JPH08209332A - 耐摩耗性に優れた工具を製造する方法 - Google Patents

耐摩耗性に優れた工具を製造する方法

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JPH08209332A
JPH08209332A JP30621295A JP30621295A JPH08209332A JP H08209332 A JPH08209332 A JP H08209332A JP 30621295 A JP30621295 A JP 30621295A JP 30621295 A JP30621295 A JP 30621295A JP H08209332 A JPH08209332 A JP H08209332A
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wear
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Tsutomu Ikeda
孜 池田
Hiroyuki Ono
廣之 小野
Hideo Miura
日出夫 三浦
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Kobe Steel Ltd
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Kobe Steel Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 フライス加工工具等の工具表面に、密着性の
優れた耐摩耗性皮膜を効率良く形成して耐摩耗性に優れ
た工具を製造する方法を提供する。特に耐熱性,熱伝導
性等に関し、AlNに近似した優れた特性が発揮され、
しかも従来のイオンプレーティング法やスパッタリング
法によって製造する場合よりも密着性,膜組成の均一性
及び生産効率の各面において優れた工具の製造方法を提
供する。 【解決手段】 工具の表面に耐摩耗性皮膜を形成して耐
摩耗性に優れた工具を製造するに当たり、 (Alx Ti1-x)( Ny1-y ) 但し 0.56≦x≦0.75 0.6 ≦y≦1 で示される化学組成からなり、膜厚が0.8 〜10μmの
耐摩耗性皮膜を、蒸発源としてカソードを用いるアーク
放電方式によって形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、フライス加工工具
等の工具表面に、密着性の優れた耐摩耗性皮膜を効率良
く形成して耐摩耗性に優れた工具を製造する方法に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】高速度工具鋼や超硬合金工具鋼等を製作
する場合は、耐摩耗性等の性能をより優れたものとする
ことを目的として、工具基材の表面にTi等の窒化物や
炭化物よりなる耐摩耗性皮被膜を形成することが行なわ
れている。
【0003】基材表面に耐摩耗性皮膜を形成する方法と
しては、従来よりCVD法(化学的蒸着法)及びPVD
法(物理的蒸着法)が知られている。しかし前者の方法
では母材が高温処理に曝される為母材特性が劣化するお
それがあり、母材特性も重要視される工具の場合は後者
の方法が好まれ、例えばPVD法によるTiN皮膜等の
形成が汎用されていた。このTiN皮膜は耐熱性が良好
であって、切削時の加工熱や摩擦熱による工具すくい面
のクレータ摩耗を抑制する機能を発揮することが知られ
ている。
【0004】しかしながら近年、切削速度の一層の高速
化が要望されており、切削条件がより過酷化する傾向に
ある為、上記した様な従来のTiN皮膜程度ではこの要
請に応えきれなくなっている。
【0005】そこで耐熱性や硬度が更に優れた皮膜とし
て、イオンプレーティング法やスパッタリング法による
TiAlN,TiAlC,或はTiAlCN等の皮膜を
形成することが提案された[特開昭62−56565,
ジャーナル・バキューム・ソサエティ・テクノロジー
(J. Vac. Sci. Technol.)A第4(6)巻,1986年,第
2717頁,J. of Solid State Chemistry,70,1987 年,第
318 〜 322頁]。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながらこの様な
従来方法による皮膜の形成には、次の様な問題があっ
た。 (イ) イオンプレーティングの場合 従来のイオンプレーティング法は、蒸着金属をるつぼ内
で溶融・蒸発させる方式である為、蒸発源の設置位置が
制約される。この為複雑な形状の基材を被覆する場合は
生産性が低い。また複数種の金属を蒸発させて基材表面
上で合金化させたい場合が多いにもかかわらず、個々の
