JPH08139852A - イメージセンサの駆動方法 - Google Patents
イメージセンサの駆動方法Info
- Publication number
- JPH08139852A JPH08139852A JP6299033A JP29903394A JPH08139852A JP H08139852 A JPH08139852 A JP H08139852A JP 6299033 A JP6299033 A JP 6299033A JP 29903394 A JP29903394 A JP 29903394A JP H08139852 A JPH08139852 A JP H08139852A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- pulse
- light receiving
- image sensor
- driving
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 78
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 claims description 12
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 abstract 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 230000037230 mobility Effects 0.000 description 11
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 6
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 3
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 2
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
- H04N25/71—Charge-coupled device [CCD] sensors; Charge-transfer registers specially adapted for CCD sensors
- H04N25/745—Circuitry for generating timing or clock signals
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Facsimile Heads (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡易にオフセット電圧のばらつきを小さくす
ることのできるイメージセンサの駆動方法を提供する。 【構成】 受光素子としてのフォトダイオードの電荷を
転送する薄膜トランジスタ及びフォトダイオードの残留
電荷をリセットするための薄膜トランジスタの駆動パル
スとして、それぞれのチャンネル層の移動度に応じた立
ち上がり及び立ち下がり時間TRを有するゲートパスル
をそれぞれ印加することで、フィードスルーに影響する
実効的なゲートパルスの振幅量を略揃え、いわゆるオフ
セット電圧のばらつきを解消する。
ることのできるイメージセンサの駆動方法を提供する。 【構成】 受光素子としてのフォトダイオードの電荷を
転送する薄膜トランジスタ及びフォトダイオードの残留
電荷をリセットするための薄膜トランジスタの駆動パル
スとして、それぞれのチャンネル層の移動度に応じた立
ち上がり及び立ち下がり時間TRを有するゲートパスル
をそれぞれ印加することで、フィードスルーに影響する
実効的なゲートパルスの振幅量を略揃え、いわゆるオフ
セット電圧のばらつきを解消する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、イメージスキャナやフ
ァクシミリ等に用いられるイメージセンサに係り、特
に、出力信号に現れるいわゆるオフセット電圧の改善を
図ったイメージセンサの駆動方法に関する。
ァクシミリ等に用いられるイメージセンサに係り、特
に、出力信号に現れるいわゆるオフセット電圧の改善を
図ったイメージセンサの駆動方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種のイメージセンサとして
は、原稿等の画像情報を一対一に投影し、電気信号に変
換するようにした密着型イメージセンサがある。このイ
メージセンサの代表的なものとしては、画像を多数の画
素(受光素子)に分割し、各受光素子で発生した電荷を
薄膜トランジスタスイッチング素子(TFT)を用い
て、特定のブロック単位で、配線間の容量に一次蓄積し
て、電気信号として数百KHzから数百MHzまでの速
度で時系列的に順次読み出すようにしたいわゆるTFT
駆動型イメージセンサがある(例えば、特開平2−26
5362号公報参照)。このように、TFTを用いた場
合、単一の駆動用ICで読み取りが可能となり、イメー
ジセンサを駆動する駆動用ICの使用個数を少なくする
ことができるという利点があり、この種のイメージセン
サにおいては、TFT駆動型が多く用いられている。
は、原稿等の画像情報を一対一に投影し、電気信号に変
換するようにした密着型イメージセンサがある。このイ
メージセンサの代表的なものとしては、画像を多数の画
素(受光素子)に分割し、各受光素子で発生した電荷を
薄膜トランジスタスイッチング素子(TFT)を用い
て、特定のブロック単位で、配線間の容量に一次蓄積し
て、電気信号として数百KHzから数百MHzまでの速
度で時系列的に順次読み出すようにしたいわゆるTFT
駆動型イメージセンサがある(例えば、特開平2−26
5362号公報参照)。このように、TFTを用いた場
合、単一の駆動用ICで読み取りが可能となり、イメー
ジセンサを駆動する駆動用ICの使用個数を少なくする
ことができるという利点があり、この種のイメージセン
サにおいては、TFT駆動型が多く用いられている。
