JP2916673B2 - 硫酸化４炭糖アルコールエーテル及びその製造方法並びにシャンプー組成物 - Google Patents
硫酸化４炭糖アルコールエーテル及びその製造方法並びにシャンプー組成物Info
- Publication number
- JP2916673B2 JP2916673B2 JP25487195A JP25487195A JP2916673B2 JP 2916673 B2 JP2916673 B2 JP 2916673B2 JP 25487195 A JP25487195 A JP 25487195A JP 25487195 A JP25487195 A JP 25487195A JP 2916673 B2 JP2916673 B2 JP 2916673B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- structural formula
- carbon atoms
- sulfated
- alcohol ether
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Cosmetics (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、硫酸化４炭糖アル
コールエーテル及びその製造方法並びにシャンプー組成
物に関するものである。本発明の硫酸化４炭糖アルコー
ルエーテルは界面活性剤として有用である。
コールエーテル及びその製造方法並びにシャンプー組成
物に関するものである。本発明の硫酸化４炭糖アルコー
ルエーテルは界面活性剤として有用である。
【０００２】
【従来の技術】近年、界面活性剤の自然指向と相まって
糖誘導体が注目されている。界面活性剤として使用され
ている糖誘導体としては、一般には数々の文献（例え
ば、特開平４−５２９７号公報、特開平４−１３６８８
号公報、特開平４−１３６８５号公報）で見られるよう
に、還元糖を用いた界面活性剤が中心である。これは安
価に製造できる利点を有しており、今後も有望な界面活
性剤である。しかし、これらの糖の還元生成物である糖
アルコールは発酵法などにより安価に供給されるにもか
かわらず、これまで界面活性剤として工業的に利用され
たケースは６炭糖アルコールのソルビトールくらいであ
る。このソルビトール誘導体も脂肪酸エステルが中心で
あり、これらは分子内にエステル結合を有するため加水
分解される欠点を有している。
糖誘導体が注目されている。界面活性剤として使用され
ている糖誘導体としては、一般には数々の文献（例え
ば、特開平４−５２９７号公報、特開平４−１３６８８
号公報、特開平４−１３６８５号公報）で見られるよう
に、還元糖を用いた界面活性剤が中心である。これは安
価に製造できる利点を有しており、今後も有望な界面活
性剤である。しかし、これらの糖の還元生成物である糖
アルコールは発酵法などにより安価に供給されるにもか
かわらず、これまで界面活性剤として工業的に利用され
たケースは６炭糖アルコールのソルビトールくらいであ
る。このソルビトール誘導体も脂肪酸エステルが中心で
あり、これらは分子内にエステル結合を有するため加水
分解される欠点を有している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】そこで、鋭意検討した
結果、耐加水分解性に優れた構造を有し、性能的にも優
れた新規な界面活性剤を産み出すべく、４炭糖アルコー
ルエーテルの硫酸化を行い、高性能なアニオン界面活性
剤を開発した。本発明の硫酸化４炭糖アルコールエーテ
ルは、例えば、４炭糖アルコール誘導体であるアルキル
エリスリトールエーテルに硫酸基を導入することにより
得られる極めて優れた界面活性能を有する新規な界面活
性剤である。
結果、耐加水分解性に優れた構造を有し、性能的にも優
れた新規な界面活性剤を産み出すべく、４炭糖アルコー
ルエーテルの硫酸化を行い、高性能なアニオン界面活性
剤を開発した。本発明の硫酸化４炭糖アルコールエーテ
ルは、例えば、４炭糖アルコール誘導体であるアルキル
エリスリトールエーテルに硫酸基を導入することにより
得られる極めて優れた界面活性能を有する新規な界面活
性剤である。
【０００４】
１． 本発明は、以下の構造式（１）で示される硫酸化
４炭糖アルコールエーテルにある。
４炭糖アルコールエーテルにある。
【０００５】 Ｙ1−ＯＣＨ2ＣＨ（ＯＹ2）ＣＨ（ＯＹ3）ＣＨ2Ｏ−Ｙ4 （１） 構造式（１）中、Ｙ1又はＹ2のうち一個がＲ1（ＯＲ2）
z−基を示す。ここで、Ｒ1は炭素数６〜２２、好ましく
は６〜１８、更に好ましくは８〜１８の直鎖又は分岐鎖
のアルキル基又はアルケニル基を示し、構造式内に芳香
核を含んでいてもよい。Ｒ2は炭素数２〜４のアルキレ
ン基を示す。ｚは０〜２０、好ましくは０〜１６、更に
好ましくは０〜８の整数を示す。
z−基を示す。ここで、Ｒ1は炭素数６〜２２、好ましく
は６〜１８、更に好ましくは８〜１８の直鎖又は分岐鎖
のアルキル基又はアルケニル基を示し、構造式内に芳香
核を含んでいてもよい。Ｒ2は炭素数２〜４のアルキレ
ン基を示す。ｚは０〜２０、好ましくは０〜１６、更に
好ましくは０〜８の整数を示す。
【０００６】Ｙ1がＲ1（ＯＲ2）z−基を示す場合、
Ｙ2、Ｙ3及びＹ4は−ＳＯ3Ｍ基又は水素原子を示し、Ｙ
2及びＹ3のうち少なくとも１個が−ＳＯ3Ｍ基を示す。
Ｙ2がＲ1（ＯＲ2）z−基を示す場合、Ｙ1、Ｙ3及びＹ4
は−ＳＯ3Ｍ基又は水素原子を示し、Ｙ1、Ｙ3及びＹ4の
うち１個又は２個が−ＳＯ3Ｍ基を示す。ここで、Ｍは
水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニ
ウム、炭素数２〜３のアルカノール基を有するアルカノ
ールアンモニウム、炭素数１〜５のアルキル基を有する
アルキル基置換アンモニウム又は塩基性アミノ酸基を示
す。
Ｙ2、Ｙ3及びＹ4は−ＳＯ3Ｍ基又は水素原子を示し、Ｙ
2及びＹ3のうち少なくとも１個が−ＳＯ3Ｍ基を示す。
Ｙ2がＲ1（ＯＲ2）z−基を示す場合、Ｙ1、Ｙ3及びＹ4
は−ＳＯ3Ｍ基又は水素原子を示し、Ｙ1、Ｙ3及びＹ4の
うち１個又は２個が−ＳＯ3Ｍ基を示す。ここで、Ｍは
水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニ
ウム、炭素数２〜３のアルカノール基を有するアルカノ
ールアンモニウム、炭素数１〜５のアルキル基を有する
アルキル基置換アンモニウム又は塩基性アミノ酸基を示
す。
【０００７】２． 本発明は、前記の構造式（１）で示
される硫酸化４炭糖アルコールエーテルと以下の構造式
（２）で示される硫酸化４炭糖アルコールエーテルとを
含有する硫酸化４炭糖アルコールエーテル組成物にあ
る。
される硫酸化４炭糖アルコールエーテルと以下の構造式
（２）で示される硫酸化４炭糖アルコールエーテルとを
含有する硫酸化４炭糖アルコールエーテル組成物にあ
る。
【０００８】 Ｒ1（ＯＲ2）z−ＯＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2Ｏ−ＳＯ3Ｍ （２） 構造式（２）中、Ｒ1は、炭素数６〜２２、好ましくは
６〜１８、更に好ましくは８〜１８の直鎖又は分岐鎖の
アルキル基又はアルケニル基を示し、構造式内に芳香核
を含んでいてもよい。Ｒ2は炭素数２〜４のアルキレン
基を示す。ｚは０〜２０、好ましくは０〜１６、更に好
ましくは０〜８の整数を示す。Ｍは水素原子、アルカリ
金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、炭素数２〜３
のアルカノール基を有するアルカノールアンモニウム、
炭素数１〜５のアルキル基を有するアルキル置換アンモ
ニウム又は塩基性アミノ酸基を示す。
６〜１８、更に好ましくは８〜１８の直鎖又は分岐鎖の
アルキル基又はアルケニル基を示し、構造式内に芳香核
を含んでいてもよい。Ｒ2は炭素数２〜４のアルキレン
基を示す。ｚは０〜２０、好ましくは０〜１６、更に好
ましくは０〜８の整数を示す。Ｍは水素原子、アルカリ
金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、炭素数２〜３
のアルカノール基を有するアルカノールアンモニウム、
炭素数１〜５のアルキル基を有するアルキル置換アンモ
ニウム又は塩基性アミノ酸基を示す。
【０００９】３． 本発明は、以下の構造式（３）で示
される４炭糖アルコールエーテルをＸＳＯ3Ｈ（但し、
Ｘはハロゲン原子を示す）、ＳＯ3及びＨ2ＮＳＯ3Ｈ並
びにこれらとルイス塩基との付加体からなる群より選ば
れる少なくとも一種の化合物からなる硫酸化剤と反応さ
せることを特徴とする硫酸化４炭糖アルコールエーテル
の製造方法にある。
される４炭糖アルコールエーテルをＸＳＯ3Ｈ（但し、
Ｘはハロゲン原子を示す）、ＳＯ3及びＨ2ＮＳＯ3Ｈ並
びにこれらとルイス塩基との付加体からなる群より選ば
れる少なくとも一種の化合物からなる硫酸化剤と反応さ
せることを特徴とする硫酸化４炭糖アルコールエーテル
の製造方法にある。
【００１０】 Ｙ1−ＯＣＨ2ＣＨ（ＯＹ2）ＣＨ（ＯＹ3）ＣＨ2Ｏ−Ｙ4 （３） 構造式（３）中、Ｙ1又はＹ2がＲ1（ＯＲ2）z−基又は
水素原子を示し、Ｙ1及びＹ2のうち１個がＲ1（ＯＲ2）
z−基を示す。ここで、Ｒ1は、炭素数６〜２２、好まし
くは６〜１８、更に好ましくは８〜１８の直鎖又は分岐
鎖のアルキル基又はアルケニル基を示し、構造式内に芳
香核を含んでいてもよい。Ｒ2は炭素数２〜４のアルキ
レン基を示す。ｚは０〜２０、好ましくは０〜１６、更
に好ましくは０〜８の整数を示す。Ｙ3及びＹ4は水素原
子を示す。
水素原子を示し、Ｙ1及びＹ2のうち１個がＲ1（ＯＲ2）
z−基を示す。ここで、Ｒ1は、炭素数６〜２２、好まし
くは６〜１８、更に好ましくは８〜１８の直鎖又は分岐
鎖のアルキル基又はアルケニル基を示し、構造式内に芳
香核を含んでいてもよい。Ｒ2は炭素数２〜４のアルキ
レン基を示す。ｚは０〜２０、好ましくは０〜１６、更
に好ましくは０〜８の整数を示す。Ｙ3及びＹ4は水素原
子を示す。
【００１１】４． 本発明は、前記の項３に記載の製造
方法により得られる硫酸化４炭糖アルコールエーテルに
ある。
方法により得られる硫酸化４炭糖アルコールエーテルに
ある。
【００１２】５． 本発明は、以下の構造式（４）で示
されるハロゲン化物と４炭糖アルコールとをアルカリ触
媒存在下で脱ハロゲン化水素反応させることを特徴とす
る前記の構造式（３）で示される４炭糖アルコールエー
テルの製造方法にある。触媒としては、アルカリ触媒に
加えて４級アンモニウム塩のような相間移動型触媒を加
えてもよい。
されるハロゲン化物と４炭糖アルコールとをアルカリ触
媒存在下で脱ハロゲン化水素反応させることを特徴とす
る前記の構造式（３）で示される４炭糖アルコールエー
テルの製造方法にある。触媒としては、アルカリ触媒に
加えて４級アンモニウム塩のような相間移動型触媒を加
えてもよい。
【００１３】Ｒ1（ＯＲ2）z−Ｘ （４） 構造式（４）中、Ｒ1は、炭素数６〜２２、好ましくは
６〜１８、更に好ましくは８〜１８の直鎖又は分岐鎖の
アルキル基又はアルケニル基を示し、構造式内に芳香核
を含んでいてもよい。Ｒ2は炭素数２〜４のアルキレン
基を示す。ｚは０〜２０、好ましくは０〜１６、更に好
ましくは０〜８の整数を示す。Ｘはハロゲン原子を示
す。
６〜１８、更に好ましくは８〜１８の直鎖又は分岐鎖の
アルキル基又はアルケニル基を示し、構造式内に芳香核
を含んでいてもよい。Ｒ2は炭素数２〜４のアルキレン
基を示す。ｚは０〜２０、好ましくは０〜１６、更に好
ましくは０〜８の整数を示す。Ｘはハロゲン原子を示
す。
【００１４】６． 本発明は、以下の構造式（４−２）
のアルコール化合物と４炭糖アルコールとを酸触媒存在
下で脱水縮合反応させることを特徴とする前記の構造式
（３）で示される４炭糖アルコールエーテルの製造方法
にある。
のアルコール化合物と４炭糖アルコールとを酸触媒存在
下で脱水縮合反応させることを特徴とする前記の構造式
（３）で示される４炭糖アルコールエーテルの製造方法
にある。
【００１５】Ｒ1（ＯＲ2）z−ＯＨ （４−２） 構造式（４−２）中、Ｒ1は、炭素数６〜２２、好まし
くは６〜１８、更に好ましくは８〜１８の直鎖又は分岐
鎖のアルキル基又はアルケニル基を示し、構造式内に芳
香核を含んでいてもよい。Ｒ2は炭素数２〜４のアルキ
レン基を示す。ｚは０〜２０、好ましくは０〜１６、更
に好ましくは０〜８の整数を示す。
くは６〜１８、更に好ましくは８〜１８の直鎖又は分岐
鎖のアルキル基又はアルケニル基を示し、構造式内に芳
香核を含んでいてもよい。Ｒ2は炭素数２〜４のアルキ
レン基を示す。ｚは０〜２０、好ましくは０〜１６、更
に好ましくは０〜８の整数を示す。
【００１６】７． 本発明は、前記の構造式（１）で示
される硫酸化４炭糖アルコールアルキルエーテルを含有
するヘアーおよびボディーシャンプー組成物にある。
される硫酸化４炭糖アルコールアルキルエーテルを含有
するヘアーおよびボディーシャンプー組成物にある。
【００１７】
【発明の実施の態様】硫酸化４炭糖アルコールエーテル 本発明の硫酸化４炭糖アルコールエーテルは、単独の化
合物として実施することができる。また、本発明の硫酸
化４炭糖アルコールエーテルは、構造式（１）で示され
る二種以上の化合物（例えば、構造式（１）の定義にお
いてｚの値が異なる化合物、−ＳＯ3Ｍ基の数が異なる
化合物、Ｍの種類が異なる化合物）の混合物、二種以上
の構造異性体（例えば、Ｒ1（ＯＲ2）z−基又は−ＳＯ3
Ｍ基の置換位置が異なる構造異性体）の混合物、二種以
上の光学異性体（例えば、ＯＹ2基又はＯＹ3基の置換方
向の異なる光学異性体）の混合物として実施することが
できる。さらに、本発明の硫酸化４炭糖アルコールエー
テルは、本発明の硫酸化４炭糖アルコールエーテル組成
