JPH08188559A - 多鎖型アミン誘導体及びその製造方法 - Google Patents
多鎖型アミン誘導体及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH08188559A JPH08188559A JP58795A JP58795A JPH08188559A JP H08188559 A JPH08188559 A JP H08188559A JP 58795 A JP58795 A JP 58795A JP 58795 A JP58795 A JP 58795A JP H08188559 A JPH08188559 A JP H08188559A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- amine derivative
- linear
- substituted
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Cosmetics (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
ミン誘導体及びその製造方法。 【化1】 〔R1 及びR3 は同一又は異なってヒドロキシル基が置
換していてもよいC4〜24のアルキル基又はアルケニ
ル基、すべてのR2 は同一又は異なってそれぞれヒドロ
キシル基が置換していてもよいC1〜24のアルキル基
又はアルケニル基、Xはハロゲン原子、nは1〜8の整
数。〕 【効果】 皮膚や毛髪に対して低刺激で好ましい感触を
与え、かつ優れた起泡力及び乳化安定性を有し、各種洗
浄剤、乳化剤、コンディショニング剤等の成分として有
用である。
Description
基剤、洗浄剤、乳化剤、コンディショニング剤等として
有用な多鎖型アミン誘導体及びその製造方法に関する。
酸塩、ポリオキシエチレンアルキル硫酸塩、アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩などの界面活性剤が使用されてい
る。しかし、これらの多くは使用時において皮膚に対す
る刺激がやや強いという問題がある。このため、アルキ
ルリン酸塩、アシル化アミノ酸塩などの皮膚刺激の弱い
界面活性剤が、毛髪及び皮膚化粧料の基剤、乳化剤とし
て又は皮膚等の洗浄剤として使用されるようになってい
る。
多様化や高級品指向に伴い、皮膚などに対する刺激が少
ないことに加え、起泡性が良いこと、皮膚などに好まし
い感触を付与できることなどの性能を有するものが求め
られており、上記の界面活性剤はこれらの要求を充分満
足できるものではなかった。
の仕上げ剤として、カチオン界面活性剤である第四級ア
ンモニウム塩が種々使用されている。しかし、第四級ア
ンモニウム塩は起泡性が不充分であることや皮膚等に対
する刺激が強いことなどから、化粧料の基剤、乳化剤、
皮膚等の洗浄剤等には使用されず、極めて限定された用
途でのみ使用されている。
は、上記問題点を解決し、皮膚などに対する刺激が少な
く、起泡性に優れ、更に皮膚等に好ましい感触を与える
ことができ、毛髪及び皮膚化粧料の基剤、洗浄剤、乳化
剤、コンディショニング剤などとして有用な化合物を提
供することにある。
究を行った結果、後記一般式(1)又は(2)で表され
る新規化合物が、皮膚等に対して低刺激で好ましい感触
を与え、かつ優れた起泡性及び乳化安定性を有すること
を見出し、本発明を完成した。
ヒドロキシル基が置換していてもよい直鎖もしくは分岐
鎖の炭素数4〜24のアルキル基又はアルケニル基を示
し、すべてのR2 は同一又は異なってそれぞれヒドロキ
シル基が置換していてもよい直鎖もしくは分岐鎖の炭素
数1〜24のアルキル基又はアルケニル基を示し、Xは
ハロゲン原子を示し、nは1〜8の整数を示す。〕で表
される多鎖型アミン誘導体、及び次の一般式(2)
記と同じ意味を有する。〕で表される多鎖型アミン誘導
体又はその塩、並びにこれらの製造方法に係るものであ
る。
としては、2−ヒドロキシプロパンジアミン構造を有す
る化合物(米国特許第3654158号明細書、西独特
