好ましくは、図３に示されるような２個の要素から成るレンズであり、第１の走査レンズ９４ａと第２の走査レンズ９４ｂを有する。光学系の他の要素と同様にｆ−Θ走査レンズの詳細は以下に示す表２に含まれる。あるいはまた、ｆ−Θ（ｆシータ）走査レンズ９４は単一の非球面トロイドレンズであってもよい。
【００２０】
ｆ−Θレンズの通過後、光ビームＡとＢは第２のフォールド（折り返し）ミラー９６で反射されて、シリンダミラー９８で反射された後に射出ウィンドウ１００を通過する。射出ウィンドウ１００をいったん通過すると、光ビームは受光体面６４に突き当たり、図８に示されるような２つのスポット１０４と１０６を形成する。これら２つのスポットは各々、回転ポリゴンにより受光体面６４を横切って走査されると、少なくとも１２インチ（約３０５ｍｍ、即ち、少なくともページ幅）の走査線を生成する。
【００２１】
【表２】
【００２２】
図４及び図５を参照して、プレスキャン光学系の詳細、即ち、図１の光学システム５８についてさらに説明する。図４や図５には示されていないが、デュアルビームＡとＢは好ましくは、デュアルダイオードレーザー、又はフラットダイオードウィンドウ８２を有する同等の装置によって生成される。デュアルダイオードは約２５μｍの距離だけ離れており、交差走査方向においてオフセットされるように光学系へ配光される。これらビームはいったんウィンドウ８２を透過されると、次に非球面レンズ８４により作用され、該レンズ８４はビームをコリメートする働きがある。レンズ８４は好ましくは、ダイオード側では球面形状を、また、そのファセット側では非球面形状を示している。好ましい実施の形態では、非球面レンズは表２に指示されるようなＰＳＫ５０ガラスから構成される。
【００２３】
いったん非球面コリメータレンズ８４を透過されると、ビームはさらに、開口又は矩形絞り８６を通過し、ここでビーム強度の一部は減衰される。矩形の長軸は走査面にあり、矩形の短軸は交差走査面にある。ビームＡとＢはシリンダレンズ８８によって作用される。シリンダレンズ８８は好ましくは、交差走査面シリンダを形成するものとして特徴付けられる第１の面と、平面状の第２の面又は出力側表面を含む。シリンダレンズの焦点距離ならびに位置は、ファセット面９２の交差走査面にビームを焦点合わせする働きがある。これらビームはファセット面での走査面上でコリメートされたままである。
【００２４】
シリンダレンズ８８により交差走査面で焦点が合わされると、これらビームはさらに、第１のフォールドミラー９０の平面からファセット９２の方向に反射される。フォールドミラー９０は、好ましい実施の形態として図示されているフォールド式光学系システムにおいて６０度の開光反射角度で位置決めされている。プレスキャン光学系の要素をトラバースする（横切る）と、第１のフォールドミラー９０から反射されたビームは、図４と図５ではファセット９２として示されている図１のポリゴン６０の表面によって反射される。好ましい実施の形態では、ポリゴン６０は、アンダーフィルの８個の小面があるデザインとして特徴付けられる。
【００２５】
なお、反射面は回転ポリゴンファセットである必要はないことが理解される。該反射面はまた、当該分野において周知とされる、ガルバノメータ、ホログラフィックスキャナ、又はマイクロモジュレータに対応付けられる反射面であってもよい。回転ポリゴンのファセットの数は、１から、所望のシステム特性を得るのに必要な数までの何れでもよい。さらに、反射面は、回転ポリゴン、マイクロモジュレータ、又は他の何れの周知のタイプの走査機構であろうと、光ビームのアンダーフィルタイプであったり、光ビームのオーバーフィルタイプであったり、もしくはまた、限定的にフィルされるタイプであってもよい。さらに、図示されてはいないが、ファセットの表面の汚れを防止するためのウィンドウ又は同様の手段を備えたエンクロージャ（囲い）を用いて反射面を隔離することもできる。
【００２６】