蒸発金属には蒸気圧差があり、皮膜の合金組成を安定的
にコントロールすることが困難であった。
【0007】(ロ) スパッタリング法の場合 皮膜の密着性が必らずしも良好でなく、また複雑な形状
の基材を被覆する場合の生産性も低い。更にターゲット
としてAlx Ti1-x や(Alx Ti1-x )N等を使用
する場合は、スパッタ率が経時的に変化し易いためこの
変化を見込んだ組成のターゲットを要する。またスパッ
タ粒子のイオン化率が低いため、基板に突入するイオン
量が少なく、従って十分な膜密着性が得られないという
欠点があった。しかも成膜速度が遅く量産化が困難であ
る。
【0008】次に組成に関する問題点について述べる。 (ハ) 特開昭62-56565には、膜組成として(Ti,Al)
C,(Ti,Al)Nおよび(Ti,Al)CNと記述
されているに止まり、TiとAlの比率またCとNの比
率について明確な記述がなく、全ての組成が適用できる
ものでない。
【0009】(ニ) さらにJ. Vac. Sci. Technol.,A4
(6), 1986年の論文には(Ti,Al)Nとして、
Ti:Al=75:25,Ti:Al=50:50の二
つの組成が記述されているにすぎない。
【0010】(ホ) J. of Solid State Chemistry,70(19
87年)の論文には(Ti,Al)Nにおいて、全組成中
Alが30at%固溶できると記述されている。しかしこ
こではTiの含有量が測定されていないため、AlとT
iの含有比率、即ちAlとTiのモル比を特定すること
ができない。 上記(ハ) 〜 (ホ)の組成では、AlNの高熱伝導性,耐酸
化性が十分発揮できるとは言えない。
【0011】本発明者らは、AlN−TiN系全組成域
について詳細に調べ、AlNを基本組成としてAlN単
組成の弱点をTiNの固溶により改善し、その組成域を
特定したものであって、耐摩耗性及び密着性に優れた皮
膜を効率よく形成することのできる様な皮膜形成方法を
提供しようとするものである。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は工具の表面に耐
摩耗性皮膜を形成して耐摩耗性に優れた工具を製造する
に当たり、化学組成が (Alx Ti1-x)( Ny1-y ) 但し 0.56≦x≦0.75 0.6 ≦y≦1 膜厚:0.8 〜10μm で示される耐摩耗性皮膜を、蒸発源としてカソードを用
いるアーク放電方式によって形成することを要旨とする
ものである。
【0013】
【発明の実施の形態】本発明においては、カソードを蒸
発源とするアーク放電によって金属成分をイオン化する
ものであって、イオンプレーティング法やスパッタリン
グ法等に代表されるPVD法によって行なうことができ
るものである。これらのうち例えばイオンプレーティン
グ法で行なう場合を代表的に取り上げて説明すると、前
記の様にイオン化した金属成分をN2 雰囲気又はN2
CH4 雰囲気中で反応させる。カソードとしてはTi及
びAlをそれぞれ個別に使用することもできるが、目的
組成そのものからなるAlx Ti1-x をターゲットとす
れば、皮膜組成のコントロールが容易である。この場合
の各合金成分の蒸発は、数十アンペア以上の大電流域で
行なわれるため、カソード物質の組成ずれは殆んど生じ
ない。しかもイオン化効率が高く反応性に富み、基板に
バイアス電圧を印加することによって密着性の優れた皮
膜が得られる。
【0014】この様にして得られる皮膜の組成は (Alx Ti1-x)( Ny1-y ) 但し 0.56≦x≦0.75 0.6 ≦y≦1 であることが必要であり、好ましくは0.60≦x≦0.70で
ある。
【0015】上記皮膜組成からなる本発明の固溶体は、
これを窒化物系で代表して説明すると、AlN−TiN
を端組成とする固溶体であり、種々の成分範囲について
調べた結果、図1,2に示すような結晶構造分布を有す
ることが明らかとなった。図1において(P) はNaCl
型(B1構造)領域、(Q) はZnS型(ウルツァイト
型)領域である。即ち本発明の成分範囲は、図1,2か
ら明らかなように、B1構造を有する組成範囲内で、A
lNにTiNが25〜44モル%固溶した固溶体であ
る。
【0016】この範囲に限定した理由、特にAl量
(x)の上限を75モル%に設定した理由を述べると、
Al量(x)が増加するにつれてビッカース高度が上昇
し、x=0.75辺りで皮膜組成がAlNに近似してくる結
果、皮膜の軟質化を招き、フランク摩耗を容易に引き起
す。そのためx=0.75を上限と定めた。
【0017】一方Al量(x)の下限を56モル%に設
定した理由は、AlNの高耐酸化特性を有効に発揮する
ためである。即ち(Alx Ti1-x)N[但しx= 0,0.
25,0.5 ,0.6 ]を大気中,昇温速度5℃/分で昇温酸
化した場合の温度変化に対する酸化量の変化を測定した
ところ、図3に示す結果が得られた。図3よりAl量が
増加するにつれて酸化開始温度が上昇することがわか
る。一方工具切削中の刃先温度の上昇による皮膜の酸化
を十分に抑制する為には、切削熱によるクレータ摩耗量
を低下させる必要がある。この様な観点から図3を見る
と、できる限りAlN成分に富んだ組成範囲とすること
が有効であることがわかる。一方一般的な切削条件の下
では、工具刃先温度が800℃以上になるが、図3の△
印および〇印で示されるデータを総合的に考慮して、酸
化開始温度が800℃以上である様な膜組成はx≧0.56
であると判断した。
【0018】また本発明では、炭窒化物を形成すること
によってTiCの高硬度性(常温硬度Hv:約3100
kg/mm2)を発揮させるものである。即ち本発明の組成式
において、yの値が減少するにつれて硬度が大となり耐
摩耗性は向上する。図4は、超硬チップ(WC−10%
Coを主成分とするもの)に、(Al0.65Ti0.35
(Ny1-y )[但しy=0.4 ,0.6 ,0.8 ,0.9 ,
1]を3μm厚さになる様に被覆し、被削材S50Cを
切削速度170m/min ,送り速度0.25mm/rev ,切り込み
0.1mm で切削した時の15分後のクレータ摩耗量を測定
した結果を示す。この結果にみられるようにyが0.6 未
満になると耐酸化性が低下してクレータ摩耗を起こし易
くなる。y≧0.6 の範囲では耐酸化性の顕著な低下はみ
られない。
【0019】尚後述する実施例及び比較例から明らかな
様に、膜厚が0.8 μm未満の場合は耐摩耗性が不十分と
なり、一方10μmを超えると膜自体にクラックが入り
易くなって、強度が不十分となる。
【0020】以下実施例について説明するが、本発明は
下記の実施例に限定されるものではなく、前・後記の趣
旨に徴して適宜設計変更することは本発明の技術的範囲
に含まれる。
【0021】
【実施例】
実施例1 Al0.6 Ti0.4 をカソード電極とするカソードアーク
方式イオンプレーティング装置の基板ホルダーに超硬合
金製チップ(WC−10%Coを主成分とするもの)を
取付けた。尚本装置には、耐摩耗性皮膜形成状態の均一
性を確保する為に、基材回転機構等及びヒータを設置し
た。
【0022】成膜に当たっては、ヒータによって基材温
度を400℃に加熱保持したまま、基材に−70Vのバ
イアス電圧を印加すると共に、装置内に高純度N2 ガス
を7×10-3Torrまで導入し、アーク放電を開始して基材
表面に膜厚4μm の皮膜を形成した。膜厚の測定は、基
板ホルダーに同時に取り付けた基材の内の1個を破断
し、膜断面を走査型電子顕微鏡で観察して測定したもの
である。さらに膜組成の定量は、同じく同時に取り付け
た基材につきオージェ分光分析法により膜深さ方向の分
析を行なった。その結果Al,Ti,Nの膜厚さ方向に
は濃度変化がなく一定で、各成分元素のピーク高さか
ら、膜組成は(Al0.62Ti0.38)Nであった。膜中の
金属成分比Ti/Alはカソード成分比とずれがなく殆
んど同一と言える。
【0023】実施例2 Al0.7 Ti0.3 カソードを用いた以外は、実施例1と
同一条件で成膜を行なった。成膜した膜厚は3.8 μmで
あり、膜組成は(Al0.67Ti0.33) Nであった。
【0024】実施例3 反応性ガスとしてN2 /CH4 混合ガスを用いた以外は
実施例1と同一条件で成膜を行なった。成膜した膜厚は
4.3 μmであり、膜組成は(Al0.61Ti0.39)(N
0.70.3 )であった。
【0025】(比較例)比較の為次の試料を用意した。 比較例1 実施例1の基材に皮膜を形成しない試料 比較例2 Tiカソードを用いてN2 ガスを7×10-3Torrまで導入
し、実施例1と同一条件でTiNの成膜を行なった。成
膜した膜厚は4.3 μmであった。
【0026】比較例3 蒸発器の加熱源として電子ビーム(E.B.)を使用し
たイオンプレーティング装置を用いて、るつぼ内には、
実施例1で使用したカソード物質と同一組成のAl0.6
Ti0.4 固溶体を装入し、基板ホルダーには超硬合金製
チップを取り付けた。膜の均一性及び膜の密着性を確保
するため、基板回転機構等を設置すると共にヒーターを
設置した。成膜にあたってはヒーターにより基材温度を
400℃に加熱保持したまま、基材に−600Vのバイ
アス電圧を印加し、装置内に高純度N2 を7×10-4 T
orr まで導入しイオンプレーティング法により基材に成
膜を行なった。膜厚は4μmとした。さらに実施例1と
同様の分析方法により皮膜を分析した結果、AlとTi
の濃度比が膜厚方向に不均一で膜の成分比は特定できな
かった。特に基材と膜の界面にはAlの濃縮が観察さ
れ、E.B.溶解の初期にAlが優先的に蒸発付着した
ものと考えられる。
【0027】比較例4 実施例1と同一組成のカソード物質であるAl0.6 Ti
0.4 ターゲットを製作し、スパッタリング装置を用いて
Ar/N2 混合ガスによる反応性スパッタリング法にて
超硬チップに成膜を行なった。得られた膜厚は3μmで
あった。膜組成を分析した結果、平均として(Al0.78
Ti0.22)Nと判定された。Al成分が優先的にスパッ
タされたものと考えられる。
【0028】比較例5 カソード物質としてAl0.45Ti0.55ターゲットを製作
し、実施例1と同一条件で成膜を行なった。膜厚は4μ
mであり、膜組成は(Al0.42Ti0.58)Nであった。
【0029】比較例6 実施例1と同一のカソード、同一の条件で成膜を行なっ
た。膜厚は0.7 μmとし、膜組成は(Al0.64
0.36)Nであった。 比較例7 実施例1と同一カソード、同一条件で成膜を行なった。
膜厚は12μmとし、膜組成は(Al0.64Ti0.36)N
であった。
【0030】実施例1〜3及び比較例1〜7によって得
られた試料を、下記切削条件により10分間の切削試験
に供した。この時のフランク摩耗幅及びクレータ摩耗深
さを表1に示す。 切削条件: 被削材 S50C 切削速度 170m/min 送り速度 0.25 mm/rev 切り込み 0.1 mm
【0031】
【表1】
【0032】表1より明らかな様に、比較例に比べて本
発明例はいずれも耐摩耗性に優れていた。次に超硬ドリ
ルへの適用例を以下に示す。
【0033】実施例4 6mmφの(WC−8%Coを主成分とする)超硬ドリル
に実施例1と同一条件にて成膜を形成した。このときの
膜組成は(Al0.65Ti0.35)Nであり、膜厚は4.5 μ
mであった。
【0034】比較例として次の試料を用意した。 比較例8 6mmφの超硬ドリルに比較例5と同一条件にて成膜を形
成した。このときの膜組成は(Al0.46Ti0.54)Nで
あり、膜厚は4μmであった。 比較例9 6mmφの超硬ドリルに比較例2と同一条件でTiNを成
膜した。膜厚は5μmであった。
【0035】比較例10 6mmφの超硬ドリルに実施例4と同一条件で成膜を形成
した。膜組成は(Al 0.64Ti0.36)Nであり、膜厚を
