JPH08176103A - アジリジンケトンの製造方法 - Google Patents
アジリジンケトンの製造方法Info
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- JPH08176103A JPH08176103A JP32284094A JP32284094A JPH08176103A JP H08176103 A JPH08176103 A JP H08176103A JP 32284094 A JP32284094 A JP 32284094A JP 32284094 A JP32284094 A JP 32284094A JP H08176103 A JPH08176103 A JP H08176103A
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- ether
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 一般式（３）
で示されるα，βー不飽和ケトンをＯ−アルキルヒドロ
キシルアミンまたはその塩と反応させてβーアルコキシ
アミノケトンを得、次いで非プロトン性極性溶媒、エー
テル系溶媒または芳香族系溶媒から選ばれる一種以上の
溶媒中、塩基を作用させることを特徴とする一般式
（１） で示されるアジリジンケトンの製造方法。 【効果】 本発明の方法によれば、βーアルコキシアミ
ノケトンから容易に、好収率でアジリジンケトンを製造
することができ、また、その原料であるβーアルコキシ
アミノケトンは入手が容易なα，βー不飽和ケトンにＯ
−アルキルヒドロキシルアミンを付加させることによっ
て容易に、高収率で製造できるため、医農薬中間体とし
て有用なアジリジンケトンを工業的に入手容易な原料化
合物から、簡便な操作で製造する方法として非常に有用
である。また、本発明によれば、α，βー不飽和ケトン
からワンポットでアジリジンケトンを製造することもで
きるため、工業的製法としてより有用である。
キシルアミンまたはその塩と反応させてβーアルコキシ
アミノケトンを得、次いで非プロトン性極性溶媒、エー
テル系溶媒または芳香族系溶媒から選ばれる一種以上の
溶媒中、塩基を作用させることを特徴とする一般式
（１） で示されるアジリジンケトンの製造方法。 【効果】 本発明の方法によれば、βーアルコキシアミ
ノケトンから容易に、好収率でアジリジンケトンを製造
することができ、また、その原料であるβーアルコキシ
アミノケトンは入手が容易なα，βー不飽和ケトンにＯ
−アルキルヒドロキシルアミンを付加させることによっ
て容易に、高収率で製造できるため、医農薬中間体とし
て有用なアジリジンケトンを工業的に入手容易な原料化
合物から、簡便な操作で製造する方法として非常に有用
である。また、本発明によれば、α，βー不飽和ケトン
からワンポットでアジリジンケトンを製造することもで
きるため、工業的製法としてより有用である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、アジリジンケトンの製
造方法に関する。
造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】アジリジンケトンは医薬中間体として重
要であり、その製造方法についても種々検討されてい
る。これらの製造方法の内、工業的に最も優位と考えら
れる方法は、α，β−不飽和カルボニル化合物誘導体を
原料とする方法であり、具体的にはα，β−ジハロカル
ボニル化合物またはα−ハロ−α，β−不飽和カルボニ
ル化合物とアミンとの縮合反応による方法〔例えば、J.
Am.Chem.Soc., 71, 708(1949), Heterocycles,473(197
8)〕が知られているが、この方法は原料化合物の合成に
ハロゲン化工程が必要であり、工程数が長く、工業的に
有利とは言えない。他の方法として、アミニミドやスル
フィミドをアミノ化剤としてチャルコン類と反応させる
方法〔J.Chem.Soc.Chem.Commun.,650(1980), Tetrahedr
on, 36,73(1980)〕やヨウ素の存在下にアミンとチャル
コン類を反応させる方法〔J.Am.Chem.Soc., 74, 1886(1
952)〕なども知られているが、チャルコン類しか反応例
がなく一般性に欠けるほか、アジリジンケトンと当量以
上の分子量の大きな解離残基が副生するため、工業的な
実施は困難であった。また、アジドとアクリル酸メチル
を加熱する方法〔Chem.Lett.,901(1976)〕も知られてい
るが、アジド類はその爆発危険性のため工業的に利用す
ることは困難である。さらに、β−アルコキシアミノケ
トンを原料とする方法では、A.H.Blatt の方法〔J.Am.C
hem.Soc., 61, 3494(1939)〕によりアジリジンケトンを
合成する例が報告されている〔J.Am.Chem.Soc., 73, 10
44(19351〕が、この例ではメタノール溶媒中で反応させ
ており、６１％程度の収率でしかアジリジンケトンが得
られていない。
要であり、その製造方法についても種々検討されてい
る。これらの製造方法の内、工業的に最も優位と考えら
れる方法は、α，β−不飽和カルボニル化合物誘導体を
原料とする方法であり、具体的にはα，β−ジハロカル
ボニル化合物またはα−ハロ−α，β−不飽和カルボニ
ル化合物とアミンとの縮合反応による方法〔例えば、J.
