JPH08183675A - サファイア表面への金属層形成方法 - Google Patents
サファイア表面への金属層形成方法Info
- Publication number
- JPH08183675A JPH08183675A JP33697594A JP33697594A JPH08183675A JP H08183675 A JPH08183675 A JP H08183675A JP 33697594 A JP33697594 A JP 33697594A JP 33697594 A JP33697594 A JP 33697594A JP H08183675 A JPH08183675 A JP H08183675A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sapphire
- metal
- hyponitrite
- forming
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 title claims abstract description 41
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 41
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 51
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 50
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 12
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 238000005219 brazing Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 claims abstract description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 28
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M Nitrite anion Chemical compound [O-]N=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- NFMHSPWHNQRFNR-UHFFFAOYSA-N hyponitrous acid Chemical compound ON=NO NFMHSPWHNQRFNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- HLJWMCUZPYEUDI-UHFFFAOYSA-L sodium hyponitrite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]N=N[O-] HLJWMCUZPYEUDI-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 5
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 abstract 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 abstract 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 229910000833 kovar Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017309 Mo—Mn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052575 non-oxide ceramic Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011225 non-oxide ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
- C23C28/34—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
- C23C28/32—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
- C23C28/324—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer with at least one metal matrix material layer comprising a mixture of at least two metals or metal phases or a metal-matrix material with hard embedded particles, e.g. WC-Me
