JPH08201862A - 高調波レーザ光発生装置 - Google Patents
高調波レーザ光発生装置Info
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- JPH08201862A JPH08201862A JP7007565A JP756595A JPH08201862A JP H08201862 A JPH08201862 A JP H08201862A JP 7007565 A JP7007565 A JP 7007565A JP 756595 A JP756595 A JP 756595A JP H08201862 A JPH08201862 A JP H08201862A
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- Japan
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- harmonic
- optical crystal
- linear optical
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/35—Non-linear optics
- G02F1/353—Frequency conversion, i.e. wherein a light beam is generated with frequency components different from those of the incident light beams
- G02F1/3534—Three-wave interaction, e.g. sum-difference frequency generation
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/35—Non-linear optics
- G02F1/3501—Constructional details or arrangements of non-linear optical devices, e.g. shape of non-linear crystals
- G02F1/3507—Arrangements comprising two or more nonlinear optical devices
-
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 非線形光学結晶（ＫＴＰ）（１）と、非線形
光学結晶（ＢＢＯ）（２）とを、入力ミラー（４）と出
力ミラー（５）との間に設置し、出力ミラーを振動子に
より振動させる。 【効果】 レーザー発振器の内部に二つの非線形光学結
晶を設置し、従来の方法によりはるかに簡便な方法で、
効率的に基本波の３倍または４倍の高調波光を発生させ
ることが可能となる。その結果、紫外レーザーの長寿命
化、小型化、および、低製造コスト化が実現され、さら
に、機械的に振動に対しても安定に紫外レーザーを発生
することが可能となる。
光学結晶（ＢＢＯ）（２）とを、入力ミラー（４）と出
力ミラー（５）との間に設置し、出力ミラーを振動子に
より振動させる。 【効果】 レーザー発振器の内部に二つの非線形光学結
晶を設置し、従来の方法によりはるかに簡便な方法で、
効率的に基本波の３倍または４倍の高調波光を発生させ
ることが可能となる。その結果、紫外レーザーの長寿命
化、小型化、および、低製造コスト化が実現され、さら
に、機械的に振動に対しても安定に紫外レーザーを発生
することが可能となる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、高調波レーザー光発
生装置に関するものである。さらに詳しくは、この発明
は、紫外レーザー造形や高精密レーザー加工、レーザー
計測、医学等において有用な小型紫外レーザー装置を実
現することのできる新しい高調波レーザー光発生装置に
関するものである。
生装置に関するものである。さらに詳しくは、この発明
は、紫外レーザー造形や高精密レーザー加工、レーザー
計測、医学等において有用な小型紫外レーザー装置を実
現することのできる新しい高調波レーザー光発生装置に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術と課題】従来から、光造形や計測、精密加
工、医学分野などにおいて、レーザー光が利用されてい
ることは、周知の通りであり、紫外レーザー光を利用す
る技術についても多くの工夫がなされてきた。紫外レー
ザー光装置については、現在までに一般的に、２つのタ
イプが知られており、その一つは、エキシマレーザー装
