JP5234926B2 - 硬質皮膜および硬質皮膜形成用ターゲット - Google Patents
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- C23C30/005—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process on hard metal substrates
Description
(TiaCrbAlcMdBe)(CxN1−x)からなり、
0≦a≦0.2、
0.05≦b≦0.4、
0.45≦c≦0.65、
0.005≦d≦0.05、
0≦e≦0.15、
a+b+c+d+e=1、
0≦x≦0.5、
M:Ce、PrおよびScよりなる群から選択される1種以上
(a,b,c,d,eは夫々Ti,Cr,Al,M,Bの原子比を示し、xはCの原子比を示す。)
を満たすところに特徴を有する。
(TiaCrbAlcMdRfBe)(CxN1−x)からなり、
0≦a≦0.2、
0.05≦b≦0.4、
0.45≦c≦0.65、
0.005≦d≦0.05、
0.01≦f≦0.1、
0≦e≦0.15、
a+b+c+d+e+f=1、
0≦x≦0.5、
M:Ce、PrおよびScよりなる群から選択される1種以上、
R:Siおよび/またはY
(a,b,c,d,f,eは夫々Ti,Cr,Al,M,R,Bの原子比を示し、xはCの原子比を示す。)
を満たすところに特徴を有する。
(TiaCrbM'dSifBe)(CxN1−x)からなり、
0.55≦a+b≦0.945、
0.005≦d≦0.05、
0.05≦f≦0.4、
0≦e≦0.15、
a+b+d+e+f=1、
0≦x≦0.5、
M’:Ce、Pr、ScおよびYよりなる群から選択される1種以上
(a,b,d,f,eは夫々Ti,Cr,M',Si,Bの原子比を示し、xはCの原子比を示す。尚、aおよびbは、一方が0であってもよい。)
を満たすところに特徴を有する。
TiaCrbAlcMdBeからなり、
0≦a≦0.2、
0.05≦b≦0.4、
0.45≦c≦0.65、
0.005≦d≦0.05、
0≦e≦0.15、
a+b+c+d+e=1、
M:Ce、PrおよびScよりなる群から選択される1種以上
(a,b,c,d,eは夫々Ti,Cr,Al,M,Bの原子比を示す。)
であるところに特徴を有する硬質皮膜形成用ターゲット;
前記第2の硬質皮膜を、アークイオンプレーティング法で形成するために用いるターゲットとして、
TiaCrbAlcMdRfBeからなり、
0≦a≦0.2、
0.05≦b≦0.4、
0.45≦c≦0.65、
0.005≦d≦0.05、
0.01≦f≦0.1、
0≦e≦0.15、
a+b+c+d+e+f=1、
M:Ce、PrおよびScよりなる群から選択される1種以上、
R:Siおよび/またはY
(a,b,c,d,f,eは夫々Ti,Cr,Al,M,R,Bの原子比を示す。)
であるところに特徴を有する硬質皮膜形成用ターゲット;
前記第3の硬質皮膜を、アークイオンプレーティング法で形成するために用いるターゲットとして、
TiaCrbM'dSifBeからなり、
0.55≦a+b≦0.945、
0.005≦d≦0.05、
0.05≦f≦0.4、
0≦e≦0.15、
a+b+d+e+f=1、
M’:Ce、Pr、ScおよびYよりなる群から選択される1種以上
(a,b,d,f,eは夫々Ti,Cr,M',Si,Bの原子比を示す。尚、aおよびbは、一方が0であってもよい。)
であるところに特徴を有する硬質皮膜形成用ターゲット;を規定する。
(TiaCrbAlcMdBe)(CxN1−x)からなり、
0≦a≦0.2、
0.05≦b≦0.4、
0.45≦c≦0.65、
0.005≦d≦0.05、
0≦e≦0.15、
a+b+c+d+e=1、
0≦x≦0.5、
M:Ce、PrおよびScよりなる群から選択される1種以上
(a,b,c,d,eは夫々Ti,Cr,Al,M,Bの原子比を示し、xはCの原子比を示す。以下、第1の硬質皮膜について同じ)
を満たすことを特徴とする硬質皮膜を規定する。
(TiaCrbAlcMdRfBe)(CxN1−x)からなり、
0≦a≦0.2、
0.05≦b≦0.4、
0.45≦c≦0.65、
0.005≦d≦0.05、
0.01≦f≦0.1、
0≦e≦0.15、
a+b+c+d+e+f=1、
0≦x≦0.5、
M:Ce、PrおよびScよりなる群から選択される1種以上、
R:Siおよび/またはY
(a,b,c,d,f,eは夫々Ti,Cr,Al,M,R,Bの原子比を示し、xはCの原子比を示す。以下、第2の硬質皮膜について同じ)
を満たすことを特徴とする硬質皮膜を規定する。
(TiaCrbM'dSifBe)(CxN1−x)からなり、
0.55≦a+b≦0.945、
0.005≦d≦0.05、
0.05≦f≦0.4、
0≦e≦0.15、
a+b+d+e+f=1、
0≦x≦0.5、
M’:Ce、Pr、ScおよびYよりなる群から選択される1種以上
(a,b,d,f,eは夫々Ti,Cr,M',Si,Bの原子比を示し、xはCの原子比を示す。尚、aおよびbは、一方が0であってもよい。以下、第3の硬質皮膜について同じ)
を満たすことを特徴とする硬質皮膜を規定する。
せるためのアーク電源8a,8bが配置されている。
