JPH0819844A - 連続鋳造機における鋳造制御方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 鋳型内への給湯開始初期における溶湯レベル
検出精度の向上を図る。 【構成】 鋳型１上に渦流式レベルセンサＳＥ₁ とレー
ザ式又は超音波式湯面レベルセンサＳＥ₂ を併設し、鋳
型１内への給湯開始処理にはレーザ式又は超音波式湯面
レベルセンサＳＥ₂ にて湯面レベルを検出し、この検出
値に基づいて湯面レベル制御及びパウダー投入時期の決
定を行い、また湯面レベルが渦流式湯面レベルセンサＳ
Ｅ₁ の検出距離内にまで上昇すると、渦流式湯面レベル
センサＳＥ₁ による湯面レベル検出値に基づく湯面レベ
ル制御、ダミーバーヘッド４の引抜開始時期等を決定す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は広幅で薄い鋳片を高速で
鋳造する垂直曲げ又は湾曲型等の連続鋳造機の鋳造制
御、特に鋳型内への溶湯供給開始初期における鋳造制御
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】連続鋳造機の鋳型内の湯面レベルの安定
は操業中にあっては勿論、鋳型への給湯開始初期におい
ても鋳片表面品質，鋳片内質に与える影響が極めて大き
く、鋳片品質の向上及び操業の安定を図る上で不可欠の
要素である。

【０００３】図３は、特公平５−７１３４０号公報等に
開示された従来の連続鋳造機の鋳造制御方法の説明図で
あり、図中１は鋳型、２はタンディッシュ、４はダミー
バーヘッドを夫々を示している。鋳型１は厚さ１５０ｍ
ｍ以上の鋳片を製造するためのものであって、鋳造すべ
き鋳片の断面形状に合わせた断面矩形の筒形に形成され
ており、図示しない水冷設備にて冷却されるようにして
ある。

【０００４】鋳型１の下部には鋳込開始時にはダミーバ
ーヘッド４が恰も鋳型１の底部を閉塞する態様で挿入さ
れており、鋳型１内にはタンディッシュ２の浸漬ノズル
５を通じて溶湯が供給されるようになっている。浸漬ノ
ズル５の基部にはこれを開閉するスライドゲート６が設
けられており、これには油圧シリンダ７が連結されてい
る。油圧シリンダ７は油圧装置８にて駆動され、浸漬ノ
ズル５の開度が調節されるようにしてある。

【０００５】ＳＥ₁ は鋳型１の上方に臨ませた渦流式湯
面レベルセンサ、ＳＥ₄ は鋳型１の壁面内に縦列状態で
埋設した複数の熱電対であり、渦流式湯面レベルセンサ
ＳＥ ₁ の検出値は直接、また熱電対ＳＥ₄ の検出値は測
温信号処理装置２０を介して夫々湯面レベル制御装置２
１へ取り込まれる。湯面レベル制御装置２１は渦流式湯
面レベルセンサＳＥ₁ 及び／又は熱電対ＳＥ₄ による検
出値に基づき鋳型１内の湯面レベル及び湯面上昇速度を
求め、この湯面レベル又は湯面上昇速度を予め定めた目
標湯面レベル又は目標湯面上昇速度と比較し、その偏差
を解消するための制御量を演算し、これを油圧制御装置
２２へ出力する。

【０００６】油圧制御装置２２は油圧シリンダ７に付設
したロッド位置センサ（図示せず）の検出値から現在の
ロッド位置、換言すればスライドゲート６の開度を求
め、このスライドゲート開度と湯面レベル制御装置２１
から入力された制御量とに基づき油圧シリンダ７の操作
量を求め、これを油圧装置８へ出力する。油圧装置８は
油圧シリンダ７を駆動し、目標湯面レベル又は目標湯面
上昇速度を得るべくスライドゲート６の開度調節を行わ
せる。