置であって、強い電場を用いて、たとえば希ガスとハロ
ゲンガスとを放電して紫外光を得るものである。
工、医学分野などにおいて、レーザー光が利用されてい
ることは、周知の通りであり、紫外レーザー光を利用す
る技術についても多くの工夫がなされてきた。紫外レー
ザー光装置については、現在までに一般的に、２つのタ
イプが知られており、その一つは、エキシマレーザー装
置であって、強い電場を用いて、たとえば希ガスとハロ
ゲンガスとを放電して紫外光を得るものである。
【０００３】もう一つは、固体のＹＡＧレーザー装置で
あり、非線形光学結晶を用いて波長変換を行い、ＹＡＧ
レーザーの第３高調波（３５５ｎｍ）、または、第４高
調波光（２６６ｎｍ）を発生させることを特徴としてい
る。しかしながら、このいずれの従来装置の場合にも、
その構成は大型であって、高コストにならざるを得ない
という問題がある。また、長寿命の紫外レーザー光を得
ることも従来では困難であった。
あり、非線形光学結晶を用いて波長変換を行い、ＹＡＧ
レーザーの第３高調波（３５５ｎｍ）、または、第４高
調波光（２６６ｎｍ）を発生させることを特徴としてい
る。しかしながら、このいずれの従来装置の場合にも、
その構成は大型であって、高コストにならざるを得ない
という問題がある。また、長寿命の紫外レーザー光を得
ることも従来では困難であった。
【０００４】たとえば、連続発振のＹＡＧレーザー装置
においては、紫外光を効率的に発生するためには第２高
調波光（５３２ｎｍ）を共振させる必要があるが、この
共振のためには大がかりな電気的フィードバックシステ
ムを用いた外部共振器型の装置をもう一つの共振器とし
て使用するほかになかった。このダブルキャビティ型の
パルスＹＡＧレーザー装置は、たとえば、図１に例示し
た構造を有しており、第２高調波光を発生させるための
共振器（１００）と、第４高調波光を発生させるための
共振器（１０１）、または、第３高調波光を発生させる
ための共振器とを備え、第２高調波光を発生させるため
の共振器（１００）は、非線形光学結晶（ＫＴＰ）（１
０３）、入力ミラー（１０４）、および出力ミラー（１
０５）とから構成されている。また、第４高調波光を発
生させるための共振器（１０１）は、非線形光学結晶
（ＢＢＯ）（１０６）、入力ミラー（１０４）、および
出力ミラー（１０５）とから構成されている。
においては、紫外光を効率的に発生するためには第２高
調波光（５３２ｎｍ）を共振させる必要があるが、この
共振のためには大がかりな電気的フィードバックシステ
ムを用いた外部共振器型の装置をもう一つの共振器とし
て使用するほかになかった。このダブルキャビティ型の
パルスＹＡＧレーザー装置は、たとえば、図１に例示し
た構造を有しており、第２高調波光を発生させるための
共振器（１００）と、第４高調波光を発生させるための
共振器（１０１）、または、第３高調波光を発生させる
ための共振器とを備え、第２高調波光を発生させるため
の共振器（１００）は、非線形光学結晶（ＫＴＰ）（１
０３）、入力ミラー（１０４）、および出力ミラー（１
０５）とから構成されている。また、第４高調波光を発
生させるための共振器（１０１）は、非線形光学結晶
（ＢＢＯ）（１０６）、入力ミラー（１０４）、および
出力ミラー（１０５）とから構成されている。
【０００５】この構成において、レーザー発振部（Ｌ
Ｄ）（１０７）からの励起レーザー光ω’（１０２）で
共振器（１００）内で、ＹＡＧレーザー媒質（１１０）
を励起し、基本波光ω（１１１）を発振させ同一共振器
（１００）内で、第２高調波光（１０８）をつくり、さ
らに、その第２高調波光（１０８）は、第４高調波光
（１０９）となる。
Ｄ）（１０７）からの励起レーザー光ω’（１０２）で
共振器（１００）内で、ＹＡＧレーザー媒質（１１０）
を励起し、基本波光ω（１１１）を発振させ同一共振器
（１００）内で、第２高調波光（１０８）をつくり、さ
らに、その第２高調波光（１０８）は、第４高調波光
（１０９）となる。
【０００６】しかしながら、このような従来の紫外レー
ザー装置においては、紫外光を効率的に、かつ、安定的
に発生するためには、基本波の安定化、および、共振器
（１００）で発生した第２高調波光を共振器（１０１）
に導入し、第４高調波光を高効率で発生させるために共
振器（１０１）を共振させなければならず、ミラー（１
０５）をフィードバック機構により微調整しなければな
らず、その構造は非常に複雑となり、その結果、装置も
巨大化してしまう。
ザー装置においては、紫外光を効率的に、かつ、安定的
に発生するためには、基本波の安定化、および、共振器
（１００）で発生した第２高調波光を共振器（１０１）