図６と図７を参照しながら、表２に関連して、ポストスキャン光学系を詳細に説明する。明確には、ｆ−Θ走査レンズ９４は２つの要素、即ち、第１の走査レンズ９４ａと第２の走査レンズ９４ｂから構成される。第１の走査レンズ９４ａはポリゴンファセットに向き合う表面１１２上に走査面シリンドリカルパワー（度）を有し、反対側の面１１４に交差走査シリンドリカルパワーを有する。ｆ−Θレンズの第２の走査レンズ９４ｂは、表面１１８上に交差走査シリンドリカルパワーを有し、表面１２０に球面パワーを有する。これらビームＡとＢのそれぞれの主光線は、ｆ−Θレンズ９４の２つの要素を通過すると、個々の位置に図示される。
【００２７】
次に、ビームは第２のフォールドミラー９６によって反射され、該ミラー９６は、交差走査軸に対して約６．２５度の角度をなし、１２．５度の開光角度（インクルーデッドアングル）でシリンダミラー９８の反射面にビームを配向させるものである。シリンダミラー９８は、光軸に対して２．７５度の角度をなし、５．５度の開光角度を生じ、ミラー９６から反射されると射出ウィンドウ１００に対してビームを配向させる。射出ウィンドウ１００の唯一の目的は、ゼログラフィックエンジンの残りのものから光学システム５０を隔離して、ＲＯＳ光学サブシステムからほこり等を遠ざけることである。射出ウィンドウ１００を通過した後、ビームは受光体６４の表面に突き当たり、表面を横切って走査されると、一対の平行光線となる。
【００２８】
なお、簡潔のため、デュアルビームＲＯＳとして図示されるが、光学システム５０は、３個以上のレーザーダイオードとレーザービームを有するシステムに対し等しく適用可能である。また、奇数個のレーザーがある場合に、中心レーザーの主光線は交差走査光軸上に配置されることになる。
【００２９】
さらにまた、レーザーダイオード８１と８２はそれぞれ、他のレーザーダイオードによって放出される光ビームの波長とは異なる波長で光ビームを放出できることを理解すべきである。最後に、システムはレーザーダイオードに限定されるものではない。周知の光放出装置、例えば、固体レーザー、ガスレーザー、液体レーザー、又は半導体レーザーなどの何れの装置も使用することができる。さらに、放出された光ビームが（出力されると、もしくは、マイクロモジュレータ型スキャナによって）変調可能である限り、発光ダイオード等を使用することもできる。このように、フラッシュランプ等もまた光源として使用することができる。
【００３０】
図８に示されるように、シリンダミラー９８によって反射された後、レーザービームＡとＢは受光体６４の面上に焦点合わせされて、走査スポット１０４と１０６になる。最も重要なことには、レーザービームＡとＢの射出主光線は本質的にはシステム光軸Ｑ−Ｑ’に平行である。即ち、射出主光線はほぼテレセントリックであり、ここで、該光線はそれぞれ約０．２２度以下の入射角で表面に突き当たる。
【００３１】
最後に、図９はライン分離と焦点位置との関係を示している。このグラフから、所与のライン分離許容範囲仕様に対するライン分離焦点深度（ＤＯＦ）を算出することができる。例えば、１２７．０±４．０μｍのライン分離仕様のライン分離ＤＯＦは７．９６６ｍｍ（−４．６１６ｍｍから３．３５０ｍｍ）である。以下に示す表３は幾つかのライン分離許容量（Δｄ）必要条件に対する近似ライン分離ＤＯＦを示している。かかる大きな焦点の深度では、必要なライン分離を維持しながら、本発明は、例えば受光体及びそれに関連した駆動機構に対する機械的許容量において大きな許容範囲（少なくとも９９５×Δｄ）を提供する。
【００３２】
以上を要約すると、本発明はシステム共通焦点深度を最大化するとともに、マルチスポットＲＯＳのライン分離を維持するための方法と装置である。ＲＯＳベースシステムの好ましいデザインにおいて、システム共通焦点深度（システム共通ＤＯＦ）は最大化され、ここでシステム共通ＤＯＦは、すべての性能パラメータが満たされる、焦点深度として特徴付けられる。本発明の光学システム設計は１２７ミクロンのライン分離を得るとともにシステム共通ＤＯＦを最大化する。本発明の重要性は、ライン分離仕様の許容量が高品質印刷に対して減少するとともに、向上する。許容量が大きい場合、結果として得られるライン分離ＤＯＦは一般には、良好なマルチダイオード設計によって受容可能である。
【００３３】
【表３】
【００３４】
【発明の効果】