TiaCrbAlcMdBeからなり、
0≦a≦0.2、
0.05≦b≦0.4、
0.45≦c≦0.65、
0.005≦d≦0.05、
0≦e≦0.15、
a+b+c+d+e=1、
M:Ce、PrおよびScよりなる群から選択される1種以上
(a,b,c,d,eは夫々Ti,Cr,Al,M,Bの原子比を示す。)
を満たし、形成しようとする硬質皮膜と同成分組成のものを用いるのがよい。
TiaCrbAlcMdRfBeからなり、
0≦a≦0.2、
0.05≦b≦0.4、
0.45≦c≦0.65、
0.005≦d≦0.05、
0.01≦f≦0.1、
0≦e≦0.15、
a+b+c+d+e+f=1、
M:Ce、PrおよびScよりなる群から選択される1種以上、
R:Siおよび/またはY
(a,b,c,d,f,eは夫々Ti,Cr,Al,M,R,Bの原子比を示す。)
を満たし、形成しようとする硬質皮膜と同成分組成のものを用いるのがよい。
TiaCrbM'dSifBeからなり、
0.55≦a+b≦0.945、
0.005≦d≦0.05、
0.05≦f≦0.4、
0≦e≦0.15、
a+b+d+e+f=1、
M’:Ce、Pr、ScおよびYよりなる群から選択される1種以上
(a,b,d,f,eは夫々Ti,Cr,M',Si,Bの原子比を示す。尚、aおよびbは、一方が0であってもよい。)
を満たし、形成しようとする硬質皮膜と同成分組成のものを用いるのがよい。
前記図1に示す装置を用いて、表1に示す成分組成の皮膜を形成し、耐酸化性、耐摩耗性の評価を行った。
白金基板上に成膜したサンプルを乾燥空気中で加熱し(昇温速度4℃/分)、酸化増量を測定することにより、各皮膜の酸化開始温度を決定した。
2枚刃の超硬合金製エンドミル(φ10mm)に成膜したサンプルを用いて、下記条件で切削試験を実施し、摩耗量を測定して耐摩耗性を評価した。
被削材:SKD11(HRC60)
切削速度:150m/分
刃送り:0.04mm/刃
軸切り込み:4.5mm
径方向切り込み:0.2mm
切削長:100m
その他:ダウンカット、ドライカット、エアブローのみ
本実施例では、第2の硬質皮膜の特性を評価すべく、第1の硬質皮膜である(Ti0.2Cr0.23Al0.55Sc0.02)N膜をベースにSiおよび/またはYを添加し、Siおよび/またはYの添加の効果を検証した。
本実施例では、第3の硬質皮膜の特性を評価すべく、表3に示す皮膜を実施例1と同様にして成膜し、ビッカース硬度の測定、耐酸化性および耐摩耗性の評価を実施例1と同様にして行った。これらの結果を表3に示す。
本実施例では、ターゲットの特性について、以下の通り評価を行った。即ち、ターゲットの製作に当たり、表4に示すターゲット組成となるよう各々Al、Cr、TiおよびMの粉末を不活性ガス(Ar)中でVミキサーにて混合した。使用したCr、Ti、AlおよびMの平均粒径は各々100メッシュ以下である。成形したターゲット中の酸素含有量は、原料粉末中に含まれる酸素量に依存することから、各々酸素含有量の異なる原料粉末を使用し、ターゲット成型品の酸素含有量を変化させた。
2 回転盤
3 回転テーブル
5 被処理体(基材)
6a,6b アーク蒸発源
7a,7b,7c,7d ヒータ
8a,8b アーク電源
9a,9b,9c,9d マスフローコントローラー
10 バイアス電源
11 フィラメント型イオン源
12 フィラメント加熱用交流電源
13 放電用直流電源
Claims (7)
- 基材の表面に形成される硬質皮膜であって、
(TiaCrbAlcMdBe)(CxN1−x)からなり、
0≦a≦0.2、
0.05≦b≦0.4、
0.45≦c≦0.65、
0.005≦d≦0.05、
0≦e≦0.15、
a+b+c+d+e=1、
0≦x≦0.5、
M:Ce、PrおよびScよりなる群から選択される1種以上
(a,b,c,d,eは夫々Ti,Cr,Al,M,Bの原子比を示し、xはCの原子比を示す。)
であることを特徴とする硬質皮膜。 - 基材の表面に形成される硬質皮膜であって、
(TiaCrbAlcMdRfBe)(CxN1−x)からなり、
0≦a≦0.2、
0.05≦b≦0.4、
0.45≦c≦0.65、
0.005≦d≦0.05、
0.01≦f≦0.1、
0≦e≦0.15、
a+b+c+d+e+f=1、
0≦x≦0.5、
M:Ce、PrおよびScよりなる群から選択される1種以上、
R:Siおよび/またはY
(a,b,c,d,f,eは夫々Ti,Cr,Al,M,R,Bの原子比を示し、xはCの原子比を示す。)
であることを特徴とする硬質皮膜。 - 前記Rは、Y、または、SiおよびYである請求項2に記載の硬質皮膜。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の硬質皮膜が基材の表面に形成されたものである治工具。
- 請求項1に記載の硬質皮膜を、アークイオンプレーティング法で形成するために用いるターゲットであって、
TiaCrbAlcMdBeからなり、
0≦a≦0.2、
0.05≦b≦0.4、
0.45≦c≦0.65、
0.005≦d≦0.05、
0≦e≦0.15、
a+b+c+d+e=1、
M:Ce、PrおよびScよりなる群から選択される1種以上
(a,b,c,d,eは夫々Ti,Cr,Al,M,Bの原子比を示す。)