許第3607884号明細書、米国特許第498200
0号明細書、特開平1−233264号公報、特開平2
−223515号公報等)が知られているが、本発明の
化合物は3鎖以上の中〜長鎖アルキル基を有する多価カ
チオン界面活性剤であり、構造、機能ともにこれらの化
合物と異なっている。
で示されるヒドロキシル基が置換していてもよい直鎖も
しくは分岐鎖の炭素数4〜24のアルキル基又はアルケ
ニル基の具体例としては、以下のものを挙げることがで
きる。
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、
ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペ
ンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシ
ル、ノナデシル、イコシル、ヘンイコシル、ドコシル、
トリコシル及びテトラコシルを挙げることができ、分岐
鎖アルキル基としては、例えばメチルヘキシル、エチル
ヘキシル、メチルヘプチル、エチルヘプチル、メチルノ
ニル、メチルウンデシル、メチルヘプタデシル、ヘキシ
ルデシル、オクチルデシルなどの基を挙げることができ
る。
ル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニ
ル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、
トリデセニル、テトラデセニル、ペンタデセニル、ヘキ
サデセニル、ヘプタデセニル、オクタデセニル、ノナデ
セニル、イコセニル、ヘンイコセニル、ドコセニル、ト
リコセニル、テトラコセニルなどの基を挙げることがで
き、分岐鎖アルケニル基としては、例えばメチルヘキセ
ニル、エチルヘキセニル、メチルヘプテニル、エチルヘ
プテニル、メチルノネニル、メチルウンデセニル、メチ
ルヘプタデセニル、ヘキシルデセニル、オクチルデセニ
ルなどの基を挙げることができる。
鎖のアルキル基としては、ヒドロキシル基の置換位置は
特に限定されず、例えばヒドロキシブチル、ヒドロキシ
ペンチル、ヒドロキシヘキシル、ヒドロキシヘプチル、
ヒドロキシオクチル、ヒドロキシノニル、ヒドロキシデ
シル、ヒドロキシウンデシル、ヒドロキシドデシル、ヒ
ドロキシトリデシル、ヒドロキシテトラデシル、ヒドロ
キシペンタデシル、ヒドロキシヘキサデシル、ヒドロキ
シヘプタデシル、ヒドロキシオクタデシル、ヒドロキシ
ノナデシル、ヒドロキシイコシル、ヒドロキシヘンイコ
シル、ヒドロキシドコシル、ヒドロキシトリコシル、ヒ
ドロキシテトラコシル、ヒドロキシメチルヘキシル、ヒ
ドロキシエチルヘキシル、ヒドロキシメチルヘプチル、
ヒドロキシエチルヘプチル、ヒドロキシメチルノニル、
ヒドロキシメチルウンデシル、ヒドロキシメチルヘプタ
デシル、ヒドロキシヘキシルデシル、ヒドロキシオクチ
ルデシルブチルなどの基を挙げることができる。
鎖のアルケニル基としては、ヒドロキシル基の置換位置
は特に限定されず、例えばヒドロキシブテニル、ヒドロ
キシペンテニル、ヒドロキシヘキセニル、ヒドロキシヘ
プテニル、ヒドロキシオクテニル、ヒドロキシノネニ
ル、ヒドロキシデセニル、ヒドロキシウンデセニル、ヒ
ドロキシドデセニル、ヒドロキシトリデセニル、ヒドロ
キシテトラデセニル、ヒドロキシペンタデセニル、ヒド
ロキシヘキサデセニル、ヒドロキシヘプタデセニル、ヒ
ドロキシオクタデセニル、ヒドロキシノナデセニル、ヒ
ドロキシイコセニル、ヒドロキシヘンイコセニル、ヒド
ロキシドコセニル、ヒドロキシトリコセニル、ヒドロキ
シテトラコセニル、ヒドロキシメチルヘキセニル、ヒド
ロキシエチルヘキセニル、ヒドロキシメチルヘプテニ
ル、ヒドロキシエチルヘプテニル、ヒドロキシメチルノ
ネニル、ヒドロキシメチルウンデセニル、ヒドロキシメ
チルヘプタデセニル、ヒドロキシヘキシルデセニル、ヒ
ドロキシオクチルデセニルなどの基を挙げることができ
る。
又は分岐鎖の炭素数4〜18のアルキル基が好ましく、
更に直鎖又は分岐鎖の炭素数8〜16のアルキル基が好
ましく、特に直鎖の炭素数8〜16のアルキル基が好ま