本発明は上記のように構成されているので、所望のライン分離を達成して処理能力レベルの向上を可能にすると同時に、実質的にシステム共通の焦点深度を維持することにより、受光体等の他のゼログラフィックエンジン構成要素の許容差を低減させて位置合わせプロセスを促進することが可能であるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の好ましいマルチビームＲＯＳの一例を示すブロック図である。
【図２】本発明を構成する要素のフォールド状交差走査面を示す図である。
【図３】本発明を構成する要素のフォールド状走査面を示す図である。
【図４】図１のプレスキャンＲＯＳ要素の走査面を詳細に示す図である。
【図５】図１のプレスキャンＲＯＳ要素の走査面を詳細に示す図である。
【図６】図１のプレスキャンＲＯＳ要素の交差走査面を詳細に示す図である。
【図７】図１のプレスキャンＲＯＳ要素の走査面を詳細に示す図である。
【図８】受光体面付近の領域において、本発明の結果として利用できるライン分離と焦点深度を詳細に示す図である。
【図９】本発明の好ましい実施の形態のライン分離と焦点深度との関係をグラフに示した図である。
【符号の説明】
５０ マルチビームＲＯＳ装置
５６ デュアル−ビームレーザーダイオード
５８ プレスキャン光学系
６０ ポリゴン
６２ ポストスキャン光学系
６４ 受光体面
９２ ファセット
【発明の属する技術分野】
本発明は概して、ラスタ出力スキャナ（ＲＯＳ）における焦点深度を向上させるための方法及び装置に係り、詳細には、実質的にシステム共通の焦点深度を維持するとともに、マルチスポットＲＯＳのライン分離を最大化するためのシステムに関する。
【０００２】
【従来の技術ならびに発明が解決しようとする課題】
本発明は回転ポリゴンベースの光学系において利用される。これまで、ＲＯＳベースの記録システムについて多数の特許ならびに文献が発表されている。例えば、アメリカ特許第３、７５０、１８９号（発行日：１９７３年７月３１日）、アメリカ特許第４、２５３、１０２号（発行日：１９８１年２月２４日）、アメリカ特許第４、３９０、２３５号（発行日：１９８３年６月２８日）、アメリカ特許第４、４０４、５７１号（発行日：１９８３年９月１３日）、アメリカ特許第４、４７４、４２２号（発行日：１９８４年１０月２日）、さらに、「自己集束型ＲＯＳ（Self-Focusing ROS)」（ゼロックスディスクロージャジャーナル、第１８巻、第２号、１９９３年３月／４月、１５１頁乃至１５２頁）などがあげられる。
【０００３】
関連特許ならびに文献に記載されているこれらシステムの主な欠点は、２以上のインターレース（２走査線幅以上の飛越走査）で２つ以上のレーザーの使用を可能にするための、充分なライン分離の焦点深度で焦点合わせされた走査線の生成能力がないことである。単一のインターレース（１走査線幅の飛越走査）の使用に対するかかる制約は、これらＲＯＳ設計を放射測定的に効果的でないものとする。理由は、より高いオーダーのインターレースよりも単一のインターレースでビームのさらに多くの切り捨てが要求されるからである。
【０００４】
「ライン分離焦点深度」は、ライン分離が公称値の指定許容範囲内にある、光軸に沿った距離を表わす。このライン分離焦点深度は走査線に沿って変化することもある。「ディファレンシャル・バウ（differential bow）」は走査線に沿ったライン分離の変化である。このように、ディファレンシャル・バウはライン分離の特殊ケースであり、これはより一般的な結像パラメータである。不十分なライン分離焦点深度、及びその結果のディファレンシャル・バウ焦点深度は主として、動作補償光学要素（ＭＣＯ）及び受光体（ＰＲ）画面との間のシステム（系）軸と主光線との間の角度偏差に起因する。この角度偏差によって、実行可能な焦点深度にわたってライン分離とディファレンシャル・バウを維持することが困難となる。
【０００５】