【0003】図4には、このようなTFT駆動型イメー
ジセンサの等価回路例が示されており、図5には、一画
素分の等価回路図が示されている。以下、同図を参照し
つつこのイメージセンサについて説明する。このイメー
ジセンサは、原稿幅と略同じ長さに複数の受光素子1
1″をライン状に配列してなる受光素子アレイ11と、
各受光素子11″に一対一に対応する複数個の第1の薄
膜トランジスタTTi,j(i=1〜N,J=1〜n)及び各受光
素子11″に一対一に対応する複数個の第2の薄膜トラ
ンジスタTRi,j(i=1〜N,J=1〜n)からなる電荷転送
部12と、マトリックス状の配置構造を有してなる多層
配線群13とを有しているものである。
ジセンサの等価回路例が示されており、図5には、一画
素分の等価回路図が示されている。以下、同図を参照し
つつこのイメージセンサについて説明する。このイメー
ジセンサは、原稿幅と略同じ長さに複数の受光素子1
1″をライン状に配列してなる受光素子アレイ11と、
各受光素子11″に一対一に対応する複数個の第1の薄
膜トランジスタTTi,j(i=1〜N,J=1〜n)及び各受光
素子11″に一対一に対応する複数個の第2の薄膜トラ
ンジスタTRi,j(i=1〜N,J=1〜n)からなる電荷転送
部12と、マトリックス状の配置構造を有してなる多層
配線群13とを有しているものである。
【0004】ここで、第1の薄膜トランジスタTTi,j
は電荷転送用のものであり、第2の薄膜トランジスタT
Ri,jは受光素子11″に残留する電荷をリセットする
ためのものである。そして、受光素子アレイ11は、N
個のブロックの受光素子群11′に分割され、一つの受
光素子群11′を形成するn個の受光素子11″は、フ
ォトダイオードPi,j(i=1〜N,J=1〜n)により等価的
に表すことができるものである。各受光素子11″は、
各第1の薄膜トランジスタTTi,jのドレイン電極にそ
れぞれ接続され、更に、各第2の薄膜トランジスタTR
i,jのドレイン電極にも、それぞれ接続されている。
は電荷転送用のものであり、第2の薄膜トランジスタT
Ri,jは受光素子11″に残留する電荷をリセットする
ためのものである。そして、受光素子アレイ11は、N
個のブロックの受光素子群11′に分割され、一つの受
光素子群11′を形成するn個の受光素子11″は、フ
ォトダイオードPi,j(i=1〜N,J=1〜n)により等価的
に表すことができるものである。各受光素子11″は、
各第1の薄膜トランジスタTTi,jのドレイン電極にそ
れぞれ接続され、更に、各第2の薄膜トランジスタTR
i,jのドレイン電極にも、それぞれ接続されている。
【0005】また、第2の薄膜トランジスタTRi,jの
ソース電極は接地されており、第1の薄膜トランジスタ
TTi,jのソース電極はマトリックス状に接続された多
層配線群13を介して受光素子毎にn本の共通信号線1
4にそれぞれ接続され、更に共通信号線14は駆動用I
C15に接続されている。一方、各第1の薄膜トランジ
スタTTi,jのゲート電極及び第2の薄膜トランジスタ
TRi,jのゲート電極は、ブロック毎に導通するように
ゲートパルス発生回路16に接続されている。
ソース電極は接地されており、第1の薄膜トランジスタ
TTi,jのソース電極はマトリックス状に接続された多
層配線群13を介して受光素子毎にn本の共通信号線1
4にそれぞれ接続され、更に共通信号線14は駆動用I
C15に接続されている。一方、各第1の薄膜トランジ
スタTTi,jのゲート電極及び第2の薄膜トランジスタ
TRi,jのゲート電極は、ブロック毎に導通するように
ゲートパルス発生回路16に接続されている。
【0006】そして、各受光素子11″で発生する光電
荷は、一定時間受光素子の寄生容量Cpと第1の薄膜ト
ランジスタTTi,jのドレイン・ゲート間のオーバラッ
プ容量に蓄積された後、第1の薄膜トランジスタTTi,
jを電荷転送用のスイッチとして用いてブロック毎に多
層配線群13の配線容量CLi(i=1〜n)に順次転送、
蓄積されるようになっている。
荷は、一定時間受光素子の寄生容量Cpと第1の薄膜ト
ランジスタTTi,jのドレイン・ゲート間のオーバラッ
プ容量に蓄積された後、第1の薄膜トランジスタTTi,
jを電荷転送用のスイッチとして用いてブロック毎に多
層配線群13の配線容量CLi(i=1〜n)に順次転送、
蓄積されるようになっている。
【0007】すなわち、ゲートパルス発生回路16から
ゲート線GTi(i=1〜n)を経由して、先ずゲートパル
スΦGT1が伝送され、第1のブロック内の第1の薄膜
トランジスタTT1,1〜1,nをオンにし、第1のブロック
の各受光素子11″で発生した電荷が各配線容量CLiに
転送、蓄積される。そして、各配線容量CLiに蓄積され
た電荷により、各共通信号線14の電位が変化し、駆動
用IC15内のアナログスイッチ(図示せず)を順次オ
ンして先の電位を時系列的に出力線17に出力するよう
になっている。
ゲート線GTi(i=1〜n)を経由して、先ずゲートパル
スΦGT1が伝送され、第1のブロック内の第1の薄膜
トランジスタTT1,1〜1,nをオンにし、第1のブロック
の各受光素子11″で発生した電荷が各配線容量CLiに
転送、蓄積される。そして、各配線容量CLiに蓄積され
た電荷により、各共通信号線14の電位が変化し、駆動
用IC15内のアナログスイッチ(図示せず)を順次オ
ンして先の電位を時系列的に出力線17に出力するよう
になっている。
【0008】さらに、ゲートパルス発生回路16からの
ゲート線GRi(i=1〜n)を経由してゲートパルスΦG
R1が伝送され、第1ブロック内の第2の薄膜トランジ
スタTR1,1〜TR1,nがオンされ、各受光素子の寄生容
量と薄膜トランジスタのドレイン・ゲート間のオーバラ
ップ容量に残留された未転送電荷(残留電荷)がリセッ
トされる。
ゲート線GRi(i=1〜n)を経由してゲートパルスΦG
R1が伝送され、第1ブロック内の第2の薄膜トランジ
スタTR1,1〜TR1,nがオンされ、各受光素子の寄生容
量と薄膜トランジスタのドレイン・ゲート間のオーバラ