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 サファイア表面に接合した金属層の接合強度
が強固で、しかもその金属層を安価で簡便に形成する方
法を提供することにある。 【構成】 サファイア表面に次亜硝酸塩〔ＭＨＮ2Ｏ2及
びＭ2Ｎ2Ｏ2で表わされる次亜硝酸（Ｈ2Ｎ2Ｏ2）の塩〕
を塗布した後、窒素雰囲気中にて１１００〜１４５０℃
の温度で加熱処理して窒化層を形成し、その面上にチタ
ンを含有する金属ロウ（７１Ａｇ−２７Ｃｕ−２Ｔｉ
ｗｔ％）を、真空雰囲気中にて８００℃の温度でロウ付
けして金属層を形成する方法とした。
が強固で、しかもその金属層を安価で簡便に形成する方
法を提供することにある。 【構成】 サファイア表面に次亜硝酸塩〔ＭＨＮ2Ｏ2及
びＭ2Ｎ2Ｏ2で表わされる次亜硝酸（Ｈ2Ｎ2Ｏ2）の塩〕
を塗布した後、窒素雰囲気中にて１１００〜１４５０℃
の温度で加熱処理して窒化層を形成し、その面上にチタ
ンを含有する金属ロウ（７１Ａｇ−２７Ｃｕ−２Ｔｉ
ｗｔ％）を、真空雰囲気中にて８００℃の温度でロウ付
けして金属層を形成する方法とした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、セラミックス表面に金
属層を形成する方法に関し、特にサファイア表面に金属
層を形成する方法に関する。
属層を形成する方法に関し、特にサファイア表面に金属
層を形成する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のサファイア表面への金属層の形成
方法は、例えば高融点金属であるＭｏ−ＭｎやＮｉ−Ｗ
などから成る金属を１５００℃程度の高温でサファイア
表面に焼き付けて金属層を形成する方法が採られてい
る。しかしこの方法では、製造に高温を要するため、生
産効率が悪く、歩留りを悪くしたり、製造原価を高くし
たりするなどの問題があった。そのため、低い温度で安
価で簡便に金属層を形成することができる方法が望まれ
ていた。
方法は、例えば高融点金属であるＭｏ−ＭｎやＮｉ−Ｗ
などから成る金属を１５００℃程度の高温でサファイア
表面に焼き付けて金属層を形成する方法が採られてい
る。しかしこの方法では、製造に高温を要するため、生
産効率が悪く、歩留りを悪くしたり、製造原価を高くし
たりするなどの問題があった。そのため、低い温度で安
価で簡便に金属層を形成することができる方法が望まれ
ていた。
【０００３】このような要望の中で、金属層を形成する
安価で簡便な方法として、非酸化物セラミックスに対し
ては最近、従来より使用されている銀と銅との共晶組成
から成るロウ中に、活性金属であるチタンを含んだ金属
ロウを使用して、８００℃〜９００℃の低い温度でセラ
ミックス表面にロウ付けして金属層を形成する方法が採
られ始めている。
安価で簡便な方法として、非酸化物セラミックスに対し
ては最近、従来より使用されている銀と銅との共晶組成
から成るロウ中に、活性金属であるチタンを含んだ金属
ロウを使用して、８００℃〜９００℃の低い温度でセラ
ミックス表面にロウ付けして金属層を形成する方法が採
られ始めている。
【０００４】この方法は、ロウ中に含まれているＴｉと
窒化珪素では窒化珪素中の窒素（Ｎ）とが、炭化珪素で
は炭化珪素中の（Ｃ）とがセラミックス界面で反応して
ＴｉＮ、ＴｉＣが生成し、強固に接合するものである。
窒化珪素では窒化珪素中の窒素（Ｎ）とが、炭化珪素で
は炭化珪素中の（Ｃ）とがセラミックス界面で反応して
ＴｉＮ、ＴｉＣが生成し、強固に接合するものである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法は、サファイアでは、ロウ中のＴｉがサファイア中の
酸素（Ｏ）と反応してＴｉＯ及びＴｉＯ2を生成してし
まい、これら生成物が、脆い酸化物であるため、接合強
度が弱く、接合強度が強固な金属層をサファイア表面に
形成することができなかった。
法は、サファイアでは、ロウ中のＴｉがサファイア中の
酸素（Ｏ）と反応してＴｉＯ及びＴｉＯ2を生成してし
まい、これら生成物が、脆い酸化物であるため、接合強
度が弱く、接合強度が強固な金属層をサファイア表面に
形成することができなかった。
【０００６】本発明は、上述した従来技術が有する課題
に鑑みなされたものであって、その目的は、サファイア
表面に接合した金属層の接合強度が強固で、しかもその
金属層を安価で簡便に形成する方法を提供することにあ
る。
に鑑みなされたものであって、その目的は、サファイア
表面に接合した金属層の接合強度が強固で、しかもその
金属層を安価で簡便に形成する方法を提供することにあ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記目的
を達成するため鋭意研究した結果、サファイア表面に金
属層を形成する方法として、先ずサファイア表面に窒化
層を形成し、その面上に活性金属を含有するロウで金属
層を形成する方法を採れば目的を達成することができる
との知見を得て、本発明を完成した。
を達成するため鋭意研究した結果、サファイア表面に金
属層を形成する方法として、先ずサファイア表面に窒化
層を形成し、その面上に活性金属を含有するロウで金属
層を形成する方法を採れば目的を達成することができる
との知見を得て、本発明を完成した。
【０００８】上記サファイア表面に窒化層を形成する方
法としては、サファイア表面に次亜硝酸塩〔ＭＨＮ2Ｏ2
及びＭ2Ｎ2Ｏ2（Ｍは１価の金属）で表わされる次亜硝
酸（Ｈ2Ｎ2Ｏ2〕の塩）を塗布した後、窒素雰囲気中に
て１１００〜１４５０℃の温度で加熱処理することとし
た（請求項２）。
法としては、サファイア表面に次亜硝酸塩〔ＭＨＮ2Ｏ2
及びＭ2Ｎ2Ｏ2（Ｍは１価の金属）で表わされる次亜硝
酸（Ｈ2Ｎ2Ｏ2〕の塩）を塗布した後、窒素雰囲気中に
て１１００〜１４５０℃の温度で加熱処理することとし
た（請求項２）。
【０００９】上記次亜硝酸塩としては、次亜硝酸アンモ
ニア、次亜硝酸ナトリウムなどが挙げられ、これらの次
亜硝酸塩をスクリーン印刷や筆などでサファイア表面に
塗布する。塗布した後乾燥して窒素雰囲気中で１１００
〜１４５０℃の温度で加熱処理する。この加熱処理する
ことにより、サファイア中のアルミニウム（Ａｌ）と次
亜硝酸塩中のＮとが反応してサファイア表面にＡｌＮの
窒化層が形成される。加熱処理温度が１１００℃より低
いと窒化層が形成されず、１４５０℃より高いとサファ
イアが反り返ってしまうので、これ以上高くできない。
ニア、次亜硝酸ナトリウムなどが挙げられ、これらの次
亜硝酸塩をスクリーン印刷や筆などでサファイア表面に
塗布する。塗布した後乾燥して窒素雰囲気中で１１００
〜１４５０℃の温度で加熱処理する。この加熱処理する
ことにより、サファイア中のアルミニウム（Ａｌ）と次
亜硝酸塩中のＮとが反応してサファイア表面にＡｌＮの
窒化層が形成される。加熱処理温度が１１００℃より低
いと窒化層が形成されず、１４５０℃より高いとサファ
イアが反り返ってしまうので、これ以上高くできない。
【００１０】また、上記活性金属を含有する金属ロウと
しては、銀と銅から成るマトリックス中に、チタンなど
の活性金属を含む金属ロウであることとした（請求項
３）。
しては、銀と銅から成るマトリックス中に、チタンなど
の活性金属を含む金属ロウであることとした（請求項
３）。
【００１１】この金属ロウ中のＴｉが、サファイア表面
に形成された窒化層中のＮとロウ付けする時に反応し
て、ロウとサファイアとの界面に窒化物であるＴｉＮが
形成されて強固に接合されることになる。なお活性金属
は、Ｔｉの他にＺｒ、Ｈｆなどの活性金属でも差し支え
ない。
に形成された窒化層中のＮとロウ付けする時に反応し
て、ロウとサファイアとの界面に窒化物であるＴｉＮが
形成されて強固に接合されることになる。なお活性金属
は、Ｔｉの他にＺｒ、Ｈｆなどの活性金属でも差し支え
ない。
【００１２】以上の方法を採ることにより、サファイア
表面に高い接合強度を持つ金属ロウ、即ち金属層を、簡
便に形成することが出来る。
表面に高い接合強度を持つ金属ロウ、即ち金属層を、簡
便に形成することが出来る。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の実施例を比較例と共に挙げ、
本発明をより詳細に説明する。
本発明をより詳細に説明する。
【００１４】（実施例１〜５）１０ｍｍ角で、厚さ３ｍ
ｍのサファイア（信光社製）表面に、液状の次亜硝酸ナ
トリウムを筆で塗布し、窒素雰囲気中で表１に示す温度
で加熱処理した。加熱処理した後、サファイアの面上に
直径３ｍｍ、厚さ０．０５ｍｍの活性金属を含む金属ロ
ウ（７１Ａｇ−２７Ｃｕ−２Ｔｉ ｗｔ％）を介して、
直径３ｍｍのコバール棒（住友特殊金属社製、ＫＶ−
２）を真空中で８００℃に加熱してロウ付けした。接合
したコバール棒を垂直方向に引っ張ることにより引っ張
り強度を測定し、サファイア表面に接合した金属層の接
合強度を求めた。その結果を表１に示す。
ｍのサファイア（信光社製）表面に、液状の次亜硝酸ナ
トリウムを筆で塗布し、窒素雰囲気中で表１に示す温度
で加熱処理した。加熱処理した後、サファイアの面上に
直径３ｍｍ、厚さ０．０５ｍｍの活性金属を含む金属ロ
ウ（７１Ａｇ−２７Ｃｕ−２Ｔｉ ｗｔ％）を介して、
直径３ｍｍのコバール棒（住友特殊金属社製、ＫＶ−
２）を真空中で８００℃に加熱してロウ付けした。接合
したコバール棒を垂直方向に引っ張ることにより引っ張
り強度を測定し、サファイア表面に接合した金属層の接
合強度を求めた。その結果を表１に示す。
【００１５】（比較例１〜３）また、比較のため、実施
例と同一のサファイアを用い、比較例１〜２では、次亜
硝酸ナトリウムを塗布し、比較例３では、次亜硝酸ナト
リウムを塗布しないで、窒素雰囲気中で表１に示す温度
で加熱処理した。加熱処理したサファイアの面上に実施
例と同じ金属ロウを介して、実施例と同様にコバールを
接合し、同じく実施例と同様に接合強度を求めた。その
結果を表１に示す。
例と同一のサファイアを用い、比較例１〜２では、次亜
硝酸ナトリウムを塗布し、比較例３では、次亜硝酸ナト
リウムを塗布しないで、窒素雰囲気中で表１に示す温度
で加熱処理した。加熱処理したサファイアの面上に実施
例と同じ金属ロウを介して、実施例と同様にコバールを
接合し、同じく実施例と同様に接合強度を求めた。その
結果を表１に示す。
【００１６】
【表１】
【００１７】表１から明らかなように、実施例において
は、金属層の接合強度がいずれも４０ＭＰａ前後の高い
接合体が得られている。
は、金属層の接合強度がいずれも４０ＭＰａ前後の高い
接合体が得られている。
【００１８】これに対して比較例１では、加熱処理する
温度が低いため、ＴｉＮがサファイア表面に生成され
ず、加熱処理しない場合と同様ロウが濡れないため、ロ
ウ付けができないという結果となっている。また、比較
例２では、加熱処理する温度が高いため、サファイアが
反ってしまい、ロウ付けがうまくできなかった。さら
に、比較例３では、加熱処理温度は本発明の範囲にある
ものの次亜硝酸塩を塗布してなかったので、その接合強
度は１３ＭＰａと実施例に比べ大幅に低下していた。
温度が低いため、ＴｉＮがサファイア表面に生成され
ず、加熱処理しない場合と同様ロウが濡れないため、ロ
ウ付けができないという結果となっている。また、比較
例２では、加熱処理する温度が高いため、サファイアが
反ってしまい、ロウ付けがうまくできなかった。さら
に、比較例３では、加熱処理温度は本発明の範囲にある
ものの次亜硝酸塩を塗布してなかったので、その接合強
度は１３ＭＰａと実施例に比べ大幅に低下していた。
【００１９】
【発明の効果】以上、説明した本発明にかかるサファイ
ア表面への金属層形成方法によれば、サファイア表面に
４０ＭＰａ前後の高い接合強度を持つ金属層を形成でき
るようになった。このことにより、サファイアとＳＵＳ
などの金属とが強固に、しかも安価で簡便に接合するこ
とができるようになった。
ア表面への金属層形成方法によれば、サファイア表面に
４０ＭＰａ前後の高い接合強度を持つ金属層を形成でき
るようになった。このことにより、サファイアとＳＵＳ
などの金属とが強固に、しかも安価で簡便に接合するこ
とができるようになった。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成８年３月７日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００８】 上記サファイア表面に窒化層を形成する
方法としては、サファイア表面に次亜硝酸塩〔ＭＨＮ２
Ｏ２及びＭ２Ｎ２Ｏ２（Ｍは１価の金属）で表される次
亜硝酸（Ｈ２Ｎ２Ｏ２）の塩〕を塗布した後、窒素雰囲
気中にて１１００〜１４５０℃の温度で加熱処理するこ
ととした（請求項１）。
方法としては、サファイア表面に次亜硝酸塩〔ＭＨＮ２
Ｏ２及びＭ２Ｎ２Ｏ２（Ｍは１価の金属）で表される次
亜硝酸（Ｈ２Ｎ２Ｏ２）の塩〕を塗布した後、窒素雰囲
気中にて１１００〜１４５０℃の温度で加熱処理するこ
ととした（請求項１）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１０】 また、上記活性金属を含有する金属ロウ
としては、銀と銅から成るマトリックス中に、チタンな
どの活性金属を含むロウであることとした（請求項
２）。
としては、銀と銅から成るマトリックス中に、チタンな
どの活性金属を含むロウであることとした（請求項
２）。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 繁 埼玉県志木市柏町６ー25ー27
Claims (3)
- 【請求項１】 サファイア表面に窒化層を形成し、その
面上に活性金属を含有する金属ロウをロウ付けして金属
層を形成することを特徴とするサファイア表面への金属
層形成方法。 - 【請求項２】 サファイア表面に窒化層を形成する方法
が、該サファイア表面に次亜硝酸塩を塗布した後、窒素
雰囲気中にて１１００〜１４５０℃の温度で加熱処理す
るものであることを特徴とする請求項１記載のサファイ
ア表面への金属層形成方法。 - 【請求項３】 活性金属を含有する金属ロウが、銀と銅
から成るマトリックス中に、チタン,ジルコニウム,ハフ
ニウムなどの４ａ族活性金属を含む金属ロウであること
を特徴とする請求項１又は２記載のサファイア表面への
金属層形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33697594A JPH08183675A (ja) | 1994-12-27 | 1994-12-27 | サファイア表面への金属層形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33697594A JPH08183675A (ja) | 1994-12-27 | 1994-12-27 | サファイア表面への金属層形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08183675A true JPH08183675A (ja) | 1996-07-16 |
Family
ID=18304333
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33697594A Pending JPH08183675A (ja) | 1994-12-27 | 1994-12-27 | サファイア表面への金属層形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08183675A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008277395A (ja) * | 2007-04-26 | 2008-11-13 | Kyocera Corp | 光素子用窓部材ならびに光素子収納用パッケージおよび光モジュール |
| CN107234368A (zh) * | 2017-07-31 | 2017-10-10 | 中国工程物理研究院材料研究所 | 一种活性钎料及制备方法、利用活性钎料钎焊蓝宝石与无氧铜的方法 |
| CN108907385A (zh) * | 2018-07-20 | 2018-11-30 | 华侨大学 | 一种低温钎焊蓝宝石的方法 |
| CN113755832A (zh) * | 2021-08-30 | 2021-12-07 | 西安交通大学 | 一种蓝宝石晶体覆铜衬板的制作方法及其覆铜衬板 |
-
1994
- 1994-12-27 JP JP33697594A patent/JPH08183675A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008277395A (ja) * | 2007-04-26 | 2008-11-13 | Kyocera Corp | 光素子用窓部材ならびに光素子収納用パッケージおよび光モジュール |
| CN107234368A (zh) * | 2017-07-31 | 2017-10-10 | 中国工程物理研究院材料研究所 | 一种活性钎料及制备方法、利用活性钎料钎焊蓝宝石与无氧铜的方法 |
| CN107234368B (zh) * | 2017-07-31 | 2019-11-12 | 中国工程物理研究院材料研究所 | 一种活性钎料及制备方法、利用活性钎料钎焊蓝宝石与无氧铜的方法 |
| CN108907385A (zh) * | 2018-07-20 | 2018-11-30 | 华侨大学 | 一种低温钎焊蓝宝石的方法 |
| CN108907385B (zh) * | 2018-07-20 | 2021-02-02 | 华侨大学 | 一种低温钎焊蓝宝石的方法 |
| CN113755832A (zh) * | 2021-08-30 | 2021-12-07 | 西安交通大学 | 一种蓝宝石晶体覆铜衬板的制作方法及其覆铜衬板 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH06115009A (ja) | セラミックス焼結体の接合方法 | |
| JPH08183675A (ja) | サファイア表面への金属層形成方法 | |
| JPS6365635B2 (ja) | ||
| JPH0424312B2 (ja) | ||
| JPH07149589A (ja) | アルミナセラミックス表面への金属層形成方法 | |
| JPH0460946B2 (ja) | ||
| JP3523665B2 (ja) | セラミックス表面への金属層の形成方法 | |
| JPS6021888A (ja) | セラミツクスのメタライズ法 | |
| JP3531838B2 (ja) | ジルコニアセラミックス表面への金属層形成方法 | |
| JPH07196380A (ja) | 非酸化物セラミックスと金属との接合方法 | |
| JP3388606B2 (ja) | セラミックスの接合方法 | |
| JP3289860B2 (ja) | セラミックスとシリコンとの接合方法 | |
| JP2000178081A (ja) | 金属―セラミックス接合基板 | |
| JP2001048670A (ja) | セラミックス−金属接合体 | |
| JP2004083366A (ja) | 窒化アルミニウムセラミックス接合体及びその製造方法 | |
| JP2729751B2 (ja) | アルミナセラミックスとアルミニウムの接合方法 | |
| JP3255379B2 (ja) | アルミナセラミックスと金属の接合方法 | |
| JPH0733566A (ja) | セラミックス表面への金属層の形成方法 | |
| JP3352823B2 (ja) | 炭化珪素セラミックスとシリコンとの接合方法 | |
| JP2001114575A (ja) | セラミックスとセラミックスとの接合体及びその接合方法 | |
| JPS58176189A (ja) | 珪素の窒化物および炭化物焼結体表面の金属化法 | |
| JPH07172944A (ja) | 接着用組成物、接合体およびその接合方法 | |
| JPS59203779A (ja) | 熱膨張係数の異なるセラミックス焼結体どうしあるいはセラミックス焼結体と金属部材との接合方法、およびセラミックス接合体 | |
| JPH09132473A (ja) | セラミックス用ろう材 | |
| JPH0362674B2 (ja) |