JPH08167106A - 磁気ヘッドの製造方法および前記製造に用いる回転砥石 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 磁気ヘッドを製造するための基板に形成され
る溝表面の仕上げ状態が良好なで、かつ溝斜面の直線性
が良好な加工面を得るための磁気ヘッドの製造方法を提
供する。 【効果】 仕上げ面加工が施される際に、切り込み作用
面により溝斜面形状を形成し、別の面にある研削作用面
により溝斜面をなぞるという工程をとることにより、研
削条痕の残りにくい、表面仕上げ状態の良好な加工面を
得ることができ、軟磁性薄膜の特性劣化を防止すること
ができる。さらに、仕上げ面加工が施される際に、仕上
げ加工用砥石の研削面幅を仕上がり寸法より狭くするこ
とにより、仕上げ面の斜面直線性が向上し、コア合わせ
時のトラックずれに対する歩留まりを向上することがで
きる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は高密度磁気記録及び再生
を行うために必要な高い飽和磁束密度を有する磁気ヘッ
ドの製造方法および前記製造に用いる回転砥石に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年の磁気記録の高密度化に伴い、磁気
テープ等の磁気記録媒体の高保磁力化と共に、磁気ヘッ
ドも高飽和密度を有するものが要求されている。そこ
で、高い飽和磁束密度を有する軟磁性薄膜を非磁性材料
の基板に設けた磁気ヘッドチップが使用されている。

【０００３】このような磁気ヘッドの製造過程において
は、図６に示すように、基板２１に複数のＶ字状の溝２
２が相互に形成され、これら溝２２の一方の傾斜表面上
に、軟磁性薄膜が成膜されるため、これら溝表面を極力
平滑に仕上げることが重要となる。しかしながら、前記
の非磁性材料の基板としては、その一部が摺動面になる
ことから、耐摩耗性に優れたセラミックスや結晶化ガラ
スなどの基板が選択されている。即ち、基板２１は難加
工性の材料が使用されるため、従来はＶ字状の粗加工用
回転砥石によって基板表面に溝を形成し、次いで図１
（ｂ）に示すような前記粗加工用回転砥石よりも砥粒粒
度が細かく、粗加工用砥石と同一の断面形状を有する仕
上げ加工用の回転砥石４を用いて、粗加工用回転砥石で
形成した溝２２の表面仕上げを行うという多段階の加工
が行われている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところが、図１（ｂ）
に示すような前記仕上げ用の回転砥石４によって仕上げ
加工を行う場合、従来は切り込み作用面と研削作用面が
同一面５であることにより、回転砥石により削除された
部分が同一形状としてそのままの状態で残り、また各砥
粒の作用位置が溝斜面と平行となり、同一高さの所を通
るため、加工後に図７に示すようなソーマーク２３が残
ることになる。この結果、溝２２表面に形成される軟磁
性薄膜の特性劣化につながり、かつ仕上げ面加工が施さ
れる斜面直線性が悪く、コア合わせ時のトラックずれに
対する歩留まりが悪くなるという問題点を有していた。

【０００５】つまり、斜面の直線性が悪いとＶ溝ピッチ
が各溝毎に微妙に異なり、安定した寸法でなくなるた
め、磁気ヘッドチップを作製するために、２個の片コア
ブロックを組み合わせる場合、その溝部の合わせ部がず
れてしまい、結局は磁気ヘッドチップの歩留まりが落ち
ることになる。

【０００６】そこで、本願はかかる問題点を解決するた
めになされたものであり、基板に形成される溝表面の仕
上げ状態が良好で、かつ溝斜面の直線性が良好な加工面
を得るための磁気ヘッドの製造方法を提供することを目
的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本願第１の発明は、磁気
ヘッドを形成する基板の表面に所定のピッチでＶ字状の
複数の溝を形成する工程と、前記溝を砥粒粒度の異なる
数種類の回転砥石により、粗加工から仕上げ加工まで行
う工程と、前記溝斜面に軟磁性薄膜を形成し、溶着ガラ
スでモールドする工程と、前記基板にコイル巻線用の窓
およびコイル巻線固定溝を形成し、片側コアブロックを
形成する工程と、片側コアブロックを溶着接合し、コア
ブロックを形成する工程と、前記コアブロックより磁気
ヘッドチップを切り出し、テープ摺動面を研磨し、コイ
ル巻き線を施す工程とにより磁気ヘッドを製造する方法
において、前記仕上げ加工を行う回転砥石は切り込み作
用面と研削作用面の異なる作用を持つ別の面を有し、粗
加工により得られた前記Ｖ字状の複数の溝斜面に対し、
研削作用面を平行に合わせて研削し、仕上げ加工を行う
ことを特徴とする。

【０００８】本願第２の発明は、前記記載の発明に加え
て、仕上げ加工用砥石の研削作用面幅を、粗加工により
得られた前記Ｖ字状の複数の溝斜面幅より狭くすること
を特徴とする。

【０００９】

【作用】本願第１の発明によれば、仕上げ加工時には、
切り込み作用面によって溝斜面形状を形成し、別面にあ
る研削作用面によって溝斜面をなぞる工程により、研削
条痕の残りにくい、表面仕上げ状態の良好な加工面を得
ることができ、仕上げ面加工が施された斜面に形成され
る軟磁性薄膜の特性劣化を防止できる。

【００１０】本願第２の発明によれば、仕上げ加工用砥
石の研削作用面幅が仕上がり寸法より狭くすることがで
き、これにより仕上げ面加工が施される斜面直線性が向
上し、コア合わせ時のトラックずれに対する歩留まりが
向上する。

【００１１】

【実施例】本発明にかかる磁気ヘッドの製造方法の第１
の実施例を図１〜図５に基づいて、以下に説明する。ま
ず、図２（ａ）に示すような直方体形状の基板６の表面
に、所定のピッチＡでＶ字状の複数の溝７を、相互に隣
接して互いに平行に延びる形状に形成する。前記基板６
は通常、難加工性の材料が用いられるため、溝７は砥粒
粒度の異なる数種類の回転砥石により、粗加工から仕上
げ加工まで数段階の工程によって行われる。例えば、図
２（ｂ）に示すような粗加工用砥石８で加工を行った
後、徐々に砥粒粒度の細かい回転砥石を用いて加工を行
い、最後に、図２（ｃ）に示すように、最も砥粒粒度の
細かい仕上げ加工用の回転砥石を用いて、粗加工で形成
された溝を図２（ｃ）に示すような方向に傾斜させ、頂
点部を除く垂直面（図２（ｃ）中１点鎖線で示す面）を
研削することにより仕上げ加工が行われる。ここで用い
る本願発明の前記仕上げ加工用砥石１は図１（ａ）に示
すように、回転板の周囲に位置する砥石部分は切り込み
作用面２及び研削作用面３の２つの異なる作用面を有す
る形状であり、かつ研削作用面幅は図２（ｃ）中に示す
溝の仕上がり幅Ｂより小さい寸法を有している。そし
て、切り込み作用面で基板に対し切り込んでいくととも
に、研削作用面で溝斜面をなぞるように研削し、研磨し
ていくことによって、溝は少なくとも２種類の砥粒粒度
の分布の異なる砥石により、形成されることになるた
め、従来の１種類の仕上げ加工用の回転砥石を用いてい
た場合に発生したソーマークが残ることは無く、かつ溝
斜面の直線性が向上する。

【００１２】次に、図３（ａ）に示すように各溝７の仕
上げ加工が施された斜面に、軟磁性薄膜９が磁気ヘッド
のトラック幅に相当する膜厚でそれぞれ形成される。そ
の後、図３（ｂ）に示すように各溝を表面から埋めるよ
うに、溶着ガラス１０がモールドされ、次いで、図３
（ｃ）に示すように基板６に形成された各溝７の頂点位
置にガラス表面が達するまで、溶着ガラス１０が平面状
に研削される。

【００１３】次に、図４（ａ）に示すように基板６にコ
イル巻線用の窓１１やコイル巻線固定溝１２が形成さ
れ、前記溶着ガラスにおける研磨面にＳｉＯ₂ 等のギャ
ップ材が膜づけされて、ギャップ面１３が形成されて、
片側コアブロック１４が完成する。その後、図４（ｂ）
に示すように２個の片側コアブロック１４がそれぞれの
ギャップ面を対面させた状態で、加圧固定され、溶着接
合されてコアブロック１５が形成される。

【００１４】次に、コアブロック１５が図４（ｂ）に示
すように破線に沿って、所定のピッチＣで順次切断さ
れ、図５（ａ）に示すような磁気ヘッドチップ１６が完
成する。そして、図５（ｂ）に示すような前記磁気ヘッ
ドチップ１６に磁気テープが摺動するテープ摺動面（図
５（ｂ）中における上端面）の研磨が施されると共に、
コイル巻き線１７が施されて磁気ヘッド１８が完成す
る。

【００１５】

【発明の効果】本発明によれば、仕上げ面加工が施され
る際に、切り込み作用面により溝斜面形状を形成し、別
の面にある研削作用面により溝斜面をなぞるという工程
をとることにより、研削条痕の残りにくい、表面仕上げ
状態の良好な加工面を得ることができ、仕上げ面加工が
施された斜面に形成される軟磁性薄膜の特性劣化を防止
することができる。

【００１６】さらに、仕上げ面加工が施される際に、仕
上げ加工用砥石の研削面幅を仕上がり寸法より狭くする
ことにより、仕上げ面の斜面直線性が向上し、コア合わ
せ時のトラックずれに対する歩留まりを向上することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる仕上げ加工用砥石および従来の
仕上げ加工用砥石の形状模式図である。

【図２】実施例にかかる基板に形成された溝の仕上げ加
工工程を示す図である。

【図３】実施例にかかる溝に軟磁性薄膜およびガラスモ
ールドを形成する工程を示す図である。

【図４】実施例にかかる基板よりコアブロックを作製す
る工程を示す図である。

【図５】実施例にかかるコアブロックより磁気ヘッドチ
ップを作製する工程を示す図である。

【図６】従来の方法により基板に形成された溝の形状模
式図である。

【図７】従来の方法により基板に形成された溝斜面の形
状模式図である。

【符号の説明】

１ 本願発明にかかる回転砥石 ２ 切り込み作用面 ３ 研削作用面 ４ 従来の回転砥石 ５ 切り込み及び研削作用面 ６ 基板 ７ Ｖ字状の溝 ８ 粗加工用砥石 ９ 軟磁性薄膜 １０ 溶着ガラス １１ コイル巻線用の窓 １２ コイル巻線固定溝 １３ ギャップ面 １４ 片側のコアブロック １５ コアブロック １６ 磁気ヘッドチップ １７ コイル巻き線 １８ 磁気ヘッド ２１ 基板 ２２ Ｖ字状の溝 ２３ ソーマーク

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 磁気ヘッドを形成する基板の表面に所定
   のピッチでＶ字状の複数の溝を形成する工程と、前記溝
   を砥粒粒度の異なる数種類の回転砥石により、粗加工か
   ら仕上げ加工まで行う工程と、前記溝斜面に軟磁性薄膜
   を形成し、溶着ガラスでモールドする工程と、前記基板
   にコイル巻線用の窓およびコイル巻線固定溝を形成し、
   片側コアブロックを形成する工程と、片側コアブロック
   を溶着接合し、コアブロックを形成する工程と、前記コ
   アブロックより磁気ヘッドチップを切り出し、テープ摺
   動面を研磨し、コイル巻き線を施す工程とにより磁気ヘ
   ッドを製造する方法において、前記仕上げ加工を行う回
   転砥石は切り込み作用面と研削作用面の異なる作用を持
   つ別の面を有し、粗加工により得られた前記Ｖ字状の複
   数の溝斜面に対し、研削作用面を平行に合わせて研削
   し、仕上げ加工を行うことを特徴とする磁気ヘッドの製
   造方法。
2. 【請求項２】 請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法に
   おいて、仕上げ加工用砥石の研削作用面幅を、粗加工に
   より得られた前記Ｖ字状の複数の溝斜面幅より狭くする
   ことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
3. 【請求項３】 磁気ヘッドを形成する基板にＶ字状の複
   数の溝を形成する磁気ヘッドの製造に用いる回転砥石で
   あって、仕上げ加工用砥石は回転板の周囲に位置する砥
   石部分として、少なくとも切り込み作用面及び研削作用
   面の２つの異なる作用面を有し、かつ研削作用面幅は前
   記Ｖ字状の複数の溝斜面幅の仕上がり幅より小さい寸法
   であることを特徴とする磁気ヘッドの製造に用いる回転
   砥石。