物（構造式（２）で示される硫酸化４炭糖アルコールエ
ーテルとの混合物）として実施することができる。
合物として実施することができる。また、本発明の硫酸
化４炭糖アルコールエーテルは、構造式（１）で示され
る二種以上の化合物（例えば、構造式（１）の定義にお
いてｚの値が異なる化合物、−ＳＯ3Ｍ基の数が異なる
化合物、Ｍの種類が異なる化合物）の混合物、二種以上
の構造異性体（例えば、Ｒ1（ＯＲ2）z−基又は−ＳＯ3
Ｍ基の置換位置が異なる構造異性体）の混合物、二種以
上の光学異性体（例えば、ＯＹ2基又はＯＹ3基の置換方
向の異なる光学異性体）の混合物として実施することが
できる。さらに、本発明の硫酸化４炭糖アルコールエー
テルは、本発明の硫酸化４炭糖アルコールエーテル組成
物（構造式（２）で示される硫酸化４炭糖アルコールエ
ーテルとの混合物）として実施することができる。
【００１８】シャンプー組成物 本発明の硫酸化４炭糖アルコールエーテル及び硫酸化４
炭糖アルコールエーテル組成物は、ヘアーシャンプー及
びボディーシャンプーの界面活性剤成分として有用であ
り、シャンプー組成物の有効成分として使用することが
できる。本発明の硫酸化４炭糖アルコールエーテルを、
シャンプー組成物の有効成分として使用する場合には、
通常の油性成分、カチオン界面活性剤、一般に使用され
るその他の界面活性剤、トリートメント剤等と配合して
使用することができる。
炭糖アルコールエーテル組成物は、ヘアーシャンプー及
びボディーシャンプーの界面活性剤成分として有用であ
り、シャンプー組成物の有効成分として使用することが
できる。本発明の硫酸化４炭糖アルコールエーテルを、
シャンプー組成物の有効成分として使用する場合には、
通常の油性成分、カチオン界面活性剤、一般に使用され
るその他の界面活性剤、トリートメント剤等と配合して
使用することができる。
【００１９】シャンプー組成物は、水に溶かしてヘアー
シャンプー、ボディーシャンプー等として使用するため
の組成物である。本発明のシャンプー組成物としては、
界面活性剤成分を５〜１００重量％、好ましくは１０〜
８０重量％、更に好ましくは、１５〜７０重量％含有
し、その界面活性剤成分のうち構造式（１）あるいは構
造式（２）で示されるかあるいはその混合物である硫酸
化４炭糖アルコールエーテルを５〜１００重量％、好ま
しくは３０〜１００重量％、更に好ましくは５０〜１０
０重量％含有する組成物が特に優れている。
シャンプー、ボディーシャンプー等として使用するため
の組成物である。本発明のシャンプー組成物としては、
界面活性剤成分を５〜１００重量％、好ましくは１０〜
８０重量％、更に好ましくは、１５〜７０重量％含有
し、その界面活性剤成分のうち構造式（１）あるいは構
造式（２）で示されるかあるいはその混合物である硫酸
化４炭糖アルコールエーテルを５〜１００重量％、好ま
しくは３０〜１００重量％、更に好ましくは５０〜１０
０重量％含有する組成物が特に優れている。
【００２０】硫酸化４炭糖アルコールモノアルキルエー
テルの製造方法 原料として使用する構造式（３）で示される４炭糖アル
コールエーテルの構造式（３）中のＹ1、Ｙ2、Ｙ3及び
Ｙ4で示される各置換基の種類については、得ようとす
る硫酸化４炭糖アルコールエーテルを示す構造式（１）
中の対応する各置換基の種類に応じて選択することがで
きる。
テルの製造方法 原料として使用する構造式（３）で示される４炭糖アル
コールエーテルの構造式（３）中のＹ1、Ｙ2、Ｙ3及び
Ｙ4で示される各置換基の種類については、得ようとす
る硫酸化４炭糖アルコールエーテルを示す構造式（１）
中の対応する各置換基の種類に応じて選択することがで
きる。
【００２１】硫酸化剤として使用するＸＳＯ3Ｈ、ＳＯ3
及びＨ2ＮＳＯ3Ｈとルイス塩基との付加体のためのルイ
ス塩基としては、ピリジン、トリアルキルアミン、アン
モニア、モルホリン、シクロヘキシルアミンなどを挙げ
ることができる。具体的な付加体としては、無水硫酸ピ
リジン錯体を挙げることができる。
及びＨ2ＮＳＯ3Ｈとルイス塩基との付加体のためのルイ
ス塩基としては、ピリジン、トリアルキルアミン、アン
モニア、モルホリン、シクロヘキシルアミンなどを挙げ
ることができる。具体的な付加体としては、無水硫酸ピ
リジン錯体を挙げることができる。
【００２２】４炭糖アルコールエーテルと硫酸化剤との
反応には反応溶媒を使用することができる。反応溶媒と
しては、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、クロロホルム、エチルエーテル、トルエン、ベンゼ
ン、ジオキサン、塩化メチレン、ヘキサン等の不活性溶
媒を使用することができる。反応温度は、特に限定され
ないが、０〜１００℃、好ましくは２５〜９０℃、更に
好ましくは４０〜８５℃とするのがよい。
反応には反応溶媒を使用することができる。反応溶媒と
しては、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、クロロホルム、エチルエーテル、トルエン、ベンゼ
ン、ジオキサン、塩化メチレン、ヘキサン等の不活性溶
媒を使用することができる。反応温度は、特に限定され
ないが、０〜１００℃、好ましくは２５〜９０℃、更に
好ましくは４０〜８５℃とするのがよい。
【００２３】−ＳＯ3Ｍ基の置換位置は、反応温度を調
節することにより、制御することができる。−ＳＯ3Ｍ
基の置換数は、反応温度ならびに硫酸化試薬の添加量を
調節することにより、制御することができる。
節することにより、制御することができる。−ＳＯ3Ｍ
基の置換数は、反応温度ならびに硫酸化試薬の添加量を
調節することにより、制御することができる。
【００２４】４炭糖アルコールエーテルと硫酸化剤との
反応液に、アルカリ金属の水酸化物を添加して反応を継
続させることにより、構造式（１）の定義におけるＭが
アルカリ金属の硫酸化４炭糖アルコールエーテル（アル
カリ金属塩）を製造することができる。同様にして、ア
ルカリ土類金属化合物、アンモニア、アルカノールアミ
ン、アミン又は塩基性アミノ酸を反応させることによ
り、構造式（１）で示されるアルカリ土類金属塩、アン
モニウム塩、アルカノールアンモニウム塩、アルキル基
置換アミノ酸塩を製造することができる。
反応液に、アルカリ金属の水酸化物を添加して反応を継
続させることにより、構造式（１）の定義におけるＭが
アルカリ金属の硫酸化４炭糖アルコールエーテル（アル
カリ金属塩）を製造することができる。同様にして、ア
ルカリ土類金属化合物、アンモニア、アルカノールアミ
ン、アミン又は塩基性アミノ酸を反応させることによ
り、構造式（１）で示されるアルカリ土類金属塩、アン
モニウム塩、アルカノールアンモニウム塩、アルキル基
置換アミノ酸塩を製造することができる。
【００２５】一般に、硫酸化４炭糖アルコールエーテル
は、構造式（１）又は（２）で示される化合物の混合
物、特に−ＳＯ3Ｍ基の置換位置及び置換数の異なる化