回転ポリゴンマルチスポットＲＯＳベースのゼログラフィック（電子写真式）複写機及びプリンタでは、必要なライン分離を正確に維持し、ディファレンシャル・バウを最小化することが必要である。さらに、ライン分離及びディファレンシャル・バウに対して焦点深度を最大化することによって、複写機又はプリンタ内の機械的構成要素の限界許容範囲を少なくすることが望ましい。ＲＯＳベースシステムの好ましい設計では、システム共通の焦点深度（システム共通ＤＯＦ）は最大化され、ここで、システム共通ＤＯＦはすべての性能パラメータが満たされる、焦点深度として特徴付けられる。より明確には、性能パラメータは少なくとも以下の５つの因子（ファクタ）を含むものとされる。即ち、（１）走査ならびに交差走査スポットサイズ、（２）ウォブル、（３）ディファレンシャル・バウ、（４）ライン分離、（５）走査直線性。システム共通ＤＯＦを最大化することは、これら５つのすべてのパラメータに対して焦点深度を同時に最大化することを意味する。
【０００６】
５つの性能パラメータを以下でさらに説明する。
即ち、「スポットサイズ」は一般には、半値全幅（ＦＷＨＭ）、又はガウスビームの１／ｅ2 点で測定される。システムの解像度（分解能）及び画像処理必要条件によって、所望のスポットサイズが決定される。１インチ当たり６００スポット（６００ｓｐｉ）のシステムを設計し、ＦＷＨＭスポットサイズがラスタスペーシング（間隔）に等しいと仮定すると、所望のＦＷＨＭスポットサイズは以下の通りになる。
【０００７】
（１インチ／ 600スポット）（25.4mm／インチ）（1000μｍ／１mm）
＝４２．３μｍ円形スポット
このため、これらスポットは走査方向及び交差走査方向の両方向においてＦＷＨＭでオーバーラップすることになる。所望のスポットサイズの変化（ばらつき）は、スポットがパルス幅変調されるか否かによって生じる。グレーの書き込みに対して楕円形（歪像、即ち、アナモフィック）のスポットが望ましいとされる（一般には交差走査面よりも走査面において幅狭である）。特別に設計されたエレクトロニクスでは、スポットはパルス幅変調によってラスタ間隔及び所望のグレーレベル内で所望のサイズに制御されることもできる。
【０００８】
「ウォブル」は、画面上の処理方向における連続走査線の不規則な間隔である。ウォブルは人間の眼には最終プリントにおけるバンディング（しま模様）として見える。ウォブルの存在は、人間の眼が最も鋭敏であるとされる周波数範囲内（一般には、０．５乃至２．０サイクル／ｍｍ）に生じると事実上の妨害になり得る。このため、ウォブル補正はＲＯＳ設計ではこの周波数範囲にわたって必要不可欠とされる。ウォブルはポリゴンファセット（小面）のピラミッド状誤差の量に直接関わりがある。±０．５分の物理的（機械的）ファセットチルト（３０アークセカンド）は、±１分（６０アークセカント）の光学チルトを生成する。
【０００９】
「バウ」は、走査線の走査の端から端までの交差走査方向における曲率の測定量である。バウは、走査線の最先端の交差走査高度の平均をとり、そして走査の中央の交差走査高度を差し引くことによって算出することができる。マルチダイオードシステムでは、各ダイオードソースはそれ自体のバウ曲線を有する。「ディファレンシャル・バウ」を定義する所与のシステムにおけるマルチダイオード間に、バウ曲線の最大の差異がある。一般には、黒一色のマシンにおけるバウ仕様は、１５０乃至２００μｍのオーダにあって、かなり大きい。しかしながら、ディファレンシャル・バウ仕様は非常に厳密に保持する必要がある。
【００１０】
必要とされる「ライン分離」は、所望のインターレースファクタによってきまる。６００ｓｐｉラスタ間隔に対して走査線インターレースファクタが３であると、ライン分離は１２７μｍである。
【００１１】
光学的設計は、「走査直線性」を補償するために光学上のｆ−Θ（ｆシータ）補正を達成する必要がある。走査直線性は、スポットが全体の走査線を交差する走査方向において書き込まれている均等間隔の度合いの測定量である。一般的な走査直線性曲線は、位置誤差のポジティブローブを有する走査の一端にあるゼロ位置誤差から開始し、ゼロ位置誤差を備えた走査の中心と交差し、さらに、走査の他端に向かって位置誤差のネガティブローブを有する。走査直線性曲線は、走査線を横切った数箇所の位置にゼロの画像配置誤差を有することもある。理想的には、該曲線は全体の走査線を横切るゼロ点にあることになる。
【００１２】