であることを特徴とする硬質皮膜形成用ターゲット。 - 請求項2または3に記載の硬質皮膜を、アークイオンプレーティング法で形成するために用いるターゲットであって、
TiaCrbAlcMdRfBeからなり、
0≦a≦0.2、
0.05≦b≦0.4、
0.45≦c≦0.65、
0.005≦d≦0.05、
0.01≦f≦0.1、
0≦e≦0.15、
a+b+c+d+e+f=1、
M:Ce、PrおよびScよりなる群から選択される1種以上、
R:Siおよび/またはY
(a,b,c,d,f,eは夫々Ti,Cr,Al,M,R,Bの原子比を示す。)
であることを特徴とする硬質皮膜形成用ターゲット。 - 酸素含有量が0.3質量%以下である請求項5または6に記載のターゲット。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008114339A JP5234926B2 (ja) | 2008-04-24 | 2008-04-24 | 硬質皮膜および硬質皮膜形成用ターゲット |
US12/396,012 US8025990B2 (en) | 2008-04-24 | 2009-03-02 | Hard coating film and target for formation thereof |
EP09003302.8A EP2116628B1 (en) | 2008-04-24 | 2009-03-06 | Hard coating film and target for formation thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008114339A JP5234926B2 (ja) | 2008-04-24 | 2008-04-24 | 硬質皮膜および硬質皮膜形成用ターゲット |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012162725A Division JP5629291B2 (ja) | 2012-07-23 | 2012-07-23 | 硬質皮膜および硬質皮膜形成用ターゲット |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009263717A JP2009263717A (ja) | 2009-11-12 |
JP5234926B2 true JP5234926B2 (ja) | 2013-07-10 |
Family
ID=40548560
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008114339A Active JP5234926B2 (ja) | 2008-04-24 | 2008-04-24 | 硬質皮膜および硬質皮膜形成用ターゲット |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8025990B2 (ja) |
EP (1) | EP2116628B1 (ja) |
JP (1) | JP5234926B2 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5193153B2 (ja) * | 2009-10-02 | 2013-05-08 | 株式会社神戸製鋼所 | 硬質皮膜、塑性加工用金型、塑性加工方法、及び硬質皮膜用ターゲット |
JP5438665B2 (ja) * | 2010-02-16 | 2014-03-12 | 株式会社神戸製鋼所 | 硬質皮膜被覆部材、および、冶工具、並びに、ターゲット |
JP2012011393A (ja) | 2010-06-29 | 2012-01-19 | Kobe Steel Ltd | せん断用金型及びその製造方法 |
KR101979041B1 (ko) * | 2011-06-30 | 2019-05-15 | 오를리콘 서피스 솔루션스 아크티엔게젤샤프트, 페피콘 | 고성능 공구용 나노층 코팅 |
KR101823893B1 (ko) | 2012-10-04 | 2018-01-31 | 현대자동차주식회사 | 엔진 배기계 부품용 코팅재 및 이의 제조방법 |
JP6055324B2 (ja) * | 2013-01-29 | 2016-12-27 | 株式会社神戸製鋼所 | 軟質金属に対する耐凝着性に優れた硬質皮膜 |
KR101551963B1 (ko) | 2013-09-12 | 2015-09-10 | 현대자동차주식회사 | 알루미늄 다이캐스팅용 코팅재 및 이의 코팅방법 |
WO2017033527A1 (ja) * | 2015-08-24 | 2017-03-02 | ユケン工業株式会社 | 硬質皮膜および硬質皮膜形成用ターゲット |
JP6759467B2 (ja) * | 2017-11-30 | 2020-09-23 | 日本ピストンリング株式会社 | 摺動部材 |
US11447873B2 (en) | 2018-08-01 | 2022-09-20 | Osg Corporation | Hard coating and hard-coating-covered member |