しい。
しては、上記R1 及びR3 と同様の基のほか、メチル、
エチル、プロピル、エテニル、プロペニル、ヒドロキシ
メチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、ヒド
ロキシエテニル、ヒドロキシプロペニルなどの炭素数1
〜3の基が挙げられる。R2 としては、これらのうちヒ
ドロキシル基が置換していてもよい直鎖又は分岐鎖の炭
素数1〜3のアルキル基が好ましく、特にメチル基が好
ましい。1分子中の(4+n)個のR2 は同一であって
も異なっていてもよいが、同一であるのがより好まし
い。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子及びヨウ素原子が挙げられ、中でも塩素原子及び臭素
原子が好ましく、特に塩素原子が好ましい。
整数を示すが、化合物としては単一のnを有する場合に
限られず、異なるnを有する化合物の混合物であっても
よい。好ましいnは1〜3の整数、特に1である。
に従って製造することができる。
記と同じ意味を示す。〕 すなわち、ポリ(3−アミノ−2−ヒドロキシプロピ
ル)アミン誘導体(3)とハロゲン化炭化水素(4)を
反応させることにより、本発明の多鎖型アミン誘導体
(1)が製造される。
例えば不活性溶媒の存在下、20〜150℃、好ましく
は60〜120℃で、化合物(3)のアミノ基に対し2
〜10倍当量の化合物(4)を反応させることによって
行われる。この際、反応により生成するハロゲン化水素
を中和するため、種々のアルカリ剤を共存させることに
より、より円滑に反応が進行する。アルカリ剤として
は、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩等が挙
げられるが、特に水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム等が好ましい。また、不活性溶媒とし
ては、水、アルコール、脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族
炭化水素系溶媒等が挙げられ、これらの1種を単独で、
又は2種以上を組み合せて用いることができるが、特に
水、低級アルコール又は水と低級アルコールの混合溶媒
が好ましい。
2 の異なる2種以上を組み合せて用いることにより、2
種以上のR2 を有する化合物(1)を製造することがで
きるが、単一の化合物(4)を用いてすべてのR2 が同
一である化合物(1)を製造するのが簡便であり、より
好ましい。
に従って製造することができる。
記と同じ意味を示す。〕 すなわち、ポリアミノビス(3−ハロ−2−ヒドロキシ
プロピル)化合物(5)と3級アミン(6)とを反応さ
せることにより、本発明化合物(2)が製造される。
溶媒の存在下又は不存在下、20〜120℃、好ましく
は50〜100℃で、化合物(5)に対し2〜3倍モル
の化合物(6)を反応させることによって行われる。溶
媒としては前記反応aと同様のものが用いられる。ま
た、反応後、塩化水素、フッ化水素等のハロゲン化水素
によりpH調整することにより、塩にすることができる。
ン化炭化水素(4)を反応させてn個のアミノ基を4級
化させることにより、本発明化合物(1)を製造するこ
とができる。
(1)の原料として用いた化合物(3)及び前記反応b
において本発明化合物(2)の原料として用いた化合物
(5)は、例えば以下の反応式に従って製造することが
できる。
じ意味を示し、n′は1〜8の整数、mは0〜2の整数
であって、2m+n′=nを満たすものを示す。〕
ヒドリン(8)を反応させることにより化合物(5)が
得られ、当該化合物又はこれに塩基化合物を作用させて
得られるエポキシ化合物(9)とアミン誘導体(10)
とを反応させることにより、化合物(3)が得られる。
(8)との反応は、例えば無溶媒下、又は低級アルコー
ル、エーテル、芳香族炭化水素もしくはこれらの混合物
等の反応に不活性な溶媒中、好ましくは−20〜100
℃、特に好ましくは0〜60℃で行うことができる。ま