マルチビームのレーザーダイオードベースのＲＯＳは、高品質且つ処理能力（処理量）の高いゼログラフィック（電子写真式）印刷法に対して最も強力な技術であると見られているが、ゼログラフィックエンジン内の上記影響を除去又は制御するために許容量（トレランス）の高い機械的システムが必要であることは、かかるシステムの処理速度の向上ならびにコストの低減化の障害となっている。従って、本発明は、所望のライン分離を達成して処理能力レベルの向上を可能にするのみならず、同時に、実質的にシステム共通の焦点深度を維持することによって、受光体（例えば、感光体）等の他のゼログラフィックエンジン構成要素のトレランスを低減させて位置合わせプロセスを促進するＲＯＳシステムに関する。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明は、受光体の表面を露光するためのマルチスポット光学走査システムであって、少なくとも２つの高強度変調光ビームから成る光源と、表面に光反射面を有し、前記光源と受光体の表面との間の光路上に配置される反射走査部材と、前記反射走査部材の光反射面に該ビームを配向させるためのプレスキャン光学系であって、非球面と球面とを有する単一要素の１つのコリメータと、１つの開口と、１つの交差走査シリンダレンズとを有するプレスキャン光学系と、受光体の表面に突き当たる前に、ポストスキャン光学系の光軸に対してテレセントリックな経路上に、前記反射走査部材の光反射面から反射された光ビームを配置して、受光体の表面によって定義される焦点面に関してシステム共通焦点深度を最大化するためのポストスキャン光学系とを備え、当該ポストスキャン光学系は、デュアル要素からなり、第１の要素が前記反射走査部材に向き合う第１の面に走査面シリンドリカルパワーと、反対側の面に交差走査シリンドリカルパワーとを有し、第２の要素が前記反射走査部材に向き合う第１の面に交差走査シリンドリカルパワーと、反対側の面に球面パワーとを有する、１つのｆ−シータ走査レンズと、受光体表面での連続走査線の不規則な間隔を補正する１つの光学要素とを含む。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本発明の説明のために、画素という用語を用いる。この画素は、表示媒体上の物理的に定義可能な領域の測定可能な光学特性を表わす光学（又は、電気）信号を示している。あらゆる状況に対する複数の物理的に定義可能な領域は、好ましくは、材料マーキング装置、もしくは、電気磁気マーキング装置や光学表示装置によって描画される全体の画像の物理的に測定可能な光学特性を表わす。
【００１５】
図１は、本発明の好ましいとされるマルチビームＲＯＳの実施の形態を示すブロック図である。詳細には、デュアルレーザーダイオードドライバ５４は、ラスタ入力スキャナ（ＲＩＳ）又は、コンピュータ、ファクシミリスキャナ、及びネットワークを含むビデオ信号の生成に適切な同様のシステム等の、ビデオ画像ソース５２からの入力ビデオ信号を受信する。ビデオ信号に応答して、該ドライバ５４はマルチレーザーダイオード５６のデュアルビーム（Ａ及びＢ）の変調を生じさせる。次に、マルチレーザーダイオード５６の変調されたデュアル−ビーム出力は、プレスキャン光学系５８によって成形された後にポリゴン６０のファセットで反射される。反射された後に、デュアルビームは再び、ポストスキャン光学系６２によって成形され、その後、距離（ｄ）だけ離れている一セットのビームとして受光体６４の表面を横切って走査される。
【００１６】
以下の表１は、図１乃至図７に示されるような本発明によるテレセントリックＲＯＳ光学系の一般仕様を概略的に示している。
【００１７】
【表１】
表１に示されるように、図１乃至図７に示される好ましい光学系の設計仕様は、１２．２インチ（３１０ｍｍ）の走査線にわたって、インチ当たり６００個の画素の解像度を必要とする。２つのレーザーダイオードが用いられる。これらレーザーダイオードは垂直方向に整列されて列状とされ、交差走査方向（垂直方向）に２５μｍだけオフセットされる。レーザーダイオードにより発せられるレーザービームを用いて、走査線インターレース因子が３であるインターレース画像を形成し、ここで、隣接する走査線間の走査線分離は１２７μｍである。あるいはまた、走査線は、連続する又はピッチ内の走査線になることもでき、各走査間の文書のブロックを形成することになる。