合物の混合物として得られるが、溶媒抽出法等により、
各化合物に分離することができる。例えば、抽出溶媒と
して、ノルマルプロパノールを使用する場合には一硫酸
化物を抽出分離することができ、二硫化物を不溶物とし
て回収することができる。
は、構造式（１）又は（２）で示される化合物の混合
物、特に−ＳＯ3Ｍ基の置換位置及び置換数の異なる化
合物の混合物として得られるが、溶媒抽出法等により、
各化合物に分離することができる。例えば、抽出溶媒と
して、ノルマルプロパノールを使用する場合には一硫酸
化物を抽出分離することができ、二硫化物を不溶物とし
て回収することができる。
【００２６】４炭糖アルコールモノアルキルエーテルの
製造方法 原料として使用する構造式（４）で示されるハロゲン化
物の構造式（４）中のＲ1及びＲ2で示される置換基の種
類及びｚの値は、得ようとする４炭糖アルコールモノア
ルキルエーテルの構造式（３）中の対応する置換基の種
類及びｚの値に応じて選択することができる。原料とし
て使用する４炭糖アルコールとしては、メソエリスリト
ール、Ｄ−エリスリトール、Ｌ−エリスリトールを挙げ
ることができる。
製造方法 原料として使用する構造式（４）で示されるハロゲン化
物の構造式（４）中のＲ1及びＲ2で示される置換基の種
類及びｚの値は、得ようとする４炭糖アルコールモノア
ルキルエーテルの構造式（３）中の対応する置換基の種
類及びｚの値に応じて選択することができる。原料とし
て使用する４炭糖アルコールとしては、メソエリスリト
ール、Ｄ−エリスリトール、Ｌ−エリスリトールを挙げ
ることができる。
【００２７】ハロゲン化物と４炭糖アルコールとの脱ハ
ロゲン化水素反応のために使用するアルカリ触媒として
は、アルカリ金属アルコキシド、水素化ナトリウム、カ
セイソーダ、カセイカリなどを挙げることができる。構
造式（４−２）で示されるアルコール化合物と４炭糖ア
ルコールとの脱水縮合反応に使用する酸触媒としては、
硫酸、塩酸、リン酸、パラトルエンスルホン酸、縮合リ
ン酸、塩化アルミニウム、塩化第二スズ、三フッ化ホウ
素などを挙げることができる。
ロゲン化水素反応のために使用するアルカリ触媒として
は、アルカリ金属アルコキシド、水素化ナトリウム、カ
セイソーダ、カセイカリなどを挙げることができる。構
造式（４−２）で示されるアルコール化合物と４炭糖ア
ルコールとの脱水縮合反応に使用する酸触媒としては、
硫酸、塩酸、リン酸、パラトルエンスルホン酸、縮合リ
ン酸、塩化アルミニウム、塩化第二スズ、三フッ化ホウ
素などを挙げることができる。
【００２８】４炭糖アルコールとハロゲン化物との反応
には反応溶媒を使用することができる。反応溶媒として
は、三級ブタノール、ジメチルホルムアミド、ジオキサ
ン、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
メトキシエタン、モルホリン等の極性溶媒を使用するこ
とができる。反応温度は、特に限定されないが、例え
ば、反応溶媒を使用する場合には、その還流温度とする
のがよい。
には反応溶媒を使用することができる。反応溶媒として
は、三級ブタノール、ジメチルホルムアミド、ジオキサ
ン、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
メトキシエタン、モルホリン等の極性溶媒を使用するこ
とができる。反応温度は、特に限定されないが、例え
ば、反応溶媒を使用する場合には、その還流温度とする
のがよい。
【００２９】４炭糖アルコールに対するハロゲン化物に
由来する置換基、即ちＲ1（ＯＲ2）Z−基の結合位置
は、反応温度ならびに用いる反応溶媒を調節することに
より、制御することができる。
由来する置換基、即ちＲ1（ＯＲ2）Z−基の結合位置
は、反応温度ならびに用いる反応溶媒を調節することに
より、制御することができる。
【００３０】好ましい硫酸化４炭糖アルコールエーテル 本発明の硫酸化４炭糖アルコールエーテルは、従来の界
面活性剤と比較して、人の肌に対してマイルドであると
いう特徴を有する。これは、本発明の硫酸化４炭糖アル
コールエーテルは、比較的大きな親水性基を有してお
り、その立体効果により、肌に対する刺激が小さいこと
に由来するものと考えられる。
面活性剤と比較して、人の肌に対してマイルドであると
いう特徴を有する。これは、本発明の硫酸化４炭糖アル
コールエーテルは、比較的大きな親水性基を有してお
り、その立体効果により、肌に対する刺激が小さいこと
に由来するものと考えられる。
【００３１】この点より、本発明の硫酸化４炭糖アルコ
ールアルキルエーテルのうち構造式（１）中のＹ2がＲ1
（ＯＲ2）Z−基であるものが好ましい。すなわち、分子
の構造が親水性基と疎水性基の方向に沿って、より直線
的になるＹ1がＲ1（ＯＲ2）Z−基であるものと比較し
て、Ｙ2がＲ1（ＯＲ2）Z−基であるものの方が、親水性
基の立体効果が大きくなると考えられるからである。
ールアルキルエーテルのうち構造式（１）中のＹ2がＲ1
（ＯＲ2）Z−基であるものが好ましい。すなわち、分子
の構造が親水性基と疎水性基の方向に沿って、より直線
的になるＹ1がＲ1（ＯＲ2）Z−基であるものと比較し
て、Ｙ2がＲ1（ＯＲ2）Z−基であるものの方が、親水性
基の立体効果が大きくなると考えられるからである。
【００３２】また、同様の理由により、構造式（２）で
示される硫酸化４炭糖アルコールエーテルよりも、構造
式（１）で示される本発明の硫酸化４炭糖アルコールエ
ーテルの方が優れている。従って、本発明の硫酸化４炭
糖アルコールエーテル組成物としては、構造式（１）で
示される硫酸化４炭糖アルコールエーテルの効果に悪影
響を与えない範囲で構造式（２）で示される硫酸化４炭
糖アルコールを含有するものが好ましい。具体的には、
構造式（１）で示される化合物１００重量部に対して構
造式（２）で示される化合物を１５０重量部以下、好ま
しくは１００重量部以下、更に好ましくは５〜８０重量
部含有するものが好ましい。
示される硫酸化４炭糖アルコールエーテルよりも、構造
式（１）で示される本発明の硫酸化４炭糖アルコールエ
ーテルの方が優れている。従って、本発明の硫酸化４炭
糖アルコールエーテル組成物としては、構造式（１）で
示される硫酸化４炭糖アルコールエーテルの効果に悪影
響を与えない範囲で構造式（２）で示される硫酸化４炭
糖アルコールを含有するものが好ましい。具体的には、
構造式（１）で示される化合物１００重量部に対して構
造式（２）で示される化合物を１５０重量部以下、好ま
しくは１００重量部以下、更に好ましくは５〜８０重量
部含有するものが好ましい。
【００３３】構造式（１）及び（２）においてＲ1で示
されるアルキル基としては、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基を挙げることができる。Ｒ1で示さ
れるアルケニル基としては、炭素数にもよるが二重結合
を１〜１０個、好ましくは１〜７個、更に好ましくは１
〜４個有するものを挙げることができる。Ｒ1で示され
るアルキル基又はアルケニル基が含んでいてもよい芳香
核としては、フェニレン基、ナフチレン基を挙げること
ができる。
されるアルキル基としては、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基を挙げることができる。Ｒ1で示さ
れるアルケニル基としては、炭素数にもよるが二重結合
を１〜１０個、好ましくは１〜７個、更に好ましくは１
〜４個有するものを挙げることができる。Ｒ1で示され
るアルキル基又はアルケニル基が含んでいてもよい芳香
核としては、フェニレン基、ナフチレン基を挙げること
ができる。
【００３４】Ｒ2で示されるアルケニル基としてはエチ
レン基、プロペニル基、ブチレン基を挙げることができ
る。構造式（１）又は（２）で示される硫酸化４炭糖ア
ルコールエーテルはＲ2で示されるアルケニル基として
異なる炭素数のアルケニル基を同時に含むことができ
る。
レン基、プロペニル基、ブチレン基を挙げることができ
る。構造式（１）又は（２）で示される硫酸化４炭糖ア
ルコールエーテルはＲ2で示されるアルケニル基として
異なる炭素数のアルケニル基を同時に含むことができ
る。
【００３５】構造式（１）及び（２）の定義においてＭ
で示されるアルカノールアンモニウムとしては、モノア
ルカノールアンモニウム、ジアルカノールアンモニウム
及びトリアルカノールアンモニウムがあり、具体的に
は、モノエタノールアンモニウム、ジエタノールアンモ
ニウム、トリエタノールアンモニウムを挙げることがで
きる。構造式（１）及び（２）の定義においてＭで示さ
れるアルキル基置換アンモニウムとしては、ジメチルア
ンモニウム、テトラエチルアンモニウムを挙げることが
できる。構造式（１）及び（２）の定義においてＭで示
される塩基性アミノ酸基としてはリジン基、ヒドロキシ
リジン基、アルギニン基、ヒスチジン基を挙げることが
できる。
で示されるアルカノールアンモニウムとしては、モノア
ルカノールアンモニウム、ジアルカノールアンモニウム
及びトリアルカノールアンモニウムがあり、具体的に
は、モノエタノールアンモニウム、ジエタノールアンモ
ニウム、トリエタノールアンモニウムを挙げることがで
きる。構造式（１）及び（２）の定義においてＭで示さ
れるアルキル基置換アンモニウムとしては、ジメチルア
ンモニウム、テトラエチルアンモニウムを挙げることが
できる。構造式（１）及び（２）の定義においてＭで示
される塩基性アミノ酸基としてはリジン基、ヒドロキシ
リジン基、アルギニン基、ヒスチジン基を挙げることが
できる。
【００３６】
【実施例】実施例１ ：ドデシルエリスリトールエーテルの合成 シリカゲル乾燥管を付けた３００ｍｌフラスコにメソエ
リスリトール３．６６ｇ（３０ｍｍｏｌ）とジメチルホ
ルムアミド（ＤＭＦ）３００ｍｌを入れ、１１０℃に加
熱して溶液とする。この溶液にカリウムブトキシド１．
８５ｇ（１６．５ｍｍｏｌ）を加え３０分間、加熱撹拌
を行う。メソエリスリトールのカリウム塩の析出が見ら
れるが、この液にドデシルブロミド３．７４ｇ（１５ｍ
ｍｏｌ）を加えた後、１２０℃で４０時間反応を行う。
反応終了後、冷却し、ろ過を行った後、ろ液から減圧下
で溶媒を除去して粗生成物を４．１ｇ得た。シリカゲル
カラムクロマトグラフィにより精製し、収率８９％でド
デシルメソエリスリトールエーテルを得た。ガスクロマ
トグラフィ分析の結果、以下の構造式（５）及び構造式
（６）で示される２種の構造異性体（化合物（５）及び
（６））が４８％：５２％の比率で得られていた。
リスリトール３．６６ｇ（３０ｍｍｏｌ）とジメチルホ
ルムアミド（ＤＭＦ）３００ｍｌを入れ、１１０℃に加
熱して溶液とする。この溶液にカリウムブトキシド１．
８５ｇ（１６．５ｍｍｏｌ）を加え３０分間、加熱撹拌
を行う。メソエリスリトールのカリウム塩の析出が見ら
れるが、この液にドデシルブロミド３．７４ｇ（１５ｍ
ｍｏｌ）を加えた後、１２０℃で４０時間反応を行う。
反応終了後、冷却し、ろ過を行った後、ろ液から減圧下
で溶媒を除去して粗生成物を４．１ｇ得た。シリカゲル
カラムクロマトグラフィにより精製し、収率８９％でド
デシルメソエリスリトールエーテルを得た。ガスクロマ
トグラフィ分析の結果、以下の構造式（５）及び構造式
（６）で示される２種の構造異性体（化合物（５）及び
（６））が４８％：５２％の比率で得られていた。
【００３７】 Ｃ12Ｈ25−ＯＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2ＯＨ （５） ＨＯＣＨ2ＣＨ（Ｏ−Ｃ12Ｈ25）ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2ＯＨ （６） 得られたドデシルメソエリスリトールエーテル（構造式
（５）及び構造式（６）で示される２種の構造異性体の
混合物）の赤外線吸収スペクトル分析値（ＩＲ分析値）
を以下に示す。
（５）及び構造式（６）で示される２種の構造異性体の
混合物）の赤外線吸収スペクトル分析値（ＩＲ分析値）
を以下に示す。
【００３８】ＩＲ分析値 ３３９５ｃｍ-1（−ＯＨ） １１４０ｃｍ-1（エーテル結合） １０７５ｃｍ-1（エーテル結合） 化合物（５）及び化合物（６）の分離は、室温下、無水
酢酸−ピリジン混合試薬にてアセチル化を行い、トリア
セテート体とした後、カラムクロマトグラフィーにより
分離できる。
酢酸−ピリジン混合試薬にてアセチル化を行い、トリア
セテート体とした後、カラムクロマトグラフィーにより
分離できる。
【００３９】化合物（５）及び化合物（６）のトリアセ
テート体のＩＲ分析値を以下に示す。
テート体のＩＲ分析値を以下に示す。
【００４０】ＩＲ分析値 １７４７ｃｍ-1（エステル） １２２５ｃｍ-1（酢酸エステル） １０９０ｃｍ-1（エーテル結合） １０４９ｃｍ-1（エーテル結合） カラムクロマトグラフィーにより分離した化合物（６）
のトリアセテート体のＩＲ分析値及び核磁気共鳴吸光分
析値（ＮＭＲ分析値、ＣＤＣｌ3溶媒）を以下に示す。
下記のＮＭＲのデータより、４．１〜４．４ｐｐｍにア
セテートメチレンの吸収が２個分（４Ｈ）現れているこ
とから化合物（６）を確認した。
のトリアセテート体のＩＲ分析値及び核磁気共鳴吸光分
析値（ＮＭＲ分析値、ＣＤＣｌ3溶媒）を以下に示す。
下記のＮＭＲのデータより、４．１〜４．４ｐｐｍにア
セテートメチレンの吸収が２個分（４Ｈ）現れているこ
とから化合物（６）を確認した。
【００４１】ＩＲ分析値 １７４７ｃｍ-1（エステル） １２２５ｃｍ-1（酢酸エステル） １０７２ｃｍ-1（エーテル結合） １０４９ｃｍ-1（エーテル結合） ＮＭＲ分析値 ０．８８ｐｐｍ（ｔ，ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ） １．２６ｐｐｍ（ｓ，１８Ｈ） １．５４ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ） ２．０７ｐｐｍ（ｓ，６Ｈ） ２．０８ｐｐｍ（ｓ，３Ｈ） ３．４〜３．７ｐｐｍ（ｍ，３Ｈ） ４．１〜４．４ｐｐｍ（ｍ，−ＣＨ2−ＯＡｃ，４Ｈ） ５．１８ｐｐｍ（ｍ，−ＣＨ−ＯＡｃ，１Ｈ）実施例２ ：硫酸化ドデシルメソエリスリトール塩（混合