ップ容量に残留された未転送電荷(残留電荷)がリセッ
トされる。
【0009】そして、ゲートパルスΦGT2〜ΦGTn
により第2乃至第Nブロックの第1の薄膜トランジスタ
TT2,1〜2,nからTTN,1〜TTN,nまでがそれぞれオン
されて、ブロック毎に受光素子側の電荷が転送され、ゲ
ートパルスΦGR2〜ΦGRnにより、第2の薄膜トラ
ンジスタTR2,1〜TR2,nからTRN,1〜TRN,nまで
が、それぞれオンしてブロック毎に受光素子側の残留電
荷がリセットされる。さらに、共通信号線14に転送さ
れた電荷によって変化した電位が、駆動用IC15によ
って順次読み出されることにより、原稿の主走査方向の
1ラインの画像信号が得られ、ローラ等の原稿送り手段
(図示せず)により原稿を移動させて前記動作を繰り返
し、原稿全体の画像信号を得るようになっている。
により第2乃至第Nブロックの第1の薄膜トランジスタ
TT2,1〜2,nからTTN,1〜TTN,nまでがそれぞれオン
されて、ブロック毎に受光素子側の電荷が転送され、ゲ
ートパルスΦGR2〜ΦGRnにより、第2の薄膜トラ
ンジスタTR2,1〜TR2,nからTRN,1〜TRN,nまで
が、それぞれオンしてブロック毎に受光素子側の残留電
荷がリセットされる。さらに、共通信号線14に転送さ
れた電荷によって変化した電位が、駆動用IC15によ
って順次読み出されることにより、原稿の主走査方向の
1ラインの画像信号が得られ、ローラ等の原稿送り手段
(図示せず)により原稿を移動させて前記動作を繰り返
し、原稿全体の画像信号を得るようになっている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】ところで、かかる構成
のイメージセンサのオフセット出力V0は、 V0=(Cp/(Cp+CL))×(Vf1−Vf2−Vf3−
Vf4+VR−VIC) で表される。ここで、Vf1は第1の薄膜トランジスタT
Tのドレイン側におけるいわゆるフィードスルー電圧、
Vf2は第2の薄膜トランジスタTRのドレイン側におけ
るいわゆるフィードスルー電圧、Vf3は第1の薄膜トラ
ンジスタTTによるソース側におけるいわゆるフィード
スルー電圧、Vf4は駆動用IC15内の図示されないM
OSトランジスタによる第1の薄膜トランジスタのソー
ス側におけるいわゆるフィードスルー電圧、VRは第2
の薄膜トランジスタTRのリセット電圧、VICは駆動用
IC内のスイッチング素子SWのリセット電圧である。
のイメージセンサのオフセット出力V0は、 V0=(Cp/(Cp+CL))×(Vf1−Vf2−Vf3−
Vf4+VR−VIC) で表される。ここで、Vf1は第1の薄膜トランジスタT
Tのドレイン側におけるいわゆるフィードスルー電圧、
Vf2は第2の薄膜トランジスタTRのドレイン側におけ
るいわゆるフィードスルー電圧、Vf3は第1の薄膜トラ
ンジスタTTによるソース側におけるいわゆるフィード
スルー電圧、Vf4は駆動用IC15内の図示されないM
OSトランジスタによる第1の薄膜トランジスタのソー
ス側におけるいわゆるフィードスルー電圧、VRは第2
の薄膜トランジスタTRのリセット電圧、VICは駆動用
IC内のスイッチング素子SWのリセット電圧である。
【0011】この式を検討すると、オフセット電圧VO
を小さくするためには、各フィードスルー電圧を小さく
することが必要であることが理解できる。このフィード
スルー電圧に影響を与える一つの要素として、薄膜トラ
ンジスタTT及びTRへのゲート配線の抵抗値がある。
すなわち、薄膜トランジスタTT及びTRへのゲート配
線の抵抗値大きい場合、これら薄膜トランジスタTT,
TRで発生するフィードスルー電圧、すなわち、上述の
式で言えば、Vf1〜Vf3が設計値からずれてしまうとい
う問題が生ずる。
を小さくするためには、各フィードスルー電圧を小さく
することが必要であることが理解できる。このフィード
スルー電圧に影響を与える一つの要素として、薄膜トラ
ンジスタTT及びTRへのゲート配線の抵抗値がある。
すなわち、薄膜トランジスタTT及びTRへのゲート配
線の抵抗値大きい場合、これら薄膜トランジスタTT,
TRで発生するフィードスルー電圧、すなわち、上述の
式で言えば、Vf1〜Vf3が設計値からずれてしまうとい
う問題が生ずる。
【0012】このゲート配線の抵抗値に起因して生ずる
フィードスルー電圧のばらつきについて、図6を参照し
つつより具体的に説明する。図6は、先に図4により説
明したイメージセンサの1ブロック当たりの等価回路を
示したものである。例えば、同ブロック内の各薄膜トラ
ンジスタTRの各ゲート電極は、同一の配線により相互
に接続されてパルス発生回路16から同時にゲートパル
スが印加されるようになっていることは、既に説明した
通りであるが、隣接する薄膜トランジスタTRのゲート
電極間の配線には隣接する薄膜トランジスタTRのゲー
ト電極同士の距離に応じてある程度の配線抵抗21が生
ずることは、配線自体の抵抗を零としない限り回避でき
ないものである。
フィードスルー電圧のばらつきについて、図6を参照し
つつより具体的に説明する。図6は、先に図4により説
明したイメージセンサの1ブロック当たりの等価回路を
示したものである。例えば、同ブロック内の各薄膜トラ
ンジスタTRの各ゲート電極は、同一の配線により相互
に接続されてパルス発生回路16から同時にゲートパル
スが印加されるようになっていることは、既に説明した
通りであるが、隣接する薄膜トランジスタTRのゲート
電極間の配線には隣接する薄膜トランジスタTRのゲー
ト電極同士の距離に応じてある程度の配線抵抗21が生
ずることは、配線自体の抵抗を零としない限り回避でき
ないものである。
【0013】また、ゲート電極とドレイン電極には、フ
ィードスルー電圧に影響を与える寄生容量22が生ずる
こともよく知られているところである。そして、これら
配線抵抗21及び寄生容量22は、1ブロックを構成す
る薄膜トランジスタTRの数が増えるに従い増加するも
のである。このゲート電極に接続されるゲート配線の配
線抵抗21と寄生容量22とは、ゲート信号に対する時
定数回路として作用するためにゲートパルスの波形を鈍
らせることとなるが、ゲート配線の配線抵抗21は、ゲ
ートパルス発生回路16と薄膜トランジスタTRとの距
離に比例するので、ブロック内の位置によって、時定数
は個々に異なることとなる。
ィードスルー電圧に影響を与える寄生容量22が生ずる
こともよく知られているところである。そして、これら
配線抵抗21及び寄生容量22は、1ブロックを構成す
る薄膜トランジスタTRの数が増えるに従い増加するも
のである。このゲート電極に接続されるゲート配線の配
線抵抗21と寄生容量22とは、ゲート信号に対する時
定数回路として作用するためにゲートパルスの波形を鈍
らせることとなるが、ゲート配線の配線抵抗21は、ゲ
ートパルス発生回路16と薄膜トランジスタTRとの距
離に比例するので、ブロック内の位置によって、時定数
は個々に異なることとなる。
【0014】このため、同一ブロック内の薄膜トランジ
スタであっても、ゲートパルスの立ち上がり及び立ち下
がりが図7に示されたようにブロック内の位置によって
ばらついてしまう。すなわち、図7において、ゲートパ
ルスPを、図4,6に示されたゲートパルス発生回路1
6から出力されるゲート信号とすれば、図6のAの位置
にある薄膜トランジスタTRには、図7においてPAの
符号で示された立ち上がり及び立ち下がりを有するゲー
トパルスが印加され、また、図6のBの位置にある薄膜
トランジスタTRには、図7においてPBの符号で示さ
れた立ち上がり及び立ち下がりを有するゲートパルスが
印加され、さらに、図6のDの位置にある薄膜トランジ
スタTRには、図7においてPDの符号で示された立ち
上がり及び立ち下がりを有するゲートパルスが印加され
るというように、ゲートパルス発生回路16からの位置
が離れるに従い、立ち上がり及び立ち下がり時間が増加
し、個々に異なるゲートパルスが印加されることとな
る。
スタであっても、ゲートパルスの立ち上がり及び立ち下
がりが図7に示されたようにブロック内の位置によって
ばらついてしまう。すなわち、図7において、ゲートパ
ルスPを、図4,6に示されたゲートパルス発生回路1
6から出力されるゲート信号とすれば、図6のAの位置
にある薄膜トランジスタTRには、図7においてPAの
符号で示された立ち上がり及び立ち下がりを有するゲー
トパルスが印加され、また、図6のBの位置にある薄膜
トランジスタTRには、図7においてPBの符号で示さ
れた立ち上がり及び立ち下がりを有するゲートパルスが
印加され、さらに、図6のDの位置にある薄膜トランジ
スタTRには、図7においてPDの符号で示された立ち
上がり及び立ち下がりを有するゲートパルスが印加され
るというように、ゲートパルス発生回路16からの位置
が離れるに従い、立ち上がり及び立ち下がり時間が増加
し、個々に異なるゲートパルスが印加されることとな
る。
【0015】このため、特に薄膜トランジスタのチャネ
ル層の移動度が低い場合には、上述のゲートパルスの立
ち上がり及び立ち下がり時間のばらつきにより、薄膜ト
ランジスタの導通時間が異なり、フィードスルーに影響
を与える実効的なゲートパルスの振幅の大きさがばらつ
くこととなる。すなわち、立ち上がり及び立ち下がり時
間が比較的短い場合には、ゲートパルス発生回路16か
ら供給されるゲートパルスの振幅と、このゲートパルス
の振幅の内、フィードスルーに影響を与える実効的なゲ
ートパルスの振幅とは等しくなる。
ル層の移動度が低い場合には、上述のゲートパルスの立
ち上がり及び立ち下がり時間のばらつきにより、薄膜ト
ランジスタの導通時間が異なり、フィードスルーに影響
を与える実効的なゲートパルスの振幅の大きさがばらつ
くこととなる。すなわち、立ち上がり及び立ち下がり時
間が比較的短い場合には、ゲートパルス発生回路16か
ら供給されるゲートパルスの振幅と、このゲートパルス
の振幅の内、フィードスルーに影響を与える実効的なゲ
ートパルスの振幅とは等しくなる。
【0016】一方、立ち上がり及び立ち下がり時間が比
較的長い場合には、ゲートパルス発生回路16から供給
されるゲートパルスの振幅の内、薄膜トランジスタの導
通電圧以下の振幅部分が、フィードスルーに影響を与え
る実効的な振幅量(図7に示すt)となる。結局、個々
の薄膜トランジスタにおいて、ゲートパルスの立ち上が
り及び立ち下がり時間が異なるため、フィードスルーに
影響を与える実効的な振幅量tが個々に異なり、いわゆ
る出力信号のオフセット量のばらつきを招き、出力特性
の均一なイメージセンサが得られないという問題があっ
た。
較的長い場合には、ゲートパルス発生回路16から供給
されるゲートパルスの振幅の内、薄膜トランジスタの導
通電圧以下の振幅部分が、フィードスルーに影響を与え
る実効的な振幅量(図7に示すt)となる。結局、個々
の薄膜トランジスタにおいて、ゲートパルスの立ち上が
り及び立ち下がり時間が異なるため、フィードスルーに
影響を与える実効的な振幅量tが個々に異なり、いわゆ
る出力信号のオフセット量のばらつきを招き、出力特性
の均一なイメージセンサが得られないという問題があっ
た。
【0017】本発明は、上記実情に鑑みてなされたもの
で、簡易にオフセット電圧のばらつきを少なくすること
ができるイメージセンサの駆動方法を提供するものであ
る。
で、簡易にオフセット電圧のばらつきを少なくすること
ができるイメージセンサの駆動方法を提供するものであ
る。
【0018】
【課題を解決するための手段】本発明に係るイメージセ
ンサの駆動方法は、複数の受光素子を1ブロックとして
複数ブロックをライン状に配列してなる受光素子アレイ
と、前記受光素子毎に接続されて前記受光素子で発生し
た電荷を転送する複数の第1の薄膜トランジスタと、前
記受光素子毎に接続されて前記電荷転送後に前記受光素
子に残留する電荷をリセットする複数の第2の薄膜トラ
ンジスタと、前記第1の薄膜トランジスタに接続されて
前記第1の薄膜トランジスタを介して転送された電荷を
蓄積する容量部と、を具備してなるイメージセンサの駆
動方法であって、前記第1及び第2の薄膜トランジスタ
のチャネル層の移動度の大きさに応じた立ち上がり及び
立ち下がり時間を有するパルスを前記第1及び第2の薄
膜トランジスタの駆動パルスとして印加するものであ
る。
ンサの駆動方法は、複数の受光素子を1ブロックとして
複数ブロックをライン状に配列してなる受光素子アレイ
と、前記受光素子毎に接続されて前記受光素子で発生し
た電荷を転送する複数の第1の薄膜トランジスタと、前
記受光素子毎に接続されて前記電荷転送後に前記受光素
子に残留する電荷をリセットする複数の第2の薄膜トラ
ンジスタと、前記第1の薄膜トランジスタに接続されて
前記第1の薄膜トランジスタを介して転送された電荷を
蓄積する容量部と、を具備してなるイメージセンサの駆
動方法であって、前記第1及び第2の薄膜トランジスタ
のチャネル層の移動度の大きさに応じた立ち上がり及び
立ち下がり時間を有するパルスを前記第1及び第2の薄
膜トランジスタの駆動パルスとして印加するものであ
る。
【0019】特に、第1及び第2の薄膜トランジスタの
チャネル層をa−Siで形成した場合には、駆動パルス
の立ち上がり及び立ち下がり時間を5μsec以上とする
のが好適である。また、駆動パルスは、第1のパルス幅
を有し且つ第1及び第2の薄膜トランジスタの導通電圧
に略等しい振幅を有する第1のパルスに、第1のパルス
幅より小さな第2のパルス幅を有し且つ所定の振幅を有
する第2のパルスを重畳したものに等価であるものが好
適である。
チャネル層をa−Siで形成した場合には、駆動パルス
の立ち上がり及び立ち下がり時間を5μsec以上とする
のが好適である。また、駆動パルスは、第1のパルス幅
を有し且つ第1及び第2の薄膜トランジスタの導通電圧
に略等しい振幅を有する第1のパルスに、第1のパルス
幅より小さな第2のパルス幅を有し且つ所定の振幅を有
する第2のパルスを重畳したものに等価であるものが好
適である。
【0020】
【作用】立ち上がり及び立ち下がり時間が、これら第1
及び第2の薄膜トランジスタのチャネル層の移動度の大
きさに応じた立ち上がり及び立ち下がり時間を有するパ
ルスが駆動パルスとして第1及び第2の薄膜トランジス
タに印加されることにより、フィードスルーに影響する
実効的なパルス振幅をいずれの薄膜トランジスタにおい
ても略揃えることができ、そのため、オフセット電圧の
ばらつきの少ない均一な出力特性を有するイメージセン
サが提供されることとなるものである。
及び第2の薄膜トランジスタのチャネル層の移動度の大
きさに応じた立ち上がり及び立ち下がり時間を有するパ
ルスが駆動パルスとして第1及び第2の薄膜トランジス
タに印加されることにより、フィードスルーに影響する
実効的なパルス振幅をいずれの薄膜トランジスタにおい
ても略揃えることができ、そのため、オフセット電圧の
ばらつきの少ない均一な出力特性を有するイメージセン
サが提供されることとなるものである。
【0021】
【実施例】以下、本発明に係るイメージセンサの駆動方
法について、図1乃至図3を参照しつつ説明する。ここ
で、図1は本発明に係るイメージセンサの駆動方法にお
いて薄膜トランジスタのゲート電極に印加されるゲート
パルスの波形図、図2は図1に示されたゲートパルスを
用いた場合のオフセットのばらつきの解消の程度を説明
するための説明図、図3はゲートパルスの第2の実施例
を示す波形図である。尚、以下に説明する部材、配置等
は本発明を限定するものではなく、本発明の趣旨の範囲
内で種々改変することができるものである。
法について、図1乃至図3を参照しつつ説明する。ここ
で、図1は本発明に係るイメージセンサの駆動方法にお
いて薄膜トランジスタのゲート電極に印加されるゲート
パルスの波形図、図2は図1に示されたゲートパルスを
用いた場合のオフセットのばらつきの解消の程度を説明
するための説明図、図3はゲートパルスの第2の実施例
を示す波形図である。尚、以下に説明する部材、配置等
は本発明を限定するものではなく、本発明の趣旨の範囲
内で種々改変することができるものである。
【0022】本実施例におけるイメージセンサの回路構
成は、基本的には図4ないし図6に示されたものと同一
であるが、ゲートパルスを出力するゲートパルス発生回
路の機能が次述するように異なるものである。このため
以下の説明においても、図4ないし図6に示された構成
要素と同一のものについては、同一の符号を使用するこ
ととし、全体の回路構成についての説明は省略すること
とする。図1には本実施例におけるイメージセンサのゲ
ートパルス発生回路から出力されるゲートパルスの信号
波形が示されており、以下、同図を参照しつつ本実施例
における薄膜トランジスタの駆動について説明する。
成は、基本的には図4ないし図6に示されたものと同一
であるが、ゲートパルスを出力するゲートパルス発生回
路の機能が次述するように異なるものである。このため
以下の説明においても、図4ないし図6に示された構成
要素と同一のものについては、同一の符号を使用するこ
ととし、全体の回路構成についての説明は省略すること
とする。図1には本実施例におけるイメージセンサのゲ
ートパルス発生回路から出力されるゲートパルスの信号
波形が示されており、以下、同図を参照しつつ本実施例
における薄膜トランジスタの駆動について説明する。
【0023】本実施例においては、薄膜トランジスタT
T,TRのチャネル層はa−Siで形成し、薄膜トラン
ジスタTT,TRのゲート電極には、図1に示されたよ
うに立ち上がり及び立ち下がり時間TRを有するゲート
パルス(駆動パルス)PSを印加するようにしている。
ここで、この立ち上がり及び立ち下がり時間TRは、薄
膜トランジスタTT,TRのチャネル層の移動度に応じ
て設定されるもので、移動度が大きい場合には立ち上が
り及び立ち下がり時間TRを大きくし、移動度が小さい
場合には立ち上がり及び立ち下がり時間TRを小さくす
る。本実施例では、薄膜トランジスタTT,TRのチャ
ネル層をa−Siで形成したので、移動度が0.8〜
1.0cm2/v・secであり、後述するように立ち上がり
及び立ち下がり時間TRを5μsec以上とすることが好ま
しい。
T,TRのチャネル層はa−Siで形成し、薄膜トラン
ジスタTT,TRのゲート電極には、図1に示されたよ
うに立ち上がり及び立ち下がり時間TRを有するゲート
パルス(駆動パルス)PSを印加するようにしている。
ここで、この立ち上がり及び立ち下がり時間TRは、薄
膜トランジスタTT,TRのチャネル層の移動度に応じ
て設定されるもので、移動度が大きい場合には立ち上が
り及び立ち下がり時間TRを大きくし、移動度が小さい
場合には立ち上がり及び立ち下がり時間TRを小さくす
る。本実施例では、薄膜トランジスタTT,TRのチャ
ネル層をa−Siで形成したので、移動度が0.8〜
1.0cm2/v・secであり、後述するように立ち上がり
及び立ち下がり時間TRを5μsec以上とすることが好ま
しい。
【0024】図2には薄膜トランジスタTT,TRのチ
ャネル層をa−Siで形成した場合(移動度が0.8〜
1.0cm2/v・sec)において、前記ゲートパルスの立
ち上がり及び立ち下がり時間TRを調整した場合の出力
信号のオフセットのばらつきの一例が示されおり、以
下、同図を参照しつつその内容について説明する。この
図2は、ゲートパルスの立ち上がり及び立ち下がり時間
TRに何等調整を加えない場合のオフセットのばらつき
の大きさを1とし、これに対してゲートパルスの立ち上
がり及び立ち上がり時間TRを種々変化させた場合にお
けるオフセットのばらつきの変化を示したもので、例え
ば、TRを5μsecとした場合のオフセットは、約0.1
5となることが示されており、この場合は略9割のオフ
セットのばらつき低減の効果が得られることが解る。ま
た、同図においてTRが10μsecの場合について見る
と、オフセットばらつきは0.05以下となっており、
オフセットのばらつきが殆ど解消されることが解る。
ャネル層をa−Siで形成した場合(移動度が0.8〜
1.0cm2/v・sec)において、前記ゲートパルスの立
ち上がり及び立ち下がり時間TRを調整した場合の出力
信号のオフセットのばらつきの一例が示されおり、以
下、同図を参照しつつその内容について説明する。この
図2は、ゲートパルスの立ち上がり及び立ち下がり時間
TRに何等調整を加えない場合のオフセットのばらつき
の大きさを1とし、これに対してゲートパルスの立ち上
がり及び立ち上がり時間TRを種々変化させた場合にお
けるオフセットのばらつきの変化を示したもので、例え
ば、TRを5μsecとした場合のオフセットは、約0.1
5となることが示されており、この場合は略9割のオフ
セットのばらつき低減の効果が得られることが解る。ま
た、同図においてTRが10μsecの場合について見る
と、オフセットばらつきは0.05以下となっており、
オフセットのばらつきが殆ど解消されることが解る。
【0025】このように、薄膜トランジスタTT,TR
のゲートパルスの立ち上がり及び立ち下がりを薄膜トラ
ンジスタTT,TRのチャネル層の移動度に応じて鈍ら
せた信号を供給することにより、フィードスルーに影響
を与える実効的なゲートパルスの振幅量が個々の薄膜ト
ランジスタにおいて略等しくなり、各薄膜トランジスタ
のゲート電極側の時定数のばらつきに起因するオフセッ
トのばらつきが補償されることとなり、オフセットのば
らつきが従来と異なり問題にならない程度の出力信号を
得ることができるようになるものである。
のゲートパルスの立ち上がり及び立ち下がりを薄膜トラ
ンジスタTT,TRのチャネル層の移動度に応じて鈍ら
せた信号を供給することにより、フィードスルーに影響
を与える実効的なゲートパルスの振幅量が個々の薄膜ト
ランジスタにおいて略等しくなり、各薄膜トランジスタ
のゲート電極側の時定数のばらつきに起因するオフセッ
トのばらつきが補償されることとなり、オフセットのば
らつきが従来と異なり問題にならない程度の出力信号を
得ることができるようになるものである。
【0026】上記実施例においてはチャネル層をa−S
iで形成したが、例えば、結晶シリコンを用いた場合に
は、移動度が1000cm2/v・sec程度となるため、立
ち上がり及び立ち上がり時間TRをnsecのオーダーとす
る必要がある。
iで形成したが、例えば、結晶シリコンを用いた場合に
は、移動度が1000cm2/v・sec程度となるため、立
ち上がり及び立ち上がり時間TRをnsecのオーダーとす
る必要がある。
【0027】尚、上述のように立ち上がり及び立ち下が
りに所定の時間を有する信号を発生するには、例えば、
これまでの矩形波状のゲートパルスを発生する回路に、
波形整形用回路を付加する構成とするのが最も簡易な方
法である。ここで波形整形用回路としては、例えば、抵
抗とコンデンサとからなる積分回路が簡易に所望の波形
整形、すなわち、矩形波の立ち上がり及び立ち下がりを
所望の緩慢なカーブとすることができる。
りに所定の時間を有する信号を発生するには、例えば、
これまでの矩形波状のゲートパルスを発生する回路に、
波形整形用回路を付加する構成とするのが最も簡易な方
法である。ここで波形整形用回路としては、例えば、抵
抗とコンデンサとからなる積分回路が簡易に所望の波形
整形、すなわち、矩形波の立ち上がり及び立ち下がりを
所望の緩慢なカーブとすることができる。
【0028】次に、第2の実施例について図3の波形図
を参照しつつ説明する。この例は、立ち上がり及び立ち
下がり時間TRの調整のために、電圧レベル及びパルス
幅の異なる2つのパルスを合成したものに相当するゲー
トパルスを薄膜トランジスタTT,TRのゲート電極に
供給する方法である。このゲートパルスは2つのパルス
を合成することで得ることができる。すなわち、図3に
示されたゲートパルスは、先ず、立ち上がりから時間T
Rは、薄膜トランジスタTT、TRが導通する際の電圧
(いわゆるON電圧(図3において点線で表されたレベ
ル))に等しいか又はこれを僅かに下回る電圧振幅を有
するパルスP1が、続いて本来のゲートパルスとしての
電圧振幅を有するパルスP2が出力されてなるもので、
立ち下がりの時間TRの間は、再び先のパルスP1が出
力されてなるものである。
を参照しつつ説明する。この例は、立ち上がり及び立ち
下がり時間TRの調整のために、電圧レベル及びパルス
幅の異なる2つのパルスを合成したものに相当するゲー
トパルスを薄膜トランジスタTT,TRのゲート電極に
供給する方法である。このゲートパルスは2つのパルス
を合成することで得ることができる。すなわち、図3に
示されたゲートパルスは、先ず、立ち上がりから時間T
Rは、薄膜トランジスタTT、TRが導通する際の電圧
(いわゆるON電圧(図3において点線で表されたレベ
ル))に等しいか又はこれを僅かに下回る電圧振幅を有
するパルスP1が、続いて本来のゲートパルスとしての
電圧振幅を有するパルスP2が出力されてなるもので、
立ち下がりの時間TRの間は、再び先のパルスP1が出
力されてなるものである。
【0029】この図3に示されたゲートパルスは、換言
すれば、第1のパルス幅を有し且つ第1及び第2の薄膜
トランジスタの導通電圧に略等しい振幅を有する第1の
パルス(図3のP1)に、第1のパルス幅より小さな第
2のパルス幅を有し且つ所定の振幅を有する第2のパル
ス(図3のP2)を重畳したものということもできるも
のである。
すれば、第1のパルス幅を有し且つ第1及び第2の薄膜
トランジスタの導通電圧に略等しい振幅を有する第1の
パルス(図3のP1)に、第1のパルス幅より小さな第
2のパルス幅を有し且つ所定の振幅を有する第2のパル
ス(図3のP2)を重畳したものということもできるも
のである。
【0030】このようにゲート電極側の時定数のばらつ
きに起因するオフセット電圧のばらつきに影響を与える
ゲートパルスの立ち上がり及び立ち下がりの所定時間
は、薄膜トランジスタのいわゆるON電圧程度の電圧を
印加するようにし、その後は本来の電圧を印加するよう
にしても、先の第1の実施例で立ち上がり及び立ち下が
りを鈍らせたゲートパルスを印加したと同様にオフセッ
トのばらつきが低減されることとなる。
きに起因するオフセット電圧のばらつきに影響を与える
ゲートパルスの立ち上がり及び立ち下がりの所定時間
は、薄膜トランジスタのいわゆるON電圧程度の電圧を
印加するようにし、その後は本来の電圧を印加するよう
にしても、先の第1の実施例で立ち上がり及び立ち下が
りを鈍らせたゲートパルスを印加したと同様にオフセッ
トのばらつきが低減されることとなる。
【0031】
【発明の効果】以上、述べたように本発明によれば、立
ち上がり及び立ち下がり時間が薄膜トランジスタのチャ
ンネル層の移動度に応じたパルスを印加するような構成
とすることにより、フィードスルーに影響を及ぼす実効
的なゲートパルスの振幅量が個々の薄膜トランジスタで
略均一となるので、いわゆるオフセットのばらつきの小
さな出力特性の略均一なイメージセンサを提供すること
ができるものである。
ち上がり及び立ち下がり時間が薄膜トランジスタのチャ
ンネル層の移動度に応じたパルスを印加するような構成
とすることにより、フィードスルーに影響を及ぼす実効
的なゲートパルスの振幅量が個々の薄膜トランジスタで
略均一となるので、いわゆるオフセットのばらつきの小
さな出力特性の略均一なイメージセンサを提供すること
ができるものである。
【図1】 本発明に係るイメージセンサの駆動方法にお
いて薄膜トランジスタのゲート電極に印加されるゲート
パルスの波形図である。
いて薄膜トランジスタのゲート電極に印加されるゲート
パルスの波形図である。
【図2】 図1に示されたゲートパルスを用いた場合の
オフセットのばらつきの解消の程度を説明するための説
明図である。
オフセットのばらつきの解消の程度を説明するための説
明図である。
【図3】 ゲートパルスの第2の実施例を示す波形図で
ある。
ある。
【図4】 従来のイメージセンサの構成を示す等価回路
図である。
図である。
【図5】 図4に示されたイメージセンサの1画素当た
りの等価回路図である。
りの等価回路図である。
【図6】 図4に示されたイメージセンサの1ブロック
当たりの等価回路図である。
当たりの等価回路図である。
【図7】 従来のイメージセンサにおけるゲートパルス
の鈍り具合を説明するための説明図である。
の鈍り具合を説明するための説明図である。
11…受光素子アレイ、 12…電荷転送部、 13…
多層配線群、 14…共通信号線、 15…駆動用I
C、 16…ゲートパルス発生回路、 21…配線抵
抗、 22…寄生容量、 PS…ゲートパルス(駆動パ
ルス)
多層配線群、 14…共通信号線、 15…駆動用I
C、 16…ゲートパルス発生回路、 21…配線抵
抗、 22…寄生容量、 PS…ゲートパルス(駆動パ
ルス)
Claims (3)
- 【請求項1】 複数の受光素子を1ブロックとして複数
ブロックをライン状に配列してなる受光素子アレイと、 前記受光素子毎に接続されて前記受光素子で発生した電
荷を転送する複数の第1の薄膜トランジスタと、 前記受光素子毎に接続されて前記電荷転送後に前記受光
素子に残留する電荷をリセットする複数の第2の薄膜ト
ランジスタと、 前記第1の薄膜トランジスタに接続されて前記第1の薄
膜トランジスタを介して転送された電荷を蓄積する容量
部と、を具備してなるイメージセンサの駆動方法であっ
て、 前記第1及び第2の薄膜トランジスタのチャネル層の移
動度の大きさに応じた立ち上がり及び立ち下がり時間を
有するパルスを前記第1及び第2の薄膜トランジスタの
駆動パルスとして印加することを特徴とするイメージセ
ンサの駆動方法。 - 【請求項2】 第1及び第2の薄膜トランジスタのチャ
ネル層をa−Siで形成した場合に、駆動パルスの立ち
上がり及び立ち下がり時間を5μsec以上とすることを
特徴とする請求項1記載のイメージセンサの駆動方法。 - 【請求項3】 駆動パルスは、第1のパルス幅を有し且
つ第1及び第2の薄膜トランジスタの導通電圧に略等し
い振幅を有する第1のパルスに、第1のパルス幅より小
さな第2のパルス幅を有し且つ所定の振幅を有する第2
のパルスを重畳したものに等価であることを特徴とする
請求項1記載のイメージセンサの駆動方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6299033A JPH08139852A (ja) | 1994-11-09 | 1994-11-09 | イメージセンサの駆動方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6299033A JPH08139852A (ja) | 1994-11-09 | 1994-11-09 | イメージセンサの駆動方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08139852A true JPH08139852A (ja) | 1996-05-31 |
Family
ID=17867349
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6299033A Pending JPH08139852A (ja) | 1994-11-09 | 1994-11-09 | イメージセンサの駆動方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08139852A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100523458B1 (ko) * | 2001-03-28 | 2005-10-25 | 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 | 표시장치 |
US7423790B2 (en) | 2004-03-18 | 2008-09-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoelectric conversion apparatus and contact-type image sensor |
JP2017509176A (ja) * | 2013-12-19 | 2017-03-30 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | 低ノイズセンサおよび低ノイズセンサを用いた検査システム |
-
1994
- 1994-11-09 JP JP6299033A patent/JPH08139852A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100523458B1 (ko) * | 2001-03-28 | 2005-10-25 | 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 | 표시장치 |
US7423790B2 (en) | 2004-03-18 | 2008-09-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoelectric conversion apparatus and contact-type image sensor |
US7889254B2 (en) | 2004-03-18 | 2011-02-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoelectric conversion apparatus and contact-type image sensor |
JP2017509176A (ja) * | 2013-12-19 | 2017-03-30 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | 低ノイズセンサおよび低ノイズセンサを用いた検査システム |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6144466A (en) | Electronic circuit apparatus | |
US5831605A (en) | Liquid crystal display device with stabilized common potential | |
JP3021971B2 (ja) | イメージセンサ | |
US5790090A (en) | Active matrix liquid crystal display with reduced drive pulse amplitudes | |
JP2991354B2 (ja) | 画像読取装置およびそれを備えた画像情報処理装置 | |
JP4001648B2 (ja) | 画像センサアレイ | |
CN1010711B (zh) | 多功能离子图形打印装置 | |
JP4189585B2 (ja) | シフトレジスタ回路及び電子装置 | |
EP0576040B1 (en) | Photoelectric converter | |
JPS6226219B2 (ja) | ||
EP0529831B1 (en) | Pixel construction for active matrix liquid crystal displays | |
JPH08139852A (ja) | イメージセンサの駆動方法 | |
JPH07118761B2 (ja) | 原稿読み取り装置 | |
JP3893806B2 (ja) | 撮像装置及びその製造方法 | |
JP3141698B2 (ja) | イメージセンサの駆動方法 | |
JPH06164924A (ja) | イメージセンサ | |
JPH0654117A (ja) | イメ−ジセンサ及びその駆動方法 | |
JPH0337744B2 (ja) | ||
JP3903047B2 (ja) | 光電変換装置及び密着型イメージセンサ | |
JPH04346565A (ja) | 画像読取装置 | |
JP3094554B2 (ja) | 画像読み取り装置 | |
JP3224424B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP3312760B2 (ja) | 端面発光型el素子の駆動装置 | |
JPH05167775A (ja) | 2次元密着型イメージセンサ及びその駆動方法 | |
JP2874131B2 (ja) | イメージセンサの駆動方法 |