JPH08181096A - パーティクルサンプラ - Google Patents
パーティクルサンプラInfo
- Publication number
- JPH08181096A JPH08181096A JP32453294A JP32453294A JPH08181096A JP H08181096 A JPH08181096 A JP H08181096A JP 32453294 A JP32453294 A JP 32453294A JP 32453294 A JP32453294 A JP 32453294A JP H08181096 A JPH08181096 A JP H08181096A
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- JP
- Japan
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- stage
- particles
- measured
- suction nozzle
- particle sampler
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- Pending
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- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ウエハ上やガラス基板上のゴミを解析するパ
ーティクルサンプラを提供する。 【構成】 被測定体の上に付着したパーティクルを吸引
ノズルによって吸引し、吸引したパーティクルをフィル
タに捕集するパーティクルサンプラにおいて、吸引ノズ
ルに被測定体を一定距離を保っようにして搭載し、被測
定体を回転する第１のステージと、第１のステージと連
結されていて、第１のステージの回転軸を変位する第２
のステージとを設け、第１のステージと第２のステージ
とによって、被測定体を移動し、被測定体に付着したパ
ーティクルを捕集することを特徴としている。
ーティクルサンプラを提供する。 【構成】 被測定体の上に付着したパーティクルを吸引
ノズルによって吸引し、吸引したパーティクルをフィル
タに捕集するパーティクルサンプラにおいて、吸引ノズ
ルに被測定体を一定距離を保っようにして搭載し、被測
定体を回転する第１のステージと、第１のステージと連
結されていて、第１のステージの回転軸を変位する第２
のステージとを設け、第１のステージと第２のステージ
とによって、被測定体を移動し、被測定体に付着したパ
ーティクルを捕集することを特徴としている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体のウエハや液晶の
ガラス基板上に付着したパーティクルをフィルタに捕集
するパーティクルサンプラに関し、更に詳しくは、ウエ
ハやガラス基板上等に付着したパーティクルを効率よく
フィルタに捕集し、捕集した微粒子サンプルをマイクロ
波誘導プラズマ利用元素分析計等に供給するパーティク
ルサンプラに関する。
ガラス基板上に付着したパーティクルをフィルタに捕集
するパーティクルサンプラに関し、更に詳しくは、ウエ
ハやガラス基板上等に付着したパーティクルを効率よく
フィルタに捕集し、捕集した微粒子サンプルをマイクロ
波誘導プラズマ利用元素分析計等に供給するパーティク
ルサンプラに関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体回路を形成するウエハ上のゴミ
は、配線回路の断線を生じ、液晶パネルを構成するガラ
ス基板上のゴミは、画素の欠落を生じる。このため、製
造工程におけるゴミ対策は歩留り等において重要な課題
になっている。この解決のため、ウエハ上やガラス基板
上のゴミは、特開平４−６８５２７号に示されているよ
うに、レーザで除去したり、特開平４−６８５２７号に
示されているように、洗浄ガスによる化学的な反応によ
って除去したりしている。
は、配線回路の断線を生じ、液晶パネルを構成するガラ
ス基板上のゴミは、画素の欠落を生じる。このため、製
造工程におけるゴミ対策は歩留り等において重要な課題
になっている。この解決のため、ウエハ上やガラス基板
上のゴミは、特開平４−６８５２７号に示されているよ
うに、レーザで除去したり、特開平４−６８５２７号に