塩）の合成 実施例１で得られたドデシルメソエリスリトールエーテ
ル混合物２．０ｇ（６．９ｍｍｏｌ）を無水ＤＭＦの８
ｍｌに溶かし、スルファミン酸０．８１ｇ（８．３４ｍ
ｍｏｌ）を加え、湿気を防ぎながら５５℃で５時間反応
させる。反応後カセイソーダ０．４０ｇを水２ｍｌに溶
かしたものを加え、室温で３０分撹拌を続ける。反応物
から減圧にて溶剤を除去した後、残さをノルマルプロパ
ノールにより抽出することにより硫酸化物を得る。目的
とするドデシルメソエリスリトールエーテル硫酸ナトリ
ウムの混合物が約５０％の収率で得られる。ノルマルプ
ロパノール不溶物には無機性硫酸ナトリウムの他、ドデ
シルメソエリスリトールエーテルの二硫化物も含まれ
る。
塩）の合成 実施例１で得られたドデシルメソエリスリトールエーテ
ル混合物２．０ｇ（６．９ｍｍｏｌ）を無水ＤＭＦの８
ｍｌに溶かし、スルファミン酸０．８１ｇ（８．３４ｍ
ｍｏｌ）を加え、湿気を防ぎながら５５℃で５時間反応
させる。反応後カセイソーダ０．４０ｇを水２ｍｌに溶
かしたものを加え、室温で３０分撹拌を続ける。反応物
から減圧にて溶剤を除去した後、残さをノルマルプロパ
ノールにより抽出することにより硫酸化物を得る。目的
とするドデシルメソエリスリトールエーテル硫酸ナトリ
ウムの混合物が約５０％の収率で得られる。ノルマルプ
ロパノール不溶物には無機性硫酸ナトリウムの他、ドデ
シルメソエリスリトールエーテルの二硫化物も含まれ
る。
【００４２】得られた硫酸化ドデシルメソエリスリトー
ル塩は、下記構造式（７）、（８）及び（９）で示され
る３種の構造異性体（化合物（７）、（８）及び
（９））を含有している。
ル塩は、下記構造式（７）、（８）及び（９）で示され
る３種の構造異性体（化合物（７）、（８）及び
（９））を含有している。
【００４３】 Ｃ12Ｈ25−ＯＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2Ｏ−ＳＯ3Ｎａ （７） ＨＯＣＨ2ＣＨ（Ｏ−Ｃ12Ｈ25）ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2Ｏ−ＳＯ3Ｎａ （８） ＨＯＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ（Ｏ−Ｃ12Ｈ25）ＣＨ2Ｏ−ＳＯ3Ｎａ （９） 得られた硫酸化ドデシルメソエリスリトールのＩＲ分析
値を以下に示す。
値を以下に示す。
【００４４】ＩＲ分析値 ３３９７ｃｍ-1（−ＯＨ） １２５３ｃｍ-1（硫酸エステル塩） １２４２ｃｍ-1（硫酸エステル塩） １１３０ｃｍ-1（エーテル結合） １０８３ｃｍ-1（エーテル結合）実施例３ ：ドデシルメソエリスリトールエーテル（化合
物（５））の合成 メソエリスリトールエーテル０．５３８ｇ（４．４ｍｍ
ｏｌ）を三級ブタノール９０ｍｌ中に三級ブトキシカリ
ウムと共に入れ、テトラノルマルブチルアンモニウムブ
ロミドの１．４２ｇ（４．４ｍｍｏｌ）を加えて３０分
間緩やかに加熱撹拌する。この液にドデシルブロミド
１．０９６ｇ（４．４ｍｍｏｌ）を加え、３日間加熱環
流させて反応させる。反応終了後、溶媒を減圧下除去
し、残留物をエチルエーテルにて抽出し、粗生成物を得
る。カラムクロマトグラフィーにより精製し、ドデシル
メソエリスリトールエーテル（化合物（５））を収率４
０％で得た。このものは溶剤から再結晶することにより
結晶化させることができる。
物（５））の合成 メソエリスリトールエーテル０．５３８ｇ（４．４ｍｍ
ｏｌ）を三級ブタノール９０ｍｌ中に三級ブトキシカリ
ウムと共に入れ、テトラノルマルブチルアンモニウムブ
ロミドの１．４２ｇ（４．４ｍｍｏｌ）を加えて３０分
間緩やかに加熱撹拌する。この液にドデシルブロミド
１．０９６ｇ（４．４ｍｍｏｌ）を加え、３日間加熱環
流させて反応させる。反応終了後、溶媒を減圧下除去
し、残留物をエチルエーテルにて抽出し、粗生成物を得
る。カラムクロマトグラフィーにより精製し、ドデシル
メソエリスリトールエーテル（化合物（５））を収率４
０％で得た。このものは溶剤から再結晶することにより
結晶化させることができる。
【００４５】得られたドデシルメソエリスリトールエー
テルの分析結果を以下に示す。
テルの分析結果を以下に示す。
【００４６】融点：７４．１℃ ＩＲ分析値 ３３９３ｃｍ-1（−ＯＨ） １１３２ｃｍ-1（エーテル結合） １０７６ｃｍ-1（エーテル結合） ＮＭＲ分析値（ＣＤＣｌ3溶媒） ０．８８ｐｐｍ（ｔ，ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ） １．２６ｐｐｍ（ｓ，１８Ｈ） １．５７ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ） ３．４６ｐｐｍ（ｔ，ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ） ３．５５ｐｐｍ（ｔ，ｊ＝４．３Ｈｚ，２Ｈ） ３．７１ｐｐｍ（ｍ、４Ｈ）実施例４ ：ドデシルメソエリスリールエーテル硫酸ナト
リウムの合成 ドデシルメソエリスリトールエーテル１．５ｇ（５．１
７ｍｍｏｌ）を無水ＤＭＦの５ｍｌに溶かし、スルファ
ミン酸０．６５ｇ（６．７２ｍｍｏｌ）を加え、湿気を
防ぎながら５５℃で５時間反応させる。反応後カセイソ
ーダ０．２８ｇを水１ｍｌに溶かしたものを加え、室温
で３０分撹拌を続ける。反応物を減圧にて溶剤を除去し
た後、カセイソーダ０．２８ｇを水１ｍｌに溶かしたも
のを加え、室温で３０分撹拌を続ける。
リウムの合成 ドデシルメソエリスリトールエーテル１．５ｇ（５．１
７ｍｍｏｌ）を無水ＤＭＦの５ｍｌに溶かし、スルファ
ミン酸０．６５ｇ（６．７２ｍｍｏｌ）を加え、湿気を
防ぎながら５５℃で５時間反応させる。反応後カセイソ
ーダ０．２８ｇを水１ｍｌに溶かしたものを加え、室温
で３０分撹拌を続ける。反応物を減圧にて溶剤を除去し
た後、カセイソーダ０．２８ｇを水１ｍｌに溶かしたも
のを加え、室温で３０分撹拌を続ける。
【００４７】反応物から減圧にて溶剤を除去した後、メ
タノールにて生成物を抽出する。アルコールから再結晶
するかあるいはカラムクロマトグラフィにより精製する
ことにより、目的とするドデシルメソエリスリトールエ
ーテル硫酸ナトリウムが約６３％の収率で得られる。
タノールにて生成物を抽出する。アルコールから再結晶
するかあるいはカラムクロマトグラフィにより精製する
ことにより、目的とするドデシルメソエリスリトールエ
ーテル硫酸ナトリウムが約６３％の収率で得られる。
【００４８】得られたドデシルメソエリスリトールエー
テル硫酸ナトリウムの分析結果を以下に示す。