Am.Chem.Soc., 71, 708(1949), Heterocycles,473(197
8)〕が知られているが、この方法は原料化合物の合成に
ハロゲン化工程が必要であり、工程数が長く、工業的に
有利とは言えない。他の方法として、アミニミドやスル
フィミドをアミノ化剤としてチャルコン類と反応させる
方法〔J.Chem.Soc.Chem.Commun.,650(1980), Tetrahedr
on, 36,73(1980)〕やヨウ素の存在下にアミンとチャル
コン類を反応させる方法〔J.Am.Chem.Soc., 74, 1886(1
952)〕なども知られているが、チャルコン類しか反応例
がなく一般性に欠けるほか、アジリジンケトンと当量以
上の分子量の大きな解離残基が副生するため、工業的な
実施は困難であった。また、アジドとアクリル酸メチル
を加熱する方法〔Chem.Lett.,901(1976)〕も知られてい
るが、アジド類はその爆発危険性のため工業的に利用す
ることは困難である。さらに、β−アルコキシアミノケ
トンを原料とする方法では、A.H.Blatt の方法〔J.Am.C
hem.Soc., 61, 3494(1939)〕によりアジリジンケトンを
合成する例が報告されている〔J.Am.Chem.Soc., 73, 10
44(19351〕が、この例ではメタノール溶媒中で反応させ
ており、６１％程度の収率でしかアジリジンケトンが得
られていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このようなことから、
本発明者は、工業的に操作も容易で、一般性の高いアジ
リジンケトンの製造方法について検討の結果、入手が容
易なα，βー不飽和ケトンにＯ−アルキルヒドロキシル
アミンを付加させることによって得られるβーアルコキ
シアミノケトンに特定の溶媒中、塩基を作用させること
により種々のアジリジンケトンを高収率で製造できるこ
とを見出し、さらに、α，βー不飽和ケトンからワンポ
ットでアジリジンケトンが製造できることを併せて見出
し、本発明に至った。
本発明者は、工業的に操作も容易で、一般性の高いアジ
リジンケトンの製造方法について検討の結果、入手が容
易なα，βー不飽和ケトンにＯ−アルキルヒドロキシル
アミンを付加させることによって得られるβーアルコキ
シアミノケトンに特定の溶媒中、塩基を作用させること
により種々のアジリジンケトンを高収率で製造できるこ
とを見出し、さらに、α，βー不飽和ケトンからワンポ
ットでアジリジンケトンが製造できることを併せて見出
し、本発明に至った。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式（２） （式中、Ｒ1 、Ｒ3 は同一または相異なって水素原子、
随時ハロゲンもしくは炭素数１〜６のアルコキシル基も
しくはアリールオキシ基で置換されていてもよい炭素数
１〜１０の直鎖もしくは分枝状のアルキル基、アリール
基または置換アリール基を、Ｒ2 は随時ハロゲンもしく
は炭素数１〜６のアルコキシル基もしくはアリールオキ
シ基で置換されていてもよい炭素数１〜１０の直鎖もし
くは分枝状のアルキル基、アリール基または置換アリー
ル基を、Ｒ4 は炭素数１〜６の直鎖もしくは分枝状のア
ルキル基またはアラルキル基を、Ｒ5 は水素原子、炭素
数１〜６の直鎖もしくは分枝状のアルキル基、シクロア
ルキル基またはアラルキル基をそれぞれ示す。）で示さ
れるβーアルコキシアミノケトンに、非プロトン性極性
溶媒、エーテル系溶媒または芳香族系溶媒から選ばれる
一種以上の溶媒中、塩基を作用させることからなる一般
式（１） （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ5 は前記と同じ意味
を有する。）で示されるアジリジンケトンの製造方法を
提供するものであり、また、本発明はこの反応の原料で
ある一般式（２）で示されるβーアルコキシアミノケト
ンを、一般式（３） （式中、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は前記と同じ意味を有す
る。）で示されるα，βー不飽和ケトンと一般式（４） （式中、Ｒ4 およびＲ5 は前記と同じ意味を有する。）
で示されるＯ−アルキルヒドロキシルアミンまたはその
塩とを反応させて製造する方法を提供するものである。
また、本発明は、前記一般式（３）で示されるα，βー
不飽和ケトンと前記一般式（４）で示されるＯ−アルキ
ルヒドロキシルアミンまたはその塩とを非プロトン性極
性溶媒、エーテル系溶媒または芳香族系溶媒から選ばれ
る一種以上の溶媒中で反応させ、該反応系に塩基を作用
させることからなる前記一般式（１）で示されるアジリ
ジンケトンの製造方法を提供するものである。
随時ハロゲンもしくは炭素数１〜６のアルコキシル基も
しくはアリールオキシ基で置換されていてもよい炭素数
１〜１０の直鎖もしくは分枝状のアルキル基、アリール
基または置換アリール基を、Ｒ2 は随時ハロゲンもしく
は炭素数１〜６のアルコキシル基もしくはアリールオキ
シ基で置換されていてもよい炭素数１〜１０の直鎖もし
くは分枝状のアルキル基、アリール基または置換アリー
ル基を、Ｒ4 は炭素数１〜６の直鎖もしくは分枝状のア
ルキル基またはアラルキル基を、Ｒ5 は水素原子、炭素
数１〜６の直鎖もしくは分枝状のアルキル基、シクロア
ルキル基またはアラルキル基をそれぞれ示す。）で示さ
れるβーアルコキシアミノケトンに、非プロトン性極性
溶媒、エーテル系溶媒または芳香族系溶媒から選ばれる
一種以上の溶媒中、塩基を作用させることからなる一般
式（１） （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ5 は前記と同じ意味
を有する。）で示されるアジリジンケトンの製造方法を
提供するものであり、また、本発明はこの反応の原料で
ある一般式（２）で示されるβーアルコキシアミノケト
ンを、一般式（３） （式中、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は前記と同じ意味を有す
る。）で示されるα，βー不飽和ケトンと一般式（４） （式中、Ｒ4 およびＲ5 は前記と同じ意味を有する。）
で示されるＯ−アルキルヒドロキシルアミンまたはその
塩とを反応させて製造する方法を提供するものである。
また、本発明は、前記一般式（３）で示されるα，βー
不飽和ケトンと前記一般式（４）で示されるＯ−アルキ
ルヒドロキシルアミンまたはその塩とを非プロトン性極
性溶媒、エーテル系溶媒または芳香族系溶媒から選ばれ
る一種以上の溶媒中で反応させ、該反応系に塩基を作用
させることからなる前記一般式（１）で示されるアジリ
ジンケトンの製造方法を提供するものである。
【０００５】ここで、前記各一般式で示される各置換基
において、アリールとは反応を阻害しない種々の置換基
を有していてもよいフェニル、ナフチル、アントリルな
どの単環もしくは多環式芳香族炭素環またはフリル、ピ
ロリル、チエニル、オキサゾリル、チアゾリル、ピリジ
ル、イミダゾリル、トリアゾリル、キノリル、プリニル