示されているように、洗浄ガスによる化学的な反応によ
って除去したりしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このような従来のパー
ティクルを除去する装置は、ゴミの除去だけで、ウエハ
上やガラス基板上のゴミの成分や量を測定できず、ゴミ
（以下、パーティクルという）の発生や原因を本質的に
解析するということができなかった。
ティクルを除去する装置は、ゴミの除去だけで、ウエハ
上やガラス基板上のゴミの成分や量を測定できず、ゴミ
（以下、パーティクルという）の発生や原因を本質的に
解析するということができなかった。
【０００４】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、ウエハ上やガラス基板上に付着したパーティク
ルを効率良くフィルタに捕集し、この捕集したパーティ
クルをプラズマで励起して分析するパーティクルアナラ
イザに供給して、ウエハ上やガラス基板上のゴミを解析
するパーティクルサンプラを提供することを目的として
いる。
もので、ウエハ上やガラス基板上に付着したパーティク
ルを効率良くフィルタに捕集し、この捕集したパーティ
クルをプラズマで励起して分析するパーティクルアナラ
イザに供給して、ウエハ上やガラス基板上のゴミを解析
するパーティクルサンプラを提供することを目的として
いる。
【０００５】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は、被測定体の上に付着したパーティ
クルを吸引ノズルによって吸引し、吸引したパーティク
ルをフィルタに捕集するパーティクルサンプラにおい
て、前記吸引ノズルに前記被測定体を一定距離を保っよ
うにして搭載し、前記被測定体を回転する第１のステー
ジと、この第１のステージと連結されていて、前記第１
のステージの回転軸を変位する第２のステージと、を設
け、前記第１のステージと前記第２のステージとによっ
て、前記被測定体を移動し、前記被測定体に付着したパ
ーティクルを捕集することを特徴としている。そして、
被測定体の上に付着したパーティクルを吸引ノズルによ
って吸引し、吸引したパーティクルをフィルタに捕集す
るパーティクルサンプラにおいて、前記吸引ノズルの近
傍に設けられていて、前記被測定体に向かって流体を吹
きつける吹き出しノズルを設け、前記被測定体の上に付
着したパーティクルを前記吹き出しノズルからの流体に
よって浮上させ、浮上したパーティクルを吸引すること
を特徴としている。また、被測定体の上に付着したパー
ティクルを吸引ノズルによって吸引し、吸引したパーテ
ィクルをフィルタに捕集するパーティクルサンプラにお
いて、前記吸引ノズルの近傍に設けられていて、前記被
測定体に向かって流体を吹きつける吹き出しノズルと、
この吹き出しノズル及び吸引ノズルの少なくとも一方を
制御し、前記被測定体との相対位置を変化する駆動装
置、を設けたことを特徴としている。さらに、前記吹き
出しノズルに供給する流体の流量を制御する制御手段を
具備したことを特徴とした請求項（２）又は請求項
（３）記載のパーティクルサンプラである。
るために、本発明は、被測定体の上に付着したパーティ
クルを吸引ノズルによって吸引し、吸引したパーティク
ルをフィルタに捕集するパーティクルサンプラにおい
て、前記吸引ノズルに前記被測定体を一定距離を保っよ
うにして搭載し、前記被測定体を回転する第１のステー
ジと、この第１のステージと連結されていて、前記第１
のステージの回転軸を変位する第２のステージと、を設
け、前記第１のステージと前記第２のステージとによっ
て、前記被測定体を移動し、前記被測定体に付着したパ
ーティクルを捕集することを特徴としている。そして、
被測定体の上に付着したパーティクルを吸引ノズルによ
って吸引し、吸引したパーティクルをフィルタに捕集す
るパーティクルサンプラにおいて、前記吸引ノズルの近
傍に設けられていて、前記被測定体に向かって流体を吹
きつける吹き出しノズルを設け、前記被測定体の上に付
着したパーティクルを前記吹き出しノズルからの流体に
よって浮上させ、浮上したパーティクルを吸引すること
を特徴としている。また、被測定体の上に付着したパー
ティクルを吸引ノズルによって吸引し、吸引したパーテ
ィクルをフィルタに捕集するパーティクルサンプラにお
いて、前記吸引ノズルの近傍に設けられていて、前記被
