JPH08129154A - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板洗浄に起因した表示むらを解消して、表
えじ品質の良好な液晶表示素子を提供する。 【構成】 基板１３、１４上の配向処理された配向膜
３、４の表面に対して、洗浄用水に界面活性剤を混入さ
せた洗浄液１５を高速で均一に噴射する。あるいは、図
１（ｂ）に示すように、界面活性剤が混入された洗浄液
１５を貯溜した洗浄槽１６中に、配向膜３、配向膜４が
配向処理された基板１３、１４を、特にその配向膜３、
配向膜４が十分に浸るように浸漬しこれに超音波を当て
るなどして、その基板１３、１４上の不純物を取り除
く。続いてその水洗も面内均一に行なう。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示素子の製造方
法に係わる。

【０００２】

【従来の技術】ワードプロセッサ、パーソナルコンピュ
ータ、投影型ＴＶ、小型ＴＶなどに多用されている液晶
表示素子（以下ＬＣＤと略称）は、一般に液晶分子がツ
イスト配向してなるＴＮ（ツイステッド・ネマティッ
ク）型液晶、及びツイスト角がさらに大きいＳＴＮ（ス
ーパー・ツイステッド・ネマティック）型液晶等が利用
されている。

【０００３】近年、表示画面の拡大、表示容量の増大、
といった要求に応えるために、より高い時分割駆動が可
能であるＬＣＤとして、ツイスト角が 180〜 360°のＳ
ＴＮ型の利用が大半を占めるようになってきている。

【０００４】例えば、特開昭 60-107020号公報において
は、ツイスト角が 180〜 360°で複屈折効果を用いたＳ
ＴＮ型のＬＣＤとして、ＳＢＥ（スーパー・ツイステッ
ド・バイリフリンジェンス・イフェクト）型と呼ばれる
複屈折率制御型のＬＣＤが提案されている。このＳＢＥ
型のＬＣＤは、一対の対向基板の外側に設けられる偏光
板の配置の仕方によって 2つの動作モードがある。

【０００５】1つは、オフ状態（つまり電圧無印加の状
態あるいは液晶分子が十分に応答しない程度の電圧を印
加した状態）で液晶セルを光が通過して白表示（黄色な
どに着色の場合もある）の状態となり、オン状態（つま
りあるしきい値以上の電圧印加により液晶分子が電界方
向に沿うように配列を変えた状態）で液晶セル内を光が
通過しないで黒表示（紺色などに着色の場合もある）の
状態が得られる、ノーマリー・ホワイトモード（ＮＷモ
ード）である。

【０００６】もう 1つは、オフ状態では液晶セルを光が
通過しないで黒表示となり、オン状態で液晶セルを光が
通過して白表示となる、ノーマリー・ブラックモード
（ＮＢモード）である。これらいずれのモードの場合も
電圧に対する透過光の変化が急峻で、多桁（多画素）の
時分割駆動を行なう場合でも、高コントラストで広い視
野角の表示画面が得られるという特色がある。

【０００７】このようなＳＴＮ型のＬＣＤは、急峻な電
気光学特性を有するが故に、しきい値電圧程度の印加電
圧時には、その印加電圧の大きさに対して電気光学特性
が極めて敏感である。このため、ＳＴＮ型ＬＣＤは液晶
セル内の表示領域内で電気光学特性がほぼ均一であるこ
とが要求される。表示領域内で電気光学特性を均一にす
るには、液晶セル内に不純物が混入しないようにする必
要がある。

【０００８】このため、一般にＳＴＮ型ＬＣＤは配向処
理後に不純物を除去するために配向面を洗浄する必要が
ある。

【０００９】その洗浄に用いるものとしては、界面活性
剤や有機溶剤などが考えられる。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、界面活
性剤を用いた場合には、界面活性剤を除去する工程で配
向膜表面に界面活性剤が不均一に残留することがあり、
配向膜表面における界面活性剤が完全に取り除かれた部
分と残留している部分とで電気光学特性に差が生じ、こ
れに起因して表示画面に表示むらが発生するという問題
がある。一方、有機溶剤を用いた場合には、配向膜のプ
レチルト角の低下を招き、所望の特性が得られなくなる
ことがあり、また安全衛生上も好ましくないという問題
がある。

【００１１】本発明は、このような問題を解決するため
に成されたもので、その目的は、洗浄工程が簡易で表示
むらの無い液晶表示素子を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示素子の
製造方法は、第１の基板上に第１の電極を形成し該第１
の電極を含む前記基板上を覆うように第１の配向膜を成
膜し、該基板に対向配置される第２の基板上に第２の電
極を形成し該第２の電極を含んで該第２の基板上を覆う
ように第２の配向膜を成膜する工程と、前記第１および
第２の配向膜の表面に配向処理を施す工程と、該第１お
よび第２の配向膜の表面を洗浄する工程と、前記第１の
基板と前記第２の基板とを、間隙を保持しながら対向配
置し周囲を封止して、前記間隙に液晶層を注入・挟持さ
せる工程と、を有する液晶表示素子の製造方法におい
て、前記第１の配向膜および前記第２の配向膜の表面に
配向処理を施した後、前記第１および第２の配向膜の表
面を、界面活性剤を混入してなる洗浄液を用いて該界面
活性剤を前記第１および第２の配向膜の表面全面に行き
渡らせて洗浄する工程と、前記第１および第２の配向膜
の表面全面に前記界面活性剤の少なくとも単分子層が残
留するように該第１および第２の配向膜を水洗する工程
と、を含むことを特徴としている。

【００１３】また、第１の基板上に第１の電極を形成し
該第１の電極を含む前記基板上を覆うように第１の配向
膜を成膜し、該基板に対向配置される第２の基板上に第
２の電極を形成し該第２の電極を含んで該第２の基板上
を覆うように第２の配向膜を成膜する工程と、前記第１
および第２の配向膜の表面に配向処理を施す工程と、前
記第１の配向膜および前記第２の配向膜の表面に配向処
理を施した後、該第１および第２の配向膜の表面を洗浄
する工程と、前記第１の基板と前記第２の基板とを、間
隙を保持しながら対向配置し周囲を封止して、前記間隙
に液晶層を注入・挟持させる工程と、を有する液晶表示
素子の製造方法において、前記第１の配向膜および前記
第２の配向膜の表面に配向処理を施した後、界面活性剤
を混入してなる洗浄液を前記第１および第２の配向膜の
表面全面に対して均一な流量および圧力で噴射して、該
界面活性剤をが前記第１および第２の配向膜の表面全面
に行き渡らせて洗浄する工程と、前記第１および第２の
配向膜の表面全面に前記界面活性剤の少なくとも単分子
層が残留する流量および水洗時間で、純水を前記第１お
よび第２の配向膜の表面全面に対して噴射して該第１お
よび第２の配向膜の表面を水洗する工程と、を含むこと
を特徴としている。

【００１４】また、第１の基板上に第１の電極を形成し
該第１の電極を含む前記基板上を覆うように第１の配向
膜を成膜し、該基板に対向配置される第２の基板上に第
２の電極を形成し該第２の電極を含んで該第２の基板上
を覆うように第２の配向膜を成膜する工程と、前記第１
および第２の配向膜の表面に配向処理を施す工程と、前
記第１の配向膜および前記第２の配向膜の表面に配向処
理を施した後、該第１および第２の配向膜の表面を洗浄
する工程と、前記第１の基板と前記第２の基板とを、間
隙を保持しながら対向配置し周囲を封止して、前記間隙
に液晶層を注入・挟持させる工程と、を有する液晶表示
素子の製造方法において、前記第１の配向膜および前記
第２の配向膜の表面に配向処理を施した後、界面活性剤
を混入してなる洗浄液に前記第１および第２の配向膜を
浸漬して、該第１および第２の配向膜表面全面に該界面
活性剤を行き渡らせて洗浄する工程と、前記第１および
第２の配向膜の表面全面に前記界面活性剤の少なくとも
単分子層が残留する流量および水洗時間にわたって前記
第１および第２の配向膜の表面全面を純水に浸漬して、
該第１および第２の配向膜の表面を水洗する工程と、を
含むことを特徴としている。

【００１５】

【作用】本発明の製造方法における配向膜の洗浄および
水洗（リンス）方法においては、洗浄時に用いる界面活
性剤をむしろ積極的に配向膜表面に均一に残留させるこ
とで、洗浄〜水洗処理後の配向膜の配向状態の面内均一
化を実現することができ、これにより、基板洗浄に起因
した表示むらを解消して、表示品質の良好な液晶表示素
子を提供することができる。

【００１６】

【実施例】以下、本発明に係る液晶表示素子の製造方法
を、図面に基づいて詳細に説明する。

【００１７】（実施例１）図１は本発明の液晶表示素子
の製造工程の中で、特にその特徴的な工程である洗浄工
程について示す図、図２はその製造方法によって完成し
た液晶表示素子の構造を示す断面図である。

【００１８】本実施例の製造方法によって形成された液
晶表示素子の構造は、図２に示すように、走査電極１
と、信号電極２と、そのそれぞれの上を各々被覆するよ
うに形成された配向膜３、４と、その走査電極１、信号
電極２が各々主面上に形成されたガラス基板５、６と、
配向膜３、４どうしの間隙に注入され挟持されたＳＴＮ
型液晶からなる液晶層７と、その液晶層７の周囲を封止
する封止材８と、液晶層７を通過した光の色付きを防ぐ
光学遅延板９と、ガラス基板５、６の外向側主面に対面
するように配置された偏光板１０、１１と、対向する 2
枚の基板どうしの間隙つまり配向膜３、４どうしの間隙
を一定に保持するスぺーサ１２と、からその主要部が形
成されている。

【００１９】次に、この液晶表示素子の製造プロセスを
説明する。シ−ト抵抗 7Ω／□の透明導電膜をパターニ
ングして走査電極１および信号電極２をそれぞれのガラ
ス基板５、６上に形成する。

【００２０】次に、配向膜３、４としてサンエバー4140
（日産化学社製）を形成し、ラビングを行なった後、洗
浄工程として、図１（ｂ）に示すように、ガラス基板
５、６に対して非イオン性の界面活性剤としてポリオキ
シエチレンノニルペニルエーテルの 1.5％溶液を用いて
20分間の超音波洗浄を施した。なお、この洗浄工程は図
１（ａ）に示すような噴流方式で行なっても良い。

【００２１】その後、純水槽内で、超音波洗浄は行なわ
ず純水を用いたいわゆる水洗いのみにてリンシング（ri
nsing ；水洗）した。このときの水洗は、 30000ｃｍ³
／ｍｉｎの水量のジェット水流で30分間行なった。

【００２２】このように処理した基板表面をμ−ＦＴ−
ＩＲ法で観察したところ、界面活性剤が配向膜表面全面
にほぼ均一に吸着していることが確認された。

【００２３】次に、スペーサ１２を走査電極１が形成さ
れた走査電極基板１３と信号電極２が形成された信号電
極基板１４とのうち一方の基板上に散布し、エポキシ接
着剤からなるシール材８を介して両基板を接着して、空
セル状態の液晶表示素子を形成した。

【００２４】続いて、その空セルに液晶組成物を注入し
液晶層７とした。

【００２５】そして、液晶層７が形成された液晶パネル
に、光学遅延板９、偏光板１０、１１を重ね合わせて配
置し、液晶表示素子を完成した。この液晶表示素子の画
素数は、 640× 480とした。

【００２６】このようにして作製された液晶表示素子に
封入された液晶組成物７の分子は、図３に示すように、
基板５側の配向膜３をラビングした配向方向ｒ、基板６
側の配向膜４をラビングした配向方向ｒ´によって配向
制御されて、左回りにツイスト角Ψ＝ 240°で捩れ配向
している。

【００２７】この液晶組成物７としては、ＺＬＩ−2293
（Ｅ．メルク社製）の主剤に、左回りのカイラル剤とし
てＳ−811 （Ｅ．メルク社製）を0.75重量％添加してな
る液晶組成物を用いた。

【００２８】なお、配向方向ｒ、ｒ´は、基板５、６の
一辺と平行な基準方向Ｃからそれぞれ−30°、＋30°の
方向とした。また、セル厚ｄは 6.5μｍである。

【００２９】光学遅延板９としてはポリカーボネイトか
らなるリタデーション値 0.385μｍの有機フィルムを用
いて、その光学軸が液晶セル７の基準方向Ｃに対してＡ
＝60°となるように配置・貼付した。

【００３０】また、液晶セル７および光学遅延板９の外
側に、第１、第２の偏光板１０、１１としてＬＬＣ 2−
81−18（三立電機社製）をそれぞれＰ1 ＝70°、Ｐ2 ＝
−20°の偏光角で設置・貼付して、表示モードがノーマ
リー・ブラック・モードの液晶表示素子とした。

【００３１】このようにして本発明に係る製造方法によ
り作製された本実施例の液晶表示素子を、 1/240デュー
ティーでマルチプレクス駆動して画像を表示させたとこ
ろ、表示画面内に表示むらが無く、視認性に優れた表示
が得られた。

【００３２】このように、本発明に係る製造方法によれ
ば、図１（ａ）に示すように、基板１３、１４上の配向
処理された配向膜３、４の表面に対して、洗浄用水に界
面活性剤を混入させた洗浄液１５を高速で噴射する。あ
るいは、図１（ｂ）に示すように、界面活性剤が混入さ
れた洗浄液１５を貯溜した洗浄槽１６中に、配向膜３、
配向膜４が配向処理された基板１３、１４を、特にその
配向膜３、配向膜４が十分に浸るように浸漬しこれに超
音波を当てるなどして、その基板１３、１４上の不純物
を取り除く。このとき、基板１３、１４表面の配向膜
３、４に対する界面活性剤の単位時間当たりの反応量つ
まり洗浄液１５の単位時間当たりの流量が基板１３、１
４の全面で均一となり、その結果基板全面で界面活性剤
の残量がほぼ均一となるように、その洗浄液１５の濃度
および流量を制御する。

【００３３】ここで、上記の界面活性剤の流量の均一化
としては、本発明においては、界面活性剤がその単分子
層以上の厚さに残留している層が基板全面にわたってほ
ぼ稠密に形成される程度に流量を均一化することが望ま
しい。

【００３４】さらに詳しくは、前記の稠密さの程度とし
ては、その界面活性剤が単分子層以上の厚さに残留して
いない部分が存在するとしても、その大きさは最大でも
1画素の画素サイズの50％以下程度の不均一さに抑えら
れていることが望ましい。

【００３５】洗浄液１５に用いる界面活性剤の種類とし
ては、陰イオン性、非イオン性及び陽イオン性の界面活
性剤を用いることができるが、配向膜３、４の種類に適
宜対応してこれら界面活性剤の種類のうち最適なものを
選択して使い分けることが望ましい。

【００３６】例えば、配向膜３、４として有機高分子膜
を用いた場合には、陰イオン性及び非イオン性の界面活
性剤を用いることで、その配向膜３、４上全面への界面
活性剤の均一な吸着を起こりやすくすることができる。

【００３７】次に、上記のように界面活性剤を混入して
なる洗浄液１５を用いて配向膜３、４上の不純物の洗浄
処理を行なった後、今度はこの活性化されて表面から剥
がれた不純物を含む洗浄液を、配向膜３、４およびその
表面に残存させるべき界面活性剤の層を残しつつ洗い流
すリンシング（水洗）を行なわねばならない。そこで、
純水で配向膜３、４表面の界面活性剤を洗い流す。

【００３８】このとき、界面活性剤が配向膜３、４の表
面全面に上述の如く均一に残留するように、使用する純
水の流量の最適化や、そのときに超音波洗浄を併せ用い
る場合にはその当射条件等を最適化する。具体的には、
例えば本実施例では図４に示すように純水の流量と界面
活性剤の残留量との関係をＦＴ−ＩＲ等を用いて調べ
て、その最適値をあらかじめ求めておき、これに基づい
てリンシング（水洗）時の純水の流量および処理時間等
を制御する。

【００３９】また、図１（ｂ）に示すような静水状態で
の水洗の場合には、槽内に貯溜された純水に溶け込んだ
界面活性剤の位置的な濃度のばらつきが発生することが
考えられるので、その場合には、例えば槽内の純水を所
定の強さで攪拌してやればよい。

【００４０】このような洗浄工程により、配向膜３、４
の表面全面に均一に界面活性剤を残留させることがで
き、これにより配向膜３、４と液晶層７との界面の状態
が表示領域全面で均一になるため、液晶セル内の電気光
学特性が表示領域（表示画面）全面で等しくなり、表示
むらの無い表示品質の良好な液晶表示素子を実現するこ
とができる。

【００４１】また、このように界面活性剤が残留するこ
とにより、製造時に静電気などで液晶セルに異常高電圧
が印加された場合や、駆動系の誤動作などで異常直流電
圧が印加された場合でも、界面でのイオン分極によって
液晶セル内の異常電荷が速やかにリークするため、液晶
セル内部の走査電極１や信号電極２や配向膜３、４自体
には静電気の移動に起因した材質への悪影響を防いで、
異常電圧が印加された部分のしきい値電圧の変動等はほ
とんど起こらないという利点がある。

【００４２】（実施例２）第１の実施例において、非イ
オン性界面活性剤であるポリオキシエチレンノニルペニ
ルエーテルの代りに、陰イオン界面活性剤としてβ−ナ
フタレンスルホン酸ホルマリン縮合物のナトリウム塩の
0.3％溶液を用いて洗浄を行ない、その他は上記第１の
実施例とほぼ同様にして液晶表示素子を作製した。

【００４３】この液晶表示素子を 1/240デューティーで
マルチプレクス駆動したところ、第１の実施例と同様
に、表示画面内に表示むらの無い、視認性に優れた画像
表示が得られた。

【００４４】（実施例３）第１の実施例において、非イ
オン性界面活性剤であるポリオキシエチレンノニルペニ
ルエーテル）の代りに、同様の非イオン性界面活性剤な
がらその組成の異なるポリオキシエチレンオクチルフェ
ニルエーテルの 0.2％溶液を用いて、第１、第２の実施
例と同様の要領で洗浄を行ない、液晶表示素子を作製し
た。

【００４５】この液晶表示素子を 1/240デューティーで
マルチプレクス駆動したところ、実施例１と同様に、配
向膜全面に界面活性剤が吸着し、表示画面内に表示むら
の無い視認性に優れた表示が得られた。

【００４６】（比較例１）第１の実施例において、配向
処理後に本発明に係る界面活性剤を基板全面に残留させ
る基板洗浄および水洗は行なわずに、従来の一般的な基
板洗浄を行ない、その他は上記実施例とほぼ同様にして
液晶表示素子を作製した。この液晶表示素子を 1/240デ
ューティーでマルチプレクス駆動したところ、不純物に
よる表示むらが 3か所発生し、良好な表示は得られなか
った。

【００４７】（比較例２）水洗の際の純水槽に超音波の
出力を第１の実施例におけるそれの 2倍にして噴射しな
がら30分間洗浄を行ない、その他は第１の実施例とほぼ
同様にして液晶表示素子を作製した。

【００４８】このとき、基板表面には界面活性剤が不均
一に分布していることがμ−ＦＴＩＲによる観察で確認
された。

【００４９】この液晶表示素子を 1/240デューティーで
マルチプレクス駆動したところ、靄のような表示むらが
発生し、良好な表示は得られなかった。

【００５０】（比較例３）第１の実施例において用いた
非イオン性界面活性剤（ポリオキシエチレンノニルペニ
ルエーテル）の濃度を 0.5％に下げ、その他は第１の実
施例と同様にして液晶表示素子を作製した。このとき、
基板表面には界面活性剤が不均一に分布していることが
μ−ＦＴＩＲによる観察で確認された。

【００５１】この液晶表示素子を 1/240デューティーで
マルチプレクス駆動したところ、表示むらが発生し、良
好な表示は得られなかった。

【００５２】（比較例４）第１の実施例において、非イ
オン性界面活性剤（ポリオキシエチレンノニルペニルエ
ーテル）の代りに、陽イオン界面活性剤としてラウリル
トリメチルアンモニウムクロライドの 0.3％溶液を用い
て、その他は第１の実施例と同様の洗浄及び製造方法を
行なって、液晶表示素子を作製した。このとき、基板表
面には界面活性剤が不均一に分布していることがμ−Ｆ
ＴＩＲによる観察で確認された。

【００５３】この液晶表示素子を 1/240デューティでマ
ルチプレクス駆動したところ、表示むらが発生し、良好
な表示は得られなかった。

【００５４】

【発明の効果】以上、詳細な説明で明示したように、本
発明によれば、基板洗浄に起因する表示むらのない液晶
表示素子を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の液晶表示素子の製造方法における洗浄
工程を示す図である。

【図２】本発明の製造方法により作製された液晶表示素
子の構造を示す断面図である。

【図３】本発明の実施例の製造方法により作製された液
晶表示素子の液晶セルと偏光板と光学遅延板との構成の
概要を示す図である。

【図４】第１の実施例において純水の流量と界面活性剤
の残留量との関係をＦＴ−ＩＲ等を用いて調べた結果を
示す図である。

【符号の説明】

１………走査電極、 ２………信号電極 ３、４…配向膜 ５、６…ガラス基板 ７………液晶層 ８………封止材 ９………光学遅延板 １０、１１…偏光板 １２………スぺーサ １３………走査電極基板 １４………信号電極基板 １５………洗浄液 １６………洗浄槽

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 第１の基板上に第１の電極を形成し該第
   １の電極を含む前記基板上を覆うように第１の配向膜を
   成膜し、該基板に対向配置される第２の基板上に第２の
   電極を形成し該第２の電極を含んで該第２の基板上を覆
   うように第２の配向膜を成膜する工程と、前記第１およ
   び第２の配向膜の表面に配向処理を施す工程と、該第１
   および第２の配向膜の表面を洗浄する工程と、前記第１
   の基板と前記第２の基板とを、間隙を保持しながら対向
   配置し周囲を封止して、前記間隙に液晶層を注入・挟持
   させる工程と、を有する液晶表示素子の製造方法におい
   て、 前記第１の配向膜および前記第２の配向膜の表面に配向
   処理を施した後、前記第１および第２の配向膜の表面
   を、界面活性剤を混入してなる洗浄液を用いて該界面活
   性剤を前記第１および第２の配向膜の表面全面に行き渡
   らせて洗浄する工程と、 前記第１および第２の配向膜の表面全面に前記界面活性
   剤の少なくとも単分子層が残留するように該第１および
   第２の配向膜を水洗する工程と、を含むことを特徴とす
   る液晶表示素子の製造方法。
2. 【請求項２】 第１の基板上に第１の電極を形成し該第
   １の電極を含む前記基板上を覆うように第１の配向膜を
   成膜し、該基板に対向配置される第２の基板上に第２の
   電極を形成し該第２の電極を含んで該第２の基板上を覆
   うように第２の配向膜を成膜する工程と、前記第１およ
   び第２の配向膜の表面に配向処理を施す工程と、前記第
   １の配向膜および前記第２の配向膜の表面に配向処理を
   施した後、該第１および第２の配向膜の表面を洗浄する
   工程と、前記第１の基板と前記第２の基板とを、間隙を
   保持しながら対向配置し周囲を封止して、前記間隙に液
   晶層を注入・挟持させる工程と、を有する液晶表示素子
   の製造方法において、 前記第１の配向膜および前記第２の配向膜の表面に配向
   処理を施した後、界面活性剤を混入してなる洗浄液を前
   記第１および第２の配向膜の表面全面に対して均一な流
   量および圧力で噴射して、該界面活性剤をが前記第１お
   よび第２の配向膜の表面全面に行き渡らせて洗浄する工
   程と、 前記第１および第２の配向膜の表面全面に前記界面活性
   剤の少なくとも単分子層が残留する流量および水洗時間
   で、純水を前記第１および第２の配向膜の表面全面に対
   して噴射して該第１および第２の配向膜の表面を水洗す
   る工程と、を含むことを特徴とする液晶表示素子の製造
   方法。
3. 【請求項３】 第１の基板上に第１の電極を形成し該第
   １の電極を含む前記基板上を覆うように第１の配向膜を
   成膜し、該基板に対向配置される第２の基板上に第２の
   電極を形成し該第２の電極を含んで該第２の基板上を覆
   うように第２の配向膜を成膜する工程と、前記第１およ
   び第２の配向膜の表面に配向処理を施す工程と、前記第
   １の配向膜および前記第２の配向膜の表面に配向処理を
   施した後、該第１および第２の配向膜の表面を洗浄する
   工程と、前記第１の基板と前記第２の基板とを、間隙を
   保持しながら対向配置し周囲を封止して、前記間隙に液
   晶層を注入・挟持させる工程と、を有する液晶表示素子
   の製造方法において、 前記第１の配向膜および前記第２の配向膜の表面に配向
   処理を施した後、界面活性剤を混入してなる洗浄液に前
   記第１および第２の配向膜を浸漬して、該第１および第
   ２の配向膜表面全面に該界面活性剤を行き渡らせて洗浄
   する工程と、 前記第１および第２の配向膜の表面全面に前記界面活性
   剤の少なくとも単分子層が残留する流量および水洗時間
   にわたって前記第１および第２の配向膜の表面全面を純
   水に浸漬して、該第１および第２の配向膜の表面を水洗
   する工程と、を含むことを特徴とする液晶表示素子の製
   造方法。