KR102519787B1 (ko) * | 2018-08-01 | 2023-04-10 | 오에스지 가부시키가이샤 | 경질 피막 및 경질 피막 피복 부재 |
CN111519157B (zh) * | 2020-06-23 | 2021-06-11 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种Cr-Al-C系MAX相涂层的制备方法及其应用 |
CN113278859B (zh) * | 2021-05-21 | 2022-06-14 | 株洲思瑞普硬质合金有限公司 | 一种长使用寿命的硬质合金 |
CN113667929B (zh) * | 2021-07-02 | 2023-04-07 | 株洲钻石切削刀具股份有限公司 | 周期性多层涂层刀具及其制备方法 |
CN114752904A (zh) * | 2022-04-15 | 2022-07-15 | 东北大学 | 切削刀具用耐高温低摩擦TiAlTaCN涂层及其制备方法 |
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JPH02194159A (ja) | 1988-03-24 | 1990-07-31 | Kobe Steel Ltd | 耐摩耗性皮膜形成方法 |
DE19818782A1 (de) * | 1998-04-27 | 1999-10-28 | Muenz Wolf Dieter | Werkzeugbeschichtung und Verfahren zu deren Herstellung |
JP3084402B1 (ja) | 1999-04-14 | 2000-09-04 | 工業技術院長 | AlTi系合金スパッタリングターゲット及び耐摩耗性AlTi系合金硬質皮膜並びに同皮膜の形成方法 |
JP3394021B2 (ja) | 2000-06-30 | 2003-04-07 | 日立ツール株式会社 | 被覆切削工具 |
EP1698714B1 (en) | 2000-12-28 | 2009-09-02 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Target used to form a hard film |
JP4112834B2 (ja) * | 2000-12-28 | 2008-07-02 | 株式会社神戸製鋼所 | 切削工具用硬質皮膜を形成するためのターゲット |
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JP2002331407A (ja) | 2001-05-11 | 2002-11-19 | Hitachi Tool Engineering Ltd | 耐摩耗皮膜被覆工具 |
DE10212383A1 (de) * | 2002-03-20 | 2003-10-16 | Guehring Joerg | Verschleißschutzschicht für spanabhebende Werkzeuge, insbesondere für rotierende Zerspanwerkzeuge |
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JP4375527B2 (ja) | 2003-05-19 | 2009-12-02 | 三菱マテリアル株式会社 | 高速重切削条件で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具 |
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JP4713413B2 (ja) | 2006-06-30 | 2011-06-29 | 株式会社神戸製鋼所 | 硬質皮膜およびその製造方法 |
-
2008
- 2008-04-24 JP JP2008114339A patent/JP5234926B2/ja active Active
-
2009
- 2009-03-02 US US12/396,012 patent/US8025990B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2009-03-06 EP EP09003302.8A patent/EP2116628B1/en not_active Not-in-force
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2116628B1 (en) | 2013-10-02 |
JP2009263717A (ja) | 2009-11-12 |
US8025990B2 (en) | 2011-09-27 |
US20090269614A1 (en) | 2009-10-29 |
EP2116628A1 (en) | 2009-11-11 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120510 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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