0.7 μmとした。 比較例11 6mmφの超硬ドリルに比較例10と同一条件にて成膜
し、膜組成は(Al0.64Ti0.35)Nで膜厚は12μm
とした。
【0036】下記の切削条件で行なった結果を、穴明け
個数として表2に示す。 切削条件: 被削材 S50C,13mmt 切削速度 50m/min 送り速度 0.2 mm/rev 潤滑 エマルジョンによる
【0037】
【表2】
【0038】表2より明らかな様に本発明方法で得られ
た工具は、比較例に比べて加工個数の大幅な増加が認め
られ、耐摩耗性が良好であった。次にハイスドリルへの
適用例を以下に示す。
【0039】実施例5 6mmφハイスドリルに実施例1と同一条件にて成膜を形
成した。膜組成は(Al0.63Ti0.37)Nであり、膜厚
を5.5 μmとした。
【0040】比較例として次の試料を用意した。 比較例12 6mmφハイスドリルに比較例2と同一条件でTiNを成
膜した。膜厚は5μmであった。
【0041】比較例13 6mmφハイスドリルに比較例5と同一条件にて成膜を形
成した。膜組成は(Al0.43Ti0.57)Nであり、膜厚
を4.5 μmとした。 比較例14 6mmφハイスドリルに実施例4と同一条件で成膜を形成
した。膜組成は(Al 0.63Ti0.37)Nであり、膜厚を
13μmとした。
【0042】下記の切削条件で行なった結果を、穴明け
個数として表3に示す。 切削条件: 被削材 S50C,10mmt 切削速度 30m/min 送り速度 0.15mm/rev 潤滑 エマルジョンによる
【0043】
【表3】
【0044】表3より明らかな様に本発明方法で得られ
た工具は、比較例に比べて加工個数の大幅な増加がみら
れ、耐摩耗性が良好であった。
【0045】
【発明の効果】本発明は以上の様に構成されているの
で、工具表面に形成される皮膜組成が、TiNを基本と
する従来の(Ti,Al)Nと異なり、IIIb族の窒化物
であるAlNにTiが固溶したものである為、耐熱性,
熱伝導性等に関し、AlNに近似した優れた特性が発揮
され、しかも従来のイオンプレーティング法やスパッタ
リング法によって製造する場合よりも密着性,膜組成の
均一性及び生産効率の各面において優れた工具を製造す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の(Alx Ti1-x)N組成(窒化物で代
表)におけるAlNモル数と結晶構造の関係を示す図で
ある。
【図2】本発明の(Alx Ti1-x)N組成(窒化物で代
表)におけるat%Al,at%Ti,AlNモル数と
結晶構造の関係を示す図である。
【図3】(Alx Ti1-x)Nにおいてxを変化させた場
合の温度変化に対する酸化量の程度を示すグラフであ
る。
【図4】(Al0.65Ti0.35)(Ny1-y )において
yを変化させた時の超硬チップの切削時のクレータ摩耗
量を示す図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 工具の表面に耐摩耗性皮膜を形成して耐
    摩耗性に優れた工具を製造するに当たり、 (Alx Ti1-x)( Ny1-y ) 但し 0.56≦x≦0.75 0.6 ≦y≦1 で示される化学組成からなり、膜厚が0.8 〜10μmの
    耐摩耗性皮膜を、蒸発源としてカソードを用いるアーク
    放電方式によって形成することを特徴とする耐摩耗性に
    優れた工具を製造する方法。
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