JPH08136147A

JPH08136147A - 連続結晶化炉

Info

Publication number: JPH08136147A
Application number: JP27264594A
Authority: JP
Inventors: Toshihiro Isshiki; 敏浩一色
Original assignee: Olympus Optical Co Ltd
Current assignee: Olympus Corp
Priority date: 1994-11-07
Filing date: 1994-11-07
Publication date: 1996-05-31

Abstract

(57)【要約】【目的】熱的及び時間的ロスがなく、汎用性に優れ、か
つ小形化が可能で安価な連続結晶化炉を提供する。【構成】炉体１に形成された垂直の通過穴１ａの周囲に
は、垂直方向に所定間隔を有して複数の電気ヒータ３が
配設されている。これらヒータ３は単独もしくは連動し
て制御部１６により制御される。補綴物を収容した均熱
箱４が通過穴に、これの下端開口より間欠的に順次装填
手段５により装填される。装填された均熱箱は、順次上
方に間欠的に搬送され、停止した位置で所定の結晶化プ
ログラムに従って電気ヒータにより加熱され、中の補綴
物が結晶化される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、歯科補綴物であるキャ
スタブルセラミックスの結晶化に用いられる連続結晶化
炉に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、連続結晶化炉としては、例えば、
オリンパス光学工業株式会社製のＲＣ１０１やＫＤＦ製
ＨＲ７のように、１つの加熱手段を使用してセラミック
スの結晶化を個々に行うものが知られている。

【０００３】また、熱処理を連続して行うものとして、
特開平０３−２２３１２６号に開示されているようにガ
ラスレンズの成形の予備加熱をコンベヤを使用して連続
搬送するものや、特開昭５１−１０１０１８号に開示さ
れているようにロールを使用してガラスシートの焼鈍を
連続して行うもの等が知られている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記従来の加熱炉のう
ち、１つの加熱手段を使用したものでは、予め設定され
たプログラムの途中では被加熱物の装填ができないの
で、多数の処理物を熱処理する場合には、一度にまとめ
て装填し熱処理しなければ、電気エネルギーの無駄等の
ロスが生じてしまう。このために、所定の量になるまで
処理物を溜めるための余分の時間が必要となる。また、
このような処理は、多数の処理物を全て同じ制御でしか
熱処理することができず汎用性がない。

【０００５】一方、熱処理を連続して行うものの場合、
搬送ローラやコンベヤ等の大がかりな搬送機構を使用し
ているために、加熱炉自体が大型になり、また、搬送機
構の高温による熱変形や耐熱製の問題も考慮しなければ
ならず、炉自体が高価となっている。本発明の目的は、
熱的及び時間的ロスがなく、汎用性に優れ、かつ小形化
が可能で安価な連続結晶化炉を提供することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明に係わる請求項１
に記載の連続結晶化炉は、歯科用補綴物であるキャスタ
ブルセラミックを結晶化する連続結晶化炉において、炉
体に形成された搬送路に沿って順次搬送され、結晶化さ
れる補綴物を夫々保持した複数の保持部材と、これら保
持部材に保持された補綴物を夫々熱処理する複数の加熱
手段と、これら加熱手段を単独もしくは連動して制御す
る制御手段と、前記保持部材を順次炉体に装填し搬送す
る手段とを具備することを特徴とする。

【０００７】また、請求項２に記載の連続結晶化炉は、
請求項１の連続結晶化炉において、さらに前記補綴物を
保持した複数の保持部材を保管する保管手段と、この保
管手段から保持部材を所定のタイミングで順次取り出す
手段とを具備することを特徴とする。

【０００８】さらに、請求項３に記載の連続結晶化炉
は、請求項１もしくは２の連続結晶化炉において、前記
各保持部材は、中に補綴物を収容する均熱箱であり、こ
の均熱箱は、補綴物の周囲の温度を一定に保つように熱
伝導性の優れた材料で形成された側壁と、断熱材で形成
された底壁とを有することを特徴とする。

【０００９】

【作用】請求項１の連続結晶化炉においては、結晶化さ
れる補綴物を夫々保持した複数の保持部材が、炉体に形
成された搬送路に順次装填されて、これに沿って搬送さ
れ、この搬送中に単独もしくは連動して制御される複数
の加熱手段により補綴物は順次所定の昇温プログラムに
従って加熱されて結晶化される。この工程を順次装填さ
れた保持部材に対して行う。そして、保持部材が装填さ
れない場合には、保持部材は、搬送されないで、その位
置で補綴物の熱処理が行われる。

【００１０】この結果、この連続結晶化炉では、補綴物
を保持した保持部材を炉体に順次装填して熱処理ができ
るので、熱的及び時間的ロスがなく補綴物を結晶化する
ことができる。また、必要に応じて異なった加熱プロセ
スを実行することができるので汎用性に優れる。そし
て、面倒な搬送機構を使用しなくても保持部材を装填、
搬送することができるので、連続結晶化炉の小形化、低
価格化が可能となる。

【００１１】また、請求項２の連続結晶化炉において
は、保管手段に保管された保持部材の取り出しと、保持
部材の連続結晶化炉への装填とを所定のタイミングによ
り同期して行えるので、保持部材を効率良く、連続結晶
化炉に装填することができる。

【００１２】さらに、請求項３の連続結晶化炉において
は、保持部材が補綴物の周囲の温度を一定に保つように
熱伝導性の優れた材料で形成された側壁と、断熱材で形
成された底壁とを有する均熱箱で形成されているので、
加熱手段により均熱箱内を均一に加熱することができ
て、この中に収容されている補綴物を均一に加熱するこ
とができると共に、隣接する均熱箱の温度の影響を少な
くすることができるので、個々の均熱箱を所定の温度に
精度良く加熱することができる。

【００１３】

【実施例】以下に、添付図面を参照して、本発明の一実
施例に係わる連続結晶化炉を説明する。図１並びに図２
に示すように、連続結晶化炉は、縦長の直方体をなし、
耐火物で形成された炉体１を有するこの炉体１のほぼ中
心には、垂直に延びて、上面から下面へと貫通した断面
矩形の通過穴１ａが搬送路として形成されている。ま
た、この炉体１の一側面には、通過穴１ａにまで延びた
開口が形成されており、この開口には通過穴１ａの開閉
を果たすように炉ふた２が着脱可能に挿入されている。
この炉体１内には、通過穴１ａの延出方向に互いに所定
間隔を有して複数の（この実施例では７本）の加熱手段
である、電気ヒータ３が配設されている。各電気ヒータ
３は、前記炉ふた２の所を除いて通過穴１ａを囲むよう
にして延びたコイルヒータにより形成されている。これ
ら電気ヒータ３は、電源を備えた制御部１６に接続され
ている。この制御部１６は、電気ヒータ３を夫々独立さ
せても、また所定のプログラムにもとずいて互いに連動
させても、温度並びに通電時間を制御するように駆動可
能になっている。これら電気ヒータ３は、通過穴１ａに
挿入された後述する均熱箱４を加熱し、中に収容された
補綴物、即ちキヤスタブルセラミックスを結晶化する。

【００１４】所定のプログラムにもとずいて互いに連動
させて、補綴物を加熱する場合には、例えば、図４に示
すようなプログラムに基づいて行なわれる。この例で
は、合計２１０分で熱処理が終了するようにプログラム
が設定されており、プログラムは夫々３０分づつの７つ
のステップよりなっている。第１のステップでは、最下
端の第１の電気ヒータ３によりに補綴物が０〜３７５℃
に３０分間で過熱される。そして、第２のステップで
は、第２の電気ヒータ３により補綴物が３７５〜７５０
℃に３０分間で過熱される。そして、第３ないし第６の
ステップでは、第３ないし第６の電気ヒータ３により補
綴物が夫々７５０℃に３０分間づつ加熱される。そし
て、最後の第７のステップでは、最上端の第７の電気ヒ
ータ３により補綴物が７５０〜９００℃に３０分間で過
熱され、かくして、熱処理が完了し、補綴物が結晶化さ
れる。図４は、このときの処理時間と温度との関係を示
す。

【００１５】図３は、前記通過穴１ａに挿入される複数
の均熱箱４のうちの１つを示す。この均熱箱４は、上端
が開口し、前記通過穴１ａよりも僅かに小さい断面の矩
形の箱型をなし、底壁４ｂは熱伝導の悪い断熱材によ
り、そして側壁４ａは熱伝導の良い耐火材により夫々形
成されている。これら均熱箱４は、補綴物である図示し
ないキヤスタブルセラミックスを中に収容し、図２に示
すように、炉体１の通過穴１ａ中に下方から順次間欠的
に、装填手段５により挿入される。この装填手段５は、
例えば、ピストンが矢印で示すように上下方向に移動可
能に配置されたエアーシリンダー・ピストンと、このピ
ストンの上端に水平に固定された載置台５ａと、この載
置台５ａに装着された均熱箱検知センサ１５とにより構
成されている。この均熱箱検知センサ１５は、載置台５
ａ上に均熱箱４が載置されたときに、これを検知して制
御部１６に検知信号を送る。この検知信号に基づいて、
制御部１６は、各電気ヒータ３を制御し、また、装填手
段５を始動させる。なお、前記載置台５ａは、前記均熱
箱４とほぼ同じデイメンションもしくはこれより小さい
デイメンションを有し、共に前記通過穴１ａに、これの
下端開口から挿入可能となっている。また、この載置台
５ａの両側面には、この載置台５ａが後述するストッパ
７により通過が阻止されないように、ストッパ７が中を
通過可能な切欠部が好ましくは形成されている。

【００１６】前記炉体１の通過穴１ａの下端開口近くに
は、互いに対向するようにして１対のストッパ７が設け
られている。各ストッパ７は炉体１に基端が枢支され、
先端部が通過穴１ａ内に斜め上方に延出したセラミック
ス片により形成されている。そして、この延出端には水
平面よりなる均熱箱の載置部が形成されている。このス
トッパ７は、これと炉体１との間に配設された圧縮セラ
ミックバネよりなる付勢手段により、常時、図２に示す
ように通過穴１ａ中に延出して位置されている。そし
て、このストッパ７の下面に均熱箱４の側壁外面が当接
しているときには、バネの付勢力に抗して、図中左側の
ストッパ７は反時計向りに、そして右側のストッパ７は
時計回り回動され、均熱箱４の上方への移動を可能にし
ている。

【００１７】なお、図２において、符号１３は均熱箱４
の温度を検出して前記制御部１６に検出信号を送って各
電気ヒータ３を制御させるための、例えば、熱電対より
なる温度検知手段を、また符号１４は最上位置の均熱箱
４の上端開口を閉塞するための上ふたを、夫々示す。

【００１８】次に、上記構成の連続結晶化炉を使用して
歯科補綴物であるキャスタブルセラミックスを結晶化す
る方法を説明する。まず、炉体１の通過穴１ａ内に均熱
箱４が一つも装填されていない状態で、中に補綴物を収
容し、上ふた２で閉塞された第１の均熱箱４を載置台５
ａ上に載置する。この結果、均熱箱検知センサ１５によ
り検出信号が制御回路１６に出力されて、第１の（最下
位置の）電気ヒータ３が通電されると共に、装填手段５
も駆動されて、載置台５ａがピストンにより上昇され
る。この結果、均熱箱４は、下端開口を介して通過穴１
ａ内に挿入され、ストッパ７を通過穴１ａのない側面側
へと回動させて、このストッパ７の上方に移動される。
均熱箱４がストッパ７を通過すると、ストッパ７は図２
に示すような突出位置にバネの付勢力により復帰する。
この結果、載置台５ａを下方に移動して通過穴１ａから
抜いても、均熱箱４の下面とストッパ７の載置部とが当
接し、均熱箱４はストッパ７により通過穴１ａ内に支持
される。この状態で、均熱箱４は約３０分間熱処理され
て第１のステップを終える。このときには、上端が開口
した第２の均熱箱４が、前記第１の均熱箱４と同様にし
て、通過穴１ａ内に挿入され、第１の均熱箱４を押し上
げる、即ち、上方に搬送すると共にストッパ７に支持さ
れる。この第２の均熱箱４が挿入されたとき、もしくは
前に、第２の電気ヒータ３は通電され、第１の均熱箱４
を３７０〜７５０℃に加熱可能になっている。同様にし
て、順次約３０分毎に第３ないし第４の均熱箱４（図２
では、夫々参照符号４−２，４−１で示す）を通過穴１
ａ内に挿入し熱処理する。この結果、２１０分後には、
第１の均熱箱４は最上位置の電気ヒータ３の所に位置し
て、均熱箱内の補綴物の結晶化が完了する。このように
熱処理が完了したら炉ふた２を開いて、第１の均熱箱４
を炉体１から取り出し、再び新たな均熱箱４を通過穴１
ａ内に下方から挿入する。

【００１９】以上説明したように、上記構成の連続結晶
化炉においては、結晶化する補綴物を順次均熱箱４によ
り炉内に挿入することができ、また結晶化された補綴物
は順次均熱箱４を介して炉から取り出すことができる。
このために、結晶化する補綴物が全てそろってから熱処
理を開始する必要がなく時間的なロスがない。そして、
均熱箱４を下から順次押し上げて炉内に装填するため
に、面倒な搬送機構を必要とせず、また炉の設置床面積
を小さくすることができる。

【００２０】次に、第２並びに第３の実施例を順次対応
する図面を参照して説明する。なお、これら実施例にて
前記第１の実施例と実質的に同じ部材は同一符号を付し
て説明を省略する。

【００２１】第２の実施例の装置では、図５に示すよう
に、装填手段５は２つの載置台５ａを有している。即
ち、装填手段５のピストンの上端には、水平に延びた支
持アーム５ｂが中間部で回転可能に支持されており、こ
の支持アーム５ｂの両端に、互いにピストンから等距離
離間し、また同一高さとなるようにして１対の載置台５
ａが支持されている。この結果、両載置台５ａは、ピス
トンを介して同時に同じ距離だけ垂直方向に移動される
と共に、ピストンに対してこれを中心として水平面内で
１８０°回転され得る。

【００２２】前記炉体１の側方には、結晶化される補綴
物を中に収容した均熱箱４を保管するための保管手段と
しての保管ボックス６が並設されている。この保管ボッ
クス６には、通過穴１ａと同様の形態の保管穴６ａが垂
直方向に貫通するようにして形成されている。そしてこ
の保管穴６ａの下端開口近くにはストッパ７が設けら
れ、均熱箱４を保管穴６ａ内に支持可能となっている。
この保管ボックス６に設けられたストッパ７と前記通過
穴１ａに設けられたストッパ７とは、構成は同じである
が、均熱箱４を保管穴６ａの下端開口から取り出せるよ
うにするために、配設位置が異なっている。この相違点
を図６を参照して説明する。

【００２３】前記通過穴１ａに設けられたストッパ７
（図６では符号７−１で示す）は、均熱箱４の底面の両
側の中央部分と当接し、これを支持するように、通過穴
１ａの内側壁の中央に配設されている。一方、前記保管
穴６ａに設けられたストッパ７（図６では符号７−２で
示す）は、均熱箱４の底面の両側の両端部と夫々当接
し、これを支持するように、保管穴６ａの内側壁の隅部
に配設されている（図では４つのストッパ７−２のうち
２つしか示されていない）。また、前記均熱箱４の下面
の両側には、夫々矩形の切欠つ溝４ａが形成されてい
る。一方、載置台５ａの上面の両側の両端部、即ち４隅
には、前記切欠つ溝４ａ中に挿入可能なディメンション
の矩形の突出部５ｃが形成されている。

【００２４】上記構成の第２の実施例の連続結晶化炉に
おいては、熱処理は前記第１の実施例と同じで、均熱箱
４の炉体１への装填動作が異なるので、この点を以下に
説明する。

【００２５】予め、結晶化される補綴物を中に収容した
７個の均熱箱４を図５に示すように保管ボックス６の保
管穴６ａ内に、最下位置の均熱箱４がストッパ７により
支持された状態で保管させておく。なお、この場合、必
ずしも７個の均熱箱４を全て保管穴６ａ中に配設させて
おく必要はなく、動作中に順次追加していけば良い。ま
た、炉体１の通過穴１ａ内には、均熱箱４が一つも装填
されていない状態で、まず、図示のように両載置台５ａ
を通過穴１ａと保管穴６ａの下方に夫々位置するように
支持アーム５ｂを回動させる。そして、載置台５ａを点
線で示すように上昇させて、通過穴１ａと保管穴６ａ内
にこれの下端開口を介して挿入する。この結果、保管穴
６ａ内に挿入された載置台５ａは保管ボックス６の保管
穴６ａ内の最下位置にある均熱箱４の底面と当接し、こ
れを上昇させる。このときに、載置台５ａの側面がスト
ッパ７と当接し、これをバネの力に抗して保管用穴６ａ
のない側面側に回動させる。この状態で、ピストンを介
して載置台５ａを実線の位置まで下降させると、ストッ
パ７は載置台５ａの側面との当接から、突出部５ｃの側
面との当接を経て均熱箱４の側面との当接と引き継がれ
る。このために、最下位置の均熱箱４が保管穴６ａから
取り出され得る。なお、この最下位置の均熱箱４がスト
ッパ７を通過すると、ストッパ７は次段の均熱箱４の底
面に形成された切欠つ溝４ａに挿入するようにバネによ
り保管用穴６ａ方向に回動するので、次段の均熱箱４も
一緒に取り出されてしまうようなことがない。このよう
にして、保管ボックス６から最下位置の均熱箱４のみを
取り出した後に、支持アーム５ｂを１８０°回動させ
て、一方の載置台５ａ上に載置された均熱箱４を通過穴
１ａの直下に位置させると共に、上に均熱箱４が載置さ
れていない他方の載置台５ａを保管穴６ａの直下に位置
させる。この状態で、ピストンを介して、再び両載置台
５ａを通過穴１ａ並びに保管穴６ａ中に夫々挿入する。
この結果、通過穴１ａ中では載置台５ａに載置されてい
た均熱箱４が残され、また、保管穴６ａ内では次段の均
熱箱４の取り出しが行なわれる。後は、前記実施例と同
様の熱処理が行われる。そして、この装填動作を繰り返
すことにより、保管ボックス６内に保管されている均熱
箱４を順次炉体１中に移して、所定のプログラムに従っ
て熱処理をすることができる。

【００２６】尚、図７と図８とに、前記通過穴１ａ内に
設けられたストッパ７と、保管穴６ａ内に設けられたス
トッパ７との前記動作上の相違を示す。図７は通過穴１
ａ内に均熱箱４を追加して挿入する動作を（ａ）から
（ｄ）に従って示し、また図８は、保管穴６ａ内の最下
位置の均熱箱４ｃを取り出す動作を動作を（ａ）から
（ｄ）に従って示す。これら図において、ストッパ７の
所に示す矢印はストッパ７の回転方向を、また投入手段
５の所に示す矢印は投入手段５の移動方向を、夫々示
す。図７（ｃ），（ｄ）に示すように、炉体内から載置
台５ａを引き抜くときには、ストッパ７は時計方向に回
動し、この載置台５ａに載置されていた均熱箱４はスト
ッパ７により支持されて炉体内に残しておくことができ
る。しかし、図８（ｃ）（ｄ）に示すように、保管ボッ
クスから載置台５ａを引き抜くときには、この載置台５
ａ上の均熱箱４はストッパ７により阻止されることはな
く、保管ボックス６から取り出すことができる。このと
きには、次段の均熱箱４はストッパ７に支持された状態
で保管用穴６ａ中に残る。

【００２７】尚、この実施例では、通過穴１ａに設けら
れたストッパ７を内側面の中心に、そして保管穴６ａに
設けられたストッパ７を内側面端部に夫々設けたが、必
ずしもこの位置に特定されるものではない。即ち、前者
が切欠つ溝４ａに対面し、後者がこの溝を逃げるような
位置に設けられていれば良い。例えば、切欠つ溝４ａと
対面する左右内側面に通過穴１ａのストッパ７を設け、
切欠つ溝４ａが設けられていない均熱箱４の外面と対面
する前後内側面に保管穴６ａのストッパ７を設けるよう
にすれば、後者も中心に設けても良い。、次に第３の実
施例に係わる連続結晶化炉を図９並びに図１０を参照し
て説明する。

【００２８】前記実施例ではいずれも、電気ヒータ３と
温度検知手段１３とを炉体１に配設したが、この実施例
では、これらは均熱箱４に配設されている。この相違点
につき特に説明する。図９に示すように、炉体１内には
複数対の（この実施例では７対の）ヒータ端子２１ａ，
２１ｂ、並びに７つの温度検出用端子（熱電対端子）２
２が通過穴１ａの内側面より露出するようにして、通過
穴１ａに沿って配設されている。そして、これら端子
は、制御部１６に電気的に接続されている。また、これ
ら端子は、図１０に示すように、炉体１の通過穴１ａの
内側面に形成された水平穴に挿入されており、この穴内
に摺動可能に挿入され、この穴から脱落しないように設
けられた端子片３０と、この端子片を通過穴１ａ方向に
付勢するセラミックバネ３１とにより構成されている。

【００２９】一方、図１０に示すように、各均熱箱４に
は電気ヒータ２３と、熱電対２４からなる温度検出手段
とが設けられている。この電気ヒータ２３は均熱箱４の
側壁内に補綴物収容室を取り巻くように埋めこまれたコ
イルヒータよりなり、一方の端子２３ａは側壁の外面上
方に露出し、他方の端子２３ｂは側壁の外面下方に露出
している。また、熱電対の端子も均熱箱４の側壁の外面
より露出している。この均熱箱４側の電気ヒータの端子
２３ａ，２３ｂ並びに熱電対２４の端子と、炉体１側の
端子片３０とは、均熱箱４がストッパ７により支持され
たときに、図１０に示すように互いに電気的に接触する
位置に配設されている。

【００３０】この第３の実施例の連続結晶化炉において
は、均熱箱４が移動されているときには、電源（制御部
１６）を一端ＯＦＦしておくのが好ましい。この実施例
においても前記実施例と同様の効果が得られる上に、さ
らに電気ヒータ並びに熱電対が均熱箱４内に設けられて
いることにより、効率の良い加熱と、より正確な温度制
御とが可能になる。

【００３１】尚、上記実施例においては、各ステップが
３０分で合計７つのステップよりなるプログラムに従っ
た熱処理を説明したが、このような時間、ステップ数に
規定されるものではない。例えば、夫々の電気ヒータ
を、互いに関連付けないで、もしくは一部のみを関連つ
けて熱処理をすることも可能である。また、加熱手段の
数も７つに限定されるものではなく、これよりも多くて
も、また少なくても良い。さらに、炉体の通過穴は、必
ずしも垂直に延びている必要はなく、例えば、垂直軸に
所定の角度を有して斜めにのびていても、また、水平に
延びていても良い。後者の場合には、装填手段の移動と
連動するストッパを例えば設けるこことにより、均熱箱
を水平方向に沿って夫々搬送し、所定の位置で支持する
ことが可能となる。また、搬送体としての均熱箱は、実
施例のような構成並びに形状に限られることはなく、例
えば、通過穴１を円形孔にし、均熱箱を円筒状にしても
良い。

【００３２】以上説明したように、本発明の範囲は上記
実施例のみに限定されるものではなく種々の変更が可能
であり、また、以下のような態様をとることも可能であ
る。１．請求項１ないし３のいずれか１に記載の連続結晶化
炉において、搬送路は上下方向に延出しており、この搬
送路に沿って、炉体中に複数の加熱手段が互いに所定間
隔を有して配設されているのが好ましい。

【００３３】このように、搬送炉を垂直に配置すること
により、連続結晶化炉の設置面積を小さくすることがで
きる。２．搬送路が上下方向に延出するようにに設けられてい
る場合には、搬送路は下端から保持部材が装填され、搬
送路の下端近くには、保持部材の上方の移動を許し、下
方への移動を停止するストッパ機構が設けられているこ
とが好ましい。

【００３４】この場合には、搬送路への保持部材の装
填、搬送がより容易となる。３．請求項２に記載のように保管手段が設けられている
場合には、この保管手段にも下端が開口し上下方向に延
び、複数の保持手段を上下方向に並べて保管する保管穴
が設けられ、この保管穴の開口近くにも最下位置にある
保持部材の下方への移動を許し、この上に位置する保持
部材の下方への移動を停止するストッパ機構が設けら
れ、そして装填手段は、下方へ移動して保管穴に保管さ
れている最下位置にある保持部材を保管手段から取り出
し、上方へ移動して取り出した保持部材を炉体に装填す
るように上下方向に移動可能であることが好ましい。

【００３５】この場合には、簡単な構成、動作で保持部
材を保管手段から取り出し、かつ炉体に装填することが
できる。また、この場合に、この装填手段は、１８０°
離れた２つの保持部材用支持部を有し、また炉体と保管
手段とが並設されていることが、保管手段からの保持部
材の取り出しと炉体への装填とが同時に行えるので時間
的ロスがなく好ましい。

【００３６】３．加熱手段を炉体に設けないで、保持手
段に設けても良い。この場合には、補綴物の加熱効率が
より向上する。また、補綴物のより近い位置の温度を制
御できるので、結晶化がより均一化できる効果もある。

【００３７】４．保持部材の位置と、保持部材内もしく
は近くの温度との少なくとも一方をを検出し、この検出
結果に基づいて制御手段による制御を行わせることが好
ましい。

【００３８】

【発明の効果】請求項１に記載の連続結晶化炉は、熱的
及び時間的ロスがなく補綴物を結晶化することができ、
汎用性に優れ、そして小形化、低価格化が可能となる。
請求項２に記載の連続結晶化炉は、保持部材を効率良
く、連続結晶化炉に装填することができる。

【００３９】請求項３に記載の連続結晶化炉は、均熱箱
に収容されている補綴物を均一に加熱することができる
と共に、個々の均熱箱を所定の温度に精度良く加熱する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例に係わる連続結晶化炉の
炉体の水平断面図である。

【図２】第１の実施例に係わる連続結晶化炉の炉体を垂
直に断面して、制御手段と共に示す図である。

【図３】第１の実施例に係わる連続結晶化炉に使用され
ている均熱箱の断面図である。

【図４】第１の実施例に係わる連続結晶化炉の処理時間
に対する熱処理温度の制御プログラムを示す図である。

【図５】本発明の第２の実施例に係わる連続結晶化炉を
説明するための図である。

【図６】第２の実施例の連続結晶化炉に使用されている
ストッパの機能を説明するための斜視図である。

【図７】第２の実施例の連続結晶化炉において、均熱箱
を炉体に装填する動作を示す工程図である。

【図８】第２の実施例の連続結晶化炉において、均熱箱
を保管ボックスから取り出す動作を示す工程図である。

【図９】本発明の第３の実施例に係わる連続結晶化炉を
説明するための図である。

【図１０】第３の実施例の連続結晶化炉に使用されてい
る均熱箱と炉体との関係を示す図である。

【符号の説明】

１…炉体、１ａ…通過穴（搬送路）３…電気ヒータ（加
熱手段）、４…均熱箱（保持部材）、４ａ…側壁、４ｂ
…底壁、５…装填手段、５ａ…載置台、６…保管ボック
ス（保管手段）、７…ストッパ、１５…均熱箱検知セン
サ、１６…制御部。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】歯科用補綴物であるキャスタブルセラミ
ックを結晶化する連続結晶化炉において、炉体に形成さ
れた搬送路に沿って順次搬送され、結晶化される補綴物
を夫々保持した複数の保持部材と、これら保持部材に保
持された補綴物を夫々熱処理する複数の加熱手段と、こ
れら加熱手段を単独もしくは連動して制御する制御手段
と、前記保持部材を順次炉体に装填し搬送する手段とを
具備する連続結晶化炉。
【請求項２】前記補綴物を保持した複数の保持部材を
保管する保管手段と、この保管手段から保持部材を所定
のタイミングで順次取り出す手段とを具備する請求項１
の連続結晶化炉。
【請求項３】前記各保持部材は、中に補綴物を収容す
る均熱箱であり、この均熱箱は、補綴物の周囲の温度を
一定に保つように熱伝導性の優れた材料で形成された側
壁と、断熱材で形成された底壁とを有する請求項１もし
くは２の連続結晶化炉