【００１９】
図２と図３は、記述した欠点の一般的解決法となる好ましい実施の形態を示している。図２と図３にそれぞれ示されたＲＯＳ装置５０の交差走査面と走査面の図は、ダイオードウィンドウ８２を介して一対の光ビームＡとＢを射出する一対のレーザーダイオード（図示せず）を含む。これら光ビームＡとＢはコリメータ８４を通過し、さらに交差走査開口絞り８６を通過する。コリメータ８４は好ましくは、一側が非球面であり他側が球面である単一要素のコリメータから成る。あるいはまた、コリメータ８４は多数の要素から成るコリメータ又は屈折率分布形（ＧＲＩＮ）レンズであってもよい。これら光ビームはさらに続けて単一要素の交差走査シリンダレンズ８８を通過し、該レンズは第１のフォールド（折り返し）ミラー９０から反射された後に、これらビームを交差走査方向にアンダーフィル（ビームがポリゴンのファセット面内にある）ポリゴン６０（図１参照）のポリゴンファセット面９２上に焦点を合わせる。ポリゴンファセット面９２で反射され且つ走査された後に、光ビームＡとＢはｆ−Θ（ｆ−シータ）走査レンズ９４を通過する。このｆ−Θ走査レンズ９４は好ましくは、図３に示されるような２個の要素から成るレンズであり、第１の走査レンズ９４ａと第２の走査レンズ９４ｂを有する。光学系の他の要素と同様にｆ−Θ走査レンズの詳細は以下に示す表２に含まれる。あるいはまた、ｆ−Θ（ｆシータ）走査レンズ９４は単一の非球面トロイドレンズであってもよい。
【００２０】
ｆ−Θレンズの通過後、光ビームＡとＢは第２のフォールド（折り返し）ミラー９６で反射されて、シリンダミラー９８で反射された後に射出ウィンドウ１００を通過する。射出ウィンドウ１００をいったん通過すると、光ビームは受光体面６４に突き当たり、図８に示されるような２つのスポット１０４と１０６を形成する。これら２つのスポットは各々、回転ポリゴンにより受光体面６４を横切って走査されると、少なくとも１２インチ（約３０５ｍｍ、即ち、少なくともページ幅）の走査線を生成する。
【００２１】
【表２】
図４及び図５を参照して、プレスキャン光学系の詳細、即ち、図１の光学システム５８についてさらに説明する。図４や図５には示されていないが、デュアルビームＡとＢは好ましくは、デュアルダイオードレーザー、又はフラットダイオードウィンドウ８２を有する同等の装置によって生成される。デュアルダイオードは約２５μｍの距離だけ離れており、交差走査方向においてオフセットされるように光学系へ配光される。これらビームはいったんウィンドウ８２を透過されると、次に非球面レンズ８４により作用され、該レンズ８４はビームをコリメートする働きがある。レンズ８４は好ましくは、ダイオード側では球面形状を、また、そのファセット側では非球面形状を示している。好ましい実施の形態では、非球面レンズは表２に指示されるようなＰＳＫ５０ガラスから構成される。
【００２３】
いったん非球面コリメータレンズ８４を透過されると、ビームはさらに、開口又は矩形絞り８６を通過し、ここでビーム強度の一部は減衰される。矩形の長軸は走査面にあり、矩形の短軸は交差走査面にある。ビームＡとＢはシリンダレンズ８８によって作用される。シリンダレンズ８８は好ましくは、交差走査面シリンダを形成するものとして特徴付けられる第１の面と、平面状の第２の面又は出力側表面を含む。シリンダレンズの焦点距離ならびに位置は、ファセット面９２の交差走査面にビームを焦点合わせする働きがある。これらビームはファセット面での走査面上でコリメートされたままである。
【００２４】
シリンダレンズ８８により交差走査面で焦点が合わされると、これらビームはさらに、第１のフォールドミラー９０の平面からファセット９２の方向に反射される。フォールドミラー９０は、好ましい実施の形態として図示されているフォールド式光学系システムにおいて６０度の開光反射角度で位置決めされている。プレスキャン光学系の要素をトラバースする（横切る）と、第１のフォールドミラー９０から反射されたビームは、図４と図５ではファセット９２として示されている図１のポリゴン６０の表面によって反射される。好ましい実施の形態では、ポリゴン６０は、アンダーフィルの８個の小面があるデザインとして特徴付けられる。
