JPH08203851A - 清浄化装置 - Google Patents

清浄化装置

Info

Publication number
JPH08203851A
JPH08203851A JP7011958A JP1195895A JPH08203851A JP H08203851 A JPH08203851 A JP H08203851A JP 7011958 A JP7011958 A JP 7011958A JP 1195895 A JP1195895 A JP 1195895A JP H08203851 A JPH08203851 A JP H08203851A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
foreign matter
brush
charged
charge
cleaning device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7011958A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasushi Inagaki
靖史 稲垣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP7011958A priority Critical patent/JPH08203851A/ja
Publication of JPH08203851A publication Critical patent/JPH08203851A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【目的】 表面に帯電異物が付着している清浄化対象を
確実に清浄化することのできる清浄化装置を提案する。 【構成】 清浄化対象1の表面に付着した帯電異物2を
除去するブラシ3と、そのブラシ3の表面に、帯電異物
2の表面の電荷の符号と逆の符号の電荷を帯電させる帯
電付与手段4と、ブラシ3に付着した帯電異物2を除去
する異物除去手段5とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、半導体ウェー
ハ等の清浄化対象を清浄化する清浄化装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウェーハの鏡面を洗浄液(薬品)
を用いて洗浄しても、確実に清浄化されていない場合が
多い。これを図5を参照して説明する。半導体ウェーハ
1の鏡面上に、例えば、負の電荷が帯電していた場合、
その鏡面上には、表面に正の電荷が帯電したゴミ、塵等
の異物2が付着する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】かかる帯電異物2は、
クーロン力によって半導体ウェーハ1の鏡面に吸着され
ているので、これを物理的、機械的に除去することは頗
る困難である。半導体ウェーハの鏡面上にこのような異
物が付着していると、半導体の歩留りや信頼性の低下に
繋がる。
【0004】かかる点に鑑み、本発明は、表面に帯電異
物が付着している清浄化対象を確実に清浄化することの
できる清浄化装置を提案しようとするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、清浄化対象の
表面に付着した帯電異物を除去するブラシと、そのブラ
シの表面に、帯電異物の表面の電荷の符号と逆の符号の
電荷を帯電させる帯電付与手段と、ブラシに付着した帯
電異物を除去する異物除去手段とを有することを特徴と
する清浄化装置である。
【0006】
【作用】かかる本発明によれば、清浄化対象の表面に付
着した帯電異物がブラシによって除去されてブラシに移
行し、そのブラシに移行した帯電異物が異物除去手段に
よって除去される。
【0007】
【実施例】以下に、図1を参照して、本発明の実施例を
詳細に説明する。1は清浄化対象としての半導体ウェー
ハ、2はその鏡面上に付着(静電的に吸着)しているゴ
ミ、塵等の帯電異物である。ここでは、異物2の表面上
に、例えば、正の電荷が帯電しているものとする。
【0008】3は円筒状の回転ブラシで、半導体ウェー
ハ1の鏡面上を清浄化するためのもので、その材料とし
ては、帯電異物2の電荷の符号に対し逆の符号の電荷、
即ち、負の電荷が、半導体ウェーハ1の鏡面上の電荷密
度に比べて充分高い荷密度を以て帯電するシリコンゴ
ム、テフロン、ポリプロピレン、ポリエチレン等の静電
気誘発材料からなり、ウェーハ1の鏡面を傷付けるおそ
れのない柔らかな布等が好適である。3Xはその回転ブ
ラシ3の回転軸で、モータ等の回転駆動手段によって駆
動される。4は円筒状の回転帯電付与体で、回転ブラシ
3の表面に負の電荷を帯電させるためのもので、負の電
荷が帯電するアスベスト、兎の毛、ガラス、ナイロン、
ウール、絹等の静電気誘発材料が使用される。4Xは回
転帯電付与体4の回転軸で、モータ等の回転駆動手段に
よって駆動される。
【0009】帯電付与体4によるブラシ3に対する帯電
付与は次のようにして行われる。帯電付与体4は、図示
せざるもアーム等に取付けられて、通常はブラシ3から
離間した位置4′にあり、必要時にブラシ3と転接する
ように移動せしめられる。ブラシ3が矢印bに示すよう
に、例えば、時計方向に回転するとき、それに応じて、
帯電付与体4が矢印cに示すように反時計方向に回転し
てブラシ3に転接し、両者の摩擦によって、ブラシ3の
周面に負の電荷が帯電せしめられる。尚、このとき、帯
電付与体4の周面には正の電荷が帯電せしめられる。矢
印b、cにて示す方向は、そのいずれか一方又は双方が
逆であっても良い。
【0010】ブラシ3によるウェーハ1の鏡面上の清浄
化は次のようにして行われる。ウェーハ1が、例えば、
矢印aに示すように左方向に移動すると共に、それに応
じて、ブラシ3が矢印bに示すように時計方向に回転し
て、ウェーハ1の鏡面に転接することによって、ウェー
ハ1の鏡面上に吸着されていた正の電荷が帯電した異物
2は、周面に負の電荷が帯電されたブラシ3によって吸