に導入し、第４高調波光を高効率で発生させるために共
振器（１０１）を共振させなければならず、ミラー（１
０５）をフィードバック機構により微調整しなければな
らず、その構造は非常に複雑となり、その結果、装置も
巨大化してしまう。
【０００７】このように、従来の紫外レーザー装置は、
非常に複雑かつ大型であり、製造コストが非常に高いの
が現状である。このため、これまでは小型化、低製造コ
スト、および、長寿命な紫外レーザーを得ることが可能
な紫外レーザー装置はいまだ実現されていない。この発
明は、以上の通りの従来技術の欠点を解消し、小型化、
低製造コスト、および長寿命な紫外レーザーを得ること
が可能な、新しい高調波レーザー光発生装置を提供する
ことを目的としている。
非常に複雑かつ大型であり、製造コストが非常に高いの
が現状である。このため、これまでは小型化、低製造コ
スト、および、長寿命な紫外レーザーを得ることが可能
な紫外レーザー装置はいまだ実現されていない。この発
明は、以上の通りの従来技術の欠点を解消し、小型化、
低製造コスト、および長寿命な紫外レーザーを得ること
が可能な、新しい高調波レーザー光発生装置を提供する
ことを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記の課題
を解決するために、一つの共振器内に二つの非線形光学
結晶を配置し、共振器の出力ミラーを振動させることと
したレーザー光発生装置であって、非線形光学結晶の一
つは第２高調波を発生させ、もう一つの非線形光学結晶
で第３高調波もしくは第４高調波を発生させることを特
徴とする高調波レーザー光発生装置を提供する。
を解決するために、一つの共振器内に二つの非線形光学
結晶を配置し、共振器の出力ミラーを振動させることと
したレーザー光発生装置であって、非線形光学結晶の一
つは第２高調波を発生させ、もう一つの非線形光学結晶
で第３高調波もしくは第４高調波を発生させることを特
徴とする高調波レーザー光発生装置を提供する。
【０００９】
【作用】この発明においては、上記の構成により基本波
と第２高調波光との共振を、同一共振器内で共振器の出
力ミラーを振動させることにより実現する。第２高調波
光を周期的に共振させることにより得られる第３高調波
光、または第４高調波光はパルスであり、その周期は、
振動子の振動周期を調節することにより、変えることが
可能である。
と第２高調波光との共振を、同一共振器内で共振器の出
力ミラーを振動させることにより実現する。第２高調波
光を周期的に共振させることにより得られる第３高調波
光、または第４高調波光はパルスであり、その周期は、
振動子の振動周期を調節することにより、変えることが
可能である。
【００１０】つまり、この発明においては、ミラーの周
期的振動により、共振器長が周期的に変化するが、これ
により、基本波光はほとんど出力変動を伴わない。これ
に対して、第１の結晶により発生した第２高調波光は周
期的に共振することによりパルス的に強く発生し、この
結果、第２の非線形結晶により、第３高調波光、または
第４高調波光をパルスで効率的に発生できる。
期的振動により、共振器長が周期的に変化するが、これ
により、基本波光はほとんど出力変動を伴わない。これ
に対して、第１の結晶により発生した第２高調波光は周
期的に共振することによりパルス的に強く発生し、この
結果、第２の非線形結晶により、第３高調波光、または
第４高調波光をパルスで効率的に発生できる。
【００１１】この発明による基本波光、第２高調波光、
第４高調波光の時間的発生を模式的に示したものが図２
である。一般的に、高調波発生装置においては、基本波
を安定させるために共振器長を変化させることは避ける
べきことであったが、この発明においては、従来の慣例
を破って、共振器をあえて振動させる方法を採用してい
る。
第４高調波光の時間的発生を模式的に示したものが図２
である。一般的に、高調波発生装置においては、基本波
を安定させるために共振器長を変化させることは避ける
べきことであったが、この発明においては、従来の慣例
を破って、共振器をあえて振動させる方法を採用してい
る。
【００１２】その理由は、例えば、マイクロチップレー
ザーとして、Ｎｄ：ＹＶＯ4 を用いた場合、その発振モ
ード間隔はマイクロチップの厚さで決められ、共振器長
の変化によりモード間隔の変化がほとんど見られないの
で、発振モードの波長シフトと強度変化は比較的小さい
からである。つまり、第２高調波光が周期的に共振して
も、基本波光の波長と強度変化は無視できる。したがっ
て、共振器を周期的に共振させても、安定な紫外パルス
が得られる。
ザーとして、Ｎｄ：ＹＶＯ4 を用いた場合、その発振モ
ード間隔はマイクロチップの厚さで決められ、共振器長