【００２５】
なお、反射面は回転ポリゴンファセットである必要はないことが理解される。該反射面はまた、当該分野において周知とされる、ガルバノメータ、ホログラフィックスキャナ、又はマイクロモジュレータに対応付けられる反射面であってもよい。回転ポリゴンのファセットの数は、１から、所望のシステム特性を得るのに必要な数までの何れでもよい。さらに、反射面は、回転ポリゴン、マイクロモジュレータ、又は他の何れの周知のタイプの走査機構であろうと、光ビームのアンダーフィルタイプであったり、光ビームのオーバーフィルタイプであったり、もしくはまた、限定的にフィルされるタイプであってもよい。さらに、図示されてはいないが、ファセットの表面の汚れを防止するためのウィンドウ又は同様の手段を備えたエンクロージャ（囲い）を用いて反射面を隔離することもできる。
【００２６】
図６と図７を参照しながら、表２に関連して、ポストスキャン光学系を詳細に説明する。明確には、ｆ−Θ走査レンズ９４は２つの要素、即ち、第１の走査レンズ９４ａと第２の走査レンズ９４ｂから構成される。第１の走査レンズ９４ａはポリゴンファセットに向き合う表面１１２上に走査面シリンドリカルパワー（度）を有し、反対側の面１１４に交差走査シリンドリカルパワーを有する。ｆ−Θレンズの第２の走査レンズ９４ｂは、表面１１８上に交差走査シリンドリカルパワーを有し、表面１２０に球面パワーを有する。これらビームＡとＢのそれぞれの主光線は、ｆ−Θレンズ９４の２つの要素を通過すると、個々の位置に図示される。
【００２７】
次に、ビームは第２のフォールドミラー９６によって反射され、該ミラー９６は、交差走査軸に対して約６．２５度の角度をなし、１２．５度の開光角度（インクルーデッドアングル）でシリンダミラー９８の反射面にビームを配向させるものである。シリンダミラー９８は、光軸に対して２．７５度の角度をなし、５．５度の開光角度を生じ、ミラー９６から反射されると射出ウィンドウ１００に対してビームを配向させる。射出ウィンドウ１００の唯一の目的は、ゼログラフィックエンジンの残りのものから光学システム５０を隔離して、ＲＯＳ光学サブシステムからほこり等を遠ざけることである。射出ウィンドウ１００を通過した後、ビームは受光体６４の表面に突き当たり、表面を横切って走査されると、一対の平行光線となる。
【００２８】
なお、簡潔のため、デュアルビームＲＯＳとして図示されるが、光学システム５０は、３個以上のレーザーダイオードとレーザービームを有するシステムに対し等しく適用可能である。また、奇数個のレーザーがある場合に、中心レーザーの主光線は交差走査光軸上に配置されることになる。
【００２９】
さらにまた、レーザーダイオード８１と８２はそれぞれ、他のレーザーダイオードによって放出される光ビームの波長とは異なる波長で光ビームを放出できることを理解すべきである。最後に、システムはレーザーダイオードに限定されるものではない。周知の光放出装置、例えば、固体レーザー、ガスレーザー、液体レーザー、又は半導体レーザーなどの何れの装置も使用することができる。さらに、放出された光ビームが（出力されると、もしくは、マイクロモジュレータ型スキャナによって）変調可能である限り、発光ダイオード等を使用することもできる。このように、フラッシュランプ等もまた光源として使用することができる。
【００３０】
図８に示されるように、シリンダミラー９８によって反射された後、レーザービームＡとＢは受光体６４の面上に焦点合わせされて、走査スポット１０４と１０６になる。最も重要なことには、レーザービームＡとＢの射出主光線は本質的にはシステム光軸Ｑ−Ｑ’に平行である。即ち、射出主光線はほぼテレセントリックであり、ここで、該光線はそれぞれ約０．２２度以下の入射角で表面に突き当たる。
【００３１】