などの単環もしくは多環式芳香族複素環を意味するもの
である。
において、アリールとは反応を阻害しない種々の置換基
を有していてもよいフェニル、ナフチル、アントリルな
どの単環もしくは多環式芳香族炭素環またはフリル、ピ
ロリル、チエニル、オキサゾリル、チアゾリル、ピリジ
ル、イミダゾリル、トリアゾリル、キノリル、プリニル
などの単環もしくは多環式芳香族複素環を意味するもの
である。
【０００６】本発明において、出発原料として用いられ
る一般式（３）で示されるα，βー不飽和ケトンは、例
えば対応するアルデヒドとケトンの縮合反応などにより
極めて容易に合成することができ、具体的には１ーフェ
ニルー２ーブテンー１ーオン、４，４ージメチルー１ー
フェニルー２ーペンテンー１ーオン、５ークロロー２，
４ージメチルー１ーフェニルー２ーヘキセンー１ーオ
ン、２，２，６−トリメチルー７ーメトキシー４ーオク
テンー３ーオン、４ーメチルー５ーフェノキシー１ーフ
ェニルー２ーヘキセンー１ーオン、チャルコン、１ーフ
ェニルー３ー（ｏ−トリル）ー２ープロペンー１ーオ
ン、１ーフェニルー３ー（ｍ−トリル）ー２ープロペン
ー１ーオン、１ーフェニルー３ー（ｐ−トリル）ー２ー
プロペンー１ーオン、３ー（２ーメトキシフェニル）ー
１ーフェニルー２ープロペンー１ーオン、３ー（３ーメ
トキシフェニル）ー１ーフェニルー２ープロペンー１ー
オン、３ー（４ーメトキシフェニル）ー１ーフェニルー
２ープロペンー１ーオン、３ー（２ークロロフェニル）
ー１ーフェニルー２ープロペンー１ーオン、３ー（３ー
クロロフェニル）ー１ーフェニルー２ープロペンー１ー
オン、３ー（４ークロロフェニル）ー１ーフェニルー２
ープロペンー１ーオン、３ー（２ーブロモフェニル）ー
１ーフェニルー２ープロペンー１ーオン、３ー（３ーブ
ロモフェニル）ー１ーフェニルー２ープロペンー１ーオ
ン、３ー（４ーブロモフェニル）ー１ーフェニルー２ー
プロペンー１ーオン、３ー（２ーヨードフェニル）ー１
ーフェニルー２ープロペンー１ーオン、３ー（３ーヨー
ドフェニル）ー１ーフェニルー２ープロペンー１ーオ
ン、３ー（４ーヨードフェニル）ー１ーフェニルー２ー
プロペンー１ーオン、３ー（３ーｔーブチルフェニル）
ー１ーフェニルー２ープロペンー１ーオン、３ー（３、
４ージエチルフェニル）ー１ーフェニルー２ープロペン
ー１ーオン、３ー（３、４ーメチレンジオキシフェニ
ル）ー１ーフェニルー２ープロペンー１ーオン、３ー
（３ーニトロフェニル）ー１ーフェニルー２ープロペン
ー１ーオン、３ー（３ーシアノフェニル）ー１ーフェニ
ルー２ープロペンー１ーオン、３ー（３ーメチルチオフ
ェニル）ー１ーフェニルー２ープロペンー１ーオン、１
ー（４ーメトキシフェニル）ー３ーフェニルー２ープロ
ペンー１ーオン、１ー（３ークロロフェニル）ー２ーエ
チルー３ーフェニルー２ープロペンー１ーオン、１ー
（３ージメチルアミノフェニル）ー２，３ージフェニル
ー２ープロペンー１ーオン、３ー（２ーナフチル）ー１
ー（ｐ−トリル）ー２ープロペンー１ーオン、３ー（２
ーフリル）ー１ーフェニルー２ープロペンー１ーオン、
１ー（４ークロロフェニル）ー３ー（２ーピロリル）ー
２ープロペンー１ーオン、１ー（３ーブロモフェニル）
ー３ー（５ーメチルー２ーチエニル）ー２ープロペンー
１ーオン、３ー（２ーキノリル）ー１ー（ｐ−トリル）
ー２ープロペンー１ーオン、１ーフェニルー３ー（２ー
チアゾリル）ー２ープロペンー１ーオン、１ー（２ーフ
リル）ー３ー（２ーピリジル）ー２ープロペンー１ーオ
ン、３ー（２ーオキサゾリル）ー１ー（２ーナフチル）
ー２ープロペンー１ーオン、３ー（２ーイミダゾリル）
ー１ー（２ーチエニル）ー２ープロペンー１ーオン、１
ーフェニルー３ー（１，２，４ートリアゾルー３ーイ
ル）ー２ープロペンー１ーオン、１ーフェニルー３ー
（８ープリニル）ー２ープロペンー１ーオンなどが挙げ
られるが、これらに限定はされない。
る一般式（３）で示されるα，βー不飽和ケトンは、例
えば対応するアルデヒドとケトンの縮合反応などにより
極めて容易に合成することができ、具体的には１ーフェ
ニルー２ーブテンー１ーオン、４，４ージメチルー１ー
フェニルー２ーペンテンー１ーオン、５ークロロー２，
４ージメチルー１ーフェニルー２ーヘキセンー１ーオ
ン、２，２，６−トリメチルー７ーメトキシー４ーオク
テンー３ーオン、４ーメチルー５ーフェノキシー１ーフ
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ェニルー３ー（ｏ−トリル）ー２ープロペンー１ーオ
ン、１ーフェニルー３ー（ｍ−トリル）ー２ープロペン
ー１ーオン、１ーフェニルー３ー（ｐ−トリル）ー２ー
プロペンー１ーオン、３ー（２ーメトキシフェニル）ー
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ー１ーフェニルー２ープロペンー１ーオン、３ー（３ー
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ドフェニル）ー１ーフェニルー２ープロペンー１ーオ
ン、３ー（４ーヨードフェニル）ー１ーフェニルー２ー
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ー１ーフェニルー２ープロペンー１ーオン、３ー（３、
４ージエチルフェニル）ー１ーフェニルー２ープロペン
ー１ーオン、３ー（３、４ーメチレンジオキシフェニ
ル）ー１ーフェニルー２ープロペンー１ーオン、３ー
（３ーニトロフェニル）ー１ーフェニルー２ープロペン
ー１ーオン、３ー（３ーシアノフェニル）ー１ーフェニ
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チルー３ーフェニルー２ープロペンー１ーオン、１ー
（３ージメチルアミノフェニル）ー２，３ージフェニル
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１ー（４ークロロフェニル）ー３ー（２ーピロリル）ー
２ープロペンー１ーオン、１ー（３ーブロモフェニル）
ー３ー（５ーメチルー２ーチエニル）ー２ープロペンー
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ー２ープロペンー１ーオン、１ーフェニルー３ー（２ー
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ー２ープロペンー１ーオン、３ー（２ーイミダゾリル）
ー１ー（２ーチエニル）ー２ープロペンー１ーオン、１
ーフェニルー３ー（１，２，４ートリアゾルー３ーイ
ル）ー２ープロペンー１ーオン、１ーフェニルー３ー
（８ープリニル）ー２ープロペンー１ーオンなどが挙げ
られるが、これらに限定はされない。
【０００７】また、他の出発原料である一般式（４）で
示されるＯ−アルキルヒドロキシルアミンとしては、例
えばＯ−メチルヒドロキシルアミン、Ｏ−エチルヒドロ
キシルアミン、Ｏ−ｔ−ブチルヒドロキシルアミン、Ｏ
−ベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｏ−ジメチルヒド
ロキシルアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｏ−メチルヒド
ロキシルアミン、Ｎ−ベンジル−Ｏ−メチルヒドロキシ
ルアミンなどが挙げられるが、中でもＯ−メチルヒドロ
キシルアミンが好適である。かかるＯ−アルキルヒドロ
キシルアミンはその塩、たとえば塩酸塩、硫酸塩などの
無機酸塩としても使用することできるが、できればその
まま使用することが望ましい。
示されるＯ−アルキルヒドロキシルアミンとしては、例
えばＯ−メチルヒドロキシルアミン、Ｏ−エチルヒドロ
キシルアミン、Ｏ−ｔ−ブチルヒドロキシルアミン、Ｏ
−ベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｏ−ジメチルヒド
ロキシルアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｏ−メチルヒド
ロキシルアミン、Ｎ−ベンジル−Ｏ−メチルヒドロキシ
ルアミンなどが挙げられるが、中でもＯ−メチルヒドロ
キシルアミンが好適である。かかるＯ−アルキルヒドロ
キシルアミンはその塩、たとえば塩酸塩、硫酸塩などの
無機酸塩としても使用することできるが、できればその
まま使用することが望ましい。
【０００８】α，βー不飽和ケトンとＯ−アルキルヒド
ロキシルアミンを反応させるにあたっては、溶媒中また
は無溶媒下、単に両原料化合物を混合するだけでよく、
反応温度は、通常０〜１５０℃の範囲であり、好ましく
は２０〜８０℃の範囲である。この反応におけるＯ−ア
ルキルヒドロキシルアミンの使用量はα，βー不飽和ケ
トンに対して通常０．５〜１０モル倍、好ましくは１〜
５モル倍である。
ロキシルアミンを反応させるにあたっては、溶媒中また
は無溶媒下、単に両原料化合物を混合するだけでよく、
反応温度は、通常０〜１５０℃の範囲であり、好ましく
は２０〜８０℃の範囲である。この反応におけるＯ−ア
ルキルヒドロキシルアミンの使用量はα，βー不飽和ケ
トンに対して通常０．５〜１０モル倍、好ましくは１〜
５モル倍である。
【０００９】溶媒を使用する場合、その溶媒は反応に不
活性であれば特に制限されないが、一般的にはメタノー
ル、エタノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、
ｔ−ブタノールなどのアルコール系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどの非プロ
トン性極性溶媒、ジエチルエーテル、エチレングリコー
ルジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエ
ーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフランなど
のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、１、２ージクロロ
エタン、クロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、
ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒が使用
され、これらはそれぞれの単独あるいは２種以上の混合
溶媒として用いられる。
活性であれば特に制限されないが、一般的にはメタノー
ル、エタノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、
ｔ−ブタノールなどのアルコール系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどの非プロ
トン性極性溶媒、ジエチルエーテル、エチレングリコー
ルジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエ
ーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフランなど
のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、１、２ージクロロ
エタン、クロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、
ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒が使用
され、これらはそれぞれの単独あるいは２種以上の混合
溶媒として用いられる。
【００１０】かかる反応により、使用する各反応原料に
対応した一般式（２）で示されるβーアルコキシアミノ
ケトンを極めて容易に、高収率で得ることができ、この
βーアルコキシアミノケトンを特定の溶媒中、塩基で処
理することによって効率よく目的とする一般式（１）で
示されるアジリジンケトンを得ることができる。
対応した一般式（２）で示されるβーアルコキシアミノ
ケトンを極めて容易に、高収率で得ることができ、この
βーアルコキシアミノケトンを特定の溶媒中、塩基で処
理することによって効率よく目的とする一般式（１）で
示されるアジリジンケトンを得ることができる。
【００１１】この反応における塩基としては特に制限さ
れず、例えばアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属水素
化物、アルカリ金属アミド、アルカリ金属アルコキシド
などが好適に使用される。このような塩基として、具体
的には水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナト
リウム、ナトリウムアミド、リチウムアミド、リチウム
ジイソプロピルアミド、ナトリウムメトキシド、ナトリ
ウムエトキシド、カリウム−ｔ−ブトキシド、ナトリウ
ム−ｔ−ブトキシドなどが例示され、その使用量は、β
ーアルコキシアミノケトンに対して通常０．１〜６モル
倍、好ましくは２〜５モル倍である。
れず、例えばアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属水素
化物、アルカリ金属アミド、アルカリ金属アルコキシド
などが好適に使用される。このような塩基として、具体
的には水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナト
リウム、ナトリウムアミド、リチウムアミド、リチウム
ジイソプロピルアミド、ナトリウムメトキシド、ナトリ
ウムエトキシド、カリウム−ｔ−ブトキシド、ナトリウ
ム−ｔ−ブトキシドなどが例示され、その使用量は、β
ーアルコキシアミノケトンに対して通常０．１〜６モル
倍、好ましくは２〜５モル倍である。
【００１２】この反応における溶媒としてはＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、１，３−
ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチル−２−ピ
ロリドン、スルホラン、ヘキサメチルホスホルアミドな
どの非プロトン性極性溶媒、テトラヒドロフラン、２ー
メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，
４−ジオキサン、ジメチルエーテル、ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、ジーｔーブチルエーテ
ル、ｔーブチルメチルエーテル、エチレングリコールジ
メチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、トリエチレングリコールジメチルエーテルなどのエ
ーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、シメ
ン、クメン、ジイソプロピルベンゼン、テトラリン、ク
ロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどの芳香族系溶媒が
使用され、これらはそれぞれの単独または２種以上の混
合溶媒として使用される。溶媒の使用量は、通常、原料
であるβーアルコキシアミノケトンに対して１〜２００
重量倍である。
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、１，３−
ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチル−２−ピ
ロリドン、スルホラン、ヘキサメチルホスホルアミドな
どの非プロトン性極性溶媒、テトラヒドロフラン、２ー
メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，
４−ジオキサン、ジメチルエーテル、ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、ジーｔーブチルエーテ
ル、ｔーブチルメチルエーテル、エチレングリコールジ
メチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、トリエチレングリコールジメチルエーテルなどのエ
ーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、シメ
ン、クメン、ジイソプロピルベンゼン、テトラリン、ク
ロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどの芳香族系溶媒が
使用され、これらはそれぞれの単独または２種以上の混
合溶媒として使用される。溶媒の使用量は、通常、原料
であるβーアルコキシアミノケトンに対して１〜２００
重量倍である。
【００１３】尚、一般式（２）で示されるβーアルコキ
シアミノケトンは、前記したように一般式（３）で示さ
れるα，β−不飽和ケトンと一般式（４）で示されるＯ
−アルキルヒドロキシルアミンを反応させることにより
得られるが、生成したβーアルコキシアミノケトンは必
ずしも該反応混合物より一旦単離する必要はなく、α，
β−不飽和ケトンからワンポットで目的とするアジリジ
ンケトンを得たい場合には、α，β−不飽和ケトンとＯ
−アルキルヒドロキシルアミンの反応混合物から単離す
ることなく、反応混合物中に塩基を添加することによっ
ても容易に反応は進行し、目的化合物を得ることができ
る。しかし、この場合には、α，β−不飽和ケトンとＯ
−アルキルヒドロキシルアミンの反応を、上記した非プ
ロトン性極性溶媒、エーテル系溶媒または芳香族系溶媒
から選ばれる少なくとも一種の溶媒中で行なう必要があ
り、この場合の塩基の使用量も生成したβーアルコキシ
アミノケトンを基準にして前記範囲で設定される。
シアミノケトンは、前記したように一般式（３）で示さ
れるα，β−不飽和ケトンと一般式（４）で示されるＯ
−アルキルヒドロキシルアミンを反応させることにより
得られるが、生成したβーアルコキシアミノケトンは必
ずしも該反応混合物より一旦単離する必要はなく、α，
β−不飽和ケトンからワンポットで目的とするアジリジ
ンケトンを得たい場合には、α，β−不飽和ケトンとＯ
−アルキルヒドロキシルアミンの反応混合物から単離す
ることなく、反応混合物中に塩基を添加することによっ
ても容易に反応は進行し、目的化合物を得ることができ
る。しかし、この場合には、α，β−不飽和ケトンとＯ
−アルキルヒドロキシルアミンの反応を、上記した非プ
ロトン性極性溶媒、エーテル系溶媒または芳香族系溶媒
から選ばれる少なくとも一種の溶媒中で行なう必要があ
り、この場合の塩基の使用量も生成したβーアルコキシ
アミノケトンを基準にして前記範囲で設定される。
【００１４】この反応において、溶媒の選択は極めて重
要であって、本発明に特定する前記溶媒以外の溶媒を使
用する場合には目的化合物を得ることができないことが
ある。また、この反応においては、原料化合物、溶媒お
よび塩基の組み合わせも重要であって、それが適当な場
合には目的化合物を殆ど選択的に製造することができる
が、たとえば原料化合物がチャルコン誘導体、溶媒が非
プロトン性極性溶媒、塩基がカリウム−ｔ−ブトキシド
の組み合わせのように、これらの組み合わせによっては
アジリジンケトンとともにβ−アミノエノン類が副生す
ることがある。しかし、この副生物も医農薬中間体等と
して利用可能であるため、これらの副生は何ら差し支え
ない。
要であって、本発明に特定する前記溶媒以外の溶媒を使
用する場合には目的化合物を得ることができないことが
ある。また、この反応においては、原料化合物、溶媒お
よび塩基の組み合わせも重要であって、それが適当な場
合には目的化合物を殆ど選択的に製造することができる
が、たとえば原料化合物がチャルコン誘導体、溶媒が非
プロトン性極性溶媒、塩基がカリウム−ｔ−ブトキシド
の組み合わせのように、これらの組み合わせによっては
アジリジンケトンとともにβ−アミノエノン類が副生す
ることがある。しかし、この副生物も医農薬中間体等と
して利用可能であるため、これらの副生は何ら差し支え
ない。
【００１５】反応温度は、通常−４０〜１００℃、好ま
しくは０〜５０℃の範囲である。かかる反応によりアジ
リジンケトンを効率よく得ることができ、反応終了後の
反応混合物から通常の手段、例えば蒸留、抽出、再結晶
あるいは各種クロマトグラフィーなどの操作により容易
に目的化合物を単離、精製することができる。
しくは０〜５０℃の範囲である。かかる反応によりアジ
リジンケトンを効率よく得ることができ、反応終了後の
反応混合物から通常の手段、例えば蒸留、抽出、再結晶
あるいは各種クロマトグラフィーなどの操作により容易
に目的化合物を単離、精製することができる。
【００１６】
【発明の効果】本発明の方法によれば、βーアルコキシ
アミノケトンから容易に、好収率でアジリジンケトンを
製造することができ、また、その原料であるβーアルコ
キシアミノケトンは入手が容易なα，βー不飽和ケトン
にＯ−アルキルヒドロキシルアミンを付加させることに
よって容易に、高収率で製造できるため、医農薬中間体
として有用なアジリジンケトンを工業的に入手容易な原
料化合物から、簡便な操作で製造する方法として非常に
有用である。また、本発明によれば、α，βー不飽和ケ
トンからワンポットでアジリジンケトンを製造すること
もできるため、工業的製法としてより有用である。
アミノケトンから容易に、好収率でアジリジンケトンを
製造することができ、また、その原料であるβーアルコ
キシアミノケトンは入手が容易なα，βー不飽和ケトン
にＯ−アルキルヒドロキシルアミンを付加させることに
よって容易に、高収率で製造できるため、医農薬中間体
として有用なアジリジンケトンを工業的に入手容易な原
料化合物から、簡便な操作で製造する方法として非常に
有用である。また、本発明によれば、α，βー不飽和ケ
トンからワンポットでアジリジンケトンを製造すること
もできるため、工業的製法としてより有用である。
【００１７】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明がこれによって限定されるものではな
い。
明するが、本発明がこれによって限定されるものではな
い。
【００１８】実施例１ チャルコン２０８ｍｇ（１ミリモル）とＯ−メチルヒド
ロキシルアミン９４ｍｇ（２ミリモル）をテトラヒドロ
フラン５ｍｌに溶解し、６時間加熱還流した。薄層クロ
マトグラフィーによるモニターによって原料の消失を確
認した後、反応溶液を２５℃まで冷却し、水酸化カリウ
ム（９９％）１２５ｍｇ（２．２ミリモル）を加え、同
温度で４８時間攪拌した。反応後、反応液に飽和塩化ア
ンモニウム水溶液を加え、次いで塩化メチレン抽出を行
なった。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を留去し、生成物をシリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー（展開液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／５）で
単離、精製して２−フェニル−３−ベンゾイルアジリジ
ンを収率８５％で得た。
ロキシルアミン９４ｍｇ（２ミリモル）をテトラヒドロ
フラン５ｍｌに溶解し、６時間加熱還流した。薄層クロ
マトグラフィーによるモニターによって原料の消失を確
認した後、反応溶液を２５℃まで冷却し、水酸化カリウ
ム（９９％）１２５ｍｇ（２．２ミリモル）を加え、同
温度で４８時間攪拌した。反応後、反応液に飽和塩化ア
ンモニウム水溶液を加え、次いで塩化メチレン抽出を行
なった。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を留去し、生成物をシリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー（展開液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／５）で
単離、精製して２−フェニル−３−ベンゾイルアジリジ
ンを収率８５％で得た。
【００１９】実施例２ チャルコン３．１２ｇ（１５ミリモル）とＯ−メチルヒ
ドロキシルアミン１．５５ｇ（３３ミリモル）をエタノ
ール１５ｍｌに溶解し、４時間加熱還流した。反応後、
溶媒と過剰のＯ−メチルヒドロキシルアミンを留去し、
３−（Ｎ−メトキシアミノ）−１，３−ジフェニル−１
−プロパノンを収率９９％で得た。この３−（Ｎ−メト
キシアミノ）−１，３−ジフェニル−１−プロパノン２
５５ｍｇ（１ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド２ｍｌに溶解し、ナトリウムメトキシド１１９ｍｇ
（２．２ミリモル）を含むＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド３ｍｌ溶液に２５℃で滴下した。滴下終了後、２５℃
で２０分間撹拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を
加え、次いで塩化メチレン抽出を行なった。得られた有
機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、
生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開液：
酢酸エチル／ヘキサン＝１／５）で単離、精製して２−
フェニル−３−ベンゾイルアジリジンを収率９３％で得
た。
ドロキシルアミン１．５５ｇ（３３ミリモル）をエタノ
ール１５ｍｌに溶解し、４時間加熱還流した。反応後、
溶媒と過剰のＯ−メチルヒドロキシルアミンを留去し、
３−（Ｎ−メトキシアミノ）−１，３−ジフェニル−１
−プロパノンを収率９９％で得た。この３−（Ｎ−メト
キシアミノ）−１，３−ジフェニル−１−プロパノン２
５５ｍｇ（１ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド２ｍｌに溶解し、ナトリウムメトキシド１１９ｍｇ
（２．２ミリモル）を含むＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド３ｍｌ溶液に２５℃で滴下した。滴下終了後、２５℃
で２０分間撹拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を
加え、次いで塩化メチレン抽出を行なった。得られた有
機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、
生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開液：
酢酸エチル／ヘキサン＝１／５）で単離、精製して２−
フェニル−３−ベンゾイルアジリジンを収率９３％で得
た。
【００２０】実施例３ 塩基としてナトリウムメトキシドに代えて水素化ナトリ
ウムを使用する以外は、実施例２と同様に反応、後処理
を行ない、２−フェニル−３−ベンゾイルアジリジンを
収率９４％で得た。
ウムを使用する以外は、実施例２と同様に反応、後処理
を行ない、２−フェニル−３−ベンゾイルアジリジンを
収率９４％で得た。
【００２１】実施例４ 塩基としてナトリウムメトキシドに代えてナトリウムア
ミドを使用する以外は、実施例２と同様に反応、後処理
を行ない、２−フェニル−３−ベンゾイルアジリジンを
収率８４％で得た。
ミドを使用する以外は、実施例２と同様に反応、後処理
を行ない、２−フェニル−３−ベンゾイルアジリジンを
収率８４％で得た。
【００２２】実施例５ ３−（Ｎ−メトキシアミノ）−１，３−ジフェニル−１
−プロパノン２５５ｍｇ（１ミリモル）と水酸化カリウ
ム（９９％）１２５ｍｇ（２．２ミリモル）をテトラヒ
ドロフラン５ｍｌに懸濁し、２５℃で４８時間撹拌した
後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、次いで塩化メ
チレン抽出を行なった。得られた有機層を無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、生成物をシリカゲル
薄層クロマトグラフィ−（展開液：酢酸エチル／ヘキサ
ン＝１／５）で単離、精製して２−フェニル−３−ベン
ゾイルアジリジンを収率９２％で得た。
−プロパノン２５５ｍｇ（１ミリモル）と水酸化カリウ
ム（９９％）１２５ｍｇ（２．２ミリモル）をテトラヒ
ドロフラン５ｍｌに懸濁し、２５℃で４８時間撹拌した
後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、次いで塩化メ
チレン抽出を行なった。得られた有機層を無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、生成物をシリカゲル
薄層クロマトグラフィ−（展開液：酢酸エチル／ヘキサ
ン＝１／５）で単離、精製して２−フェニル−３−ベン
ゾイルアジリジンを収率９２％で得た。
【００２３】実施例６ ３−（３−ニトロフェニル）−１−フェニル−２−プロ
ペン−１−オン７５９ｍｇ（３ミリモル）とＯ−メチル
ヒドロキシルアミン３１０ｍｇ（６．６ミリモル）をエ
タノール５ｍｌに溶解し、３０分間加熱還流した。反応
後、溶媒と過剰のＯ−メチルヒドロキシルアミンを留去
し、生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開
液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／５）で単離、精製して
３−（Ｎ−メトキシアミノ）−３−（３−ニトロフェニ
ル）−１−フェニル−１−プロパノンを収率９９％で得
た。この３−（Ｎ−メトキシアミノ）−３−（３−ニト
ロフェニル）−１−フェニル−１−プロパノン３００ｍ
ｇ（１ミリモル）をトルエン２ｍｌに溶解し、カリウム
−ｔ−ブトキシド２４６ｍｇ（２．２ミリモル）を含む
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３ｍｌ溶液に２５℃で滴
下した。滴下終了後、２５℃で２０分間撹拌した後、飽
和塩化アンモニウム水溶液を加え、次いで塩化メチレン
抽出を行なった。得られた有機層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を留去し、生成物をシリカゲル薄層ク
ロマトグラフィー（展開液：酢酸エチル／ヘキサン＝１
／５）で単離、精製して２−（３−ニトロフェニル）−
３−ベンゾイルアジリジンを収率８３％で得た。
ペン−１−オン７５９ｍｇ（３ミリモル）とＯ−メチル
ヒドロキシルアミン３１０ｍｇ（６．６ミリモル）をエ
タノール５ｍｌに溶解し、３０分間加熱還流した。反応
後、溶媒と過剰のＯ−メチルヒドロキシルアミンを留去
し、生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開
液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／５）で単離、精製して
３−（Ｎ−メトキシアミノ）−３−（３−ニトロフェニ
ル）−１−フェニル−１−プロパノンを収率９９％で得
た。この３−（Ｎ−メトキシアミノ）−３−（３−ニト
ロフェニル）−１−フェニル−１−プロパノン３００ｍ
ｇ（１ミリモル）をトルエン２ｍｌに溶解し、カリウム
−ｔ−ブトキシド２４６ｍｇ（２．２ミリモル）を含む
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３ｍｌ溶液に２５℃で滴
下した。滴下終了後、２５℃で２０分間撹拌した後、飽
和塩化アンモニウム水溶液を加え、次いで塩化メチレン
抽出を行なった。得られた有機層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を留去し、生成物をシリカゲル薄層ク
ロマトグラフィー（展開液：酢酸エチル／ヘキサン＝１
／５）で単離、精製して２−（３−ニトロフェニル）−
３−ベンゾイルアジリジンを収率８３％で得た。
【００２４】実施例７ ４，４−ジメチル−１−フェニル−２−ペンテン−１−
オン５６４ｍｇ（３ミリモル）とＯ−メチルヒドロキシ
ルアミン３１０ｍｇ（６．６ミリモル）をエタノール５
ｍｌに溶解し、４時間加熱還流した。反応後、溶媒と過
剰のＯ−メチルヒドロキシルアミンを留去し、生成物を
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開液：酢酸エチ
ル／ヘキサン＝１／５）で単離、精製して３−（Ｎ−メ
トキシアミノ）−４，４−ジメチル−１−フェニル−１
−ペンタノンを収率７９％で得た。この３−（Ｎ−メト
キシアミノ）−４，４−ジメチル−１−フェニル−１−
ペンタノン２３５ｍｇ（１ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルアミド２ｍｌに溶解し、カリウム−ｔ−ブトキシ
ド２４６ｍｇ（２．２ミリモル）を含むＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド３ｍｌ溶液に２５℃で滴下した。滴下終
了後、２５℃で２０分間撹拌した後、飽和塩化アンモニ
ウム水溶液を加え、次いで塩化メチレン抽出を行なっ
た。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を留去し、生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー（展開液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／５）で単
離、精製して２−ｔ−ブチル−３−ベンゾイルアジリジ
ンを収率７３％で得た。
オン５６４ｍｇ（３ミリモル）とＯ−メチルヒドロキシ
ルアミン３１０ｍｇ（６．６ミリモル）をエタノール５
ｍｌに溶解し、４時間加熱還流した。反応後、溶媒と過
剰のＯ−メチルヒドロキシルアミンを留去し、生成物を
シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開液：酢酸エチ
ル／ヘキサン＝１／５）で単離、精製して３−（Ｎ−メ
トキシアミノ）−４，４−ジメチル−１−フェニル−１
−ペンタノンを収率７９％で得た。この３−（Ｎ−メト
キシアミノ）−４，４−ジメチル−１−フェニル−１−
ペンタノン２３５ｍｇ（１ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルアミド２ｍｌに溶解し、カリウム−ｔ−ブトキシ
ド２４６ｍｇ（２．２ミリモル）を含むＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド３ｍｌ溶液に２５℃で滴下した。滴下終
了後、２５℃で２０分間撹拌した後、飽和塩化アンモニ
ウム水溶液を加え、次いで塩化メチレン抽出を行なっ
た。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を留去し、生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー（展開液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／５）で単
離、精製して２−ｔ−ブチル−３−ベンゾイルアジリジ
ンを収率７３％で得た。
Claims (11)
- 【請求項１】一般式（２） （式中、Ｒ1 、Ｒ3 は同一または相異なって水素原子、
随時ハロゲンもしくは炭素数１〜６のアルコキシル基も