テル硫酸ナトリウムの分析結果を以下に示す。
【００４９】融点：１０５℃ ＩＲ分析値 ３４００ｃｍ-1（−ＯＨ） １２５０ｃｍ-1（硫酸エステル塩） １２４０ｃｍ-1（硫酸エステル塩） １１２８ｃｍ-1（エーテル結合） １０８５ｃｍ-1（エーテル結合） ＮＭＲ分析値（Ｄ2Ｏ溶媒） ０．８７ｐｐｍ（ｔ，ｊ＝５．８Ｈｚ，３Ｈ） １．２９ｐｐｍ（ｓ，１８Ｈ） １．６０ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ） ３．５５ｐｐｍ（ｍ，４Ｈ） ３．８０ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ） ４．２５ｐｐｍ（ｄ又はｑ，２Ｈ）実施例５ ：ドデシルメソエリスリトールエーテル硫酸ナ
トリウム（構造式（７））の物性値 低温溶解性を１％水溶液が透明に溶ける温度であるクラ
フト点を測定することにより評価した。また、カルシウ
ムイオン安定性を１０ｍｍｏｌ水溶液を１００００ｐｐ
ｍのカルシウムイオン水溶液（ＣａＣＯ3として１００
００ｐｐｍ、ＣａＣｌ3水溶液）にて滴定することによ
り求めた。さらに、表面張力と濃度の関係から臨界ミセ
ル濃度（ｃｍｃ濃度）とそのｃｍｃ濃度における表面張
力を測定した。
トリウム（構造式（７））の物性値 低温溶解性を１％水溶液が透明に溶ける温度であるクラ
フト点を測定することにより評価した。また、カルシウ
ムイオン安定性を１０ｍｍｏｌ水溶液を１００００ｐｐ
ｍのカルシウムイオン水溶液（ＣａＣＯ3として１００
００ｐｐｍ、ＣａＣｌ3水溶液）にて滴定することによ
り求めた。さらに、表面張力と濃度の関係から臨界ミセ
ル濃度（ｃｍｃ濃度）とそのｃｍｃ濃度における表面張
力を測定した。
【００５０】また、起泡性は半微量起泡力試験装置（矢
野弥、木村和三郎、油化学、１１、１３８（１９６
２））を用いて測定した。また、石灰石けん分散能（Ｌ
ＳＤＲ）は５０ｍｌの比色管に０．５ｗｔ％のオレイン
酸ナトリウム水溶液５ｍｌと０．２５ｗｔ％の界面活性
剤水溶液（試料）の一定量を加え、均一に混合させた
後、１０００ｐｐｍの硬水１０ｍｌを加え、純粋を加え
て３０ｍｌとした後、２０回反転混合し、３０秒間放置
した後、金属石けんの析出の有無を見て析出しない最小
の界面活性剤水溶液の量からＬＳＤＲを求めた。測定値
を以下に示す。
野弥、木村和三郎、油化学、１１、１３８（１９６
２））を用いて測定した。また、石灰石けん分散能（Ｌ
ＳＤＲ）は５０ｍｌの比色管に０．５ｗｔ％のオレイン
酸ナトリウム水溶液５ｍｌと０．２５ｗｔ％の界面活性
剤水溶液（試料）の一定量を加え、均一に混合させた
後、１０００ｐｐｍの硬水１０ｍｌを加え、純粋を加え
て３０ｍｌとした後、２０回反転混合し、３０秒間放置
した後、金属石けんの析出の有無を見て析出しない最小
の界面活性剤水溶液の量からＬＳＤＲを求めた。測定値
を以下に示す。
【００５１】ｃｍｃ濃度：１．９×１０-3Ｍ／Ｌ ｃｍｃ濃度における表面張力：３９．１ｍＮ／ｍ 耐硬水性（ＣａＣＯ3として）：＞５０００ｐｐｍ クラフト点（℃）：＜０℃ 起泡力：２５３ｍｌ 石灰石けん分散能（ＬＳＤＲ）：２．４
Claims (7)
- 【請求項１】 以下の構造式（１）で示される硫酸化４
炭糖アルコールエーテル。 Ｙ1−ＯＣＨ2ＣＨ（ＯＹ2）ＣＨ（ＯＹ3）ＣＨ2Ｏ−Ｙ4 （１） 構造式（１）中、Ｙ1又はＹ2のうち一個がＲ1（ＯＲ2）
z−基を示す。ここで、Ｒ1は炭素数６〜２２の直鎖又は
分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を示し、構造式内
に芳香核を含んでいてもよい。Ｒ2は炭素数２〜４のア
ルキレン基を示す。ｚは０〜２０の整数を示す。Ｙ1が
Ｒ1（ＯＲ2）z−基を示す場合、Ｙ2、Ｙ3及びＹ4は−Ｓ
Ｏ3Ｍ基又は水素原子を示し、Ｙ2及びＹ3のうち少なく
とも１個が−ＳＯ3Ｍ基を示す。Ｙ2がＲ1（ＯＲ2）z−
基を示す場合、Ｙ1、Ｙ3及びＹ4は−ＳＯ3Ｍ基又は水素
原子を示し、Ｙ1、Ｙ3及びＹ4のうち１個又は２個が−
ＳＯ3Ｍ基を示す。ここで、Ｍは水素原子、アルカリ金
属、アルカリ土類金属、アンモニウム、炭素数２〜３の
アルカノール基を有するアルカノールアンモニウム、炭
素数１〜５のアルキル基を有するアルキル置換置換アン
モニウム又は塩基性アミノ酸基を示す。 - 【請求項２】 請求項１の構造式（１）で示される硫酸
化４炭糖アルコールエーテルと以下の構造式（２）で示
される硫酸化４炭糖アルコールエーテルとを含有する硫
酸化４炭糖アルコールエーテル組成物。 Ｒ1（ＯＲ2）z−ＯＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2Ｏ−ＳＯ3Ｍ （２） 構造式（２）中、Ｒ1は、炭素数６〜２２の直鎖又は分
岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を示し、構造式内に
芳香核を含んでいてもよい。Ｒ2は炭素数２〜４のアル
キレン基を示す。ｚは０〜２０の整数を示す。Ｍは水素
原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウ
ム、炭素数２〜３のアルカノール基を有するアルカノー
ルアンモニウム、炭素数１〜５のアルキル基を有するア
ルキル基置換アンモニウム又は塩基性アミノ酸基を示
す。 - 【請求項３】 以下の構造式（３）で示される４炭糖ア
ルコールエーテルをＸＳＯ3Ｈ（但し、Ｘはハロゲン原
子を示す）、ＳＯ3及びＨ2ＮＳＯ3Ｈ並びにこれらとル
イス塩基との付加体からなる群より選ばれる少なくとも
一種の化合物からなる硫酸化剤と反応させることを特徴
とする硫酸化４炭糖アルコールエーテルの製造方法。 Ｙ1−ＯＣＨ2ＣＨ（ＯＹ2）ＣＨ（ＯＹ3）ＣＨ2Ｏ−Ｙ4 （３） 構造式（３）中、Ｙ1又はＹ2がＲ1（ＯＲ2）z−基又は
水素原子を示し、Ｙ1及びＹ2のうち１個がＲ1（ＯＲ2）
z−基を示す。ここで、Ｒ1は、炭素数６〜２２の直鎖又
は分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を示し、構造式
内に芳香核を含んでいてもよい。Ｒ2は炭素数２〜４の
アルキレン基を示す。ｚは０〜２０の整数を示す。Ｙ3
及びＹ4は水素原子を示す。 - 【請求項４】 請求項３に記載の製造方法により得られ
る硫酸化４炭糖アルコールエーテル。 - 【請求項５】 以下の構造式（４）で示されるハロゲン
化物と４炭糖アルコールとをアルカリ触媒存在下で脱ハ
ロゲン化水素反応させることを特徴とする請求項３の構
造式（３）で示される４炭糖アルコールエーテルの製造
方法。 Ｒ1（ＯＲ2）z−Ｘ （４） 構造式（４）中、Ｒ1は、炭素数６〜２２の直鎖又は分
岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を示し、構造式内に
芳香核を含んでいてもよい。Ｒ2は炭素数２〜４のアル
キレン基を示す。ｚは０〜２０の整数を示す。Ｘはハロ
