JPH08127552A - 新規ポリフェノール及びその製造方法 - Google Patents
新規ポリフェノール及びその製造方法Info
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- JPH08127552A JPH08127552A JP6265259A JP26525994A JPH08127552A JP H08127552 A JPH08127552 A JP H08127552A JP 6265259 A JP6265259 A JP 6265259A JP 26525994 A JP26525994 A JP 26525994A JP H08127552 A JPH08127552 A JP H08127552A
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- compound
- trihydroxy
- bis
- polyphenol
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Phenolic Resins Or Amino Resins (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】少なくとも２、３及び４位にそれぞれ水酸基を
有するベンゾフェノン化合物の２分子が相互に５位でア
ルキリデン基にて結合された構造を有するポリフェノー
ル及びその製造方法を提供することにある。 【構成】本発明によるポリフェノールは、一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒは水素又は炭素数１〜３のアルキル基を示
し、ｎは０〜２の整数を示す。）で表わされる。本発明
によるかかるポリフェノールは、酸性触媒の存在下、一
般式（II） Ｒ−ＣＨＯ （式中、Ｒは水素又は炭素数１〜３のアルキル基を示
す。）で表わされるアルデヒドと一般式（III) 【化２】 （式中、ｎは０、１又は２を示す。）で表わされるベン
ゾフェノン化合物とを好ましくは反応溶媒中にて反応さ
せることによって得ることができる。
有するベンゾフェノン化合物の２分子が相互に５位でア
ルキリデン基にて結合された構造を有するポリフェノー
ル及びその製造方法を提供することにある。 【構成】本発明によるポリフェノールは、一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒは水素又は炭素数１〜３のアルキル基を示
し、ｎは０〜２の整数を示す。）で表わされる。本発明
によるかかるポリフェノールは、酸性触媒の存在下、一
般式（II） Ｒ−ＣＨＯ （式中、Ｒは水素又は炭素数１〜３のアルキル基を示
す。）で表わされるアルデヒドと一般式（III) 【化２】 （式中、ｎは０、１又は２を示す。）で表わされるベン
ゾフェノン化合物とを好ましくは反応溶媒中にて反応さ
せることによって得ることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なポリフェノール
及びその製造方法に関する。詳しくは、本発明は、少な
くとも２、３及び４位にそれぞれ水酸基を有するベンゾ
フェノン化合物の２分子が互いに５位においてアルキリ
デン基にて結合された新規なポリフェノール及びその製
造方法に関する。
及びその製造方法に関する。詳しくは、本発明は、少な
くとも２、３及び４位にそれぞれ水酸基を有するベンゾ
フェノン化合物の２分子が互いに５位においてアルキリ
デン基にて結合された新規なポリフェノール及びその製
造方法に関する。
【０００２】このようなポリフェノールは、電気・電子
部品の製造において、封止剤、接着剤、積層材料、電気
絶縁材料等として用いられるエポキシ樹脂の原料や、又
はエポキシ樹脂の硬化剤として、また、不飽和ポリエス
テル等の樹脂原料として有用である。更に、耐熱性にす
ぐれた紫外線吸収剤としても有用であるほか、感熱記録
の用途に好適な顕色剤や退色防止剤等にも用いることが
できる。
部品の製造において、封止剤、接着剤、積層材料、電気
絶縁材料等として用いられるエポキシ樹脂の原料や、又
はエポキシ樹脂の硬化剤として、また、不飽和ポリエス
テル等の樹脂原料として有用である。更に、耐熱性にす