着されてその周面に付着され、ウェーハ1の鏡面は清浄
化される。その後、停電付与体4は元の位置4′に戻さ
れる。矢印a、bにて示す方向は、そのいずれか一方又
は双方が逆であっても良い。
【0011】5は円筒状の回転異物除去体で、ブラシ3
の周面に吸着された異物2を除去するためのもので、そ
の材料としては、負の電荷が帯電するシリコンゴム、テ
フロン、ポリプロピレン、ポリエチレン等の静電気誘発
材料が使用される。尚、この場合、ブラシ3の周面に帯
電する電荷の密度に比べて、異物除去体5の周面に帯電
する電荷の密度の方が高くなるように、両者の静電気誘
発材料が選択されるものとする。5Xは回転異物除去体
5の回転軸で、モータ等の回転駆動手段によって駆動さ
れる。
【0012】異物除去体5によるブラシ3に付着した異
物2の除去は次のようにして行われる。異物除去体5
は、図示せざるもアーム等に取付けられて、通常はブラ
シ3から離間した位置5′にあり、必要時にブラシ3と
転接するように移動せしめられる。ブラシ3が矢印b示
すように時計方向に回転するとき、異物除去体5が矢印
dに示すように反時計方向に回転して、ブラシ3に転接
することによって、ブラシ3の周面に付着している帯電
異物2を除去して、その異物2を周面に吸着させる。そ
の後は、異物除去体5は元の位置5′に戻される。矢印
b、dにて示す方向は、双方が逆であっても良い。
【0013】異物除去体5によって、ブラシ3の周面上
に付着した異物2を除去した後は、実際は元の位置5′
において、異物除去体5を、例えば、矢印dに示す方向
に回転させながら、その周面に電極7aを接触させ、導
線7b及びブラシ3の異物除去時はオフとなり、異物除
去体5からの異物2の除去時はオンとなるスイッチSW
を通じて、異物除去体5の表面の電荷を接地に流出させ
ながら、その周面にスプレー6によって、洗剤を含む水
等の液体を強力に吹きつけて、その異物2を除去する。
又、その代わりに、ノズルよりの空気等の気体を、異物
除去体5の表面に強力に吹き付けて、その異物2を除去
するようにしても良い。尚、電極7a及び導線7bに
て、電荷を接地に流出させる手段7を構成する。
【0014】尚、ブラシ3の周面に電荷を帯電させる帯
電付与体4は、図2に示すように、板状、シート状(ベ
ルト状も可)のものでも良く、その場合には、ブラシ3
を、例えば、矢印eに示すように時計方向に回転させ
て、固定された帯電付与体4に転接させることによっ
て、両者の摩擦により、ブラシ3の周面に電荷を帯電さ
せる。その場合に、帯電付与体4を左又は右方向に移動
させるようにしても良い。
【0015】又、ブラシ3の周面に付着した異物2を除
去させる帯電除去体5は、図3に示すように板状又はシ
ート状(ベルト状も可)のものでも良く、この場合は、
ブラシ3を、例えば、矢印fに示すように時計方向に回
転させて、例えば、矢印gに示すように左方向に移動す
る帯電除去体4に転接させることによって、ブラシ3の
周面の異物2を除去させる。尚、矢印f、gに示す方向
は、双方を逆にしても良い。
【0016】更に、図4に示す如く、ブラシ3を、例え
ば、矢印hに示すように反時計方向に回転させながら、
その周面に電極8aを接触させ、その電極8aを導線8
bを通じて接地して、ブラシ3の表面の電荷を接地に流
出させたながら、又は、ブラシ3の表面の電荷の接地へ
の流出を行わずに、容器9内に入れられた洗剤を含有す
る水等の異物除去液10内に漬けて、ブラシ3を洗浄し
て、異物2を除去するようにしても良い。この場合、ブ
ラシ3を異物除去液10に漬けて異物2を除去する代わ
りに、ブラシ3に対するスプレーよりの異物除去液の吹
き付けや、ノズルよりの空気等の気体の吹き付けも可能
である。尚、電極8a及び導線8bにて、電荷を接地に
流出させる手段8を構成する。
【0017】図4におけるブラシ3を、図1における異
物除去体5と置換し、その異物除去体5を、例えば、矢
印hに示すように反時計方向に回転させながら、その周
面に電極8aを接触させ、その電極8aを導線8bを通
じて接地して、異物除去体5の表面の電荷を接地に流出
させたながら、又は、異物除去体5の表面の電荷の接地
への流出を行わずに、容器9内に入れられた洗剤を含有
する水等の異物除去液10内に漬けて、異物除去体5を
洗浄して、異物2を除去するようにしても良い。この場
合、異物除去体5を異物除去液10に漬けて異物2を除
去する代わりに、異物除去体5に対するスプレーよりの
異物除去液の吹き付けや、ノズルよりの空気等の気体の
吹き付けも可能である。尚、電極8a及び導線8bに
て、電荷を接地に流出させる手段8を構成する。
【0018】尚、清浄化対象としては、半導体ウェーハ
に限られるものではなく、帯電異物が付着する種々のも
のが可能である。
【0019】
【発明の効果】本発明清浄化装置によれば、清浄化対象
の表面に付着した帯電異物を除去するブラシと、そのブ
ラシの表面に、帯電異物の表面の電荷の符号と逆の符号
の電荷を帯電させる帯電付与手段と、ブラシに付着した
帯電異物を除去する異物除去手段とを有するので、表面
に帯電異物が付着している清浄化対象を確実に清浄化す
ることができると共に、ブラシに付着した帯電異物は、
異物除去手段によって除去されるので、ブラシに帯電異
物が蓄積されることがなく、このため、ブラシによる清
浄化能力の低下がなく、しかも、ブラシによる清浄化対
象の清浄化の繰り返しによって清浄化対象が汚染される
おそれはなくなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示す配置図である。
【図2】帯電付与の他の例を示す配置図である。
【図3】異物除去の他の例を示す配置図である。
【図4】異物除去の他の例を示す配置図である。
【図5】ウェーハ上の帯電異物の説明図である。
【符号の説明】
1 ウェーハ 2 異物 3 ブラシ 4 帯電付与体 5 異物除去体 6 スプレー 7 電荷を接地に流出させる手段 7a 電極 7b 導線 SW スイッチ 8 電荷を接地に流出させる手段 8a 電極 8b 導線 9 容器 10 異物除去液