最後に、図９はライン分離と焦点位置との関係を示している。このグラフから、所与のライン分離許容範囲仕様に対するライン分離焦点深度（ＤＯＦ）を算出することができる。例えば、１２７．０±４．０μｍのライン分離仕様のライン分離ＤＯＦは７．９６６ｍｍ（−４．６１６ｍｍから３．３５０ｍｍ）である。以下に示す表３は幾つかのライン分離許容量（Δｄ）必要条件に対する近似ライン分離ＤＯＦを示している。かかる大きな焦点の深度では、必要なライン分離を維持しながら、本発明は、例えば受光体及びそれに関連した駆動機構に対する機械的許容量において大きな許容範囲（少なくとも９９５×Δｄ）を提供する。
【００３２】
以上を要約すると、本発明はシステム共通焦点深度を最大化するとともに、マルチスポットＲＯＳのライン分離を維持するための方法と装置である。ＲＯＳベースシステムの好ましいデザインにおいて、システム共通焦点深度（システム共通ＤＯＦ）は最大化され、ここでシステム共通ＤＯＦは、すべての性能パラメータが満たされる、焦点深度として特徴付けられる。本発明の光学システム設計は１２７ミクロンのライン分離を得るとともにシステム共通ＤＯＦを最大化する。本発明の重要性は、ライン分離仕様の許容量が高品質印刷に対して減少するとともに、向上する。許容量が大きい場合、結果として得られるライン分離ＤＯＦは一般には、良好なマルチダイオード設計によって受容可能である。
【００３３】
【表３】
【発明の効果】
本発明は上記のように構成されているので、所望のライン分離を達成して処理能力レベルの向上を可能にすると同時に、実質的にシステム共通の焦点深度を維持することにより、受光体等の他のゼログラフィックエンジン構成要素の許容差を低減させて位置合わせプロセスを促進することが可能であるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の好ましいマルチビームＲＯＳの一例を示すブロック図である。
【図２】本発明を構成する要素のフォールド状交差走査面を示す図である。
【図３】本発明を構成する要素のフォールド状走査面を示す図である。
【図４】図１のプレスキャンＲＯＳ要素の走査面を詳細に示す図である。
【図５】図１のプレスキャンＲＯＳ要素の走査面を詳細に示す図である。
【図６】図１のプレスキャンＲＯＳ要素の交差走査面を詳細に示す図である。
【図７】図１のプレスキャンＲＯＳ要素の走査面を詳細に示す図である。
【図８】受光体面付近の領域において、本発明の結果として利用できるライン分離と焦点深度を詳細に示す図である。
【図９】本発明の好ましい実施の形態のライン分離と焦点深度との関係をグラフに示した図である。
【符号の説明】
５０ マルチビームＲＯＳ装置
５６ デュアル−ビームレーザーダイオード
５８ プレスキャン光学系
６０ ポリゴン
６２ ポストスキャン光学系
６４ 受光体面
９２ ファセット
Claims (1)
- 受光体の表面を露光するためのマルチスポット光学走査システムであって、
少なくとも２つの高強度変調光ビームから成る光源と、
表面に光反射面を有し、前記光源と受光体の表面との間の光路上に配置される反射走査部材と、
前記反射走査部材の光反射面に該ビームを配向させるためのプレスキャン光学系であって、非球面と球面とを有する単一要素の１つのコリメータと、１つの開口と、１つの交差走査シリンダレンズとを有するプレスキャン光学系と、
受光体の表面に突き当たる前に、ポストスキャン光学系の光軸に対してテレセントリックな経路上に、前記反射走査部材の光反射面から反射された光ビームを配置して、受光体の表面によって定義される焦点面に関してシステム共通焦点深度を最大化するためのポストスキャン光学系とを備え、
当該ポストスキャン光学系は、
デュアル要素からなる１つのｆ−シータ走査レンズであり、前記ｆ−シータ走査レンズの第１の要素が前記反射走査部材に向き合う第１の面に走査面シリンドリカルパワーと、反対側の面に交差走査シリンドリカルパワーとを有し、前記ｆ−シータ走査レンズの第２の要素が前記反射走査部材に向き合う第１の面に交差走査シリンドリカルパワーと、反対側の面に球面パワーとを有する、前記ｆ−シータ走査レンズと
受光体表面での連続走査線の不規則な間隔を補正する１つの光学要素とを含む、
マルチスポット光学走査システム。
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