た使用するアミン誘導体(7)とエピハロヒドリン
(8)の量比は、適宜設定することができるが、エピハ
ロヒドリン(8)をアミン誘導体(7)に対して2〜5
倍モル使用するのが好ましい。
れる塩基性化合物としては、例えばアルカリ金属水酸化
物、アルカリ金属炭酸塩、アミン類等が好ましく、特に
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。
物との反応は、例えば水、低級アルコールもしくはこれ
らの混合物等の反応に不活性な溶媒中、好ましくは0〜
80℃、特に好ましくは20〜60℃で行うことができ
る。また使用するハロヒドリン化合物(5)′と塩基性
化合物の量比は、適宜設定することができるが、塩基性
化合物をハロヒドリン化合物(5)′に対して2〜5倍
モル使用するのが好ましい。
合物(5)′又はエポキシ化合物(9)とアミン誘導体
(10)との反応は、例えば無溶媒下、又は低級アルコ
ール、エーテル、芳香族炭化水素もしくはこれらの混合
物などの反応に不活性な溶媒中、好ましくは40〜15
0℃、特に好ましくは60〜100℃で行うことができ
る。また、反応に使用する各化合物の量比は、適宜設定
することができるが、一般には、アミン誘導体(10)
をハロヒドリン化合物(5)′又はエポキシ化合物
(9)に対して2〜20倍モル、特に2〜10倍モル使
用するのが好ましい。
(5)を得ることができるが、反応条件等によってはこ
のほかにアミンと酸の塩、無機塩、未反応の各化合物な
どが副生、残存することがある。よって、本発明におい
ては、反応生成物をそのまま使用することも可能である
が、必要に応じて、溶媒分別法、透析法、再結晶法、蒸
留法、分配クロマトグラフィー法、ゲル濾過法など、公
知の方法により更に精製することもできる。
(2)は、皮膚等に対して低刺激で好ましい感触を与
え、かつ優れた起泡力を有することから、皮膚、毛髪、
食器、衣料用等、各種洗浄剤に、また安定な乳化性能を
有することから、皮膚、毛髪用化粧料の乳化剤、コンデ
ィショニング剤として使用することができる。
合、必要に応じて公知の各種界面活性剤、保湿剤、殺菌
剤、乳化剤、増粘剤、パール化剤、二価金属イオン捕捉
剤、アルカリ剤、無機塩、再汚染防止剤、酵素、有効塩
素の捕捉剤、還元剤、漂白剤、蛍光染料、可溶化剤、香
料、ケーキング防止剤、酵素の活性化剤、酸化防止剤、
防腐剤、色素、青味付け剤、漂白活性化剤、酵素安定化
剤、相調節剤、浸透剤等を配合することができる。
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
−ジヒドロキシ−13,17,21−トリアザトリトリ
アコンタン25g(0.037モル)、塩化メチル21
g(0.42モル)、炭酸ナトリウム4.7g(0.0
44モル)、イソプロピルアルコール200ml及び水5
0mlを入れ、100℃に昇温した。その後、100℃を
6時間維持し、室温まで放冷後、減圧下、溶媒を留去
し、残渣をクロロホルム300mlに溶解し、水洗を行っ
た。減圧下、クロロホルムを留去し、17−ドデシル−
15,19−ジヒドロキシ−13,13,17,21,
21−ペンタメチル−13,17,21−トリアゾニア
トリトリアコンタンクロリド31g(収率98%)を得
た。この化合物は、高速液体クロマトグラフィー〔カラ
ム;RP−18(Merck社製),溶離液;メタノール/
水=9/1(20mMテトラブチルアンモニウムブロミ
ド)〕により、単一物であることを確認した。
(0.10モル)、エタノール25g及びキシレン25
gを入れ、10℃に冷却した。そこへ、エピクロルヒド
リン31.8g(0.34モル)を2回に分けて加え、
室温で22時間攪拌した。その後キシレン20gを入
れ、減圧下、留去して過剰のエピクロルヒドリンを留去
した。薄層クロマトグラフィー(シリカゲル,展開;ク
ロロホルム/メタノール=3/1,アンモニア水0.1
%)により、原料アミンの消失と、N,N−ビス(3−
クロロ−2−ヒドロキシプロピル)−ヘキサデシルアミ
ンの生成を確認した。この残渣にキシレン50gを加
え、N,N−ジメチル−N−ヘキサデシルアミン83.
7g(0.31モル)を加え、90℃で40時間攪拌し
た。その後反応混合物から溶媒を減圧下留去し、アセト
ンにより再結晶して、21−ヘキサデシル−19,23
−ジヒドロキシ−17,17,25,25−テトラメチ
ル−21−アゾ−17,25−ジアゾニアヘンテトラコ
ンタンクロリド49.3gを得た。この化合物は薄層ク
ロマトグラフィー(RP−18,展開;クロロホルム/
メタノール=1/1)により、単一物であることを確認
した。
−ジヒドロキシ−9,13,17−トリアザペンタイコ
サン20g(0.04モル)、塩化メチル20g(0.
40モル)、炭酸ナトリウム5.1g(0.048モ
ル)、イソプロピルアルコール200ml及び水50mlを
入れ、100℃に昇温した。その後、100℃を6時間
維持し、室温まで放冷後、減圧下、溶媒を留去し、残渣
をクロロホルム300mlに溶解し、水洗を行った。減圧
下、クロロホルムを留去し、13−オクチル−11,1
5−ジヒドロキシ−9,9,13,17,17−ペンタ
メチル−9,13,17−トリアゾニアペンタイコサン
クロリド22gを得た。この化合物は、高速液体クロマ
トグラフィー〔カラム;RP-18(Merck社製)、溶離液;
メタノール/水=8/1(20mMテトラブチルアンモニ
ウムブロミド)〕により、単一物であることを確認し
た。
23−ジヒドロキシ−17,21,25−トリアザヘン
テトラコンタン20g(0.022モル)、塩化メチル
20g(0.40モル)、炭酸ナトリウム5.1g
(0.048モル)、イソプロピルアルコール200ml
及び水50mlを入れ、100℃に昇温した。その後、1
00℃を6時間維持し、室温まで放冷後、減圧下、溶媒
を留去し、残渣をクロロホルム300mlに溶解し、水洗
を行った。減圧下、クロロホルムを留去し21−ヘキサ
デシル−19,23−ジヒドロキシ−17,17,2
1,25,25−ペンタメチル−17,21,25−ト
リアゾニアヘンテトラコンタンクロリド20gを得た。
この化合物は、高速液体クロマトグラフィー〔カラム;
RP-18(Merck社製),溶離液;メタノール/水=9/1
(20mMテトラブチルアンモニウムブロミド)〕によ
り、単一物であることを確認した。
108モル)、エタノール25g及びキシレン25gを
入れ、10℃に冷却した。そこへ、エピクロルヒドリン
34.3g(0.367モル)を2時間で滴下し、その
後室温に戻し18時間攪拌した。これにキシレン20g
を入れ、減圧下、室温で留去して過剰のエピクロルヒド
リンを留去した。薄層クロマトグラフィー(シリカゲ
ル,展開;クロロホルム/メタノール=2/1,アンモ
ニア水0.1%)により、原料アミンの消失と、N,N
−ビス(3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル)−ドデ
シルアミンの生成を確認した。この残渣にキシレン50
gを加え、N,N−ジメチル−N−ドデシルアミン50
g(0.230モル)を加え、90℃で6時間攪拌し
た。その後、反応混合物から溶媒を減圧下留去し、アセ
トンより再結晶して、17−デシル−15,19−ジヒ
ドロキシ−13,13,21,21−テトラメチル−1
7−アゾ−13,21−ジアゾニアトリトリアコンタン
クロリド53gを得た。この化合物は薄層クロマトグラ
フィー(RP-18,展開;クロロホルム/メタノール=1
/1)により、単一物であることを確認した。
0g及びキシレン20gを入れ、10℃に冷却した。そ
こへ、エピクロルヒドリン33g(0.35モル)を2
時間で滴下し、その後室温に戻し、12時間攪拌した。
これにキシレン20gを入れ、減圧下、室温で留去して
過剰のエピクロルヒドリンを留去した。薄層クロマトグ
ラフィー(シリカゲル,展開;クロロホルム/メタノー
ル=2/1,アンモニア水0.1%)により、原料アミ
ンの消失と、N,N−ビス(3−クロロ−2−ヒドロキ
シプロピル)−オクチルアミンの生成を確認した。この
残渣にキシレン50gを加え、N,N−ジメチル−N−
オクチルアミン47g(0.30モル)を加え、90℃
で8時間攪拌した。その後反応混合物から溶媒を減圧下
留去し、アセトンより再結晶して、13−オクチル−1
1,15−ジヒドロキシ−9,9,17,17−テトラ
メチル−13−アゾ−9,17−ジアゾニアペンタコサ
ンクロリド53gを得た。この化合物は薄層クロマトグ
ラフィー(RP-18,展開;クロロホルム/メタノール=
1/1)により、単一物であることを確認した。
及び(2)は、皮膚や毛髪に対して低刺激で好ましい感
触を与え、かつ優れた起泡力及び乳化安定性を有し、各
種洗浄剤、乳化剤、コンディショニング剤等の成分とし
て有用である。
Claims (6)
- 【請求項1】 次の一般式(1) 【化1】 〔式中、R1 及びR3 は同一又は異なってヒドロキシル
基が置換していてもよい直鎖もしくは分岐鎖の炭素数4
〜24のアルキル基又はアルケニル基を示し、すべての
R2 は同一又は異なってそれぞれヒドロキシル基が置換
していてもよい直鎖もしくは分岐鎖の炭素数1〜24の
アルキル基又はアルケニル基を示し、Xはハロゲン原子
を示し、nは1〜8の整数を示す。〕で表される多鎖型
アミン誘導体。 - 【請求項2】 次の一般式(2) 【化2】 〔式中、R1 及びR3 は同一又は異なってヒドロキシル
基が置換していてもよい直鎖もしくは分岐鎖の炭素数4
〜24のアルキル基又はアルケニル基を示し、すべての
R2 は同一又は異なってそれぞれヒドロキシル基が置換
していてもよい直鎖もしくは分岐鎖の炭素数1〜24の
アルキル基又はアルケニル基を示し、Xはハロゲン原子
を示し、nは1〜8の整数を示す。〕で表される多鎖型
アミン誘導体又はその塩。 - 【請求項3】 一般式(1)又は(2)において、すべ
てのR2 が同一又は異なってヒドロキシル基が置換して
いてもよい直鎖又は分岐鎖の炭素数1〜3のアルキル基
である請求項1又は2記載の多鎖型アミン誘導体又はそ
の塩。 - 【請求項4】 一般式(1)又は(2)において、nが
1〜3の整数である請求項1〜3のいずれかに記載の多
鎖型アミン誘導体又はその塩。 - 【請求項5】 次の一般式(3) 【化3】 〔式中、R1 及びR3 は同一又は異なってヒドロキシル
基が置換していてもよい直鎖もしくは分岐鎖の炭素数4
〜24のアルキル基又はアルケニル基を示し、nは1〜
8の整数を示す。〕で表されるアミン誘導体と、次の一
般式(4) R2-X (4) 〔式中、R2 はヒドロキシル基が置換していてもよい直
鎖もしくは分岐鎖の炭素数1〜24のアルキル基又はア
ルケニル基を示し、Xはハロゲン原子を示す。〕で表さ
れる1種又はR2 の異なる2種以上のハロゲン化炭化水
素とを反応させることを特徴とする請求項1記載の多鎖
型アミン誘導体の製造方法。 - 【請求項6】 次の一般式(5) 【化4】 〔式中、R3 はヒドロキシル基が置換していてもよい直
鎖もしくは分岐鎖の炭素数4〜24のアルキル基又はア
ルケニル基を示し、Xはハロゲン原子を示し、nは1〜
8の整数を示す。〕で表されるアミン誘導体と、次の一
般式(6) 【化5】 〔式中、R1 はヒドロキシル基が置換していてもよい直
鎖もしくは分岐鎖の炭素数4〜24のアルキル基又はア
ルケニル基を示し、2個のR2 は同一又は異なってそれ
ぞれヒドロキシル基が置換していてもよい直鎖もしくは
分岐鎖の炭素数1〜24のアルキル基又はアルケニル基
を示す。〕で表される3級アミンとを反応させることを
特徴とする請求項2記載の多鎖型アミン誘導体の製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58795A JP3828175B2 (ja) | 1995-01-06 | 1995-01-06 | 多鎖型アミン誘導体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58795A JP3828175B2 (ja) | 1995-01-06 | 1995-01-06 | 多鎖型アミン誘導体及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08188559A true JPH08188559A (ja) | 1996-07-23 |
JP3828175B2 JP3828175B2 (ja) | 2006-10-04 |
Family
ID=11477864
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58795A Expired - Lifetime JP3828175B2 (ja) | 1995-01-06 | 1995-01-06 | 多鎖型アミン誘導体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3828175B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20100081844A1 (en) * | 2005-11-04 | 2010-04-01 | Charles Little | Polycationic organic compounds |
CN104710974A (zh) * | 2015-04-03 | 2015-06-17 | 杨县超 | 一种低聚表面活性剂清洁压裂液及其制备方法 |
-
1995
- 1995-01-06 JP JP58795A patent/JP3828175B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20100081844A1 (en) * | 2005-11-04 | 2010-04-01 | Charles Little | Polycationic organic compounds |
CN104710974A (zh) * | 2015-04-03 | 2015-06-17 | 杨县超 | 一种低聚表面活性剂清洁压裂液及其制备方法 |
CN104710974B (zh) * | 2015-04-03 | 2017-06-30 | 杨县超 | 一种低聚表面活性剂清洁压裂液及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3828175B2 (ja) | 2006-10-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Möbius et al. | Surfactants: chemistry, interfacial properties, applications | |
JP3436759B2 (ja) | 2−ヒドロキシプロパンジアミン誘導体及びこれを含有する洗浄剤組成物 | |
JPH08311003A (ja) | 新規アミド化合物及びその製造方法 | |
JP3773950B2 (ja) | アミン誘導体及びこれを含有する洗浄剤組成物 | |
JPH08188560A (ja) | 多鎖型アミン誘導体及びその製造方法 | |
JPH0237341B2 (ja) | ||
JPH08188559A (ja) | 多鎖型アミン誘導体及びその製造方法 | |
US4138371A (en) | Washing method using amphoteric surface active agents | |
JP3484230B2 (ja) | トリス(3−アミノプロピル)アミン誘導体及びこれを含有する洗浄剤組成物 | |
US5885955A (en) | Amides, method for preparing the amides, and detergent compositions containing the amides | |
WO1996001805A1 (fr) | Nouveau compose amine et composition detersive le contenant | |
US5599483A (en) | N-alkylcarbamylalkanol sulfate or salt thereof, process for producing the same and detergent composition containing the same | |
JP3853400B2 (ja) | 新規アミド化合物及びその製造中間体並びにそれらの製造方法 | |
JP3868823B2 (ja) | 洗浄剤組成物 | |
JPH08301828A (ja) | 新規アミド化合物及びその製造中間体並びにそれらの製造方法 | |
JP4859296B2 (ja) | ヒドロキシアルキル多価アルコールエーテル化合物の製造方法 | |
JPH08333317A (ja) | 新規アミド化合物及びその製造中間体並びにそれらの製造方法 | |
JP2916673B2 (ja) | 硫酸化4炭糖アルコールエーテル及びその製造方法並びにシャンプー組成物 | |
JP2851788B2 (ja) | 新規グリシン誘導体、その製造法及びその中間体、並びにグリシン誘導体を含有する洗浄剤組成物 | |
JPH06116134A (ja) | 洗浄剤組成物 | |
JP2939650B2 (ja) | 新規糖誘導体 | |
JPH061712A (ja) | リンス効果を有するシャンプー組成物 | |
JP3202762B2 (ja) | 新規ホスホベタイン及びその製造方法 | |
JPH10218849A (ja) | グリセリルエーテル化アミド化合物及びこれを含有する外用剤組成物 | |
JPH0881355A (ja) | 身体用洗浄剤組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050208 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050331 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20050331 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060704 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060706 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 3 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090714 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100714 Year of fee payment: 4 |