の変化によりモード間隔の変化がほとんど見られないの
で、発振モードの波長シフトと強度変化は比較的小さい
からである。つまり、第２高調波光が周期的に共振して
も、基本波光の波長と強度変化は無視できる。したがっ
て、共振器を周期的に共振させても、安定な紫外パルス
が得られる。
【００１３】そして、この発明においては、この紫外パ
ルスの発生周期は、振動子に用いているＰＺＴ等の圧電
素子における電気的周期を変えることにより変更が可能
である。
ルスの発生周期は、振動子に用いているＰＺＴ等の圧電
素子における電気的周期を変えることにより変更が可能
である。
【００１４】
【実施例】小型紫外レーザー装置としての高調波レーザ
ー光発生装置は、たとえば図３に例示したものを一つの
態様として示すことができる。この図３において、装置
には、半導体レーザー励起マイクロチップ固体レーザー
（Ｎｄ：ＹＶＯ4 やＮｄ：ＹＡＧなど）を発振器として
用いている。
ー光発生装置は、たとえば図３に例示したものを一つの
態様として示すことができる。この図３において、装置
には、半導体レーザー励起マイクロチップ固体レーザー
（Ｎｄ：ＹＶＯ4 やＮｄ：ＹＡＧなど）を発振器として
用いている。
【００１５】発振器の両端面はミラーになっており、図
の左側は基本波用共振器の入力ミラーＭ１（４）で、左
側Ｍ３（６）は基本波に対して無反射になっているが
、第２高調波光に対しては高反射ミラーになってい
る。また、この装置では、非線形光学結晶（ＫＴＰ）
（１）と、非線形光学結晶（ＢＢＯ）（２）とを、入力
ミラーＭ１（４）と出力ミラーＭ２（５）との間に設置
する。
の左側は基本波用共振器の入力ミラーＭ１（４）で、左
側Ｍ３（６）は基本波に対して無反射になっているが
、第２高調波光に対しては高反射ミラーになってい
る。また、この装置では、非線形光学結晶（ＫＴＰ）
（１）と、非線形光学結晶（ＢＢＯ）（２）とを、入力
ミラーＭ１（４）と出力ミラーＭ２（５）との間に設置
する。
【００１６】Ｍ２（５）は基本波光に対しても第２高調
波光に対しても高反射になっているが、第４高調波光に
対しては低反射率になっており、第４高調波の出力光は
Ｍ２（５）から取り出される。基本波光に対してはＭ１
（４）とＭ２（５）が共振器を構成しており、第２高調
波光に対してはＭ３（６）とＭ２（５）が共振器を構成
している。一般に固体レーザー媒質（３）は第２高調波
光に対して吸収があるため、強い第２高調波を発生させ
るために、基本波光用と第２高調波光用のミラーは変え
た方がよい。Ｍ２（５）にはたとえば圧電素子ＰＺＴが
つけてあり、振動できるようになっている。
波光に対しても高反射になっているが、第４高調波光に
対しては低反射率になっており、第４高調波の出力光は
Ｍ２（５）から取り出される。基本波光に対してはＭ１
（４）とＭ２（５）が共振器を構成しており、第２高調
波光に対してはＭ３（６）とＭ２（５）が共振器を構成
している。一般に固体レーザー媒質（３）は第２高調波
光に対して吸収があるため、強い第２高調波を発生させ
るために、基本波光用と第２高調波光用のミラーは変え
た方がよい。Ｍ２（５）にはたとえば圧電素子ＰＺＴが
つけてあり、振動できるようになっている。
【００１７】半導体レーザー発振器（７）より発振し
た、たとえば、８０８ｎｍの励起光は入力ミラーＭ１
（４）から入り、レーザー媒質（３）を励起し、その結
果１０６４ｎｍの基本波光が入力ミラーＭ１（４）、出
力ミラーＭ２（５）の間で連続発振する。この基本波光
は、ＫＴＰ非線形光学結晶（１）を透過し、第２高調波
光（５３２ｎｍ）を発生する。さらに、この第２高調波
光（５３２ｎｍ）は、その後、ＢＢＯ非線形光学結晶
（２）を通過し、第３高調波光（３５５ｎｍ）または、
図２に示したように、第４高調波光（２６６ｎｍ）を発
生させる。
た、たとえば、８０８ｎｍの励起光は入力ミラーＭ１
（４）から入り、レーザー媒質（３）を励起し、その結
果１０６４ｎｍの基本波光が入力ミラーＭ１（４）、出
力ミラーＭ２（５）の間で連続発振する。この基本波光
は、ＫＴＰ非線形光学結晶（１）を透過し、第２高調波
光（５３２ｎｍ）を発生する。さらに、この第２高調波
光（５３２ｎｍ）は、その後、ＢＢＯ非線形光学結晶
（２）を通過し、第３高調波光（３５５ｎｍ）または、
図２に示したように、第４高調波光（２６６ｎｍ）を発
生させる。
【００１８】そして、出力ミラーＭ２（５）を、たとえ
ば、圧電素子などの振動子（６）を用いて、周期的に振
動させる。これによって、基本波光の出力を変動させる
ことなしに、周期的に第２高調波光に対して共振させる
ことできる。
ば、圧電素子などの振動子（６）を用いて、周期的に振
動させる。これによって、基本波光の出力を変動させる
ことなしに、周期的に第２高調波光に対して共振させる
ことできる。
【００１９】
【発明の効果】以上詳しく説明した通り、この発明によ
り、レーザー発振器の内部に二つの非線形光学結晶を設
置し、従来の方法によりはるかに簡便な方法で、効率的
に基本波の３倍または４倍の高調波光を発生させること
が可能となる。その結果、紫外レーザーの長寿命化、小
型化、および、低製造コスト化が実現され、さらに、機
械的に振動に対しても安定に紫外レーザーを発生するこ
とが可能となる。
り、レーザー発振器の内部に二つの非線形光学結晶を設
置し、従来の方法によりはるかに簡便な方法で、効率的
に基本波の３倍または４倍の高調波光を発生させること
が可能となる。その結果、紫外レーザーの長寿命化、小
型化、および、低製造コスト化が実現され、さらに、機
械的に振動に対しても安定に紫外レーザーを発生するこ
とが可能となる。
【図１】従来の紫外レーザー装置を示した概略図であ
る。
る。
【図２】この発明の紫外レーザー装置において、時間と
波の強さとの関係を示した関係図である。
波の強さとの関係を示した関係図である。
【図３】この発明の紫外レーザー装置を示した概略図で
ある。
ある。
１ 非線形光学結晶（ＫＴＰ） ２ 非線形光学結晶（ＢＢＯ） ３ レーザー媒質 ４ 入力ミラー ５ 出力ミラー ６ 第２高調波用ミラーＭ３ ７ 半導体レーザー ８ 振動子 １００ 共振器 １０１ 共振器 １０２ 励起レーザー光ω’ １０３ 非線形光学結晶（ＫＴＰ） １０５ 出力ミラー １０６ 非線形光学結晶（ＫＴＰ） １０７ レーザー発振部（ＬＤ） １０８ 第２高調波光 １０９ 第４高調波光 １１０ ＹＡＧレーザー媒質 １１１ 基本波光ω
Claims (1)
- 【請求項１】 一つの共振器内に二つの非線形光学結晶
を配置し、共振器の出力ミラーを振動させることとした
レーザ光発生装置であって、非線形光学結晶の一つは第
２高調波を発生させ、もう一つの非線形光学結晶で第３
高調波もしくは第４高調波を発生させることを特徴とす
る高調波レーザ光発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7007565A JPH08201862A (ja) | 1995-01-20 | 1995-01-20 | 高調波レーザ光発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7007565A JPH08201862A (ja) | 1995-01-20 | 1995-01-20 | 高調波レーザ光発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08201862A true JPH08201862A (ja) | 1996-08-09 |
Family
ID=11669333
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7007565A Pending JPH08201862A (ja) | 1995-01-20 | 1995-01-20 | 高調波レーザ光発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08201862A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102629065A (zh) * | 2011-02-01 | 2012-08-08 | 爱科来株式会社 | 光学晶体和太赫兹波生成装置及方法 |
-
1995
- 1995-01-20 JP JP7007565A patent/JPH08201862A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102629065A (zh) * | 2011-02-01 | 2012-08-08 | 爱科来株式会社 | 光学晶体和太赫兹波生成装置及方法 |
| EP2482127A3 (en) * | 2011-02-01 | 2012-11-07 | Arkray, Inc. | Optical crystal and terahertz wave generation device and method |
| US8445875B2 (en) | 2011-02-01 | 2013-05-21 | Arkray, Inc. | Optical crystal and terahertz wave generation device and method |
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