JP3246493B2 - 液晶パネルの基板洗浄方法 - Google Patents
液晶パネルの基板洗浄方法Info
- Publication number
- JP3246493B2 JP3246493B2 JP29968499A JP29968499A JP3246493B2 JP 3246493 B2 JP3246493 B2 JP 3246493B2 JP 29968499 A JP29968499 A JP 29968499A JP 29968499 A JP29968499 A JP 29968499A JP 3246493 B2 JP3246493 B2 JP 3246493B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- liquid crystal
- substrate
- cleaning
- rubbing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶パネルの基板
洗浄法に関わり、特にラビングされた配向膜を有する基
板の基板洗浄槽に関する。
洗浄法に関わり、特にラビングされた配向膜を有する基
板の基板洗浄槽に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、液晶の電気光学特性を利用した液
晶表示パネルは、大画面化，大容量化によりＯＡ機器へ
の応用が盛んに進められている。現在、一般に実用化さ
れている液晶表示パネルの動作モードとして、２枚のガ
ラス基板間で液晶分子が90゜捻じれた配向状態を呈する
ツイステッドネマティック(ＴＮ)型，180゜から270゜捻
じれた配向状態を呈するスーパーツイステッドネマティ
ック(ＳＴＮ)型がある。上記ＴＮ型は主としてアクティ
ブマトリックス型液晶表示パネルに、また、上記ＳＴＮ
型は単純マトリックス型液晶パネルにそれぞれ用いられ
ている。
晶表示パネルは、大画面化，大容量化によりＯＡ機器へ
の応用が盛んに進められている。現在、一般に実用化さ
れている液晶表示パネルの動作モードとして、２枚のガ
ラス基板間で液晶分子が90゜捻じれた配向状態を呈する
ツイステッドネマティック(ＴＮ)型，180゜から270゜捻
じれた配向状態を呈するスーパーツイステッドネマティ
ック(ＳＴＮ)型がある。上記ＴＮ型は主としてアクティ
ブマトリックス型液晶表示パネルに、また、上記ＳＴＮ
型は単純マトリックス型液晶パネルにそれぞれ用いられ
ている。
【０００３】アクティブマトリックス型液晶表示パネル
あるいは小型サイズの液晶表示パネルに用いられるＴＮ
型の場合、ガラス基板界面において、液晶分子はガラス
基板に対してあるプレチルト角θpを持って一方向に、
かつ均一に配向し、上下のガラス基板間で90゜捻じれた
状態を呈している。90゜捻じれた配向状態は、一般にガ
ラス基板上に形成されたポリイミド薄膜からなる配向膜
をレーヨン布等を用いて一方向にラビング処理し、上下
基板間でその方向が直交するよう配置することにより得
られる。
あるいは小型サイズの液晶表示パネルに用いられるＴＮ
型の場合、ガラス基板界面において、液晶分子はガラス
基板に対してあるプレチルト角θpを持って一方向に、
かつ均一に配向し、上下のガラス基板間で90゜捻じれた
状態を呈している。90゜捻じれた配向状態は、一般にガ
ラス基板上に形成されたポリイミド薄膜からなる配向膜
をレーヨン布等を用いて一方向にラビング処理し、上下
基板間でその方向が直交するよう配置することにより得
られる。
【０００４】図２は液晶表示パネルの基本構成を示す断
面図である。図２において、１は上側ガラス基板、２は
セグメント電極、３は下側ガラス基板、４はコモン電
極、５，６は配向膜、７はカイラルネマチック液晶層、
８はスペーサ、９はシール材、10は偏光板である。
面図である。図２において、１は上側ガラス基板、２は
セグメント電極、３は下側ガラス基板、４はコモン電
極、５，６は配向膜、７はカイラルネマチック液晶層、
８はスペーサ、９はシール材、10は偏光板である。
【０００５】上記構成の液晶表示パネルにおいて、上側
ガラス基板１と下側ガラス基板３間で、液晶分子が90°
捻じれている場合をツイステッドネマチック(ＴＮ)液晶
表示パネル、240°前後捻じれている場合をスーパーツ
イステッドネマチック(ＳＴＮ)液晶表示パネルと称す
る。何れの液晶表示パネルについても、基板に対して液
晶分子は数度の傾き(プレチルト角θp)を持って起き上
がった状態を保ちつつ、上下基板面内で一定方向に配向
している。
ガラス基板１と下側ガラス基板３間で、液晶分子が90°
捻じれている場合をツイステッドネマチック(ＴＮ)液晶
表示パネル、240°前後捻じれている場合をスーパーツ
イステッドネマチック(ＳＴＮ)液晶表示パネルと称す
る。何れの液晶表示パネルについても、基板に対して液
晶分子は数度の傾き(プレチルト角θp)を持って起き上
がった状態を保ちつつ、上下基板面内で一定方向に配向
している。
【０００６】図３は上記液晶分子の配向状態を示す概念
図であって、図３に示すように、基板11の界面での液晶
分子13のプレチルト角θpを決定するのは、電極を含む
基板11と液晶分子13との界面に形成される配向膜12であ
る。通常用いられている配向方法は、上述したように、
まずポリイミド材料などからなる配向膜12を基板11上に
形成し、その表面を一定方向にラビングするというもの
であるが、配向膜12のラビングされ方によりプレチルト
角θpは異なってくる。
図であって、図３に示すように、基板11の界面での液晶
分子13のプレチルト角θpを決定するのは、電極を含む
基板11と液晶分子13との界面に形成される配向膜12であ
る。通常用いられている配向方法は、上述したように、
まずポリイミド材料などからなる配向膜12を基板11上に
形成し、その表面を一定方向にラビングするというもの
であるが、配向膜12のラビングされ方によりプレチルト
角θpは異なってくる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、図３
に示す液晶分子13の配向を基板11の全面に亙って均一に
制御するためには、全面に亙って均一なラビングを施す
必要がある。均一なラビング状態を得ようとすると、一
般に配向が過度になりやすい。その結果、配向膜12の削
れ屑などの異物14が多数発生して配向膜12上に付着した
り、ラビングに用いるレーヨン布が抜け落ちて、これも
表面に付着したり、またレーヨン布の処理剤が配向膜面
に転移したりする。
に示す液晶分子13の配向を基板11の全面に亙って均一に
制御するためには、全面に亙って均一なラビングを施す
必要がある。均一なラビング状態を得ようとすると、一
般に配向が過度になりやすい。その結果、配向膜12の削
れ屑などの異物14が多数発生して配向膜12上に付着した
り、ラビングに用いるレーヨン布が抜け落ちて、これも
表面に付着したり、またレーヨン布の処理剤が配向膜面
に転移したりする。
【０００８】これらの付着物が存在すると、異物14近傍
の液晶分子13が配向乱れ15を起こし、液晶パネル状態で
の表示欠陥を現出してしまう。付着物を除くためには、
ラビング後の配向膜12の表面を洗浄してやることが必要
になる。洗浄方法として、従来は、イソプロピルアルコ
ールを用いたり、洗剤入りの水を用いたりしてきたが、
イソプロピルアルコールは可燃性危険物であり、取り扱
いに特別の設備が必要になる。また、洗剤を混合した水
では洗浄後に洗剤が残留しやすく、これを防ぐためには
洗浄後の純水洗浄を念入りにせねばならず、工数が増え
る上に、洗浄した廃液を処理する特別な設備が必要であ
った。
の液晶分子13が配向乱れ15を起こし、液晶パネル状態で
の表示欠陥を現出してしまう。付着物を除くためには、
ラビング後の配向膜12の表面を洗浄してやることが必要
になる。洗浄方法として、従来は、イソプロピルアルコ
ールを用いたり、洗剤入りの水を用いたりしてきたが、
イソプロピルアルコールは可燃性危険物であり、取り扱
いに特別の設備が必要になる。また、洗剤を混合した水
では洗浄後に洗剤が残留しやすく、これを防ぐためには
洗浄後の純水洗浄を念入りにせねばならず、工数が増え
る上に、洗浄した廃液を処理する特別な設備が必要であ
った。
【０００９】本発明は、このような点に鑑み、特別な設
備や工数を増加させることなく、ラビングされた配向膜
を有する基板を洗浄し、ラビングの際に付着する異物を
除去し、表示の均一な液晶パネルが得られる基板洗浄槽
を提供することを目的とする。
備や工数を増加させることなく、ラビングされた配向膜
を有する基板を洗浄し、ラビングの際に付着する異物を
除去し、表示の均一な液晶パネルが得られる基板洗浄槽
を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の液晶パネルの基板洗浄方法は、水を電気分
解してｐＨ値が６．６から６の表面張力の低い酸性イオ
ン水を作製し、前記酸性イオン水を用いて液晶パネルの
基板のラビングにより配向処理されたポリイミド配向膜
を洗浄することを特徴とする。
め、本発明の液晶パネルの基板洗浄方法は、水を電気分
解してｐＨ値が６．６から６の表面張力の低い酸性イオ
ン水を作製し、前記酸性イオン水を用いて液晶パネルの
基板のラビングにより配向処理されたポリイミド配向膜
を洗浄することを特徴とする。
【００１１】本発明の基板洗浄法は、基板の洗浄に中性
の純水ではなく、水を電気分解して作製したイオン水を
用いる。特に、ラビング前後の配向膜を洗浄するために
は、配向膜の膜質に変化を与えることがなく、しかも表
面張力が低い酸性イオンを用いるのが好ましい。洗浄に
際して、洗浄力を高めるため、昇温したり、超音波を併
用することも効果的である。
の純水ではなく、水を電気分解して作製したイオン水を
用いる。特に、ラビング前後の配向膜を洗浄するために
は、配向膜の膜質に変化を与えることがなく、しかも表
面張力が低い酸性イオンを用いるのが好ましい。洗浄に
際して、洗浄力を高めるため、昇温したり、超音波を併
用することも効果的である。
【００１２】つまりラビングされた配向膜表面に変化を
与えることなく、低い表面張力を生かして表面に付着し
た異物を除去できることに加えて、レーヨン布から移転
しやすい処理剤の除去にも効果的である。したがって、
イオン水で洗浄した基板を用いて作製した液晶パネル
は、表示欠陥がなく優れた歩留まりと表示の均一性が可
能となる。
与えることなく、低い表面張力を生かして表面に付着し
た異物を除去できることに加えて、レーヨン布から移転
しやすい処理剤の除去にも効果的である。したがって、
イオン水で洗浄した基板を用いて作製した液晶パネル
は、表示欠陥がなく優れた歩留まりと表示の均一性が可
能となる。
【００１３】
【実施の形態】本発明の実施の形態を説明するに先立
ち、上記図２に示す液晶表示パネルの基本構成の断面図
を用いて比較例を説明する。
ち、上記図２に示す液晶表示パネルの基本構成の断面図
を用いて比較例を説明する。
【００１４】(比較例) シート抵抗値が30Ω／□である酸化インジュウム・錫
(ＩＴＯ)を有する上側ガラス基板１をフォトリソグラフ
ィ法によりパターン化し、500μmピッチで400μm幅のス
トライプ状のセグメント電極２を得る。同様の手法を用
いて、下側ガラス基板３上にストライプ状の同一形状の
コモン電極４を形成する。セグメント電極２とコモン電
極４はそれぞれ直交するように配置される。
(ＩＴＯ)を有する上側ガラス基板１をフォトリソグラフ
ィ法によりパターン化し、500μmピッチで400μm幅のス
トライプ状のセグメント電極２を得る。同様の手法を用
いて、下側ガラス基板３上にストライプ状の同一形状の
コモン電極４を形成する。セグメント電極２とコモン電
極４はそれぞれ直交するように配置される。
【００１５】このようなセグメント電極２およびコモン
電極４上に、回転塗布法により、厚さ50nmの配向膜５，
６を形成し、240℃で２時間硬化させた。配向膜材料と
してはポリイミドSE−4110(日産化学製)を用いた。この
ように配向膜５，６を形成した上側，下側ガラス基板
１，３面を、レーヨン布を用いて上側，下側ガラス基板
１，３間での液晶の捻じれが240°になる方向にラビン
グ処理した。ラビング後の配向膜５，６の表面には、配
向膜の削れ屑が電極２，４の端部近傍に多数付着してい
ることを確認した。また、このようにラビングした上
側，下側ガラス基板１，３を貼り合わせて、図２に示す
ような液晶パネルを作製した。ここでシール材９として
熱硬化型エポキシ樹脂，直径７μmのスペーサ８(積水フ
ァイン製商品名ミクロパール)を用い、真空注入法によ
り旋光性物質を添加したネマチック液晶材料(メルク社
製 ZLI-1840)を注入充填し、カイラルネマチック液晶層
７を作成した。作製した液晶パネルを挟むように上下に
偏光板10を配し、１／300デューティーのマルチプレッ
クス駆動で表示させたところ、上記削れ屑が多数付着し
ている部分で輝度ムラが見られたばかりでなく、全体的
に輝度ムラが大きかった。
電極４上に、回転塗布法により、厚さ50nmの配向膜５，
６を形成し、240℃で２時間硬化させた。配向膜材料と
してはポリイミドSE−4110(日産化学製)を用いた。この
ように配向膜５，６を形成した上側，下側ガラス基板
１，３面を、レーヨン布を用いて上側，下側ガラス基板
１，３間での液晶の捻じれが240°になる方向にラビン
グ処理した。ラビング後の配向膜５，６の表面には、配
向膜の削れ屑が電極２，４の端部近傍に多数付着してい
ることを確認した。また、このようにラビングした上
側，下側ガラス基板１，３を貼り合わせて、図２に示す
ような液晶パネルを作製した。ここでシール材９として
熱硬化型エポキシ樹脂，直径７μmのスペーサ８(積水フ
ァイン製商品名ミクロパール)を用い、真空注入法によ
り旋光性物質を添加したネマチック液晶材料(メルク社
製 ZLI-1840)を注入充填し、カイラルネマチック液晶層
７を作成した。作製した液晶パネルを挟むように上下に
偏光板10を配し、１／300デューティーのマルチプレッ
クス駆動で表示させたところ、上記削れ屑が多数付着し
ている部分で輝度ムラが見られたばかりでなく、全体的
に輝度ムラが大きかった。
【００１６】(実施の形態) 比較例と同等の上側，下側ガラス基板１，３を酸性イオ
ン水で洗浄した。用いたイオン水は図１に示す電気分解
水槽で作製した。すなわち、水槽を仕切るように多孔質
膜16を有し、仕切られたＡ槽17とＢ槽18のそれぞれに陰
極19と陽極20とを配する。この状態で陰極19と陽極20間
に電場を印加すると、陰極19を有するＡ槽17では陰極近
傍に集まった水素イオンが水素気体(Ｈ2)となって槽外
に放出し、その結果、Ａ槽17にはアルカリイオン水21が
できる。一方、陽極20を含むＢ槽18では陽極近傍から酸
素気体(Ｏ2)が発生放出し、Ｂ槽18に酸性イオン水22が
できる。
ン水で洗浄した。用いたイオン水は図１に示す電気分解
水槽で作製した。すなわち、水槽を仕切るように多孔質
膜16を有し、仕切られたＡ槽17とＢ槽18のそれぞれに陰
極19と陽極20とを配する。この状態で陰極19と陽極20間
に電場を印加すると、陰極19を有するＡ槽17では陰極近
傍に集まった水素イオンが水素気体(Ｈ2)となって槽外
に放出し、その結果、Ａ槽17にはアルカリイオン水21が
できる。一方、陽極20を含むＢ槽18では陽極近傍から酸
素気体(Ｏ2)が発生放出し、Ｂ槽18に酸性イオン水22が
できる。
【００１７】水のpH値は電気分解の時間により調整でき
る。本実施の形態では、pH値６の酸性イオン水22を用い
た。酸性イオン水22を満たした基板洗浄槽を60℃に加温
したのち、上記比較例と同等のラビング後の基板を浸漬
し、15分間静かに放置した。取り出した基板を乾燥し、
表面を観察したところ、洗浄前に多く付着していた削れ
屑は全く存在しなかった。また、洗浄後の基板を用いて
比較例と同じ方法で液晶パネルを作製し、上下に偏光板
10を配し、１／300デューティーのマルチプレックス駆
動で表示させたところ、殆ど輝度ムラもなく均一な表示
が得られた。
る。本実施の形態では、pH値６の酸性イオン水22を用い
た。酸性イオン水22を満たした基板洗浄槽を60℃に加温
したのち、上記比較例と同等のラビング後の基板を浸漬
し、15分間静かに放置した。取り出した基板を乾燥し、
表面を観察したところ、洗浄前に多く付着していた削れ
屑は全く存在しなかった。また、洗浄後の基板を用いて
比較例と同じ方法で液晶パネルを作製し、上下に偏光板
10を配し、１／300デューティーのマルチプレックス駆
動で表示させたところ、殆ど輝度ムラもなく均一な表示
が得られた。
【００１８】上記の実施の形態は、液晶分子を上下で大
きく捻じった、いわゆるスーパーツイステッドネマチッ
ク(ＳＴＮ)モードを用いて説明したが、本発明の基板洗
浄槽は、ＳＴＮモードの液晶表示パネルのみでなく、上
下で90°捻じったツイステッドネマチック(ＴＮ)モード
にも有効であり、また薄膜の能動素子を基板上に形成し
た、いわゆるアクティブマトリックス型の液晶表示パネ
ルの洗浄にも用いることができる。
きく捻じった、いわゆるスーパーツイステッドネマチッ
ク(ＳＴＮ)モードを用いて説明したが、本発明の基板洗
浄槽は、ＳＴＮモードの液晶表示パネルのみでなく、上
下で90°捻じったツイステッドネマチック(ＴＮ)モード
にも有効であり、また薄膜の能動素子を基板上に形成し
た、いわゆるアクティブマトリックス型の液晶表示パネ
ルの洗浄にも用いることができる。
【００１９】また、洗浄液のpH値として実施の形態では
pH値６を用いたが、最適なpH値は配向膜の種類にも依存
するし、水温や浸漬時間にも依存する。ただし、縮合系
高分子であるポリイミドを配向膜として用いる場合に
は、加水分解による膜質劣化の観点からアルカリ性であ
ることは好ましくない。また、中性に近すぎると洗浄能
力が低下するので、pH値は6.6以下が好ましい。また、
洗浄時間を短縮するために、水温を高くしたり、超音波
を加えることも有効である。
pH値６を用いたが、最適なpH値は配向膜の種類にも依存
するし、水温や浸漬時間にも依存する。ただし、縮合系
高分子であるポリイミドを配向膜として用いる場合に
は、加水分解による膜質劣化の観点からアルカリ性であ
ることは好ましくない。また、中性に近すぎると洗浄能
力が低下するので、pH値は6.6以下が好ましい。また、
洗浄時間を短縮するために、水温を高くしたり、超音波
を加えることも有効である。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の基板洗浄
槽を用いてラビング後の基板を洗浄することにより、ラ
ビング時に付着する異物が除去され、表示の均一な液晶
パネルを提供することが可能となる。また、洗浄液に薬
剤が含まれないため、使用済みの洗浄液の処理が容易
で、環境を汚染することがないという点で産業的価値が
大きい。
槽を用いてラビング後の基板を洗浄することにより、ラ
ビング時に付着する異物が除去され、表示の均一な液晶
パネルを提供することが可能となる。また、洗浄液に薬
剤が含まれないため、使用済みの洗浄液の処理が容易
で、環境を汚染することがないという点で産業的価値が
大きい。
【図１】本発明の電気分解によるイオン水作製法を示す
概念図
概念図
【図２】本発明で洗浄する液晶表示パネルの基本構成を
示す断面図
示す断面図
【図３】図２の液晶分子の配向状態を示す概念図
１ 上側ガラス基板 ２ セグメント電極 ３ 下側ガラス基板 ４ コモン電極 ５、 ６、１２ 配向膜 ７ カイラルネマチック液晶層 ８ スペーサ ９ シール材 １０ 偏光板 １１ 基板 １３ 液晶分子 １４ 異物 １５ 配向乱れ １６ 多孔質膜 １７ Ａ槽 １８ Ｂ槽 １９ 陰極 ２０ 陽極 ２１ アルカリイオン水 ２２ 酸性イオン水
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02F 1/1333 G02F 1/13 101 G09F 9/00 - 9/46 H01L 21/304
Claims (1)
- 【請求項１】 水を電気分解してｐＨ値が６．６から６
の表面張力の低い酸性イオン水を作製し、前記酸性イオ
ン水を用いて液晶パネルの基板のラビングにより配向処
理されたポリイミド配向膜を洗浄することを特徴とする
液晶パネルの基板洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29968499A JP3246493B2 (ja) | 1999-01-01 | 1999-10-21 | 液晶パネルの基板洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29968499A JP3246493B2 (ja) | 1999-01-01 | 1999-10-21 | 液晶パネルの基板洗浄方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4259794A Division JP3062860B2 (ja) | 1994-03-14 | 1994-03-14 | 基板洗浄法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000171769A JP2000171769A (ja) | 2000-06-23 |
| JP3246493B2 true JP3246493B2 (ja) | 2002-01-15 |
Family
ID=17875723
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29968499A Expired - Lifetime JP3246493B2 (ja) | 1999-01-01 | 1999-10-21 | 液晶パネルの基板洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3246493B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101936956B1 (ko) * | 2010-06-11 | 2019-01-09 | 동우 화인켐 주식회사 | 세정액 조성물 |
-
1999
- 1999-10-21 JP JP29968499A patent/JP3246493B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000171769A (ja) | 2000-06-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2924757B2 (ja) | 液晶素子 | |
| JP2002311458A (ja) | 強誘電性液晶表示素子及びその製造方法 | |
| JPH11305256A (ja) | アクティブマトリクス型液晶表示装置 | |
| JPS6327817A (ja) | 液晶素子 | |
| JP5511340B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
| JPH09105937A (ja) | 液晶表示素子の配向膜形成方法 | |
| JP4546586B2 (ja) | 液晶表示素子とその製造方法 | |
| JP3246493B2 (ja) | 液晶パネルの基板洗浄方法 | |
| JP3062860B2 (ja) | 基板洗浄法 | |
| KR20050000572A (ko) | 위상차 필름의 제조방법 및 이를 이용한 액정표시장치의제조방법 | |
| JP2012098333A (ja) | 液晶表示素子 | |
| JP5315117B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
| JPH0854629A (ja) | 液晶表示素子並びにその製造方法 | |
| KR100304265B1 (ko) | 액정표시기의배향막불량검사방법 | |
| JP3619007B2 (ja) | アクティブマトリクス型液晶表示装置 | |
| JP3244563B2 (ja) | ネマチック液晶パネルの製造法 | |
| KR20040100558A (ko) | 횡전계 방식 액정표시장치의 제조방법 | |
| KR19980023047A (ko) | 강유전성 액정표시장치의 스페이서 살포 방법 | |
| KR19980041098A (ko) | 액정표시장치의 스페이서 살포방법 | |
| JP2562024B2 (ja) | 液晶装置の製造方法 | |
| KR19980023053A (ko) | 액정표시장치의 배향막 제조방법 | |
| JPH06281947A (ja) | 液晶パネルおよびその製造法 | |
| JP2548376B2 (ja) | 液晶表示素子 | |
| KR20030095722A (ko) | 액정표시장치, 액정표시장치의 검사장치 및 이를 이용한액정표시장치의 제조방법 | |
| JPH07181491A (ja) | 液晶表示素子の製造方法及び液晶表示素子 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071102 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081102 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091102 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091102 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101102 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111102 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121102 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131102 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131102 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141102 Year of fee payment: 13 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |