JPH08195079A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH08195079A
JPH08195079A JP7002616A JP261695A JPH08195079A JP H08195079 A JPH08195079 A JP H08195079A JP 7002616 A JP7002616 A JP 7002616A JP 261695 A JP261695 A JP 261695A JP H08195079 A JPH08195079 A JP H08195079A
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JP
Japan
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mode
signal
output
setting data
switching signal
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JP7002616A
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English (en)
Inventor
Shigehiro Hisaie
重博 久家
Kazutami Arimoto
和民 有本
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 モード設定を樹脂モールド後に行うことがで
きるとともに、チップ面積に占めるボンディングパッド
の占める面積を削減でき半導体記憶装置を得る。 【構成】 モードを設定させる場合、制御手段6からテ
ストモード信号を受けると、モード切替信号生成手段7
は内部で種々のタイミング信号を生成し、これらタイミ
ング信号に基づいて、ボンディングパッドDQ4 に入力
されたデータを取り込み、強誘電体容量性素子C1 及び
2 は互いに異なる正又は負の分極電荷を蓄積し、モー
ド設定データの設定が完了する。半導体記憶装置を使用
するため、電源が投入され、制御手段6からPOR信号
が出力されると、モード切替信号生成手段7は内部で種
々のタイミング信号を生成し、これらのタイミング信号
に基づいて、正又は負の分極電荷が蓄積されている強誘
電体容量性素子C1 及びC2の記憶内容を読み出し、M
ODE信号を電源が切られるまでセレクタ手段5に出力
する。セレクタ手段5はMODE信号に基づいたモード
にて、入出力線I/OとボンディングパッドDQとの間
でデータのやり取りを行なう。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、複数種類の出力モー
ド(例えばページモード、スタティックコラムモード、
ニブルモード)や複数種類の語構成モード(例えば出力
が1(×1モード)、出力が4(×4モード)、出力が
8(×8モード)、出力が16(×16モード))、出
力が1のもの(以下、×1モードと称す)と出力が4の
もの(以下、×4モードと称す)に対応でき、例えば出
荷時等に複数種類の出力モードから1種類の出力モー
ド、複数種類の語構成モードから1種類の語構成モード
に選択、特定される半導体記憶装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体記憶装置において、出荷時
に複数種類のモードから1種類のモードに選択、特定す
る方法として、ボンディングパッドを利用したボンディ
ングオプションが一般的に用いられている。図14はこ
のボンディングオプションが用いられた半導体記憶装置
を簡単に示すものであり、2種類のモードから1種類の
モードを選択、特定する例を示している。
【0003】図14において、100はメモリセルアレ
イ等が形成されたダイナミックランダムアクセスメモリ
(DRAM)チップである半導体チップ、200はこの
半導体チップ100に形成されたボンディングオプショ
ンパッド、300a及び300bは上記半導体チップ1
00の周囲に対向配置されたリードフレームの電源(V
cc)用リード及び接地(GND)用リードである。
【0004】400は上記半導体チップ100に内蔵さ
れ、入力ノードが上記ボンディングオプションパッド2
00に接続され、出力ノードにモード切替(MODE)
信号を出力するモード切替信号発生手段で、電源電位
(Vcc)ノードと出力ノードとの間に接続された抵抗素
子400aと、出力ノードと接地電位(GND)ノード
との間に接続されるとともにゲート電極が入力ノード
(ボンディングオプションパッド200)に接続される
MOSトランジスタとによって構成されているものであ
る。
【0005】このように構成されたものにおいて、2種
類のモードのうち一方のモードを選択する場合は、図1
4に示すように、出荷時に、ボンディングオプションパ
ッド200を電源用リード300aにワイヤ500にて
接続するものである。こうすることによって、半導体記
憶装置が使用されるときに、電源が投入されると、モー
ド切替信号発生手段400のMOSトランジスタ400
aのゲート電極には、電源用リード300aに印加され
た電源電位がワイヤ500及びボンディングオプション
パッド200を介して入力され、MOSトランジスタ4
00aは導通状態になる。その結果、モード切替信号発
生手段400の出力ノードは接地電位になり、Lレベル
(接地電位)のモード切替信号が出力され、2種類のモ
ードのうち一方のモードが特定されることになる。
【0006】一方、2種類のモードのうち他方のモード
を選択する場合は、出荷時に、ボンディングオプション
パッド200を接地用リード300bにワイヤにて接続
するものである。こうすることによって、半導体記憶装
置が使用されるときに、電源が投入されると、モード切
替信号発生手段400のMOSトランジスタ400aの
ゲート電極は、ボンディングオプションパッド200及
びワイヤ500を介して接地用リード300bにおける
接地電位にされ、MOSトランジスタ400aは非導通
状態を維持することになる。その結果、モード切替信号
発生手段400の出力ノードは抵抗素子400aを介し
て電源電位(Vcc)ノードの電位が印加されることにな
り、Hレベル(電源電位)のモード切替信号が出力さ
れ、2種類のモードのうち他方のモードが特定されるこ
とになる。このようにして、2種類のモードから1種類
のモードが選択、特定された半導体記憶装置が得られる
ことになるものである。
【0007】また、複数種類のモードから1種類のモー
ドを選択、特定する方法として、特開平4−20599
7号公報にも示されている。この公報に示されたもの
は、基本的には、上記図14に示した従来例におけるモ
ード切替信号発生手段400に不揮発性メモリを用いた
ものである。なお、ボンディングオプションパッド20
0は電源用リード300a及び接地用リード300aに
接続されるものではなく、モード切替信号のためのデー
タが入力されるリードに接続されるものである。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、上記のよう
に構成された従来のものにあっては、集積化が進みアド
レスパッドなとの占める割合が増えてくるにつれ、半導
体チップにおけるチップ面積に占めるボンディングパッ
ドの占める面積が増え、チップ面積が必然的に大きくな
ってしまうものであった。また、図14に示した従来例
のものにおいて、樹脂モールドされた半導体記憶装置に
あっては、樹脂モールド前のワイヤボンディング工程で
モードを設定する必要があり、工程管理上若干の煩雑さ
を伴うものであった。
【0009】この発明は上記した点に鑑みてなされたも
のであり、モード設定のための専用のボンディングパッ
ドを必要とせず、半導体チップにおけるチップ面積に占
めるボンディングパッドの占める面積を削減でき、ひい
てはチップ面積を小さくでき、しかも、モード設定を樹
脂モールド後に行うことができ、複数の種類のものを樹
脂モールド後にまで一括管理できる半導体記憶装置を得
ることを目的とするものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】この発明の第1の発明に
係る半導体記憶装置は、モード切替信号に基づいて複数
種類のモードから1種類のモードに選択、特定されるも
のにおいて、一対の電極とこれら一対の電極間に介在さ
れた強誘電体膜とを有し、設定されるモードを示すモー
ド設定データを記憶するための強誘電体容量性素子を具
備し、この強誘電体容量性素子に記憶された情報に基づ
いてモード切替信号を出力するモード切替信号生成手段
を設けたものである。
【0011】この発明の第2の発明に係る半導体記憶装
置は、複数のメモリセルを有したメモリセルアレイと、
このメモリセルアレイの複数のメモリセルから所定数の
メモリセルを選択し、選択された所定数のメモリセルに
記憶されたデータを所定数の出力線に伝達するデコード
手段と、モード切替信号を受け、このモード切替信号が
第1のモードを示すと所定数の出力線に伝達されたデー
タをそれぞれ所定数のデータ用ボンディングパッドに伝
達し、モード切替信号が第2のモードを示すと所定数の
出力線から特定の出力線を選択し、特定の出力線に伝達
されたデータを所定数のデータ用ボンディングパッドの
うちの特定のデータ用ボンディングパッドに伝達するセ
レクタ手段と、一対の電極とこれら一対の電極間に介在
された強誘電体膜とを有し、第1のモードまたは第2の
モードを示すモード設定データを記憶するための強誘電
体容量性素子を有し、この強誘電体容量性素子に記憶さ
れた情報に基づいてセレクタ手段へのモード切替信号を
出力するモード切替信号生成手段とを設けたものであ
る。
【0012】
【作用】この発明の第1の発明にあっては、モード切替
信号生成手段の強誘電体容量性素子が、モード設定デー
タを記憶し、この記憶されたモード設定データによりモ
ード切替信号を出力し、モード切替信号によってモード
を特定する。
【0013】この発明の第2の発明にあっては、モード
切替信号生成手段の強誘電体容量性素子が、第1のモー
ドまたは第2のモードを示すモード設定データを記憶
し、この記憶されたモード設定データによりモード切替
信号をセレクタ手段へ出力し、第1のモードまたは第2
のモードの一方の語構成モードに特定する。
【0014】
【実施例】複数種類のモードから1種類のモードに選
択、特定される半導体記憶装置において、2種類の語構
成モードから1種類の語構成モードに選択、特定される
半導体記憶装置、特に出力が1のもの(以下、×1モー
ドと称す)と出力が4のもの(以下、×4モードと称
す)のDRAMを例にとり以下図1を用いて説明する
が、これに限られるものではなく、複数種類の出力モー
ド(例えばページモード、スタティックコラムモード、
ニブルモード)や複数種類の語構成モード(例えば出力
が1(×1モード)、出力が4(×4モード)、出力が
8(×8モード)、出力が16(×16モード))、出
力が1のもの(以下、×1モードと称す)と出力が4の
もの(以下、×4モードと称す)に適用できるととも
に、DRAM以外の複数種類のモードを持った半導体記
憶装置にも適用できるものである。
【0015】実施例1.図1ないし図10はこの発明の
実施例1を示すものである。図1において、100はメ
モリセルアレイ等が形成されたダイナミックランダムア
クセスメモリ(DRAM)チップである半導体チップ
で、図1にて四角で囲って部分が半導体基板を示し、こ
の四角で囲われた内部に示された構成要素はすべてこの
1つの半導体基板内に内蔵されていることを示している
ものである。
【0016】1は複数行(m行)複数列(n列)のマト
リクス状に配設された複数のメモリセルMC11〜MCmn
と、複数行(m行)に配設され、それぞれが対応した行
に配設された複数のメモリセルに接続された複数(m
本)のワード線WL1 〜WLmと、複数列(n列)に配
設され、それぞれが対応した列に配設された複数のメモ
リセルに接続された複数(n対)のビット線対BL1
BLn 、/BL1 〜/BLn を有したメモリセルアレイ
である。
【0017】上記各メモリセルMCは、図2に示すよう
に、半導体基板の一主面に形成された一対のソース/ド
レイン領域と、これら一対のソース/ドレイン領域に挟
まれた半導体基板の一主面上にゲート絶縁膜を介して形
成されたゲート電極とを有し、上記一対のソース/ドレ
イン領域の一方のソース/ドレイン領域が対応した列の
ビット線BLに接続され、上記ゲート電極が対応した行
のワード線WLに接続されたMOSトランジスタからな
るスイッチングトランジスタTr、及び半導体基板の一
主面上に形成され、上記スイッチングトランジスタの他
方のソース/ドレイン領域に接続されるストレージノー
ドと、このストレージノードに酸化膜あるいは酸化膜と
窒化膜の積層膜からなる誘電体膜を介して形成され、セ
ルプレート電位(通常、印加される電源電位の1/2の
電位)が印加されるセルプレートとを有したキャパシタ
Cから構成されているものである。
【0018】2は複数列(n列)に配設され、それぞれ
が対応した列に配設されたビット線対に接続され、接続
されたビット線対に現れた電位差を検知、増幅するセン
スアンプを複数(n個)有するセンスアンプ群、3は複
数のアドレス用ボンディングパッドA1 〜Ak を介して
入力されたロウアドレス信号R1 〜Rk を受けて上記複
数のワード線WL1 〜WLm から一本のワード線を選択
して活性化、つまり、Hレベル(電源電位相当の電位)
にするロウデコーダである。
【0019】4は上記複数列(n列)のビット線対BL
1 〜BLn 、/BL1 〜/BLn に対応して設けられる
とともに4つのグループに分割され、それぞれが対応し
たビット線対と4本の入出力線対I/O1 〜I/O4
うちの対応した入出力線対との間に接続された複数(n
対)のトランスファゲート対と、上記複数のアドレス用
ボンディングパッドA1 〜Ak を介して入力されたコラ
ムアドレス信号C1 〜Ck のうち2ビット分のコラムア
ドレス信号、例えばC1 及びC2 を除いたコラムアドレ
ス信号を受けて上記複数列(n列)のビット線対BL1
〜BLn 、/BL1 〜/BLn から4対のビット線対を
選択し、選択された4対のビット線対に接続された4対
のトランスファゲート対を導通状態となすコラムデコー
ダとを有し、データ読み出し時にはコラムアドレス信号
に基づいて選択された4列から読み出されたメモリセル
の読出データをそれぞれ4本の入出力線I/O1 〜I/
4 に伝達し、データ書き込み時に4本の入出力線I/
1 〜I/O4 若しくは選択された1本の入出力線に伝
達されてきた書込データをコラムアドレス信号に基づい
て選択された4列のビット線対もしくは選択された1本
の入出力線に対応した4列のビット線対の1列のビット
線対に伝達するためのコラム系手段で、上記ロウデコー
ダ3とで上記メモリセルアレイ1の複数のメモリセルM
11〜MCmnから所定数のメモリセルを選択し、選択さ
れた所定数、この例で4つのメモリセルに記憶されたデ
ータを所定数、この例で4本の入出力線I/O1 〜I/
4 に伝達するデコード手段を構成しているものであ
る。
【0020】5は上記複数のアドレス用ボンディングパ
ッドA1 〜Ak を介して入力されたコラムアドレス信号
1 〜Ck のうち2ビット分、例えばC1 及びC2 のコ
ラムアドレス信号と×1モードか×4モードかを示すモ
ード切替(MODE)信号とを受け、モード切替信号が
×4モードを示す時は、読み出し時に、4本の入出力線
I/O1 〜I/O4 に伝達されてきた読出データをそれ
ぞれ4つのデータ用ボンディングパッドDQ1 〜DQ4
に出力し、書き込み時に、4つのデータ用ボンディング
パッドDQ1 〜DQ4 に入力された書込データをそれぞ
れ4本の入出力線I/O1 〜I/O4 に伝達し、モード
切替信号が×1モードを示す時は、読み出し時に、入力
されたコラムアドレス信号に基づいて4本の入出力線I
/O1 〜I/O4 から1本の入出力線を選択し、選択さ
れた入出力線に伝達されたデータを4つのデータ用ボン
ディングパッドDQ1 〜DQ4 のうちの特定のデータ用
ボンディングパッドDQ4 に伝達し、書き込み時に、4
つのデータ用ボンディングパッドDQ1 〜DQ4 のうち
の特定のデータ用ボンディングパッドDQ4 に入力され
た書込データを入力されたコラムアドレス信号に基づい
て選択された4本の入出力線I/O1 〜I/O4 のうち
の1本の入出力線に伝達するセレクタ手段である。
【0021】このセレクタ手段5における読み出し系の
具体的構成の一例を図3に示す。図3において、501
〜504はそれぞれ入出力線I/O1 〜I/O4 に対応
して設けられ、モード切替信号を受けて、モード切替信
号が×4モード(この例においてはLレベル)を示すと
活性状態になり、対応した入出力線に伝達されてきた読
出データを出力、この例においては読出データを反転し
て出力し、モード切替信号が×1モード(この例におい
てはHレベル)を示すと非活性状態になり、出力をハイ
インピーダンス状態にするクロックドインバータからな
る第1のスイッチ手段で、図4に示すように、モード切
替信号を受けてその反転信号を出力するPチャネル型の
MOSトランジスタT1 及びNチャネル型のMOSトラ
ンジスタT2 からなるインバータ部、並びに、電源電位
(Vcc)ノードと出力ノードOUTとの間に接続され、
一方がそのゲート電極に対応の入出力線I/Oが接続さ
れるとともに、他方がそのゲート電極にモード切替信号
を受ける2つのPチャネル型のMOSトランジスタT3
及びT4 と、出力ノードOUTと接地電位ノードとの間
に接続され、一方がそのゲート電極に上記インバータ部
からのモード切替信号の反転信号を受けるとともに、他
方がそのゲート電極に対応の入出力線I/Oが接続され
る2つのNチャネル型のMOSトランジスタT5 及びT
6 とからなるクロックドインバータ部を備えているもの
である。
【0022】505〜508はそれぞれ上記第1のスイ
ッチ手段501〜504に対応して設けられ、対応した
第1のスイッチ手段からの読出データを対応のデータ用
ボンディングパッドに伝達、この例においてはスイッチ
手段からの出力を反転して出力する出力バッファ回路
で、それぞれ電源電位ノードと接地電位ノードとの間に
直列接続されたPチャネル型のMOSトランジスタ及び
Nチャネル型のMOSトランジスタからなるインバータ
によって構成されているものである。
【0023】509は2ビット分のコラムアドレス信号
1 及びC2 に基づいて4本の入出力線I/O1 〜I/
4 から1本の入出力線を選択し、選択された入出力線
に伝達された読出データを出力する選択回路で、それぞ
れが2ビット分のコラムアドレス信号C1 及びC2 の相
補の関係にある違いに異なる2ビットの信号を受け、両
者ともHレベルの時だけHレベルの信号を出力し、それ
以外の時はLレベルを出力するアンド回路等の論理回路
からなる4つのデコーダ部510〜513と、4つの入
出力線I/O1 〜I/O4 に対応して設けられ、それぞ
れが対応した入出力線と共通出力ノード514との間に
接続され、対応したデコーダ部からの出力をゲート電極
に受けるNチャネル型のMOSトランジスタからなる4
つのトランスファゲートT11〜T14とを備えているもの
である。
【0024】515は入力ノードが上記選択回路509
の出力ノード514に接続されるとともにモード切替信
号を受け、モード切替信号が×4モード(この例におい
てはLレベル)を示すと非活性状態になり、出力をハイ
インピーダンス状態にし、モード切替信号が×1モード
(この例においてはHレベル)を示すと活性状態にな
り、選択回路509にて選択された入出力線に伝達され
てきた読出データを出力、この例においては読出データ
を反転して出力するクロックドインバータからなる第2
のスイッチ手段で、図5に示すように、モード切替信号
を受けてその反転信号を出力するPチャネル型のMOS
トランジスタT21及びNチャネル型のMOSトランジス
タT22からなるインバータ部、並びに、電源電位(Vc
c)ノードと出力ノードOUTとの間に接続され、一方
がそのゲート電極に対応の入出力線I/Oが接続される
とともに、他方がそのゲート電極に上記インバータ部か
らのモード切替信号の反転信号を受ける2つのPチャネ
ル型のMOSトランジスタT23及びT24と、出力ノード
OUTと接地電位ノードとの間に接続され、一方がその
ゲート電極にモード切替信号を受けるとともに、他方が
そのゲート電極に対応の入出力線I/Oが接続される2
つのNチャネル型のMOSトランジスタT25及びT26
からなるクロックドインバータ部を備えているものであ
る。
【0025】図1に戻って、6はそれぞれボンディング
パッドを介して入力されるロウアドレスストローブ(/
RAS)信号、コラムアドレスストローブ(/CAS)
及びライトイネーブル(/WE)信号等を受けて種々の
タイミング信号を生成し、出力するチップ制御手段であ
る。このチップ制御手段は、電源が投入されたことによ
り、電源電位ノードに印加された電源電位を検出して、
この例では所定期間Hレベルとなるパワーオンリセット
(POR)信号を出力するパワーオンリセット信号発生
手段と、例えば、“信学技報TECNICAL REP
ORT OFIEICE.ICD92−117、P.
P.17〜24”「内部降圧回路を搭載した大容量DR
AMのテスト方法」に示されているような、/RAS信
号の立ち下がりの前に/WE信号と/CAS信号を立ち
下げるWCBRのタイミングと、あるアドレス用のボン
ディングパッドに電源電位より高い高入力電圧(スーパ
ーVIH)を加えることによりテストモードが設定さ
れ、テストモード信号を出力するテストモード信号発生
手段とを含んでいるものである。
【0026】7は一対の電極とこれら一対の電極間に介
在されたPZTまたはBaMgF4等の強誘電体膜とを
有し、設定されるモード、この例においては×4モード
か×1モードを記憶するための強誘電体容量性素子を具
備し、この強誘電体容量性素子に記憶された情報に基づ
いて上記セレクタ手段5へのモード切替信号を出力する
モード切替信号生成手段で、設定されるモードを上記強
誘電体容量性素子に記憶させる時に、上記チップ制御手
段のテストモード信号発生手段からのテストモード信号
に基づいて制御され、通常動作時に使用されるボンディ
ングパッド、この例ではデータ用のボンディングパッド
DQ4 と電気的に接続され、この接続されたボンディン
グパッドDQ4 から設定されるモードの情報が入力さ
れ、上記セレクタ手段5へのモード切替信号を出力する
時には、上記チップ制御手段のパワーオンリセット信号
発生手段からのパワーオンリセット信号に基づいて制御
されてモード切替信号を出力するものである。
【0027】このモード切替信号生成手段の具体的構成
の一例を図6に示す。図6において、701は上記チッ
プ制御手段のテストモード信号発生手段からのテストモ
ード信号及び上記チップ制御手段のパワーオンリセット
信号発生手段からのパワーオンリセット信号を受け、設
定されるモードを上記強誘電体容量性素子に記憶させる
時、つまり、上記チップ制御手段のテストモード信号発
生手段からのテストモード信号が、この例においてはH
レベルになると、図9に示すタイミングの、モード書込
(TMW)信号、読出制御(RCD)信号、第1の接続
用(F・WL)信号、第2の接続用(F・CNTL)信
号、プレート(F・PCP(Pulsed Common Plate ))
信号を出力し、上記セレクタ手段5へのモード切替信号
を出力する時、つまり上記チップ制御手段のパワーオン
リセット信号発生手段からのパワーオンリセット信号
が、この例においてはHレベルになると、図10に示す
タイミングの、TMW信号、F・CNTL信号、F・P
CP信号、F・WL信号、RCD信号を出力するタイミ
ング信号生成手段である。
【0028】702は上記タイミング信号生成手段70
1からのモード書込(TMW)信号を受け、設定される
モードを示すモード設定データを上記強誘電体容量性素
子に記憶させる時、この例ではモード書込(TMW)信
号がHレベルになると、データ用ボンディングパッドD
4 と一対のモード設定用データ線F・BL及び/F・
BLとを電気的に接続し、モード設定データ線F・BL
にデータ用ボンディングパッドDQ4 に入力されたモー
ド設定データに相当するデータを伝達し、モード設定デ
ータ線/F・BLにデータ用ボンディングパッドDQ4
に入力されたモード設定データに対して反転するデータ
を伝達する入力部で、ゲート電極に上記モード書込(T
MW)信号を受け、一方のソース/ドレインが上記デー
タ用ボンディングパッドDQ4 に接続されたNチャネル
型のMOSトランジスタからなるスイッチングトランジ
スタT31と、このスイッチングトランジスタT31の他方
のソース/ドレインと一方のモード設定用データ線F・
BLとの間に縦続接続された2つのインバータI1 及び
2 と、上記スイッチングトランジスタT31の他方のソ
ース/ドレインと他方のモード設定用データ線/F・B
Lとの間に接続されたインバータI3 とによって構成さ
れているものである。
【0029】703は上記タイミング信号生成手段70
1からの第1の接続用(F・WL)信号、第2の接続用
(F・CNTL)信号及びプレート(F・PCP)信号
により制御され、モード設定データを記憶する上記強誘
電体容量性素子を有する記憶部で、例えば図7に示す構
成になっている。
【0030】図7において、C1 及びC2 は例えば、
「強誘電体薄膜集積化技術」(サイエンスフォーラム
社、1992年2月28日発行)のP.P.240〜2
41の図5、図7及びそれに関連する記載部分に示され
た強誘電体容量性素子で、この例ではモード設定データ
を記憶するためのものであり、一対の電極とこれら一対
の電極間に介在されたPZTまたはBaMgF4 等の強
誘電体膜とを有し、一方の電極に上記タイミング信号生
成手段701からのプレート(F・PCP)信号を受け
るものである。また、両強誘電体容量性素子C1 及びC
2 は、図8に示すように一対の電極間に印加される電圧
と分極電荷との関係がヒステリシス特性を示しているも
のである。
【0031】この図8において、横軸は一対の電極間に
印加される電圧Vを、縦軸は分極電荷Qを示しており、
この図8から明らかなように、電圧を上げていき電圧が
Vsat の時に図示A点に示すように分極電荷はQsat に
なり、その後、電圧を下げ、0Vになると図示B点に示
すように分極電荷はQ(0) になり、さらに電圧を下げ、
−Vsat になると図示C点に示すように分極電荷は−Q
sat になり、その後、電圧を上げ0Vになると図示D点
に示すように分極電荷Q(1) になり、さらに電圧を上げ
Vsat になるとA点に戻る。したがって、Vsat の電圧
を印加した後電圧の印加を止めると、分極電荷はQ(0)
になってQ(0) を維持することになり、逆に−Vsat の
電圧を印加した後電圧の印加を止めると、分極電荷はQ
(1) になってQ(1) を維持することになるので、分極電
荷がQ(0) かQ(1) かによって「0」または「1」の情
報を記憶することができるものである。
【0032】T41及びT42はそれぞれ上記強誘電体容量
性素子C1 及びC2 の他方の電極と出力ノードN1 及び
2 との間に接続され、ゲート電極に上記タイミング信
号生成手段710からの第2の接続用(F・CNTL)
信号を受けるNチャネル型のMOSトランジスタからな
るスイッチング手段、T43及びT44はそれぞれ上記出力
ノードN1 及びN2 とモード設定データ線F・BL及び
/F・BLとの間に接続され、ゲート電極に上記タイミ
ング信号生成手段710からの第1の接続用(F・W
L)信号を受けるNチャネル型のMOSトランジスタか
らなるトランスファーゲートである。
【0033】F/Fは上記出力ノードN1 及びN2 に現
れた電位差を検知、増幅してラッチするラッチ回路で、
電源電位(Vcc)ノードと出力ノードN1 との間に接続
され、ゲートが出力ノードN2 に接続されたPチャネル
型のMOSトランジスタT45と、出力ノードN1 と接地
電位ノードとの間に接続され、ゲートが出力ノードN2
に接続されたNチャネル型のMOSトランジスタT
46と、電源電位(Vcc)ノードと出力ノードN2 との間
に接続され、ゲートが出力ノードN1 に接続されたPチ
ャネル型のMOSトランジスタT47と、出力ノードN2
と接地電位ノードとの間に接続され、ゲートが出力ノー
ドN1 に接続されたNチャネル型のMOSトランジスタ
48とからなるフリップフロップ構成をしているもので
ある。
【0034】図6に戻って、704は上記タイミング信
号生成手段からの読出制御(RCD)信号によって活性
化され、上記一対のモード設定データ線F・BL及び/
F・BLに現れた電位差を検知、増幅して出力するカレ
ントミラー回路からなる増幅回路で、電源電位(Vcc)
ノードと出力ノードN3 との間に接続され、ゲートが出
力ノードN4 に接続されたNチャネル型のMOSトラン
ジスタT51と、出力ノードN3 と共通ノードN5 との間
に接続され、ゲートがモード設定データ線/F・BLに
接続されたNチャネル型のMOSトランジスタT52と、
電源電位(Vcc)ノードと出力ノードN4 との間に接続
され、ゲートが出力ノードN4 に接続されたNチャネル
型のMOSトランジスタT53と、出力ノードN4 と共通
ノードN 5 との間に接続され、ゲートがモード設定デー
タ線F・BLに接続されたNチャネル型のMOSトラン
ジスタT54と、共通ノードN5 と接地電位ノードとの間
に接続され、ゲートに上記読出制御(RCD)信号を受
けるNチャネル型のMOSトランジスタT55とを有して
いるものである。
【0035】705は上記増幅回路704の出力ノード
3 からの出力を受けてその出力情報をラッチするラッ
チ回路で、逆並列接続された2個のインバータI11及び
12によって構成されている。706はこのラッチ回路
にてラッチされた情報をモード切替(MODE)信号と
して出力するための出力バッファ回路で、インバータに
よって構成されているものであり、上記増幅回路704
及び上記ラッチ回路705とで、上記記憶部703に記
憶されたモード設定データをモード切替(MODE)信
号として出力する出力部を構成しているものである。ま
た、入力部702、記憶部703及び出力部704〜7
06によって、タイミング信号生成手段からのタイミン
グ信号を受けて、データ用ボンディングパッドDQ4
介して入力されるデータに基づいて強誘電体容量性素子
1 及びC2 にモード設定データを記憶し、かつ、強誘
電体容量性素子C1 及びC2 に記憶されたモード設定デ
ータに基づいてモード切替信号を出力するモード切替信
号生成部を構成しているものである。
【0036】次に、このように構成された半導体記憶装
置において、×1モードまたは×4モードに選択、特定
される動作について説明する。まず、モード切替信号生
成手段7に、×4モードを設定、つまり、記憶させる場
合について、特に図9の波形図を用いて説明する。記憶
させる場合、まず、チップ制御手段6からテストモード
信号が出力されるように、/RAS信号の立ち下がりの
前に/WE信号と/CAS信号を立ち下げるWCBRの
タイミングで、/RAS信号、/WE信号及び/CAS
信号を入力するとともに、あるアドレス用のボンディン
グパッドに電源電位より高い高入力電圧を加える。
【0037】その結果、チップ制御手段6のテストモー
ド信号発生手段からテストモード信号が出力されると、
このテストモード信号を受けたモード切替信号生成手段
7のタイミング信号生成手段701は図9に示すモード
書込(TMW)信号、読出制御(RCD)信号、第1の
接続用(F・WL)信号、第2の接続用(F・CNT
L)信号、プレート(F・PCP)信号を出力すること
になる。
【0038】図9における時刻T1にて、図9の(a)
に示すようにモード書込(TMW)信号がLレベルから
Hレベルに立ち上がる。その結果、このモード書込(T
MW)信号を受けた入力部702のスイッチングトラン
ジスタT31(図6参照)は非導通状態から導通状態に変
化する。今、×4モードに設定する場合を想定している
ので、データ用ボンディングパッドDQ4 には、Lレベ
ルのデータが入力される。その結果、データ用ボンディ
ングパッドDQ4 に入力されたLレベルのデータに基づ
いて、スイッチングトランジスタT31と縦続接続された
2つのインバータI1 及びI2 を介してモード設定用デ
ータ線F・BLにLレベル(接地電位)のデータが伝達
されるとともに、スイッチングトランジスタT31とイン
バータI3を介してモード設定用データ線/F・BLに
Hレベル(電源電位Vccに相当する電位)のデータが伝
達されることになる。
【0039】次に、時刻T2 にて、図9の(c)に示す
ように第1の接続用(F・WL)信号がLレベルからH
レベルに立ち上がる。その結果、記憶部703のトラン
スファゲートT43及びT44(図7参照)は非導通状態か
ら導通状態に変化し、ノードN1 はモード設定用データ
線F・BLと、ノードN2 はモード設定用データ線/F
・BLと電気的に接続され、図9の(f)に示すよう
に、ノードN1 の電位はLレベルに、ノードN2 はHレ
ベルになる。これらノードN1 及びN2 の電位は、第1
の接続用(F・WL)信号がHレベルからLレベルに立
ち下がっても、ラッチ回路F/Fによって維持される。
【0040】その後、時刻T3 にて、図9の(d)に示
すように第2の接続用(F・CNTL)信号がLレベル
からHレベルに立ち上がる。その結果、記憶部703の
スイッチング手段T41及びT42(図7参照)は非導通状
態から導通状態に変化し、ノードN1 と強誘電体容量性
素子C1 、ノードN2 と強誘電体容量性素子C2 とが電
気的に接続されることになる。この時、プレート(F・
PCP)信号は図9の(e)に示すようにLレベルであ
るため、強誘電体容量性素子C2 には正の電圧が印加さ
れたことになり、図8に示すA点の状態になり、強誘電
体容量性素子C2 はQsat の分極電荷を蓄積することに
なる。なお、強誘電体容量性素子C1 の両方の電極はL
レベルであるため、何ら変化しない。
【0041】そして、時刻t4 にて、プレート(F・P
CP)信号がLレベルからHレベルに立ち上がると、ノ
ードN1 の電位がLレベルであるため、強誘電体容量性
素子C1 には負の電圧が印加されたと同等になり、図8
に示すC点の状態になり、強誘電体容量性素子C1 は−
Qsat の分極電荷を蓄積することになる。なお、強誘電
体容量性素子C2 の両方の電極はHレベルになるため、
その分極電荷はQsatからQ(0) (正の分極電荷、図8
のB点の状態)になる。
【0042】その後、時刻t5 にて、プレート(F・P
CP)信号がHレベルからLレベルに立ち下がると、強
誘電体容量性素子C2 には正の電圧が印加され、分極電
荷は一旦Qsat になるものの時刻T6 にて第2の接続用
(F・CNTL)信号がHレベルからLレベルに変化し
てスイッチング手段T42が非導通状態になるため、結果
としてQ(0) の分極電荷を蓄積続ける。また、強誘電体
容量性素子C1 の両方の電極はLレベルになるため、そ
の分極電荷は−Qsat からQ(1) (負の分極電荷、図8
のD点の状態)になり、時刻T6 にて第2の接続用(F
・CNTL)信号がHレベルからLレベルに変化してス
イッチング手段T41が非導通状態になっても、Q(1) の
分極電荷を蓄積続ける。
【0043】その後、時刻T7 にてモード書込(TM
W)信号がHレベルからLレベルに立ち下がり、入力部
702のスイッチングトランジスタT31は導通状態から
非導通状態に変化し、モード切替信号生成手段7はデー
タ用ボンディングパッドDQ4から電気的に切り離さ
れ、モード切替信号生成手段7へのモード設定データの
設定、記憶が完了するものである。
【0044】このようにして、モード切替信号生成手段
7においては、その強誘電体容量性素子C1 にQ(1) の
分極電荷(負の分極電荷)が、強誘電体容量性素子C2
にQ(0) の分極電荷(正の分極電荷)が、電源を切られ
た後でも蓄積され続けるものである。なお、図9の
(b)に示すように読出制御(RCD)信号は常にLレ
ベルとされているため、増幅回路704は非活性状態に
されているものである。また、上記は×4モードを設定
する場合について説明したが、×1モードを設定する場
合には、データ用ボンディングパッドDQ4 にHレベル
を入力させることにより、強誘電体容量性素子C1 にQ
(0) の分極電荷(正の分極電荷)が、強誘電体容量性素
子C2 にQ(1) の分極電荷(負の分極電荷)が蓄積され
ることになる。
【0045】次に、このようにモード切替信号生成手段
7へモード設定データが設定、記憶されている半導体記
憶装置を使用する場合について、特に図10の波形図を
用いて説明する。まず、この半導体記憶装置を使用する
ため、電源が投入されると、チップ制御手段6のパワー
オンリセット信号発生手段から、電源電位ノードに印加
された電源電位を検出して、図10の(a)に示すよう
な所定期間Hレベルとなるパワーオンリセット(PO
R)信号を出力する。
【0046】その結果、チップ制御手段6のパワーオン
リセット信号発生手段からのパワーオンリセット(PO
R)信号を受けたモード切替信号生成手段7のタイミン
グ信号生成手段701は、図10に示すモード書込(T
MW)信号、第2の接続用(F・CNTL)信号、プレ
ート(F・PCP)信号、第1の接続用(F・WL)信
号、読出制御(RCD)信号を出力することになる。
【0047】図10における時刻T1 にて、図10の
(c)に示すように第2の接続用(F・CNTL)信号
がLレベルからHレベルに立ち上がる。その結果、記憶
部703のスイッチング手段T41及びT42(図7参照)
は非導通状態から導通状態に変化し、ノードN1 と強誘
電体容量性素子C1 、ノードN2 と強誘電体容量性素子
2 とが電気的に接続されることになる。
【0048】そして、図10の(d)に示すように、プ
レート(F・PCP)信号が、時刻T2 にて、Lレベル
からHレベルに立ち上がり、時刻T3 にてHレベルから
Lレベルに立ち下がる、つまり、正のパルスが強誘電体
容量性素子C1 及び強誘電体容量性素子C2 の他方の電
極に印加される。すると、強誘電体容量性素子C1 は負
の分極電荷が蓄積されているため、つまり、他方の電極
側は正になっているため、分極反転は生じず電荷量の変
化ほとんどなく、図7に図示した電流I1 はほとんど流
れない。また、強誘電体容量性素子C2 は正の分極電荷
が蓄積されているため、つまり、他方の電極側は負にな
っているため、分極反転を起こすことになり、電荷量の
変化が生じることになり、図7に図示した電流I2 が流
れることになる。
【0049】その結果、ノードN1 に対してノードN2
の電位が高くなるため、このノードN1 とN2 の電位差
をラッチ回路F/Fが検知し、増幅して、図10の
(g)に示すように、ノードN1の電位をLレベル(接
地電位)に、ノードN2 の電位をHレベル(電源電位V
cc)にする。ノードN2 の電位が電源電位になると、プ
レート(F・PCP)信号がLレベル(接地電位)に戻
っているため、強誘電体容量性素子C2 は正の電圧が印
加されたことになり、分極電荷はQsat になり、その後
第2の接続用(F・CNTL)信号がHレベルからLレ
ベルに変化してスイッチング手段T42が非導通状態にな
り、結果としてQ(0) の分極電荷を蓄積することにな
り、元の状態になる。また、強誘電体容量性素子C1
両方の電極はLレベルでなるため、その分極電荷はQ
(1) のままである。このように、一対の強誘電体容量性
素子C1 及びC2 のうちの一方、この場合、強誘電体容
量性素子C2 の記憶内容は破壊読み出しされるものの、
ラッチ回路F/Fによって再書き込みされることにな
る。
【0050】その後、第2の接続用(F・CNTL)信
号をHレベルからLレベルにして、スイッチング手段T
41及びT42を非導通状態して、ノードN1 及びN2 から
強誘電体容量性素子C1 及びC2 を電気的に切り離した
後、時刻T4 にて図10の(e)に示すように第1の接
続用(F・WL)信号がLレベルからHレベルに立ち上
がる。その結果、記憶部703のトランスファゲートT
43及びT44(図7参照)は非導通状態から導通状態に変
化し、ノードN1 はモード設定用データ線F・BLと、
ノードN2 はモード設定用データ線/F・BLと電気的
に接続され、ノードN1 及びN2 の電位はそれぞれモー
ド設定用データ線F・BL及び/F・BLに伝達され、
増幅回路704のトランジスタT54及びT52のゲート電
極に印加される。
【0051】そして、時刻T5 にて、図10の(f)に
示すように、読出制御(RCD)信号がLレベルからH
レベルに立ち上がる。その結果、増幅回路704(図6
参照)は活性状態になり、ノードN1 のLレベルを受け
たトランジスタT54は非導通状態を維持し、ノードN2
のHレベルを受けたトランジスタT52は導通状態にな
り、出力ノードN3 の電位をLレベルにしてラッチ回路
705に出力する。ラッチ回路705は、読出制御(R
CD)信号がHレベルからLレベルに立ち下がり、増幅
回路704が非活性状態になっても、この情報をラッチ
し、Hレベルの出力を出力し続け、出力バッファ回路7
06にて反転されてLレベルのモード切替(MODE)
信号を電源が切られるまで出力し続けるものである。
【0052】なお、上記は×4モードに対するモード切
替(MODE)信号が出力される場合について説明した
が、×1モードに対する場合は、強誘電体容量性素子C
1 にQ(0) の分極電荷(正の分極電荷)が、強誘電体容
量性素子C2 にQ(1) の分極電荷(負の分極電荷)が蓄
積されるため、電源が投入されると、×4モードに対す
る場合と逆に記憶部703のノードN1 がHレベルに、
ノードN2 がLレベルになり、増幅回路704の出力ノ
ードN3 はHレベルになってラッチ回路705及び出力
バッファ回路706を介してHレベルのモード切替(M
ODE)信号を電源が切られるまで出力し続けるもので
ある。
【0053】このようにして、モード切替信号生成手段
7から出力されたモード切替(MODE)信号は、セレ
クタ手段5に出力されることになる。なお、モード書込
(TMW)信号は図10の(b)に示すように常に、L
レベルになっているため、モード切替信号生成手段7の
入力部702のスイッチングトランジスタT31は非導通
状態のままであり、モード切替信号生成手段7はデータ
用ボンディングパッドDQ4 から常に電気的に切り離さ
れているので、データ用ボンディングパッドDQ4 に対
してはなんらの影響も与えないものである。
【0054】そして、セレクタ手段5では、モード切替
(MODE)信号に基づいて、×4モードまたは×1モ
ードにて、入出力線I/O1 〜I/O4 とデータ用ボン
ディングパッドDQ1 〜DQ4 との間でデータのやり取
りを行えるようにするものである。例えば、×4モード
にてメモリセルアレイ1から読み出しデータを読み出す
場合は、セレクタ手段5では、×4モードに対するモー
ド切替(MODE)信号、つまり、Lレベルのモード切
替(MODE)信号を受けると、第1のスイッチ手段5
01〜504(図3参照)は活性状態になって入出力線
I/O1 〜I/O4に伝達されてきたそれぞれの読み出
しデータに基づいたデータを出力バッフア回路505〜
508を介してそれぞれのデータ用ボンディングパッド
DQ1 〜DQ4 に出力する。この時、Lレベルのモード
切替(MODE)信号を受けた第2のスイッチ手段51
5は非活性状態にされ、その出力ノードをハイインピー
ダンス状態にしているので、出力バッフア回路508に
は何らの影響も与えないものである。
【0055】一方、×1モードにてメモリセルアレイ1
から読み出しデータを読み出す場合は、セレクタ手段5
では、×1モードに対するモード切替(MODE)信
号、つまり、Hレベルのモード切替(MODE)信号を
受けると、第2のスイッチ手段515は活性状態にな
り、入出力線I/O1 〜I/O4 に伝達されてきたそれ
ぞれの読み出しデータのうち、選択回路509にて選択
された読み出しデータに基づいたデータを出力バッフア
回路508を介してデータ用ボンディングパッドDQ4
に出力する。この時、Hレベルのモード切替(MOD
E)信号を受けた第1のスイッチ手段501〜504は
非活性状態にされ、その出力ノードをハイインピーダン
ス状態にしているので、出力バッフア回路505〜50
8には何らの影響も与えないものである。
【0056】このように構成された半導体記憶装置にあ
っては、データ用のボンディングパッドDQ4 を用いて
モード設定データのためのデータを入力でき、しかも、
チップ制御手段6のテストモード信号発生手段からのテ
ストモード信号を利用してモード切替信号生成手段7の
記憶部703の強誘電体容量性素子C1 及びC2 に取り
込むことができ、さらに、電源投入により、チップ制御
手段6のパワーオンリセット信号発生手段からのパワー
オンリセット信号によってモード切替信号を出力できる
ため、モード切替設定用のボンディングパッドを全く必
要としないものである。しかも、樹脂モールドの後にモ
ード設定を行えるので、複数の種類のものを樹脂モール
ド後まで一括管理できるものである。
【0057】なお、上記実施例1に示したものは、×1
モードと×4モードとの切り替えに適用した例を示した
が、これに限られるものではない。また、2種類のモー
ドから1種類のモードを選択、特定するものを示した
が、4種類のモードから1種類のモードを選択、特定す
るもの等複数の種類のモードから1種類のモードを選
択、特定するものにも適用できるものである。
【0058】例えば、4種類のモードから1種類のモー
ドを選択、特定するものに適用する場合は、図6に示す
モード切替生成手段7のモード切替信号生成部を2つ設
け、これらモード切替信号生成部からの出力をデコード
する論理回路からなるデコード手段を設けることによっ
て行えるものである。つまり、入力部702、記憶部7
03、出力部704〜706にて構成されるモード切替
信号生成部の記憶部703の記憶内容によって、2つの
モード切替信号生成部の出力は、HH、HL、LH、H
Hの4とおりの組み合わせが生じ、この組み合わせに応
じて4種類のモードを対応させれば、4種類のモードか
ら1種類のモードを選択、特定できるものであり、モー
ド切替信号生成部を増やすことによって、複数種類のモ
ードから1種類のモードの選択、特定が可能になるもの
である。
【0059】実施例2.図11及び図12は、この発明
の実施例2を示すものであり、実施例1のものに対し
て、メモリセルMC11〜MCmnを図11に示すメモリセ
ルに変更した点が相違するだけであり、その他の点につ
いては上記実施例1と同様である。図11に示されたメ
モリセルは、例えば、「強誘電体薄膜集積化技術」(サ
イエンスフォーラム社、1992年2月28日発行)の
P.P.28〜30の図10及びそれに関連する部分に
記載されたものであり、図11において、CL及びCR
はモード切替生成手段7の記憶部703の強誘電体容量
性素子と同様の強誘電体容量性素子で、この例では分極
電荷がQ(0) かQ(1) かによって「0」または「1」の
メモリ内容を記憶するものであり、一対の電極とこれら
一対の電極間に介在されたPZTまたはBaMgF4
の強誘電体膜とを有し、一方の電極にプレート(PC
P)信号線に伝達されたプレート(PCP)信号を受け
るものである。また、これら両強誘電体容量性素子CL
及びCRも、図8に示すように一対の電極間に印加され
る電圧と分極電荷との関係がヒステリシス特性を示して
いるものである。
【0060】TL及びTRはそれぞれ上記強誘電体容量
性素子CL及びCRの他方の電極と出力ノードNL及び
NRとの間に接続され、ゲート電極に制御(CNTL)
信号線に伝達された制御(CNTL)信号を受けるNチ
ャネル型のMOSトランジスタからなるスイッチング手
段、T51及びT52はそれぞれ上記出力ノードNL及びN
Rと対応した列に配設されたビット線BL及び/BLと
の間に接続され、ゲート電極が対応した行に配設された
ワード線(WL)に接続され、このワード線(WL)に
伝達された行選択活性化信号を受けるNチャネル型のM
OSトランジスタからなるトランスファーゲートであ
る。
【0061】F/F0 は上記出力ノードNl及びNRに
現れた電位差を検知、増幅してラッチするラッチ回路
で、電源電位(Vcc)ノードと出力ノードNLとの間に
接続され、ゲートが出力ノードNLに接続されたPチャ
ネル型のMOSトランジスタT53と、出力ノードNLと
接地電位ノードとの間に接続され、ゲートが出力ノード
NRに接続されたNチャネル型のMOSトランジスタT
54と、電源電位(Vcc)ノードと出力ノードNRとの間
に接続され、ゲートが出力ノードNLに接続されたPチ
ャネル型のMOSトランジスタT55と、出力ノードNR
と接地電位ノードとの間に接続され、ゲートが出力ノー
ドNLに接続されたNチャネル型のMOSトランジスタ
56とからなるフリップフロップ構成をしているもので
ある。
【0062】そして、このようにメモリセルが構成され
たことにより、図12に示すように、制御(CNTL)
信号線は、各行毎にワード線WL1 〜Wlm と並行に配
置された複数の信号線を有し、メモリセルアレイの一端
側で共通接続されて制御(CNTL)信号が与えられて
いるものであり、また、プレート(PCP)信号線は、
各行毎にワード線WL1 〜Wlm と並行に配置された複
数の信号線を有し、メモリセルアレイの他端側で共通接
続されてプレート(PCP)信号が与えられているもの
である。
【0063】このように構成された半導体記憶装置にお
いて、メモリセルMC11〜MCmnへのデータの書き込む
動作及びメモリセルMC11〜MCmnからのデータの読み
出す動作は、上記した「強誘電体薄膜集積化技術」(サ
イエンスフォーラム社、1992年2月28日発行)の
P30に記載されているものであり、ロウデコーダ3及
びコラムデコーダ4によって選択されたメモリセルへの
データの書き込み、ロウデコーダ3及びコラムデコーダ
4によって選択されたメモリセルからのデータの読み出
しが行えるものであり、×1モードまたは×4モードに
選択、特定される動作は、上記した実施例1と同様に動
作するものである。
【0064】従って、このように構成された半導体記憶
装置にあっても、上記した実施例1と同様の効果を奏す
るとともに、メモリセルMC11〜MCmnに強誘電体容量
性素子CL及びCRが用いられているため、モード切替
信号生成手段7の記憶部703の強誘電体容量性素子C
1 及びC2 をメモリセルMC11〜MCmnに強誘電体容量
性素子CL及びCRを製造する工程と同じ工程によって
製造できるため、なんら製造工程を増やすことなく、モ
ード切替信号生成手段7を同じ半導体基板内に形成でき
るという効果も有するものである。
【0065】実施例3.図13はこの発明の実施例3を
示すものであり、実施例1のものに対して、メモリセル
MC11〜MCmnを図13に示すメモリセルに変更した点
が相違するだけであり、その他の点については上記実施
例1と同様である。図13に示されたメモリセルは、例
えば、「強誘電体薄膜集積化技術」(サイエンスフォー
ラム社、1992年2月28日発行)のP.P.30〜
33の図11または図15びそれに関連する部分に記載
されたものであり、図13において、Trは半導体基板
の一主面に形成された一対のソース/ドレイン領域と、
これら一対のソース/ドレイン領域に挟まれた半導体基
板の一主面上にゲート絶縁膜を介して形成されたゲート
電極とを有し、上記一対のソース/ドレイン領域の一方
のソース/ドレイン領域が対応した列のビット線対B
L、/BLの一方のビット線に接続され、ゲート電極が
対応した行のワード線WLに接続されたMOSトランジ
スタからなるスイッチングトランジスタである。
【0066】FCは半導体基板の一主面上に形成され、
上記スイッチングトランジスタTrの他方のソース/ド
レイン領域に接続されるストレージノードと、このスト
レージノードにPZTまたはBaMgF4 等の強誘電体
膜を介して形成され、セルプレート電位(通常、印加さ
れる電源電位の1/2の電位)が印加されるセルプレー
トとを有した強誘電体容量性素子で、モード切替生成手
段7の記憶部703の強誘電体容量性素子と同様の強誘
電体容量性素子で構成されており、この例では分極電荷
がQ(0) かQ(1) かによって「0」または「1」のメモ
リ内容を記憶するものである。また、この強誘電体容量
性素子FCも、図8に示すように一対の電極間に印加さ
れる電圧と分極電荷との関係がヒステリシス特性を示し
ているものである。
【0067】このように構成された半導体記憶装置にお
いて、メモリセルMC11〜MCmnへのデータの書き込む
動作及びメモリセルMC11〜MCmnからのデータの読み
出す動作は、上記した「強誘電体薄膜集積化技術」(サ
イエンスフォーラム社、1992年2月28日発行)の
P31に記載されているものであり、ロウデコーダ3及
びコラムデコーダ4によって選択されたメモリセルへの
データの書き込み、ロウデコーダ3及びコラムデコーダ
4によって選択されたメモリセルからのデータの読み出
しが行えるものであり、×1モードまたは×4モードに
選択、特定される動作は、上記した実施例1と同様に動
作するものである。
【0068】従って、このように構成された半導体記憶
装置にあっても、上記した実施例1と同様の効果を奏す
るとともに、メモリセルMC11〜MCmnに強誘電体容量
性素子FCが用いられているため、モード切替信号生成
手段7の記憶部703の強誘電体容量性素子C1 及びC
2 をメモリセルMC11〜MCmnに強誘電体容量性素子F
Cを製造する工程と同じ工程によって製造できるため、
なんら製造工程を増やすことなく、モード切替信号生成
手段7を同じ半導体基板内に形成できるという効果も有
するものである。
【0069】
【発明の効果】この発明の第1の発明は、モード切替信
号に基づいて複数種類のモードから1種類のモードに選
択、特定されるものにおいて、一対の電極とこれら一対
の電極間に介在された強誘電体膜とを有し、設定される
モードを示すモード設定データを記憶するための強誘電
体容量性素子を具備し、この強誘電体容量性素子に記憶
された情報に基づいてモード切替信号を出力するモード
切替信号生成手段を設けたので、モード切替信号生成手
段の強誘電体容量性素子に記憶されたモード設定データ
によりモード切替信号を出力するため、モード設定を樹
脂モールド後に行うことができ、複数の種類のものを樹
脂モールド後にまで一括管理できるという効果を有する
とともに、モード設定のための専用のボンディングパッ
ドを設けなくともすむ構成になっているため、半導体チ
ップにおけるチップ面積に占めるボンディングパッドの
占める面積を削減でき、ひいてはチップ面積を小さくで
きるという効果をも併せ持つものである。
【0070】この発明の第2の発明は、複数のメモリセ
ルを有したメモリセルアレイと、このメモリセルアレイ
の複数のメモリセルから所定数のメモリセルを選択し、
選択された所定数のメモリセルに記憶されたデータを所
定数の出力線に伝達するデコード手段と、モード切替信
号を受け、このモード切替信号が第1のモードを示すと
所定数の出力線に伝達されたデータをそれぞれ所定数の
データ用ボンディングパッドに伝達し、モード切替信号
が第2のモードを示すと所定数の出力線から特定の出力
線を選択し、特定の出力線に伝達されたデータを所定数
のデータ用ボンディングパッドのうちの特定のデータ用
ボンディングパッドに伝達するセレクタ手段と、一対の
電極とこれら一対の電極間に介在された強誘電体膜とを
有し、第1のモードまたは第2のモードを示すモード設
定データを記憶するための強誘電体容量性素子を有し、
この強誘電体容量性素子に記憶された情報に基づいてセ
レクタ手段へのモード切替信号を出力するモード切替信
号生成手段とを設けたので、モード切替信号生成手段の
強誘電体容量性素子に記憶された、第1のモードまたは
第2のモードを示すモード設定データによりモード切替
信号をセレクタ手段へ出力するため、モード設定を樹脂
モールド後に行うことができ、複数の種類のものを樹脂
モールド後にまで一括管理できるという効果を有すると
ともに、モード設定のための専用のボンディングパッド
を設けなくともすむ構成になっているため、半導体チッ
プにおけるチップ面積に占めるボンディングパッドの占
める面積を削減でき、ひいてはチップ面積を小さくでき
るという効果をも併せ持つものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施例1をブロック図。
【図2】 この発明の実施例1のメモリセルMC11〜M
mnを示す回路図。
【図3】 この発明の実施例1のセレクタ手段5を示す
回路図。
【図4】 この発明の実施例1のセレクタ手段5の第1
のスイッチ手段501〜504を示す回路図。
【図5】 この発明の実施例1のセレクタ手段5の第2
のスイッチ手段515を示す回路図。
【図6】 この発明の実施例1のモード切替信号生成手
段7を示す回路図。
【図7】 この発明の実施例1のモード切替信号生成手
段7の記憶部703を示す回路図。
【図8】 この発明の実施例1のモード切替信号生成手
段7の記憶部703の強誘電体容量性素子C1 及びC2
の印加電圧に対する分極電荷の関係を示す図。
【図9】 この発明の実施例1のモード切替信号生成手
段7における、データ記憶時のタイミング信号のタイミ
ングを示す図。
【図10】 この発明の実施例1のモード切替信号生成
手段7における、電源投入後のタイミング信号のタイミ
ングを示す図。
【図11】 この発明の実施例2のメモリセルを示す回
路図。
【図12】 この発明の実施例2を示すブロック回路
図。
【図13】 この発明の実施例3のメモリセルを示す回
路図。
【図14】 従来の半導体記憶装置におけるモード選
定、特定のためのボンディングオプションを示す構成
図。
【符号の説明】
1 メモリセルアレイ、3 ロウデコーダ、4 トラン
スファゲート・コラムデコーダ、5 セレクタ手段、7
モード切替生成手段、701 タイミング信号生成手
段、702 入力部、703 記憶部、704 増幅回
路、705ラッチ回路、706 出力バッフア回路、C
1 、C2 強誘電体容量性素子。

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 モード切替信号に基づいて複数種類のモ
    ードから1種類のモードに選択、特定されるものにおい
    て、一対の電極とこれら一対の電極間に介在された強誘
    電体膜とを有し、設定されるモードを示すモード設定デ
    ータを記憶するための強誘電体容量性素子を具備し、こ
    の強誘電体容量性素子に記憶された情報に基づいて上記
    モード切替信号を出力するモード切替信号生成手段を備
    えたことを特徴とする半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 複数のメモリセルを有したメモリセルア
    レイ、 このメモリセルアレイの複数のメモリセルから所定数の
    メモリセルを選択し、選択された所定数のメモリセルに
    記憶されたデータを所定数の出力線に伝達するデコード
    手段、 モード切替信号を受け、このモード切替信号が第1のモ
    ードを示す上記所定数の出力線に伝達されたデータをそ
    れぞれ所定数のデータ用ボンディングパッドに伝達し、
    上記モード切替信号が第2のモードを示すと上記所定数
    の出力線から特定の出力線を選択し、特定の出力線に伝
    達されたデータを上記所定数のデータ用ボンディングパ
    ッドのうちの特定のデータ用ボンディングパッドに伝達
    するセレクタ手段、 一対の電極とこれら一対の電極間に介在された強誘電体
    膜とを有し、上記第1のモードまたは上記第2のモード
    を示すモード設定データを記憶するための強誘電体容量
    性素子を有し、この強誘電体容量性素子に記憶された情
    報に基づいて上記セレクタ手段へのモード切替信号を出
    力するモード切替信号生成手段を備えた半導体記憶装
    置。
  3. 【請求項3】 電源が投入されたことによりパワーオン
    リセット信号を出力するパワーオンリセット信号発生手
    段を有し、 モード切替信号生成手段は、このパワーオンリセット信
    号発生手段からのパワーオンリセット信号に基づいて制
    御されてモード切替信号を出力することを特徴とする請
    求項1または請求項2記載の半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 モード切替信号生成手段は、モード設定
    データを強誘電体容量性素子に記憶させる時に、通常動
    作時に使用されるボンディングパッドと電気的に接続さ
    れ、この接続されたボンディングパッドからモード設定
    データが入力されることを特徴とする請求項1ないし請
    求項3のいずれかに記載の半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】 テストモード信号を出力するテストモー
    ド信号発生手段を有し、 モード切替信号生成手段は、このテストモード信号発生
    手段からのテストモード信号に基づいて制御され、通常
    動作時に使用されるボンディングパッドと電気的に接続
    されてこの接続されたボンディングパッドからモード設
    定データを入力し、このモード設定データを強誘電体容
    量性素子に記憶させることを特徴とする請求項1ないし
    請求項3のいずれかに記載の半導体記憶装置。
  6. 【請求項6】 モード切替信号生成手段は、 種々のタイミング信号を出力するタイミング信号生成手
    段と、 このタイミング信号生成手段からの種々のタイミング信
    号を受けて、ボンディングパッドを介して入力されるデ
    ータに基づいて強誘電体容量性素子にモード設定データ
    を記憶し、かつ、強誘電体容量性素子に記憶されたモー
    ド設定データに基づいてモード切替信号を出力するモー
    ド切替信号生成部を備えたことを特徴とする請求項1な
    いし請求項5のいずれかに記載の半導体記憶装置。
  7. 【請求項7】 モード切替信号生成手段は、 種々のタイミング信号を出力するタイミング信号生成手
    段と、 このタイミング信号生成手段からのタイミング信号によ
    り制御され、モード設定データを記憶する強誘電体容量
    性素子を有する記憶部と、 上記タイミング信号生成手段からのタイミング信号によ
    り、モード設定データを上記記憶部の強誘電体容量性素
    子に記憶させる時、ボンディングパッドからモード設定
    データを取り込み、上記記憶部に出力する入力部と、 上記タイミング信号生成手段からのタイミング信号によ
    り、モード切替信号を出力する時、上記記憶部に記憶さ
    れたモード設定データをモード切替信号として出力する
    出力部を備えたことを特徴とする請求項1ないし請求項
    5のいずれかに記載の半導体記憶装置。
  8. 【請求項8】 モード切替信号生成手段の入力部は、タ
    イミング信号生成手段からのタイミング信号の一つであ
    るモード書込信号を受け、設定されるモードを示すモー
    ド設定データを記憶部の強誘電体容量性素子に記憶させ
    る時、ボンディングパッドとモード設定データが伝達さ
    れる一対のモード設定用データ線とを電気的に接続し、
    一対のモード設定データ線の一方にボンディングパッド
    に入力されたモード設定データに相当するデータを伝達
    し、他方のモード設定データ線にボンディングパッドに
    入力されたモード設定データに対して反転するデータを
    伝達するものであることを特徴とする請求項7記載の半
    導体記憶装置。
  9. 【請求項9】 モード切替信号生成手段の記憶部は、 それぞれが一対の電極とこれら一対の電極間に介在され
    た強誘電体膜とを有し、一方の電極にタイミング信号生
    成手段からのタイミング信号の一つであるプレート信号
    を受け、モード設定データを記憶するための一対の強誘
    電体容量性素子と、 それぞれが上記強誘電体容量性素子の他方の電極と一対
    の出力ノードとの間に接続され、タイミング信号生成手
    段からのタイミング信号の一つである第2の接続用信号
    により導通・非導通状態が制御される一対のスイッチン
    グ手段と、 それぞれが上記一対の出力ノードとモード設定データが
    伝達される一対のモード設定データ線との間に接続さ
    れ、タイミング信号生成手段からのタイミング信号の一
    つである第1の接続用信号により導通・非導通状態が制
    御される一対のトランスファーゲートと、 上記一対の出力ノードに現れた電位差を検知、増幅して
    ラッチするラッチ回路とを備えたことを特徴とする請求
    項7または請求項8記載の半導体記憶装置。
  10. 【請求項10】 モード切替信号生成手段の出力部は、 タイミング信号生成手段からのタイミング信号の一つで
    ある読出制御信号によって活性化され、記憶部から出力
    されたモード設定データに基づいた一対のモード設定デ
    ータ線に現れた電位差を検知、増幅して出力する増幅回
    路と、 この増幅回路からの出力を受けてその出力情報をラッチ
    するラッチ回路と、 このラッチ回路にてラッチされた情報をモード切替信号
    として出力するための出力バッファ回路とを備えたこと
    を特徴とする請求項7ないし請求項9のいずれかに記載
    の半導体記憶装置。
  11. 【請求項11】 メモリセルアレイの各メモリセルは、 一対のソース/ドレイン領域の一方のソース/ドレイン
    領域が対応した列のビット線に接続され、ゲート電極が
    対応した行のワード線に接続されたMOSトランジス
    タ、 このMOSの他方のソース/ドレイン領域に接続される
    ストレージノードと、このストレージノードに酸化膜あ
    るいは酸化膜と窒化膜の積層膜からなる誘電体膜を介し
    て形成され、セルプレート電位が印加されるセルプレー
    トとを有したキャパシタから構成されていることを特徴
    とする請求項1ないし請求項10のいずれかに記載の半
    導体記憶装置。
  12. 【請求項12】 メモリセルアレイの各メモリセルは、
    一対の電極とこれら一対の電極間に介在された強誘電体
    膜とを有し、記憶情報を記憶するための強誘電体容量性
    素子を備えていることを特徴とする請求項1ないし請求
    項11のいずれかに記載の半導体記憶装置。
JP7002616A 1995-01-11 1995-01-11 半導体記憶装置 Pending JPH08195079A (ja)

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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6168959B1 (en) 1998-12-30 2001-01-02 Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. Method of forming a ferroelectric memory device
JP2004199849A (ja) * 2002-12-13 2004-07-15 Hynix Semiconductor Inc 入/出力の帯域幅を調節可能なメモリ装置
JP2004348939A (ja) * 2003-05-23 2004-12-09 Hynix Semiconductor Inc 不揮発性強誘電体レジスタを利用した入出力バイト制御装置
JP2007280596A (ja) * 2006-04-05 2007-10-25 Hynix Semiconductor Inc 半導体記憶装置のデータ出力回路およびデータ出力制御方法
JP2009064538A (ja) * 2007-09-05 2009-03-26 Hynix Semiconductor Inc アドレス置換回路及びそれを含む半導体記憶装置
JP2010061787A (ja) * 2002-11-12 2010-03-18 Hynix Semiconductor Inc 不揮発性強誘電体メモリの制御装置
JP2010160895A (ja) * 1998-06-12 2010-07-22 St Microelectron Inc 汎用ポートをjtagポートとして利用可能なメモリチップ
CN112986797A (zh) * 2021-02-08 2021-06-18 昂宝电子(上海)有限公司 芯片测试电路及方法

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