【０００７】渦流式湯面レベルセンサＳＥ₁ と熱電対Ｓ
Ｅ₄ とは次の如くに使い分けられる。即ち、先ず熱電対
ＳＥ₄ の検出値を信号処理部で処理して湯面上昇速度を
求め、湯面が渦流式湯面レベルセンサＳＥ₁ の検出距離
内に達する時間を予測し、この予測時間に達すると渦流
式レベルセンサＳＥ₁ による検出値に基づきダミーバー
ヘッド４の引抜き開始等を行うこととしている。

【０００８】このように渦流式湯面レベルセンサＳＥ₁
と熱電対ＳＥ₄ との２つの湯面レベルセンサを使い分け
るのはその検出性能に一長一短があり、例えば渦流式湯
面レベルセンサＳＥ₁ は直接湯面レベルを検出し得る反
面、検出距離が短く、一方熱電対ＳＥ₄ は鋳型１内へ埋
設しておくことで検出範囲は制限されない反面、応答が
遅く（２〜３秒程度）、またその検出値からは湯面レベ
ルとパウダーＰのレベルとの区別が難しいことによる。

【０００９】図４は従来における大断面鋳型を持つ連続
鋳造機におけるスライドゲート開度、鋳造速度及び湯面
レベルの時間的推移を示す説明図であり、横軸に時間
を、また縦軸にスライドゲート開度（％）、湯面レベル
（ｍｍ）及び鋳造速度（ｍ／分）をとって示してある。
図中実線はスライドゲート開度、破線が湯面レベル、一
点鎖線は鋳造速度を示してある。なお、湯面レベルの目
標は目標湯面レベルを０とし、ここから鋳型１の下方に
５００ｍｍまで目盛ってある。

【００１０】而して図示しない取鍋からタンディッシュ
２内に溶湯を注入し、所定重量に達すると油圧制御装置
２２へ所定の信号が出力され、油圧制御装置２２は油圧
装置８を介して油圧シリンダ７を駆動し、スライドゲー
ト６を閉鎖位置から略全開状態（開度９５％）まで急速
に開放し、所定時間その開度に維持した後、予め定めた
第１目標開度にまで急速に閉鎖し、この第１目標開度に
維持する。これによって湯面レベルも急激に上昇し、ス
ライドゲート６の開度が第１目標開度に定設されると、
その後は湯面が緩やかに、しかも略一定の速度で上昇す
る。油圧制御装置２２は熱電対ＳＥ₄ の検出値に基づい
て湯面上昇速度を求め、湯面が浸漬ノズル５の吐出口５
ａ上に達する時間を演算し、この時間が経過するとパウ
ダーの供給を開始する。

【００１１】湯面レベルが渦流式湯面レベルセンサＳＥ
₁ による検出範囲内にまで上昇すると、渦流式湯面レベ
ルセンサＳＥ₁ によるレベル検出も開始される。これ以
後、渦流式湯面レベルセンサＳＥ₁ の検出値による実質
的な湯面レベル制御が行われることとなる。スライドゲ
ート６の開放が開始された時点から、ＴＣ₁ 時間経過す
るとスライドゲートを予め定めた第２目標開度にまで増
大させ、同時にダミーバーヘッド４の下降を開始して鋳
造を開始する。

【００１２】鋳造速度はスライドゲート６を第１目標開
度から第２目標開度にまで増大することによる湯面の上
昇速度の増大を吸収する速度、換言すれば湯面上昇速度
が略一定に維持されるように設定する。湯面レベルが目
標レベルに達するとその後は予めプログラミングされた
湯面レベルが維持されるようスライドゲート６の開度を
高め、また鋳造速度を上昇させてスライドゲート６を制
御する。なお湯面レベルセンサとしては他に超音波レベ
ルセンサ（特解昭６１−９９５５号公報）、レーザ式レ
ベル計（日立造船技報第５３巻第３号）等が知られてい
る。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】ところで前述した如く
渦流式湯面レベルセンサＳＥ₁ と、熱電対ＳＥ₄ とを組
合わせた構造では、これを厚さ１００ｍｍ以下の広幅で
薄い鋳片を製造する連続鋳造機に適用することは極めて
難しい。その理由としては 熱電対の応答性が２〜３秒程度と極めて遅いこと、 渦流式湯面レベルセンサの検出距離が大幅に短縮さ
れること、 薄鋳片用の連続鋳造機ではその構造上溶湯表面に皮
張りが生じ易く、給湯開始から鋳片の引抜き開始までの
時間的余裕が短いこと 等による。

【００１４】先ずについて具体的に説明すると、薄鋳
片の製造用の連続鋳型機の場合、熱電対ＳＥ₄ を用いる
と、鋳型への給湯開始初期の溶湯飛散による誤動作、鋳
型内壁に埋設された熱電対の応答遅れ（２〜３秒）のた
め、実際の湯面上昇速度より遅れたレベル制御をせざる
を得ない。例えば、３秒遅れると薄鋳片用の鋳型での湯
面上昇速度は、ダミーバーヘッドの引抜き開始時の湯面
上昇距離４５０ｍｍ，給湯開始からの時間を２０秒とす
ると、１秒間に平均２０ｍｍ／ｓｅｃの湯面上昇速度と
なり、熱電対が応答するまでには４０〜６０ｍｍ湯面が
上昇していることになる。

【００１５】また１００ｍｍ以下の薄鋳片を製造する連
続鋳造機の鋳型に熱電対を埋込む場合、銅板の溶湯と接
する銅板表面から６〜１５ｍｍの範囲に熱電対ＳＥ₄ の
先端がくるように銅板背面側から取り付けられるが、銅
板は削成再使用されることから、削成量によって熱電対
先端から銅板表面までの距離が変化するため削成の都
度、応答速度が変化してゆくこととなり、これに応じて
演算プログラムを変更する必要がある。

【００１６】またについて説明すると、渦流式レベル
センサＳＥ₁ は銅製の鋳型壁面による影響を受け易く、
鋳型の厚さが薄くなるほど検出距離が短縮される。例え
ば厚さ２５０ｍｍ用鋳片を得るための鋳型では検出距離
が２８０ｍｍ程度あるが、厚さ９０ｍｍ用の鋳片を得る
ための鋳型では検出距離が１２０〜１５０ｍｍ程度とな
る。

【００１７】上記，の理由から湯面レベルを正確に
把握することは難しく、事実上給湯開始初期において湯
面レベルを把握出来る範囲は極めて限られ、湯面レベル
の正確な制御が難しい。

【００１８】更にについて説明すると、鋳型断面積が
大きい場合、鋳型内に給湯された溶湯の熱容量が大き
く、多少鋳型内における湯面上昇速度にばらつきが生じ
ても溶湯表面が冷えて皮張りを生じる可能性は小さい。
ところが厚さ１００ｍｍ以下の薄鋳片を製造する場合に
は鋳型内における溶湯の熱容量が小さく、しかも浸漬ノ
ズルと鋳型壁間の間隔が狭い（１０〜２０ｍｍ程度）た
め湯面上昇速度に少しのばらつきが生じても表面に皮張
りが発生し、特にパウダーを添加した場合にはパウダー
の吸熱反応のため、湯面温度が急速に低下し、パウダー
の溶融不足を生じて、潤滑不良となり鋳片表面の欠陥要
因となるのみならずひいては拘束性ブレークアウトの発
生を招き、操業が不安定となる。その為湯面上昇速度が
遅い場合、又は遅くなることが予測される場合には人力
により鋳型内湯面をかき回して皮張りの防止をする必要
があり、安全上問題があった。

【００１９】また大断面の鋳型を用いる場合には一般的
に溶湯の供給開始からダミーバーヘッド４の引抜き迄、
５０〜１４０秒程度の時間的余裕があるが、１００ｍｍ
以下の薄鋳片の場合、湯面の皮張りを防止するために
は、溶湯の供給開始からダミーバーヘッド４の引抜き開
始までは１５〜３０秒程度で引抜きを行う必要があるが
これに対応出来ない。

【００２０】更に、給湯開始直後の溶湯の温度が低いた
め、給湯開始からパウダー添加、ダミーバー引抜き迄の
時間管理も重要であり、熱電対による湯面上昇速度の制
御では応答遅れがあることから、湯面上昇速度が安定し
ないという問題があった。

【００２１】なお、湯面レベルセンサとしては上記した
如き渦流湯面レベルセンサの外、放射線式湯面レベルセ
ンサ、超音波式湯面レベルセンサ、レーザ式湯面レベル
センサ、その他ＣＣＤカメラ等を用いて視覚的に監視す
るもの等種々のものが知られている。しかしこれらにも
一長一短があり、放射線式、超音波式、レーザ式はいず
れも比較的検出可能距離は大きい反面、パウダー層が形
成されると、パウダー表面レベルしか測定出来なくなる
という問題がある。

【００２２】本発明は係る事情に鑑みなされたものであ
って、第１の発明の目的は、検出距離又は検出機能が制
限されることによる湯面レベルの事実上の無監視状態を
解消し得るようにした連続鋳造機における鋳造制御方法
提供するにある。

【００２３】第２の発明の目的は、パウダー層厚を正確
に検出してパウダー供給量の監視を可能とした連続鋳造
機における鋳造制御方法を提供するにある。

【００２４】

【課題を解決するための手段】第１発明に係る連続鋳造
機における鋳造制御方法は、下端部をダミーバーヘッド
にて閉鎖された鋳型内にスライドゲートにて開度調整さ
れるノズルを通じて溶湯を供給しつつ、前記鋳型上部に
配した渦流式溶湯レベルセンサにて鋳型内の湯面レベル
を検出し、この湯面レベル検出値に基づき前記鋳型内へ
のパウダー投入時期及びダミーバーヘッドの引抜き時期
を決定し、また前記スライドゲートの開度を制御するよ
うにした連続鋳造機における鋳造制御方法において、前
記鋳型の上部に前記渦流式溶湯レベルセンサよりも検出
可能範囲が長い他の湯面レベルセンサを設け、前記鋳型
内への給湯開始初期には前記他の湯面レベルセンサにて
検出した湯面レベルに基づいてスライドゲート開度及び
パウダー投入開始時期を決定し、また湯面レベルが前記
渦流式湯面レベルセンサの検出可能範囲内に達すると該
渦流式湯面レベルセンサにて検出した湯面レベルに基づ
いて、前記スライドゲート開度及びダミーバーヘッドの
引抜き時期を決定することを特徴とする。

【００２５】第２発明に係る連続鋳造機における鋳造制
御方法は、鋳型内に溶湯及びパウダーを投入した後は、
前記渦流式湯面レベルセンサとレーザ式又は超音波式湯
面レベルセンサとの検出値の差に基づきパウダーの層厚
を監視することを特徴とする。

【００２６】

【作用】第１発明にあっては、検出可能距離の短い渦流
式湯面レベルセンサとこれよりも検出距離が長い第２の
湯面レベルセンサを使い分けることで、湯面レベルの検
出域を分担させ、広い範囲にわたって湯面レベルを正確
に検出し、湯面レベル制御精度を向上し得る。

【００２７】第２の発明にあっては、渦流式湯面レベル
センサとレーザ式又は超音波式湯面レベルセンサを組み
合わせて用いることで、渦流式湯面レベルセンサで検出
した湯面レベルと、レーザ式又は超音波式湯面レベルセ
ンサで検出したパウダー層表面レベルとからパウダー層
厚を正確に検出可能となる。

【００２８】

【実施例】以下本発明を、その実施例を示す図面に基づ
き具体的に説明する。図１は本発明に係る鋳造制御方法
を適用した連続鋳造機の模式図であり、図中１は鋳型、
２はタンディッシュ、３はパウダー供給機、４はダミー
バーヘッドを夫々示している。鋳型１は鋳造すべき厚さ
１００ｍｍ以下の薄鋳片の断面形状に合わせた断面矩形
の筒形に形成されており、図示しない水冷設備にて冷却
されるようにしてある。

【００２９】鋳型１の下部には、鋳込開始時には鋳型１
の底部を閉塞する態様でダミーバーヘッド４が挿入せし
められており、このような底部を閉塞された鋳型１内に
タンディッシュ２の浸漬ノズル５を通じて溶湯が供給さ
れるようになっている。浸漬ノズル５の基部にはこれを
開閉するスライドゲート６が設けられており、これには
スライドゲート開度を調節するための油圧シリンダ７が
連結されている。

【００３０】パウダー供給機３はそのノズル３ａを鋳型
１上に臨ませて設置されており、鋳型１内に供給された
湯面レベルが浸漬ノズル５の吐出口５ａよりも高くなる
と所定のタイミングで湯面上にパウダーを供給するよう
構成されている。ＳＥ₁ は渦流式湯面レベルセンサ、Ｓ
Ｅ₂ はレーザ式湯面レベルセンサ、ＳＥ₃ はタンディッ
シュ２の重量を検出する重量センサを夫々示している。
渦流式湯面レベルセンサＳＥ₁ の検出距離は１５０ｍｍ
以下、安定的には１２０ｍｍ以下である。またレーザ式
湯面レベルセンサＳＥ₂ の検出距離は４００〜５００ｍ
ｍ程度である。

【００３１】渦流式湯面レベルセンサＳＥ₁ の検出信号
は第１の湯面レベル制御装置１１へ、またレーザ式湯面
レベルセンサＳＥ₂ の検出信号は第２の湯面レベル制御
装置１２へ夫々取りまれる。重量センサＳＥ₃ の検出信
号はタンディッシュ重量検出装置１５に取り込まれタン
ディッシュ重量が算出され、算出重量が所定値に達する
と制御信号を油圧制御装置１３へ出力する。

【００３２】湯面レベル制御装置１１は渦流式湯面レベ
ルセンサＳＥ₁ の検出値に基づき鋳型１内の湯面レベル
及び湯面レベル上昇速度を演算し、これを予め定めた目
標湯面レベル、目標湯面レベル上昇速度と比較し、目標
湯面レベル，目標湯面レベル上昇速度と一致するようス
ライドゲート６の制御量を演算し、これを油圧制御装置
１３へ出力する外、湯面レベルについてはパウダー供給
制御装置１４へ出力する。なお渦流式湯面レベルセンサ
ＳＥ₁ の検出距離は既述した如く限られているか、湯面
レベルがこの検出範囲内に達した後に、このような処理
が行われることなる。

【００３３】また湯面レベル制御装置１２はレーザ式湯
面レベルセンサＳＥ₂ の検出値に基づき鋳型１内の湯面
レベル及び湯面レベル上昇速度を演算し、これを予め定
めた目標湯面レベル，目標湯面レベル上昇速度と比較
し、目標湯面レベル，目標湯面レベル上昇速度と一致す
るようスライドゲート制御量を演算し、これを油圧制御
装置１３へ出力する外、湯面レベルについてはパウダー
供給制御装置１４へも出力する。

【００３４】なおレーザ式湯面レベルセンサＳＥ₂ の検
出距離は略ダミーバーヘッド４の表面まで届くから給湯
開始と同時的にこのような処理を行う。ただパウダーの
供給が行われると、レーザ湯面レベルセンサＳＥ₂ の検
出値はパウダー層表面レベルとなるから、パウダー供給
後はパウダー表面レベルを演算すると同時に、パウダー
供給制御装置１４からのパウダー供給量を取り込み、こ
れに基づいて湯面レベルに変換すべく補正演算も行う。

【００３５】油圧制御装置１３は油圧シリンダ７のロッ
ド伸縮センサ（図示せず）からロッドの現在位置、換言
すればスライドゲート６の現在の開度を、また第１，第
２の湯面レベル制御装置１１，１２から現在の湯面レベ
ルを夫々取り込みタンディッシュ重量を取り込み、タン
ディッシュ重量が予め定めた重量に達すると、油圧装置
８へ制御信号出力し、該油圧装置８を介して油圧シリン
ダ７を駆動し、スライドゲート６の開度調節を行わせる
ようになっている。

【００３６】パウダー供給制御装置１４は湯面レベル制
御装置１２から入力された湯面レベルが予め定めた値に
達すると、パウダー供給機３へパウダーを供給すべく制
御信号を出力すると共に、湯面レベル制御装置１１，１
２の検出値に基づきパウダー層厚が予め定めた目標層厚
となるようパウダー供給量を調節すべくパウダー供給機
を制御するようになっている。

【００３７】次にこのような連続鋳造機における鋳造開
始時における湯面レベル制御内容について図２に従って
説明する。図２はスライドゲート開度、鋳造速度及び湯
面レベルの時間的推移を示す説明図であり、縦軸にスラ
イドゲート開度（％）、鋳造速度（ｍ／分）、湯面レベ
ル（ｍｍ）をとって示してある。

【００３８】図示しない取鍋からタンディッシュ２へ溶
湯を注入し、タンディッシュ２の重量が所定重量に達す
るとタンディッシュ重量検出装置１５から油圧制御装置
１３へ所定の信号が出力され、油圧制御装置１３は油圧
装置８を介して油圧シリンダ７を駆動し、スライドゲー
ト６を閉鎖位置から全開に近い位置（開度９８％）に開
き、そのまま時間Ｔ₁ までその開度を維持した後、第１
の目標開度にまで急速に閉じる。これによって、湯面レ
ベルはスライドゲート６の開放に伴って急速に上昇し、
その後スライドゲート６を目標開度にまで閉じること
で、湯面レベルはそれまでの急激な上昇から緩やかな上
昇に変わる。この間の湯面レベルはレーザ式湯面レベル
センサＳＥ₂ にて逐次検出される。スライドゲート開度
を最初に略全開に近く開放するのは浸漬ノズル５の吐出
孔５ａの初期詰まりを防止すると共に、スライドゲート
６，浸漬ノズル５を加熱するためである。またこのとき
鋳型１内では溶湯が飛散し、レーザ式湯面レベルセンサ
ＳＥ₂ が誤動作することがあるので、浸漬ノズル５との
間に邪魔板を介在させるのが望ましい。更に鋳型１の厚
みが５０〜７０ｍｍと極めて小さい場合は、スライドゲ
ート６を開放したあと数秒間マスキングを行わせてもよ
い。

【００３９】スライドゲート６はレベル計で検出される
湯面上昇速度が一定になるよう制御されつつ、湯面レベ
ルが目標レベルにまで２００ｍｍ前後の位置、換言すれ
ば浸漬ノズル５の吐出口５ａが溶湯面下に沈む湯面レベ
ルに達するとパウダーの投入を自動的に開始する。投入
されたパウダーは溶湯の熱を吸収して溶解され、湯面上
を覆った状態となる。これ以降におけるレーザ式湯面レ
ベルセンサＳＥ₂ の検出値はそれまでの湯面レベルから
パウダー面レベルに変わるため、見掛け上急に湯面上昇
したことになる。この為予めパウダー投入指令と同時に
投入量に見合うパウダー厚分だけの湯上り速度補正を湯
面レベル制御装置のプログラムに組込んでおくとよい。
簡易的には、パウダー投入指令と同時に、その時のスラ
イドゲート６の開度を保持させる方法もある。

【００４０】湯面レベルが渦流式湯面レベルセンサＳＥ
₁ の検出範囲内に迄上昇と、スライドゲート６の開放を
開始した時点からＴ₀₂時間経過したＴ₄ 時点後はレーザ
式湯面レベルセンサＳＥ₂ による湯面レベル，パウダー
面レベルの検出と、渦流式湯面レベルセンサＳＥ₁ によ
る湯面レベルの検出が併行的に行われる。

【００４１】渦流式湯面レベルセンサＳＥ₁ の検出に基
づいて、スライドゲート６をそれまでの第１目標開度か
ら第２目標開度に向けて漸次開度を高めると同時に、ピ
ンチロールにてダミーバーヘッド４の下降を開始し、鋳
造を開始する。薄鋳片の製造の場合、大断面鋳型とは異
なって、湯面表面の皮張りを防止し、また添加されたパ
ウダーの溶融不良を防止して、安定した鋳造を行う上
で、鋳型１への給湯開始からダミーバーヘッド４の引抜
き開始までの時間を可及的に速く、換言すれば時間ｔ₀₂
を可及的に短く、しかも鋳片の引抜き速度も高加速度で
行う。

【００４２】鋳造速度上昇に伴う給湯量は、スライドゲ
ート６を第２目標開度に向けて高める過程での溶湯供給
量を吸収し得る程度に、換言すれば湯面上昇速度がそれ
までの上昇速度と略等しくなるようにコントロールす
る。スライドゲート６の開度が第２目標開度に達する
と、その開度近くに維持され、鋳造速度が５ｍ／分に達
すると鋳造速度を一定に維持する。これによって湯面レ
ベルも目標レベルにコントロールされる。なお、上述の
実施例では渦流式湯面レベルセンサＳＥ₁ とレーザ式湯
面レベルセンサＳＥ₂ を組み合わせた構成について説明
したが、レーザ式湯面レベルセンサＳＥ₂ に換えて、超
音波式湯面レベルセンサを用いてもよい。

【００４３】

【発明の効果】第１の発明にあっては、渦流式湯面レベ
ルセンサとこれよりも検出距離の大きい第２の湯面レベ
ルセンサとに夫々の湯面レベル検出範囲を分担させ、夫
々の短所を補足しあうことで湯面レベルの正確な検出，
制御が可能となる。

【００４４】第２の発明にあっては、検出可能距離が短
いが直接湯面レベルの検出が可能な渦流式湯面レベルセ
ンサと、検出距離の長いレーザ式又は超音波式湯面レベ
ルセンサを使い分けることで、実質的に湯面レベルを検
出出来ない範囲が殆ど無くなり、しかもパウター層厚さ
を検出することが出来て、湯面レベル制御と同時にパウ
ダー供給量制御も可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る連続鋳造機における鋳造制御方法
の説明図である。

【図２】本発明に係る連続鋳造機における鋳造制御方法
におけるスライドゲート開度，湯面レベル及び鋳造速度
の時間的推移を示すグラフである。

【図３】従来方法の説明図である。

【図４】従来の方法におけるスライドゲート開度，湯面
レベル及び鋳造速度の時間的推移を示すグラフである。

【符号の説明】

１ 鋳型 ２ タンディッシュ ３ パウダー供給機 ４ ダミーバーヘッド ５ 浸漬ノズル ６ スライドゲート ７ 油圧シリンダ ８ 油圧装置 １１ 湯面レベル制御装置 １２ 湯面レベル制御装置 １３ 油圧制御装置 １４ パウダー供給制御装置

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０１Ｆ 23/296

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下端部をダミーバーヘッドにて閉鎖され
   た鋳型内にスライドゲートにて開度調整されるノズルを
   通じて溶湯を供給しつつ、前記鋳型上部に配した渦流式
   溶湯レベルセンサにて鋳型内の湯面レベルを検出し、こ
   の湯面レベル検出値に基づき前記鋳型内へのパウダー投
   入時期及びダミーバーヘッドの引抜き時期を決定し、ま
   た前記スライドゲートの開度を制御するようにした連続
   鋳造機における鋳造制御方法において、前記鋳型の上部
   に前記渦流式溶湯レベルセンサよりも検出可能範囲が長
   い他の湯面レベルセンサを設け、前記鋳型内への給湯開
   始初期には前記他の湯面レベルセンサにて検出した湯面
   レベルに基づいてスライドゲート開度及びパウダー投入
   開始時期を決定し、また湯面レベルが前記渦流式湯面レ
   ベルセンサの検出可能範囲内に達すると該渦流式湯面レ
   ベルセンサにて検出した湯面レベルに基づいて、前記ス
   ライドゲート開度及びダミーバーヘッドの引抜き時期を
   決定することを特徴とする連続鋳造機における鋳造制御
   方法。
2. 【請求項２】 鋳型内に溶湯及びパウダーを投入した後
   は、前記渦流式湯面レベルセンサとレーザ式又は超音波
   式湯面レベルセンサとの検出値の差に基づきパウダーの
   層厚を監視することを特徴とする請求項１記載の連続鋳
   造機における鋳造制御方法。