ぐれた紫外線吸収剤としても有用であるほか、感熱記録
の用途に好適な顕色剤や退色防止剤等にも用いることが
できる。
【０００３】
【従来の技術】本発明による少なくとも２、３及び４位
にそれぞれ水酸基を有するベンゾフェノン化合物の２分
子が相互に５位においてアルキリデン基にて結合された
ポリフェノールは新規な化合物であり、従来、知られて
いない。
にそれぞれ水酸基を有するベンゾフェノン化合物の２分
子が相互に５位においてアルキリデン基にて結合された
ポリフェノールは新規な化合物であり、従来、知られて
いない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、そのような
新規なポリフェノール及びその製造方法を提供すること
を目的とする。
新規なポリフェノール及びその製造方法を提供すること
を目的とする。
【０００５】
【発明を解決するための手段】本発明によるよるポリフ
ェノールは、一般式（Ｉ）
ェノールは、一般式（Ｉ）
【０００６】
【化４】
【０００７】（式中、Ｒは水素又は炭素数１〜３のアル
キル基を示し、ｎは０、１又は２を示す。）で表わされ
る。
キル基を示し、ｎは０、１又は２を示す。）で表わされ
る。
【０００８】従って、本発明によるかかるポリフェノー
ルの好ましい具体例としては、例えば、(1) ビス−（2,
3,４−トリヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニル）メタ
ン、(2) ビス−〔2,3,４−トリヒドロキシ−５−（４−
ヒドロキシベンゾイル）フェニル〕メタン、(3) ビス−
〔2,3,４−トリヒドロキシ−５−（３−ヒドロキシベン
ゾイル）フェニル〕メタン、(4) ビス−〔2,3,４−トリ
ヒドロキシ−５−（２−ヒドロキシベンゾイル）フェニ
ル〕メタン、(5) ビス−〔2,3,４−トリヒドロキシ−５
−（2,４−ジヒドロキシベンゾイル）フェニル〕メタ
ン、(6) ビス−〔2,3,４−トリヒドロキシ−５−（3,４
−ジヒドロキシベンゾイル）フェニル〕メタン、(7) ビ
ス−〔2,3,４−トリヒドロキシ−５−（2,３−ジヒドロ
キシベンゾイル）フェニル〕メタン等を挙げることがで
きる。
ルの好ましい具体例としては、例えば、(1) ビス−（2,
3,４−トリヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニル）メタ
ン、(2) ビス−〔2,3,４−トリヒドロキシ−５−（４−
ヒドロキシベンゾイル）フェニル〕メタン、(3) ビス−
〔2,3,４−トリヒドロキシ−５−（３−ヒドロキシベン
ゾイル）フェニル〕メタン、(4) ビス−〔2,3,４−トリ
ヒドロキシ−５−（２−ヒドロキシベンゾイル）フェニ
ル〕メタン、(5) ビス−〔2,3,４−トリヒドロキシ−５
−（2,４−ジヒドロキシベンゾイル）フェニル〕メタ
ン、(6) ビス−〔2,3,４−トリヒドロキシ−５−（3,４
−ジヒドロキシベンゾイル）フェニル〕メタン、(7) ビ
ス−〔2,3,４−トリヒドロキシ−５−（2,３−ジヒドロ
キシベンゾイル）フェニル〕メタン等を挙げることがで
きる。
【０００９】このようなポリフェノールは、本発明に従
って、酸性触媒の存在下、一般式（II） Ｒ−ＣＨＯ （式中、Ｒは水素又は炭素数１〜３のアルキル基を示
す。）で表わされるアルデヒドと一般式（III)
って、酸性触媒の存在下、一般式（II） Ｒ−ＣＨＯ （式中、Ｒは水素又は炭素数１〜３のアルキル基を示
す。）で表わされるアルデヒドと一般式（III)
【００１０】
【化５】
【００１１】（式中、ｎは０、１又は２を示す。）で表
わされるベンゾフェノン化合物とを反応させることによ
って得ることができる。
わされるベンゾフェノン化合物とを反応させることによ
って得ることができる。
【００１２】以下に、本発明によるポリフェノールの製
造方法について詳細に説明する。本発明によるポリフェ
ノールの製造において用いるアルデヒドは、前記一般式
（II）で表わされるものであって、ホルムアルデヒド、
アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアル
デヒド又はイソブチルアルデヒドである。これらのなか
では、ホルムアルデヒド又はアセトアルデヒドが好まし
く、特に、ホルムアルデヒドが好ましい。ホルムアルデ
ヒドは、市販のホルムアルデヒド水溶液をそのまま利用
できるほか、水存在下において、ホルムアルデヒドと同
様に作用するパラホルムアルデヒドやトリオキサンも用
いることができる。
造方法について詳細に説明する。本発明によるポリフェ
ノールの製造において用いるアルデヒドは、前記一般式
（II）で表わされるものであって、ホルムアルデヒド、
アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアル
デヒド又はイソブチルアルデヒドである。これらのなか
では、ホルムアルデヒド又はアセトアルデヒドが好まし
く、特に、ホルムアルデヒドが好ましい。ホルムアルデ
ヒドは、市販のホルムアルデヒド水溶液をそのまま利用
できるほか、水存在下において、ホルムアルデヒドと同
様に作用するパラホルムアルデヒドやトリオキサンも用
いることができる。
【００１３】アルデヒドとして、例えば、ホルムアルデ
ヒドを用いるときは、ベンゾフェノン化合物の２分子が
相互に５位においてメチレン基にて結合されたポリフェ
ノールを得ることができ、また、アセトアルデヒドを用
いるときは、ベンゾフェノン化合物の２分子が相互に５
位においてエチリデン基にて結合されたポリフェノール
を得ることができる。
ヒドを用いるときは、ベンゾフェノン化合物の２分子が
相互に５位においてメチレン基にて結合されたポリフェ
ノールを得ることができ、また、アセトアルデヒドを用
いるときは、ベンゾフェノン化合物の２分子が相互に５
位においてエチリデン基にて結合されたポリフェノール
を得ることができる。
【００１４】本発明によるポリフェノールの製造におい
て用いるベンゾフェノン化合物は、前記一般式（III)で
表わされ、具体例として、例えば、2,3,４−トリヒドロ
キシベンゾフェノン、2,3,4,4'−テトラヒドロキベンゾ
フェノン、2,3,4,2',4' −ペンタヒドロキベンゾフェノ
ン等を挙げることができる。
て用いるベンゾフェノン化合物は、前記一般式（III)で
表わされ、具体例として、例えば、2,3,４−トリヒドロ
キシベンゾフェノン、2,3,4,4'−テトラヒドロキベンゾ
フェノン、2,3,4,2',4' −ペンタヒドロキベンゾフェノ
ン等を挙げることができる。
【００１５】本発明によるポリフェノールの製造におい
て用いる酸性触媒としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸、
リン酸等の無機酸、ジメチル硫酸、メタンスルホン酸、
トリフロロメタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン
酸、トリクロロ酢酸、蓚酸、ギ酸等の有機酸、陽イオン
交換樹脂等の固体酸を挙げることができる。これらのな
かでは、特に、塩酸又はｐ−トルエンスルホン酸が好ま
しく用いられる。
て用いる酸性触媒としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸、
リン酸等の無機酸、ジメチル硫酸、メタンスルホン酸、
トリフロロメタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン
酸、トリクロロ酢酸、蓚酸、ギ酸等の有機酸、陽イオン
交換樹脂等の固体酸を挙げることができる。これらのな
かでは、特に、塩酸又はｐ−トルエンスルホン酸が好ま
しく用いられる。
【００１６】これら酸性触媒の使用量は、通常、用いる
アルデヒド及びベンゾフェノン化合物の合計重量に対し
て、0.００１〜５重量％の範囲であり、特に、0.０１〜
0.５重量％の範囲が好ましい。
アルデヒド及びベンゾフェノン化合物の合計重量に対し
て、0.００１〜５重量％の範囲であり、特に、0.０１〜
0.５重量％の範囲が好ましい。
【００１７】本発明によるポリフェノールの製造におい
て、アルデヒドは、通常、ベンゾフェノン化合物１モル
部に対して、0.２５〜0.５５モル部の範囲で用いられ、
好ましくは、0.３５モル部以上、特に好ましくは0.４５
モル部以上で、0.５０モル部以下の範囲で用いられる。
用いるアルデヒドの量がベンゾフェノン化合物１モル部
に対して0.２５モル部よりも少ないときは、未反応のベ
ンゾフェノン化合物が比較的多量に残存し、目的とする
ポリフェノールの収量が低いうえに、反応終了後の反応
生成物の精製処理が煩雑である。他方、ベンゾフェノン
化合物１モル部に対して、用いるアルデヒドの量が0.５
５モル部を越えるときは、高分子量物が多量に副生し、
本発明の目的とするポリフェノールの収率が低下するう
えに、反応終了後の反応生成物の精製処理が煩雑とな
る。
て、アルデヒドは、通常、ベンゾフェノン化合物１モル
部に対して、0.２５〜0.５５モル部の範囲で用いられ、
好ましくは、0.３５モル部以上、特に好ましくは0.４５
モル部以上で、0.５０モル部以下の範囲で用いられる。
用いるアルデヒドの量がベンゾフェノン化合物１モル部
に対して0.２５モル部よりも少ないときは、未反応のベ
ンゾフェノン化合物が比較的多量に残存し、目的とする
ポリフェノールの収量が低いうえに、反応終了後の反応
生成物の精製処理が煩雑である。他方、ベンゾフェノン
化合物１モル部に対して、用いるアルデヒドの量が0.５
５モル部を越えるときは、高分子量物が多量に副生し、
本発明の目的とするポリフェノールの収率が低下するう
えに、反応終了後の反応生成物の精製処理が煩雑とな
る。
【００１８】本発明によるポリフェノールの製造に際し
て、上記反応は、無溶媒下においても行なうことができ
るが、一般的には、反応は、有機溶媒中で行なうことが
好ましい。そのような有機溶媒として、例えば、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン等の環状エー
テル類、又はこれらの環状エーテル類とトルエン、ベン
ゼン等の芳香族炭化水素溶媒との混合溶媒を挙げること
ができる。更に、酢酸等の有機酸も有機溶媒の一部又は
全部として用いることができる。これらの有機溶媒を用
いる場合、ベンゾフェノン化合物に対して、0.５〜２０
重量倍、好ましくは、１〜１０重量倍の範囲で用いら
れ、特に好ましくは、２〜８重量倍の範囲で用いられ
る。
て、上記反応は、無溶媒下においても行なうことができ
るが、一般的には、反応は、有機溶媒中で行なうことが
好ましい。そのような有機溶媒として、例えば、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン等の環状エー
テル類、又はこれらの環状エーテル類とトルエン、ベン
ゼン等の芳香族炭化水素溶媒との混合溶媒を挙げること
ができる。更に、酢酸等の有機酸も有機溶媒の一部又は
全部として用いることができる。これらの有機溶媒を用
いる場合、ベンゾフェノン化合物に対して、0.５〜２０
重量倍、好ましくは、１〜１０重量倍の範囲で用いら
れ、特に好ましくは、２〜８重量倍の範囲で用いられ
る。
【００１９】本発明において、上記反応の温度は、通
常、室温乃至１００℃の範囲であり、好ましくは、５０
〜９５℃の範囲であり、最も好ましくは、７０〜９０℃
の範囲である。反応温度が室温より低いときは、反応速
度が極度に遅くなり、他方、反応温度を水の沸点である
１００℃よりも高くすると、特に、アルデヒドとして、
ホルマリンを用いた場合に、それを反応系中にとどめる
ために加圧系にする必要があり、装置が煩雑になる。他
方、反応時間は、特に限定されるものではないが、通
常、１〜４８時間程度であり、好ましくは、３〜２４時
間程度である。
常、室温乃至１００℃の範囲であり、好ましくは、５０
〜９５℃の範囲であり、最も好ましくは、７０〜９０℃
の範囲である。反応温度が室温より低いときは、反応速
度が極度に遅くなり、他方、反応温度を水の沸点である
１００℃よりも高くすると、特に、アルデヒドとして、
ホルマリンを用いた場合に、それを反応系中にとどめる
ために加圧系にする必要があり、装置が煩雑になる。他
方、反応時間は、特に限定されるものではないが、通
常、１〜４８時間程度であり、好ましくは、３〜２４時
間程度である。
【００２０】反応終了後、反応系を冷却すると、反応生
成物である前記一般式（Ｉ）で表わされる本発明による
ポリフェノールが反応系中に析出するので、それを濾過
によって回収し、必要に応じて、得られた結晶を適宜の
有機溶媒で洗浄した後、十分に水洗し、乾燥すればよ
い。ここに、上記結晶の洗浄のための有機溶媒として
は、反応溶媒として用いたものと同じ有機溶媒を好まし
く用いることができる。
成物である前記一般式（Ｉ）で表わされる本発明による
ポリフェノールが反応系中に析出するので、それを濾過
によって回収し、必要に応じて、得られた結晶を適宜の
有機溶媒で洗浄した後、十分に水洗し、乾燥すればよ
い。ここに、上記結晶の洗浄のための有機溶媒として
は、反応溶媒として用いたものと同じ有機溶媒を好まし
く用いることができる。
【００２１】更に、得られた結晶の純度を高める必要が
ある場合には、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオ
キソラン等の環状エーテル類中に加温下に結晶を溶解さ
せ、この後、冷却し、再結晶することによって、本発明
によるポリフェノールの精製品を得ることができる。
ある場合には、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオ
キソラン等の環状エーテル類中に加温下に結晶を溶解さ
せ、この後、冷却し、再結晶することによって、本発明
によるポリフェノールの精製品を得ることができる。
【００２２】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、少なく
とも２、３及び４位にそれぞれ水酸基を有するベンゾフ
ェノン化合物の２分子が相互に５位においてアルキリデ
ン基、好ましくはメチレン基にて結合された新規なポリ
フェノールが提供される。このような本発明によるポリ
フェノールは、従来のポリフェノールに比べて、分子が
有する水酸基の数が多く、そのうえに、電子吸引性のカ
ルボニル基を有するので、上記水酸基の反応性が高く、
しかも、紫外線吸収性や耐熱性等の機能性にもすぐれて
いる。
とも２、３及び４位にそれぞれ水酸基を有するベンゾフ
ェノン化合物の２分子が相互に５位においてアルキリデ
ン基、好ましくはメチレン基にて結合された新規なポリ
フェノールが提供される。このような本発明によるポリ
フェノールは、従来のポリフェノールに比べて、分子が
有する水酸基の数が多く、そのうえに、電子吸引性のカ
ルボニル基を有するので、上記水酸基の反応性が高く、
しかも、紫外線吸収性や耐熱性等の機能性にもすぐれて
いる。
【００２３】従って、本発明によるポリフェノールは、
例えば、エポキシ樹脂の原料や、又はその硬化剤として
用いることによって、架橋密度が高く、耐熱性にもすぐ
れた硬化成形物を得ることができる。また、本発明によ
るポリフェノールは、耐候安定性を目的とした樹脂添加
剤としても有用である。
例えば、エポキシ樹脂の原料や、又はその硬化剤として
用いることによって、架橋密度が高く、耐熱性にもすぐ
れた硬化成形物を得ることができる。また、本発明によ
るポリフェノールは、耐候安定性を目的とした樹脂添加
剤としても有用である。
【００２４】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。
【００２５】実施例１ （ビス−（2,3,４−トリヒドロキシ−５−ベンゾイルフ
ェニル）メタンの製造）2,3,４−トリヒドロキシベンゾ
フェノン１２0.０ｇ（0.０５モル）、ｐ−トルエンスル
ホン酸（触媒）6.０ｇ、トルエン２４０ｇ及び1,４−ジ
オキソラン（いずれも反応溶媒）１２０ｇを反応釜に仕
込み、攪拌下に９０℃に保ち、これに市販３７％ホルマ
リン水溶液２1.１ｇ（0.２６モル）を１時間かけて滴下
した。その後、２時間攪拌した後、得られた反応混合物
に２８％アンモニア水2.１ｇを加え、中和した。続い
て、析出した結晶を吸引濾過し、トルエンで十分に洗浄
した後、乾燥機中、１２０℃で７時間乾燥して、結晶１
１７ｇを得た。この結晶は、融点２２２℃（分解）の黄
色結晶であり、元素分析、質量分析及びプロトン核磁気
共鳴スペクトルの結果からビス−（2,3,４−トリヒドロ
キシ−５−ィンゾイルフェニル）メタンであることが確
認された。
ェニル）メタンの製造）2,3,４−トリヒドロキシベンゾ
フェノン１２0.０ｇ（0.０５モル）、ｐ−トルエンスル
ホン酸（触媒）6.０ｇ、トルエン２４０ｇ及び1,４−ジ
オキソラン（いずれも反応溶媒）１２０ｇを反応釜に仕
込み、攪拌下に９０℃に保ち、これに市販３７％ホルマ
リン水溶液２1.１ｇ（0.２６モル）を１時間かけて滴下
した。その後、２時間攪拌した後、得られた反応混合物
に２８％アンモニア水2.１ｇを加え、中和した。続い
て、析出した結晶を吸引濾過し、トルエンで十分に洗浄
した後、乾燥機中、１２０℃で７時間乾燥して、結晶１
１７ｇを得た。この結晶は、融点２２２℃（分解）の黄
色結晶であり、元素分析、質量分析及びプロトン核磁気
共鳴スペクトルの結果からビス−（2,3,４−トリヒドロ
キシ−５−ィンゾイルフェニル）メタンであることが確
認された。
【００２６】元素分析 Ｃ：６6.１％、Ｈ：4.３％、Ｎ：0.０５％以下 （理論値 Ｃ：６8.６％、Ｈ＝4.３％、Ｎ＝0.００％） ＥＩ−ＭＳ（質量分析） Ｍ＝４７２ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１3 中） δ（ｐｐｍ、ＴＭＳ基準） 帰属 3.２８（ｓ，２Ｈ） ＣＨ2 4.１０（ｓ，６Ｈ） ＯＨ 6.４０（ｓ，２Ｈ） 芳香族水素 7.０４（ｓ，１０Ｈ） 芳香族水素 得られた結晶の液体クロマトグラフィーによる純度は９
7.８％であった。
7.８％であった。
【００２７】実施例２ （ビス−〔2,3,４−トリヒドロキシ−５−（４−ヒドロ
キシベンゾイル）フェニル〕メタンの製造）2,3,4,4'−
テトラヒドロキベンゾフェノン２4.６ｇ（0.１モル）、
ｐ−トルエンスルホン酸（触媒）1.０ｇ及び酢酸（溶
媒）１００ｇを反応釜に仕込み、攪拌下ち４５℃に保
ち、これに市販３７％ホルマリン水溶液4.４ｇ（0.１モ
ル）を滴下した。反応混合物の温度を８０〜９０℃に昇
温し、２時間反応させた。
キシベンゾイル）フェニル〕メタンの製造）2,3,4,4'−
テトラヒドロキベンゾフェノン２4.６ｇ（0.１モル）、
ｐ−トルエンスルホン酸（触媒）1.０ｇ及び酢酸（溶
媒）１００ｇを反応釜に仕込み、攪拌下ち４５℃に保
ち、これに市販３７％ホルマリン水溶液4.４ｇ（0.１モ
ル）を滴下した。反応混合物の温度を８０〜９０℃に昇
温し、２時間反応させた。
【００２８】生成した結晶を吸引濾過し、水で中性にな
るまで洗浄し、真空乾燥機中、１２０℃で１０時間乾燥
して、粗結晶２1.２ｇを得た。この粗結晶２1.２ｇをテ
トラヒドロフラン２５ｇから再結晶して、融点３１３〜
３１８℃（分解）の黄色精製結晶8.２ｇを得た。この結
晶は、元素分析、質量分析及びプロトン核磁気共鳴スペ
クトルの結果からビス−〔2,3,４−トリヒドロキシ−５
−（４−ヒドロキシベンゾイル）フェニル〕メタンであ
ることが確認された。
るまで洗浄し、真空乾燥機中、１２０℃で１０時間乾燥
して、粗結晶２1.２ｇを得た。この粗結晶２1.２ｇをテ
トラヒドロフラン２５ｇから再結晶して、融点３１３〜
３１８℃（分解）の黄色精製結晶8.２ｇを得た。この結
晶は、元素分析、質量分析及びプロトン核磁気共鳴スペ
クトルの結果からビス−〔2,3,４−トリヒドロキシ−５
−（４−ヒドロキシベンゾイル）フェニル〕メタンであ
ることが確認された。
【００２９】元素分析 Ｃ：６2.２％、Ｈ＝4.００％、Ｎ＝0.０５％以下 （理論値 Ｃ：６4.２９％、Ｈ：3.９９％、Ｎ：0.００
％） ＥＩ−ＭＳ（質量分析） Ｍ＝５０４ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１3 中） δ（ｐｐｍ、ＴＭＳ基準） 帰属 3.７８（ｓ，２Ｈ） ＣＨ2 4.７９（ｓ，１０Ｈ） ＯＨ 6.７３、6.８８（ｄ，４Ｈ） 芳香族水素 7.３８、7.５３（ｄ，４Ｈ） 芳香族水素 6.９３（ｓ，２Ｈ） 芳香族水素 得られた結晶の液体クロマトグラフィーによる純度は９
７％であった。
％） ＥＩ−ＭＳ（質量分析） Ｍ＝５０４ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１3 中） δ（ｐｐｍ、ＴＭＳ基準） 帰属 3.７８（ｓ，２Ｈ） ＣＨ2 4.７９（ｓ，１０Ｈ） ＯＨ 6.７３、6.８８（ｄ，４Ｈ） 芳香族水素 7.３８、7.５３（ｄ，４Ｈ） 芳香族水素 6.９３（ｓ，２Ｈ） 芳香族水素 得られた結晶の液体クロマトグラフィーによる純度は９
７％であった。
【００３０】実施例３ （1,１−ビス−〔2,3,４−トリヒドロキシ−５−（４−
ヒドロキシベンゾイル）フェニル〕エタンの製造）2,3,
4,4'−テトラヒドロキベンゾフェノン１２3.０ｇ（0.５
モル）、ｐ−トルエンスルホン酸（触媒）8.５ｇ及び酢
酸（溶媒）５００ｇを反応釜に仕込み、攪拌下ち４５℃
に保ち、これに市販アセトアルデヒド１1.０ｇ（0.２５
モル）を滴下した。反応混合物の温度を８０〜９０℃に
昇温し、２時間反応させた。
ヒドロキシベンゾイル）フェニル〕エタンの製造）2,3,
4,4'−テトラヒドロキベンゾフェノン１２3.０ｇ（0.５
モル）、ｐ−トルエンスルホン酸（触媒）8.５ｇ及び酢
酸（溶媒）５００ｇを反応釜に仕込み、攪拌下ち４５℃
に保ち、これに市販アセトアルデヒド１1.０ｇ（0.２５
モル）を滴下した。反応混合物の温度を８０〜９０℃に
昇温し、２時間反応させた。
【００３１】反応終了後、得られた反応混合物を多量の
水中に投入して、生成した結晶を吸引濾過し、水で中性
になるまで洗浄し、真空乾燥機中、１２０℃で１０時間
乾燥して、粗結晶９0.７ｇを得た。この粗結晶をテトラ
ヒドロフラン／水の混合溶剤から再結晶して、融点２６
９℃（分解）の黄色精製結晶を得た。この結晶は、元素
分析、質量分析及びプロトン核磁気共鳴スペクトルの結
果から1,１−ビス−〔2,3,４−トリヒドロキシ−５−
（４−ヒドロキシベンゾイル）フェニル〕エタンである
ことが確認された。
水中に投入して、生成した結晶を吸引濾過し、水で中性
になるまで洗浄し、真空乾燥機中、１２０℃で１０時間
乾燥して、粗結晶９0.７ｇを得た。この粗結晶をテトラ
ヒドロフラン／水の混合溶剤から再結晶して、融点２６
９℃（分解）の黄色精製結晶を得た。この結晶は、元素
分析、質量分析及びプロトン核磁気共鳴スペクトルの結
果から1,１−ビス−〔2,3,４−トリヒドロキシ−５−
（４−ヒドロキシベンゾイル）フェニル〕エタンである
ことが確認された。
【００３２】ＥＩ−ＭＳ（質量分析） Ｍ＝５１８ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１3 中） δ（ｐｐｍ、ＴＭＳ基準） 帰属 1.２７、1.３８（ｄ，３Ｈ） ＣＨ3 2.２０（ｑ，１Ｈ） ＣＨ 4.７９（ｓ，１０Ｈ） ＯＨ 6.７３、6.８７（ｄ，２Ｈ） 芳香族水素 7.３３、7.４６（ｄ，２Ｈ） 芳香族水素 6.９４（ｓ，１Ｈ） 芳香族水素
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４ Ａ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (7)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒは水素又は炭素数１〜３のアルキル基を示
し、ｎは０、１又は２を示す。）で表わされるポリフェ
ノール。 - 【請求項２】ビス−（2,3,４−トリヒドロキシ−５−ベ
ンゾイルフェニル）メタン。 - 【請求項３】ビス−〔2,3,４−トリヒドロキシ−５−
（４−ヒドロキシベンゾイル）フェニル〕メタン。 - 【請求項４】ビス−〔2,3,４−トリヒドロキシ−５−
（2,４−ジヒドロキシベンゾイル）フェニル〕メタン。 - 【請求項５】酸性触媒の存在下、一般式（II） Ｒ−ＣＨＯ （式中、Ｒは水素又は炭素数１〜３のアルキル基を示
す。）で表わされるアルデヒドと一般式（III) 【化２】 （式中、ｎは０、１又は２を示す。）で表わされるでベ
ンゾフェノン化合物とを反応させることを特徴とする一
般式（Ｉ） 【化３】 （式中、Ｒは水素又は炭素数１〜３のアルキル基を示
し、ｎは０、１又は２を示す。）で表わされるポリフェ
ノールの製造方法。 - 【請求項６】アルデヒドがホルムアルデヒドである請求
項５記載のポリフェノールの製造方法。 - 【請求項７】アルデヒドがアセトアルデヒドである請求
項５記載のポリフェノールの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26525994A JP3732539B2 (ja) | 1994-10-28 | 1994-10-28 | 新規ポリフェノール及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26525994A JP3732539B2 (ja) | 1994-10-28 | 1994-10-28 | 新規ポリフェノール及びその製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08127552A true JPH08127552A (ja) | 1996-05-21 |
| JP3732539B2 JP3732539B2 (ja) | 2006-01-05 |
Family
ID=17414751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26525994A Expired - Fee Related JP3732539B2 (ja) | 1994-10-28 | 1994-10-28 | 新規ポリフェノール及びその製造方法 |
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP3732539B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011006370A (ja) * | 2009-06-29 | 2011-01-13 | Toei Corp | メチレンビス（ベンゾトリアゾリルフェノール）化合物の製造方法 |
| CN103804165A (zh) * | 2014-03-05 | 2014-05-21 | 南通惠康国际企业有限公司 | 一种光稳定剂亚甲基二(2,3,4-三羟基二苯甲酮)的制备方法 |
| WO2019230639A1 (ja) * | 2018-05-28 | 2019-12-05 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、樹脂、組成物、レジストパターン形成方法、回路パターン形成方法及び樹脂の精製方法 |
| JPWO2019151400A1 (ja) * | 2018-01-31 | 2021-02-25 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、樹脂、組成物、レジストパターン形成方法、回路パターン形成方法及び樹脂の精製方法 |
-
1994
- 1994-10-28 JP JP26525994A patent/JP3732539B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JPWO2019151400A1 (ja) * | 2018-01-31 | 2021-02-25 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、樹脂、組成物、レジストパターン形成方法、回路パターン形成方法及び樹脂の精製方法 |
| WO2019230639A1 (ja) * | 2018-05-28 | 2019-12-05 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、樹脂、組成物、レジストパターン形成方法、回路パターン形成方法及び樹脂の精製方法 |
| CN112218844A (zh) * | 2018-05-28 | 2021-01-12 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、树脂、组合物、抗蚀图案形成方法、电路图案形成方法和树脂的纯化方法 |
| US11747728B2 (en) | 2018-05-28 | 2023-09-05 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, resin, composition, resist pattern formation method, circuit pattern formation method and method for purifying resin |
| CN112218844B (zh) * | 2018-05-28 | 2024-04-26 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、树脂、组合物、抗蚀图案形成方法、电路图案形成方法和树脂的纯化方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3732539B2 (ja) | 2006-01-05 |
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