測定体に向かって流体を吹きつける吹き出しノズルと、
この吹き出しノズル及び吸引ノズルの少なくとも一方を
制御し、前記被測定体との相対位置を変化する駆動装
置、を設けたことを特徴としている。さらに、前記吹き
出しノズルに供給する流体の流量を制御する制御手段を
具備したことを特徴とした請求項（２）又は請求項
（３）記載のパーティクルサンプラである。
【０００６】
【作用】回転軸Ｏ1を中心に回転する第１のステージを
第２のステージの回転軸Ｏ2を中心に回転角θで回転
し、万遍無く第１のステージに搭載されたウエハをスキ
ャンする。吹き出しノズルを左右に振動するように制御
し、吹き出しノズルからの流体によってウエハ上に付着
したパーティクルを吹き上げる。吹き上げたパーティク
ルは、吸引ノズルによって吸い上げ、フィルタに捕集す
る。
第２のステージの回転軸Ｏ2を中心に回転角θで回転
し、万遍無く第１のステージに搭載されたウエハをスキ
ャンする。吹き出しノズルを左右に振動するように制御
し、吹き出しノズルからの流体によってウエハ上に付着
したパーティクルを吹き上げる。吹き上げたパーティク
ルは、吸引ノズルによって吸い上げ、フィルタに捕集す
る。
【０００７】
【実施例】以下、図面を用いて本発明の一実施例を詳細
に説明する。図１は、本発明のパーティクルサンプラの
一実施例を示した正面図、図２は平面図である。尚、実
施例では、ウエハ上のパーティクルを採取する場合を例
に挙げて説明する。図中、１は被測定体であるウエハ、
２はウエハ１を搭載する第１のステージで、搭載したウ
エハを回転軸Ｏ1を中心に回転する。３は第１のステー
ジの回転軸Ｏ1を変位する第２のステージで、第１のス
テージ２を搭載し、回転軸Ｏ2を中心に回転角θで第１
のステージ２を回転する。
に説明する。図１は、本発明のパーティクルサンプラの
一実施例を示した正面図、図２は平面図である。尚、実
施例では、ウエハ上のパーティクルを採取する場合を例
に挙げて説明する。図中、１は被測定体であるウエハ、
２はウエハ１を搭載する第１のステージで、搭載したウ
エハを回転軸Ｏ1を中心に回転する。３は第１のステー
ジの回転軸Ｏ1を変位する第２のステージで、第１のス
テージ２を搭載し、回転軸Ｏ2を中心に回転角θで第１
のステージ２を回転する。
【０００８】４はウエハ１上に付着したパーティクルを
吸引する吸引ノズル、５は吸引機、６は吸引ノズルで吸
引したパーティクルを捕集するフィルタである。吸引ノ
ズル４は、ウエハ１との間隔（ギャップ）が任意に調整
できるようになっていて、ウエハ１上に付着したパーテ
ィクルが吸引しやすい間隔にギャップ制御機構７で設定
される。８はサンプリング中にウエハ１が汚染されない
ように設けられたチャンバで、内部はクリンエアー等で
置換される。
吸引する吸引ノズル、５は吸引機、６は吸引ノズルで吸
引したパーティクルを捕集するフィルタである。吸引ノ
ズル４は、ウエハ１との間隔（ギャップ）が任意に調整
できるようになっていて、ウエハ１上に付着したパーテ
ィクルが吸引しやすい間隔にギャップ制御機構７で設定
される。８はサンプリング中にウエハ１が汚染されない
ように設けられたチャンバで、内部はクリンエアー等で
置換される。
【０００９】次に、このように構成されたパーティクル
サンプラの動作について説明する。先ず、ウエハ１が第
１のステージ２に搭載され、吸引ノズル６によってパー
ティクルの吸引が開始される。この状態で、ウエハ１
は、回転軸Ｏ1を中心に回転されると共に、第２のステ
ージ３によってＸ−Ｘ’方向に回転される。
サンプラの動作について説明する。先ず、ウエハ１が第
１のステージ２に搭載され、吸引ノズル６によってパー
ティクルの吸引が開始される。この状態で、ウエハ１
は、回転軸Ｏ1を中心に回転されると共に、第２のステ
ージ３によってＸ−Ｘ’方向に回転される。
【００１０】このような動作によって、吸引ノズル６が
ウエハ１上に描く軌跡は、渦巻き状になる。この時、第
２のステージ３の移動速度に対して、第１のステージ２
の回転速度を十分に早くすれば、渦巻きの目を細かくす
ることができ、ウエハ１全面をくまなくスキャンでき
る。
ウエハ１上に描く軌跡は、渦巻き状になる。この時、第
２のステージ３の移動速度に対して、第１のステージ２
の回転速度を十分に早くすれば、渦巻きの目を細かくす
ることができ、ウエハ１全面をくまなくスキャンでき
る。
【００１１】吸引ノズル６は、これらの移動に追従し
て、ウエハ１とのギャップが制御されていて、吸引ノズ
ル６の吸引流は、ウエハ１表面に沿って流れる。このた
め、ウエハ１状のパーティクルは、効率よく吸引ノズル
４によって吸引される。尚、本実施例では、第２のステ
ージ３が第１のステージ２を搭載した形になっている
が、上下関係は逆の形でもよく、また、第２のステージ
３はＸＹステージでもよい。本実施例のように、回転す
る第１、第２のステージを組み合わせれば、装置を小さ
くでき、スムーズな動作を得ることができる。
て、ウエハ１とのギャップが制御されていて、吸引ノズ
ル６の吸引流は、ウエハ１表面に沿って流れる。このた
め、ウエハ１状のパーティクルは、効率よく吸引ノズル
４によって吸引される。尚、本実施例では、第２のステ
ージ３が第１のステージ２を搭載した形になっている
が、上下関係は逆の形でもよく、また、第２のステージ
３はＸＹステージでもよい。本実施例のように、回転す
る第１、第２のステージを組み合わせれば、装置を小さ
くでき、スムーズな動作を得ることができる。
【００１２】図３は、本発明の他の実施例で、吸引ノズ
ル部を拡大した要部構成図である。図中、１０は吸引ノ
ズルで、中心部にはウエハ１に向かって流体を吹きつけ
る吹き出しノズル１１が形成されている。流体（この例
ではエアー）が吹き出しノズル１１から吹きつけられる
と、ウエハ１上に付着したパーティクルは、ウエハ１上
から剥離し、吹き上げられる。
ル部を拡大した要部構成図である。図中、１０は吸引ノ
ズルで、中心部にはウエハ１に向かって流体を吹きつけ
る吹き出しノズル１１が形成されている。流体（この例
ではエアー）が吹き出しノズル１１から吹きつけられる
と、ウエハ１上に付着したパーティクルは、ウエハ１上
から剥離し、吹き上げられる。
【００１３】吹き上げられたパーティクルは、吸引ノズ
ル１０で吸い上げられ、フィルタ６に捕集される。１２
は流量制御手段で、吹き出しノズル１１から吹き出す流
体の流量を制御する。１３は駆動装置で、吸引ノズル１
０と吹き出しノズル１１とを制御して、ウエハ１との相
対位置（ＸＹ方向及びＺ方向）を変化する。
ル１０で吸い上げられ、フィルタ６に捕集される。１２
は流量制御手段で、吹き出しノズル１１から吹き出す流
体の流量を制御する。１３は駆動装置で、吸引ノズル１
０と吹き出しノズル１１とを制御して、ウエハ１との相
対位置（ＸＹ方向及びＺ方向）を変化する。
【００１４】例えば、吹き出しノズル１１を左右に振動
するように制御すれば、ウエハ１表面には乱流が発生し
て、各方向からパーティクルに風圧力が加わる。この力
によって、パーティクルは、１μｍ前後の付着力の強い
ものであっても、数μｍのものと同様にウエハ１上から
簡単に剥離する。ここで説明した吸引ノズル１０と吹き
出しノズル１１は、一体となった２重管構造のものでも
よいし、別体となったものでもよい。また、吸引流量と
吹き出し流量との比は、１：２、１：３というような割
合で、パーティクル径及び形状に応じて任意に定められ
る。
するように制御すれば、ウエハ１表面には乱流が発生し
て、各方向からパーティクルに風圧力が加わる。この力
によって、パーティクルは、１μｍ前後の付着力の強い
ものであっても、数μｍのものと同様にウエハ１上から
簡単に剥離する。ここで説明した吸引ノズル１０と吹き
出しノズル１１は、一体となった２重管構造のものでも
よいし、別体となったものでもよい。また、吸引流量と
吹き出し流量との比は、１：２、１：３というような割
合で、パーティクル径及び形状に応じて任意に定められ
る。
【００１５】図４は、本実施例のパーティクルサンプラ
でパーティクルをサンプリングした試験結果である。
尚、ウエハ１上のパーティクルの径及び個数は、電子顕
微鏡によって予め測定してある。試験結果からも分かる
ように、１μｍ以上のパーティクルは完全にサンプリン
グできていることが分かる。尚、吹き出しノズル１１を
用いないものは、１〜２、３μｍのパーティクルが取り
きれないという結果であった。
でパーティクルをサンプリングした試験結果である。
尚、ウエハ１上のパーティクルの径及び個数は、電子顕
微鏡によって予め測定してある。試験結果からも分かる
ように、１μｍ以上のパーティクルは完全にサンプリン
グできていることが分かる。尚、吹き出しノズル１１を
用いないものは、１〜２、３μｍのパーティクルが取り
きれないという結果であった。
【００１６】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明の
パーティクルサンプラによれば、次に記載するような効
果がある。請求項（１）記載の発明によれば、回転軸Ｏ
1を中心に回転する第１のステージを第２のステージの
回転軸Ｏ2を中心に回転角θで回転しているので、制御
が容易で、且つ万遍無く第１のステージに搭載されたウ
エハをスキャンすることができ、ウエハからパーティク
ルを効率良く採取することができる。請求項（２）記載
の発明によれば、吹き出しノズルからの流体によってウ
エハ上に付着したパーティクルを吹き上げた後に吸引ノ
ズルによって吸引するようにしているので、１μｍ前後
の小さなパーティクルでも採取することが可能である。
請求項（３）記載の発明によれば、吹き出しノズルを左
右に振動するように制御しているので、ウエハ表面には
乱流が発生して、各方向からパーティクルに風圧力が加
わり、更に効率良くパーティクルを捕集することができ
る。請求項（４）記載の発明によれば、流量制御手段に
よって吹き出しノズルに供給する流体の流量を制御でき
るので、パーティクル径及び形状に応じ、効率良くパー
ティクルを捕集することができる。
パーティクルサンプラによれば、次に記載するような効
果がある。請求項（１）記載の発明によれば、回転軸Ｏ
1を中心に回転する第１のステージを第２のステージの
回転軸Ｏ2を中心に回転角θで回転しているので、制御
が容易で、且つ万遍無く第１のステージに搭載されたウ
エハをスキャンすることができ、ウエハからパーティク
ルを効率良く採取することができる。請求項（２）記載
の発明によれば、吹き出しノズルからの流体によってウ
エハ上に付着したパーティクルを吹き上げた後に吸引ノ
ズルによって吸引するようにしているので、１μｍ前後
の小さなパーティクルでも採取することが可能である。
請求項（３）記載の発明によれば、吹き出しノズルを左
右に振動するように制御しているので、ウエハ表面には
乱流が発生して、各方向からパーティクルに風圧力が加
わり、更に効率良くパーティクルを捕集することができ
る。請求項（４）記載の発明によれば、流量制御手段に
よって吹き出しノズルに供給する流体の流量を制御でき
るので、パーティクル径及び形状に応じ、効率良くパー
ティクルを捕集することができる。
【図１】本発明のパーティクルサンプラの一実施例を示
した正面図である。
した正面図である。
【図２】本発明のパーティクルサンプラの一実施例を示
した平面図である。
した平面図である。
【図３】本発明の他の実施例で、吸引ノズル部を拡大し
た要部構成図である。
た要部構成図である。
【図４】本実施例のパーティクルサンプラでサンプリン
グした試験結果である。
グした試験結果である。
２ 第１のステージ ３ 第２のステージ １１ 吹き出しノズル １２ 流量制御手段 １３ 駆動装置
Claims (4)
- 【請求項１】 被測定体の上に付着したパーティクルを
吸引ノズルによって吸引し、吸引したパーティクルをフ
ィルタに捕集するパーティクルサンプラにおいて、 前記吸引ノズルに前記被測定体を一定距離を保っように
して搭載し、前記被測定体を回転する第１のステージ
と、 この第１のステージと連結されていて、前記第１のステ
ージの回転軸を変位する第２のステージと、 を設け、前記第１のステージと前記第２のステージとに
よって、前記被測定体を移動し、前記被測定体に付着し
たパーティクルを捕集することを特徴としたパーティク
ルサンプラ。 - 【請求項２】 被測定体の上に付着したパーティクルを
吸引ノズルによって吸引し、吸引したパーティクルをフ
ィルタに捕集するパーティクルサンプラにおいて、 前記吸引ノズルの近傍に設けられていて、前記被測定体
に向かって流体を吹きつける吹き出しノズルを設け、前
記被測定体の上に付着したパーティクルを前記吹き出し
ノズルからの流体によって浮上させ、浮上したパーティ
クルを吸引することを特徴としたパーティクルサンプ
ラ。 - 【請求項３】 被測定体の上に付着したパーティクルを
吸引ノズルによって吸引し、吸引したパーティクルをフ
ィルタに捕集するパーティクルサンプラにおいて、 前記吸引ノズルの近傍に設けられていて、前記被測定体
に向かって流体を吹きつける吹き出しノズルと、 この吹き出しノズル及び吸引ノズルの少なくとも一方を
制御し、前記被測定体との相対位置を変化する駆動装
置、 を設けたことを特徴としたパーティクルサンプラ。 - 【請求項４】 前記吹き出しノズルに供給する流体の流
量を制御する流量制御手段を具備したことを特徴とした
請求項（２）又は請求項（３）記載のパーティクルサン
プラ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32453294A JPH08181096A (ja) | 1994-12-27 | 1994-12-27 | パーティクルサンプラ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32453294A JPH08181096A (ja) | 1994-12-27 | 1994-12-27 | パーティクルサンプラ |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000200468A Division JP2001079505A (ja) | 2000-07-03 | 2000-07-03 | 吸引ノズル装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08181096A true JPH08181096A (ja) | 1996-07-12 |
Family
ID=18166858
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32453294A Pending JPH08181096A (ja) | 1994-12-27 | 1994-12-27 | パーティクルサンプラ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08181096A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008183546A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-14 | Aisin Aw Co Ltd | 異物検知採集機 |
| JP2010230646A (ja) * | 2009-03-04 | 2010-10-14 | Avanstrate Inc | ガラス板端面のパーティクル測定方法および測定装置 |
| US10201927B2 (en) | 2013-12-20 | 2019-02-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint apparatus, foreign particle removal method, and method of manufacturing article |
| JP2019052988A (ja) * | 2017-09-19 | 2019-04-04 | 株式会社スギノマシン | 異物検査装置及び異物検査方法 |
-
1994
- 1994-12-27 JP JP32453294A patent/JPH08181096A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008183546A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-14 | Aisin Aw Co Ltd | 異物検知採集機 |
| JP2010230646A (ja) * | 2009-03-04 | 2010-10-14 | Avanstrate Inc | ガラス板端面のパーティクル測定方法および測定装置 |
| US10201927B2 (en) | 2013-12-20 | 2019-02-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint apparatus, foreign particle removal method, and method of manufacturing article |
| JP2019052988A (ja) * | 2017-09-19 | 2019-04-04 | 株式会社スギノマシン | 異物検査装置及び異物検査方法 |
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