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 清浄化対象の表面に付着した帯電異物を
    除去するブラシと、 該ブラシの表面に、上記帯電異物の表面の電荷の符号と
    逆の符号の電荷を帯電させる帯電付与手段と、 上記ブラシに付着した帯電異物を除去する異物除去手段
    とを有することを特徴とする清浄化装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の清浄化装置において、 上記異物除去手段は、上記帯電異物の表面の電荷の符号
    と逆の符号の電荷が表面に帯電せしめられ、上記ブラシ
    の表面に接触してその表面の帯電異物を除去する異物除
    去体であるあることを特徴とする清浄化装置。
  3. 【請求項3】 請求項1に記載の清浄化装置において、 上記異物除去手段は、上記ブラシに付着した帯電異物を
    除去する液体であることを特徴とする清浄化装置。
  4. 【請求項4】 請求項3に記載の清浄化装置において、 上記異物除去手段は、上記ブラシの表面の電荷を接地に
    流出させる手段を含むことを特徴とする清浄化装置。
JP7011958A 1995-01-27 1995-01-27 清浄化装置 Pending JPH08203851A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7011958A JPH08203851A (ja) 1995-01-27 1995-01-27 清浄化装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7011958A JPH08203851A (ja) 1995-01-27 1995-01-27 清浄化装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08203851A true JPH08203851A (ja) 1996-08-09

Family

ID=11792134

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7011958A Pending JPH08203851A (ja) 1995-01-27 1995-01-27 清浄化装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH08203851A (ja)

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10223584A (ja) * 1997-02-07 1998-08-21 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板洗浄装置
WO2008111184A1 (ja) * 2007-03-14 2008-09-18 Fujitsu Microelectronics Limited 半導体製造装置とそのクリーニング方法、及びクリーニング用ウエハ
JP2010099565A (ja) * 2008-10-22 2010-05-06 Bando Chem Ind Ltd クリーニングシステム
WO2010109755A1 (ja) * 2009-03-23 2010-09-30 バンドー化学株式会社 クリーニングシステム
WO2011099307A1 (ja) * 2010-02-15 2011-08-18 バンドー化学株式会社 クリーニング装置
WO2011158504A1 (ja) * 2010-06-17 2011-12-22 バンドー化学株式会社 クリーニングシステム
WO2012111302A1 (ja) * 2011-02-15 2012-08-23 バンドー化学株式会社 クリーニング装置
JP2014025985A (ja) * 2012-07-24 2014-02-06 Fuji Xerox Co Ltd 粉体粒子回収装置及び画像形成装置
WO2015108003A1 (ja) * 2014-01-20 2015-07-23 バンドー化学株式会社 クリーニング装置
JPWO2013183248A1 (ja) * 2012-06-06 2016-01-28 バンドー化学株式会社 クリーニング装置
CN106166553A (zh) * 2015-05-22 2016-11-30 阪东化学株式会社 清洁装置
US9659795B2 (en) 2012-01-27 2017-05-23 Mitsubishi Electric Corporation Foreign matter removal device and foreign matter removal method
JP2017104868A (ja) * 2017-03-14 2017-06-15 バンドー化学株式会社 クリーニング装置
JP2017216265A (ja) * 2016-05-30 2017-12-07 リンテック株式会社 シート貼付装置および貼付方法
CN110756519A (zh) * 2019-11-01 2020-02-07 淮阴师范学院 一种用于电气自动化设备的除尘装置

Cited By (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10223584A (ja) * 1997-02-07 1998-08-21 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板洗浄装置
WO2008111184A1 (ja) * 2007-03-14 2008-09-18 Fujitsu Microelectronics Limited 半導体製造装置とそのクリーニング方法、及びクリーニング用ウエハ
JP2010099565A (ja) * 2008-10-22 2010-05-06 Bando Chem Ind Ltd クリーニングシステム
WO2010109755A1 (ja) * 2009-03-23 2010-09-30 バンドー化学株式会社 クリーニングシステム
JP5605813B2 (ja) * 2009-03-23 2014-10-15 バンドー化学株式会社 クリーニングシステム
TWI483789B (zh) * 2009-03-23 2015-05-11 Bando Chemical Ind Clean system
CN102361703A (zh) * 2009-03-23 2012-02-22 阪东化学株式会社 清洁系统
KR101523693B1 (ko) * 2009-03-23 2015-05-28 반도 카가쿠 가부시키가이샤 클리닝 시스템
US8479338B2 (en) 2010-02-15 2013-07-09 Bando Kagaku Kabushiki Kaisha Cleaning device
JP4886097B2 (ja) * 2010-02-15 2012-02-29 バンドー化学株式会社 クリーニング装置
CN102725076A (zh) * 2010-02-15 2012-10-10 阪东化学株式会社 洁净装置
KR101253659B1 (ko) * 2010-02-15 2013-04-11 반도 카가쿠 가부시키가이샤 클리닝 장치
TWI408012B (zh) * 2010-02-15 2013-09-11 Bando Chemical Ind Clean device
WO2011099307A1 (ja) * 2010-02-15 2011-08-18 バンドー化学株式会社 クリーニング装置
JP5015365B2 (ja) * 2010-06-17 2012-08-29 バンドー化学株式会社 クリーニングシステム
CN102933323A (zh) * 2010-06-17 2013-02-13 阪东化学株式会社 洁净系统
KR101271040B1 (ko) * 2010-06-17 2013-06-04 반도 카가쿠 가부시키가이샤 클리닝 시스템
CN102933323B (zh) * 2010-06-17 2014-07-02 阪东化学株式会社 洁净系统
TWI406716B (zh) * 2010-06-17 2013-09-01 Bando Chemical Ind Clean system
WO2011158504A1 (ja) * 2010-06-17 2011-12-22 バンドー化学株式会社 クリーニングシステム
WO2012111302A1 (ja) * 2011-02-15 2012-08-23 バンドー化学株式会社 クリーニング装置
CN103347621A (zh) * 2011-02-15 2013-10-09 阪东化学株式会社 洁净装置
JP5044061B1 (ja) * 2011-02-15 2012-10-10 バンドー化学株式会社 クリーニング装置
US9659795B2 (en) 2012-01-27 2017-05-23 Mitsubishi Electric Corporation Foreign matter removal device and foreign matter removal method
JPWO2013183248A1 (ja) * 2012-06-06 2016-01-28 バンドー化学株式会社 クリーニング装置
JP2014025985A (ja) * 2012-07-24 2014-02-06 Fuji Xerox Co Ltd 粉体粒子回収装置及び画像形成装置
WO2015108003A1 (ja) * 2014-01-20 2015-07-23 バンドー化学株式会社 クリーニング装置
CN106166553A (zh) * 2015-05-22 2016-11-30 阪东化学株式会社 清洁装置
JP2016215155A (ja) * 2015-05-22 2016-12-22 バンドー化学株式会社 クリーニング装置
JP2017216265A (ja) * 2016-05-30 2017-12-07 リンテック株式会社 シート貼付装置および貼付方法
JP2017104868A (ja) * 2017-03-14 2017-06-15 バンドー化学株式会社 クリーニング装置
CN110756519A (zh) * 2019-11-01 2020-02-07 淮阴师范学院 一种用于电气自动化设备的除尘装置
CN110756519B (zh) * 2019-11-01 2020-09-15 淮阴师范学院 一种用于电气自动化设备的除尘装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH08203851A (ja) 清浄化装置
US2752271A (en) Electrostatic cleaning of xerographic plates
JP5148508B2 (ja) 半導体基板を洗浄するための方法および装置
KR960011595A (ko) 화상형성장치 및 그에 사용되는 소제장치
US20010035195A1 (en) Cleaning system and a method of cleaning
US4903081A (en) Transfer device
US4854441A (en) Bottle duster
JP3050689B2 (ja) 感光体クリーニング方法および装置
JPH10223583A (ja) ブラシ式洗浄装置
JPH08185099A (ja) クリーニング装置
JP4738665B2 (ja) 使用済み電子写真ユニットの洗浄方法及び洗浄装置
CN111584340B (zh) 晶圆的清洗方法
JP3140520B2 (ja) 付着微粒子の除去方法
JPH06254522A (ja) 除電式除塵装置
US6818604B2 (en) System and method for cleaning workpieces
JP2003117512A (ja) 洗浄メディアクリーニング装置および洗浄メディアクリーニング方法
JP2003093986A (ja) 洗浄方法及び洗浄装置
JPH09102444A (ja) 基板処理装置
JP2002055436A (ja) フォトマスク上の異物除去装置
JPH08139215A (ja) 半導体装置の捺印方法及び捺印装置
JPS63301983A (ja) クリ−ニングロ−ラ
JPH0358075A (ja) 画像形成装置のクリーニング装置
JP2002268383A (ja) 電子写真ユニットの洗浄方法
JPH05273846A (ja) 画像形成装置
JPH0545726U (ja) 画像形成装置