しくはアリールオキシ基で置換されていてもよい炭素数
１〜１０の直鎖もしくは分枝状のアルキル基、アリール
基または置換アリール基を、Ｒ2 は随時ハロゲンもしく
は炭素数１〜６のアルコキシル基もしくはアリールオキ
シ基で置換されていてもよい炭素数１〜１０の直鎖もし
くは分枝状のアルキル基、アリール基または置換アリー
ル基を、Ｒ4 は炭素数１〜６の直鎖もしくは分枝状のア
ルキル基またはアラルキル基を、Ｒ5 は水素原子、炭素
数１〜６の直鎖もしくは分枝状のアルキル基、シクロア
ルキル基またはアラルキル基をそれぞれ示す。）で示さ
れるβーアルコキシアミノケトンに、非プロトン性極性
溶媒、エーテル系溶媒または芳香族系溶媒から選ばれる
一種以上の溶媒中、塩基を作用させることを特徴とする
一般式（１） （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ5 は前記と同じ意味
を有する。）で示されるアジリジンケトンの製造方法。 - 【請求項２】一般式（３） （式中、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は前記と同じ意味を有す
る。）で示されるα，βー不飽和ケトンを、一般式
（４） （式中、Ｒ4 およびＲ5 は前記と同じ意味を有する。）
で示されるＯ−アルキルヒドロキシルアミンまたはその
塩と反応させて、前記一般式（２）で示されるβーアル
コキシアミノケトンを得、次いで非プロトン性極性溶
媒、エーテル系溶媒または芳香族系溶媒から選ばれる一
種以上の溶媒中、塩基を作用させることを特徴とする前
記一般式（１）で示されるアジリジンケトンの製造方
法。 - 【請求項３】前記一般式（３）で示されるα，βー不飽
和ケトンと前記一般式（４）で示されるＯ−アルキルヒ
ドロキシルアミンまたはその塩とを、非プロトン性極性
溶媒、エーテル系溶媒または芳香族系溶媒から選ばれる
一種以上の溶媒中で反応させ、次いで塩基を作用させる
ことを特徴とする前記一般式（１）で示されるアジリジ
ンケトンの製造方法。 - 【請求項４】Ｏ−アルキルヒドロキシルアミンが、Ｏ−
メチルヒドロキシルアミン、Ｏ−エチルヒドロキシルア
ミン、Ｏ−ｔ−ブチルヒドロキシルアミン、Ｏ−ベンジ
ルヒドロキシルアミンまたはＮ，Ｏ−ジメチルヒドロキ
シルアミンである請求項２に記載のアジリジンケトンの
製造方法。 - 【請求項５】Ｏ−アルキルヒドロキシルアミンの塩が無
機酸塩である請求項２に記載のアジリジンケトンの製造
方法。 - 【請求項６】無機酸塩が塩酸塩である請求項４に記載の
アジリジンケトンの製造方法。 - 【請求項７】Ｏ−アルキルヒドロキシルアミンまたはそ
の塩の使用量が、α，βー不飽和ケトンに対して０．５
〜１０モル倍である請求項２および３に記載のアジリジ
ンケトンの製造方法。 - 【請求項８】非プロトン性極性溶媒がＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスホキシド、１，３−ジメチル
−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチル−２−ピロリド
ン、スルホランまたはヘキサメチルホスホルアミドであ
る請求項１〜３に記載のアジリジンケトンの製造方法。 - 【請求項９】エーテル系溶媒がテトラヒドロフラン、２
ーメチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、
１，４−ジオキサン、ジメチルエーテル、ジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテル、ジーｔーブチルエーテ
ル、ｔーブチルメチルエーテル、エチレングリコールジ
メチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ルまたはトリエチレングリコールジメチルエーテルであ
る請求項１〜３に記載のアジリジンケトンの製造方法。 - 【請求項１０】芳香族系溶媒がベンゼン、トルエン、キ
シレン、シメン、クメン、ジイソプロピルベンゼン、テ
トラリン、クロロベンゼンまたはジクロロベンゼンであ
る請求項１〜３に記載のアジリジンケトンの製造方法。 - 【請求項１１】塩基の使用量が、βーアルコキシアミノ
ケトンに対して０．１〜６モル倍である請求項１〜３に
記載のアジリジンケトンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32284094A JPH08176103A (ja) | 1994-12-26 | 1994-12-26 | アジリジンケトンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32284094A JPH08176103A (ja) | 1994-12-26 | 1994-12-26 | アジリジンケトンの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08176103A true JPH08176103A (ja) | 1996-07-09 |
Family
ID=18148198
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32284094A Pending JPH08176103A (ja) | 1994-12-26 | 1994-12-26 | アジリジンケトンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08176103A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100339831B1 (ko) * | 1999-08-18 | 2002-06-07 | 김태성 | 신규의 에틸 아지리딘 유도체 및 그 제조방법 |
| US10836752B1 (en) | 2020-04-02 | 2020-11-17 | Qatar University | Method for synthesizing 1-(naphthalen-2-ylsulfonyl)-3-(thiophen-2-yl) diaziridine |
-
1994
- 1994-12-26 JP JP32284094A patent/JPH08176103A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100339831B1 (ko) * | 1999-08-18 | 2002-06-07 | 김태성 | 신규의 에틸 아지리딘 유도체 및 그 제조방법 |
| US10836752B1 (en) | 2020-04-02 | 2020-11-17 | Qatar University | Method for synthesizing 1-(naphthalen-2-ylsulfonyl)-3-(thiophen-2-yl) diaziridine |
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