ゲン原子を示す。 - 【請求項６】 以下の構造式（４−２）で示されるアル
コール化合物と４炭糖アルコールとを硫酸、塩酸、三フ
ッ化ホウ素、パラトルエンスルホン酸などの通常使用さ
れる酸触媒の内、少なくとも一種の化合物からなる酸触
媒存在下で脱水縮合反応させることを特徴とする請求項
３の構造式（３）で示される４炭糖アルコールエーテル
の製造方法。 Ｒ1（ＯＲ2）z−ＯＨ （４−２） 構造式（４−２）中、Ｒ1は、炭素数６〜２２の直鎖又
は分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を示し、構造式
内に芳香核を含んでいてもよい。Ｒ2は炭素数２〜４の
アルキレン基を示す。ｚは０〜２０の整数を示す。 - 【請求項７】 請求項１に記載の硫酸化４炭糖アルコー
ルエーテル又は請求項２に記載の硫酸化４炭糖アルコー
ルエーテル組成物を含有するヘアーおよびボディーシャ
ンプー組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25487195A JP2916673B2 (ja) | 1995-10-02 | 1995-10-02 | 硫酸化４炭糖アルコールエーテル及びその製造方法並びにシャンプー組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25487195A JP2916673B2 (ja) | 1995-10-02 | 1995-10-02 | 硫酸化４炭糖アルコールエーテル及びその製造方法並びにシャンプー組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0995478A JPH0995478A (ja) | 1997-04-08 |
| JP2916673B2 true JP2916673B2 (ja) | 1999-07-05 |
Family
ID=17270999
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25487195A Expired - Fee Related JP2916673B2 (ja) | 1995-10-02 | 1995-10-02 | 硫酸化４炭糖アルコールエーテル及びその製造方法並びにシャンプー組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2916673B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103502230A (zh) * | 2011-04-26 | 2014-01-08 | 陶氏环球技术有限责任公司 | 来源于糖醇的可再生表面活性剂 |
| EP3504311B1 (en) | 2016-08-25 | 2024-08-21 | Ecolab USA Inc. | Cleaning compositions comprising amino acid and methods of use |
-
1995
- 1995-10-02 JP JP25487195A patent/JP2916673B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0995478A (ja) | 1997-04-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5160450A (en) | Surface-active agents having two hydrophobic chains and two hydrophilic groups | |
| JPH03246265A (ja) | 脂肪酸アミドの製造方法 | |
| JP2767760B2 (ja) | アルキルまたはアシルジアンヒドロ−１，４：３，６−ｄ−グルシトールのリン酸エステルの製造方法とその利用 | |
| JPH08311003A (ja) | 新規アミド化合物及びその製造方法 | |
| JP2916673B2 (ja) | 硫酸化４炭糖アルコールエーテル及びその製造方法並びにシャンプー組成物 | |
| JPH05984A (ja) | グリセリルエーテル化多価アルコール及びその製造法 | |
| JPH06145134A (ja) | 新規尿素誘導体及びその製造方法 | |
| JP2939650B2 (ja) | 新規糖誘導体 | |
| JPH05294989A (ja) | 新規ステリン誘導体及びその製造法 | |
| JP2939643B2 (ja) | 新規糖誘導体及びその製造方法並びにこれを含有する界面活性剤 | |
| JP2939649B2 (ja) | グリセロ糖脂質の製造方法 | |
| AU644696B2 (en) | Novel process for producing 6-(3-dimethylaminopropionyl) forskolin | |
| JP3041077B2 (ja) | 含窒素グリコシド化合物及びその製造方法 | |
| JP3828175B2 (ja) | 多鎖型アミン誘導体及びその製造方法 | |
| KR101897801B1 (ko) | 엔도-5-o-알킬 이소소르비드-2-o-알킬 술폰산 염 음이온 계면활성제 및 이의 위치선택적 및 효율적 제조방법 | |
| KR101897799B1 (ko) | 엑소-2-o-알킬 이소소르비드-5-o-알킬 술폰산 염 음이온 계면활성제 및 이의 위치선택적 및 효율적 제조방법 | |
| KR100241566B1 (ko) | 알킬 또는 아실 디안히드로-1,4:3,6-d-글루시톨의 인산 에스테르화물, 그의 제조방법 및 용도 | |
| JP3853400B2 (ja) | 新規アミド化合物及びその製造中間体並びにそれらの製造方法 | |
| JP3408290B2 (ja) | 新規硫酸エステル、その塩及びその製造法、並びに該硫酸エステル又はその塩を含有する洗浄剤組成物 | |
| JPH04134088A (ja) | リン酸エステルの製造方法 | |
| JPH039099B2 (ja) | ||
| JPH04120080A (ja) | テトラフェニルポルフィリン系化合物 | |
| PL237061B1 (pl) | 2-hydroksypropanosulfoniany [3-(alkilometyloamino)-3-oksopropylo] dimetyloamoniowe i sposób ich wytwarzania | |
| JPH0267285A (ja) | ジベンジリデン化多価アルコール誘導体 | |
| JPH0273094A (ja) | ３−フェニルチオ−ｎ−アセチルノイラミン酸誘導体及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |