JPH08124953A - 半導体装置の製造方法およびその製造方法に用いるモールド金型ならびにプリント基板 - Google Patents

半導体装置の製造方法およびその製造方法に用いるモールド金型ならびにプリント基板

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JPH08124953A
JPH08124953A JP25491894A JP25491894A JPH08124953A JP H08124953 A JPH08124953 A JP H08124953A JP 25491894 A JP25491894 A JP 25491894A JP 25491894 A JP25491894 A JP 25491894A JP H08124953 A JPH08124953 A JP H08124953A
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resin
transfer molding
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JP25491894A
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English (en)
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Masashi Yamaura
正志 山浦
Norinaga Arai
徳長 荒井
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Hitachi Ltd
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
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Hitachi Ltd
Hitachi Tohbu Semiconductor Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 LCC製品のようなプリント基板を使用した
半導体装置の製造におけるトランスファモールド時、製
品となるプリント基板の側面にレジンが付着するのを抑
止する。 【構成】 トランスファモールド装置のモールド金型に
プリント基板を型締めするとともに、ランナーからレジ
ンを注入して前記プリント基板の少なくとも一面の一部
にトランスファモールドによって封止体を形成する半導
体装置の製造方法であって、前記ランナー部分と製品の
縁となるプリント基板の縁部分間の一部において前記プ
リント基板の側面とモールド金型との間の隙間を塞ぐよ
うに前記プリント基板を変形させた後トランスファモー
ルドする構成となっている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置の製造方法お
よびその製造方法に用いるモールド型ならびにプリント
基板に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の封止形態の一つとして、L
CC(leadless-chip carrier)が知られている。このL
CCは、プリント基板にICチップ等を直接組み込むと
ともに、前記チップ上を樹脂からなる封止体で被うCO
B(chip on board)構造となっている。
【0003】COBの場合、前記封止体はトランスファ
モールドによって形成される。トランスファモールドに
ついては、日経BP社発行「VLSIパッケージング技
術(下)」1993年5月15日発行、P31〜P40に記載され
ている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本出願人においてもL
CC構造の半導体装置を製造しているが、トランスファ
モールド時、短冊体となるプリント基板の両端側の製品
(LCC)の側面にレジンが付着し、付着レジンの除去
作業が必要となっていた。すなわち、図8は本出願人開
発によるLCC製造におけるトランスファモールド状態
を示す模式図である。モールド金型1は下型2と上型3
となる。被モールド物となるプリント基板4は、前記下
型2と上型3との間に型締めされる。図8は前記上型3
上から透視した図面である。下型2と上型3の型締めに
よって、被モールド空間であるキャビティ5と、このキ
ャビティ5に連なるランナー6が形成される。また、図
示はしないが、溶融されるレジンの元となるタブレット
が入れられるカルと呼称される部分も前記下型2と上型
3の型締めによって形成される。前記カルの部分で、前
記タブレットは加熱,加圧されて溶け、前記ランナー6
を通って前記キャビティ5に流入する。
【0005】一般に、前記キャビティ5は複数並列に配
置されていることから、前記ランナー6は途中から支流
とも言うべきサブランナー7を有し、サブランナー7を
介してキャビティ5に連なっている。図8もサブランナ
ー7を有する構造である。この場合、主流のランナー6
をメインランナー8と呼称する。また、前記サブランナ
ー7の先端部分は、ゲート9と呼称される絞られた部分
を介して前記キャビティ5に連通している。
【0006】LCCを製造するための被モールド物とな
るプリント基板4は、下型2に設けられた窪み15に入
れられる。プリント基板4は前記窪み15に入れられあ
るいは取り出されるため、嵌合公差が設けられる。嵌合
公差、すなわち、プリント基板4の側面16と下型2の
窪み15の内壁面17との間の隙間(クリアランス)1
8は、たとえば、0.1〜0.2mm程度となる。
【0007】この結果、トランスファモールド時、前記
サブランナー7がプリント基板4の側面と交差するた
め、交差部分から前記隙間18に溶けたレジン19(同
図中ハッチングで示す領域部分がレジン部分)が入り込
み、プリント基板4の側面16に沿って浸入する。
【0008】前記プリント基板4は、その両端部分にそ
のまま製品の縁20が存在する形状となっていることか
ら、前記浸入したレジン19が製品の縁20にまで到達
すると、そのまま製品の縁20に付着してしまう。レジ
ン19の製品の縁20への付着は、その後レジン除去作
業を必要とし、製品コストの低減化を妨げる要因とな
る。
【0009】前記嵌合公差を小さくするために、モール
ド金型と被モールド物の寸法精度は高いものが必要とさ
れる。モールド金型は充分高精度寸法を満足できる。ま
た、金属のリードフレームを使用する場合では、リード
フレームの寸法精度は高くできる。しかしながら、廉価
や薄型化等を狙ったLCC製品では、プリント基板を使
用するが、プリント基板の場合は金属のリードフレーム
のように高い寸法精度を出し難い。また、プリント基板
の寸法精度を高くした場合、プリント基板の製造コスト
が高くなり、LCC製品のコスト低減化が妨げられる。
【0010】本発明の目的は、LCC製品のようなプリ
ント基板を使用した半導体装置の製造におけるトランス
ファモールド時、製品となるプリント基板の側面にレジ
ンが付着するのを抑止できる技術を提供することにあ
る。
【0011】本発明の前記ならびにそのほかの目的と新
規な特徴は、本明細書の記述および添付図面からあきら
かになるであろう。
【0012】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。すなわち、本発明のトランスファモ
ールド方法は、トランスファモールド装置のモールド金
型にプリント基板を型締めするとともに、ランナーから
レジンを注入して前記プリント基板の少なくとも一面の
一部にトランスファモールドによって封止体を形成する
半導体装置の製造方法であって、前記ランナー部分と製
品の縁となるプリント基板の縁部分間の一部において前
記プリント基板の側面とモールド金型との間の隙間を塞
ぐように前記プリント基板を変形させた後トランスファ
モールドするように構成されている。このため、本発明
では、前記プリント基板の少なくとも一部の縁をモール
ド金型で押し潰して前記プリント基板の側面とモールド
金型との間の隙間を塞ぐように構成されている。
【0013】本発明の他の実施例によるトランスファモ
ールド方法においては、前記プリント基板の少なくとも
一部を、トランスファモールド時の熱によって膨張させ
て前記プリント基板の側面とモールド金型との間の隙間
を塞ぐように構成されている。前記塞ぎ部分は、前記ラ
ンナー部分と製品の縁となるプリント基板の縁部分間の
一部である。
【0014】本発明のトランスファモールド用モールド
金型は、モールド金型の下型と上型との間にプリント基
板を型締めして前記プリント基板の少なくとも一面の一
部にトランスファモールドによって封止体を形成するト
ランスファモールド用モールド金型であって、前記モー
ルド金型のランナー部分と、製品の縁となるプリント基
板の縁部分との間の一部に、型締めによって前記プリン
ト基板の側面とモールド金型との間の隙間を塞ぐように
前記プリント基板を変形させる突部が設けられた構造と
なっている。
【0015】本発明のトランスファモールド方法に用い
られるプリント基板は、モールド金型の下型と上型との
間に型締めされるとともに、少なくとも一面の一部にト
ランスファモールドによって封止体が形成されるプリン
ト基板であって、前記モールド金型におけるランナー部
分と製品の縁となるプリント基板の縁部分との間の一部
において、トランスファモールド時の熱によって、前記
プリント基板の側面とモールド金型との間の隙間を塞ぐ
ように、前記プリント基板の一部は他の部分に比較して
熱膨張係数の高い高熱膨張率部分が設けられた構造とな
っている。
【0016】
【作用】上記した手段によれば、本発明のトランスファ
モールド方法においては、プリント基板の製品の側面と
なる部分と、ランナーと交差するプリント基板の縁との
間の一部のプリント基板縁部分は、モールド金型による
プリント基板の一部の押し潰しによって広がる。この結
果、前記モールド金型の内壁面とプリント基板の側面と
の間の一部の隙間は、プリント基板の変形によって塞が
れるため、ランナーとプリント基板の交差部分から前記
プリント基板の側面とモールド金型の内壁面との間にレ
ジンが流れ込んでも、レジンの流れは前記プリント基板
の変形部分によって止められ、製品の一部となるプリン
ト基板側面にまで到達しなくなり、製品の側面にレジン
が付着する不良発生が防止できる。
【0017】本発明の他の実施例によるトランスファモ
ールド方法においては、前記プリント基板の一部の高熱
膨張率部分がトランスファモールド時の熱によって膨張
して前記プリント基板の側面とモールド金型との間の一
部の隙間を塞ぐように構成されている。この結果前記実
施例と同様にランナーとプリント基板の交差部分から前
記プリント基板の側面とモールド金型の内壁面との間に
レジンが流れ込まなくなり、製品の側面にレジンが付着
する不良の発生が防止できる。
【0018】本発明のトランスファモールド用モールド
金型は、プリント基板の製品の側面となる部分と、ラン
ナーと交差するプリント基板の縁との間の一部のプリン
ト基板縁部分をモールド金型によって一部押し潰すた
め、ランナーとプリント基板の交差部分から前記プリン
ト基板の側面とモールド金型の内壁面との間にレジンが
流れ込んでも、レジンの流れは前記プリント基板の変形
部分によって止められ、製品の一部となるプリント基板
側面にまで到達しなくなる。したがって、本発明のモー
ルド金型の使用によって、製品の側面にレジンが付着す
るのを防止することができる。
【0019】本発明のトランスファモールド方法に用い
られるプリント基板は、ランナーと交差する部分が、他
の部分に比較して熱膨張係数の高い材質による高熱膨張
率部分となっている。したがって、前記モールド金型の
ランナー部分と製品の縁となるプリント基板の縁部分間
の一部が、トランスファモールド時の熱によって膨張し
て前記プリント基板の側面とモールド金型との間の隙間
を塞ぐ。この結果、プリント基板とランナーの交差部分
からプリント基板の側面に沿ってレジンが浸入すること
もなく、製品の一部となるプリント基板側面にレジンが
付着するような不良発生は防止できる。
【0020】
【実施例】以下図面を参照して本発明の半導体装置の製
造方法の一実施例について説明する。図1は本発明の一
実施例によるLCC製造におけるトランスファモールド
状態を示すモールド金型部分の模式的平面図、図2は本
実施例に使用するモールド金型の下型の要部を示す模式
的斜視図、図3はモールド金型の型締状態を示す模式的
断面図、図4は本実施例によって製造されたLCCの模
式的平面図、図5はLCCの模式的正面図である。
【0021】本実施例ではLCC(半導体装置)の製造
方法、すなわち、LCCのトランスファモールド方法に
本発明を適用した例について説明する。
【0022】本発明の製造方法によって製造されるLC
C(半導体装置)25は、図4および図5に示すよう
に、外観的にはプリント基板4と、このプリント基板4
の主面に形成されたレジンからなる封止体26とからな
っている。プリント基板4は、主面および裏面に所望の
配線27が形成されている。前記封止体26から外れた
プリント基板4の主面の配線27においては、プリント
基板4を貫通状態で形成されたスルーホールに設けられ
た導体層28を介してプリント基板4の裏面の配線27
に電気的に接続されている。また、プリント基板4の裏
面の周辺には、細長矩形状の端子29が設けられてい
る。また、端子29は、プリント基板4の側面16にま
で及んでいる。また、前記封止体26内のプリント基板
4の主面には、LSI30やIC31が組み込まれてい
る。
【0023】このようなLCC25は、図1に示される
ように、トランスファモールド後にプリント基板4を所
定箇所で切断することによって形成される。
【0024】前記LSI30やIC31を主面に搭載
し、かつ所定箇所間が導電性のワイヤで接続されたプリ
ント基板4は、図3に示されるように、モールド金型1
の下型2と上型3との間に型締めされる。なお、図3に
おける9はゲートである。また、後に詳述するが、下型
2の左下隅には突部32が設けられている。
【0025】前記突部32は、図1および図2に示すよ
うに、下型2の両端の一部に設けられている。この突部
32は三角錐状の突部となるとともに、前記プリント基
板4の両端側の突出片33の中央部分に対応して設けら
れている。前記突出片33は、トランスファモールド後
切断除去される除去部34となっている。
【0026】前記下型2のパーティング面には、前記プ
リント基板4を載置挿入する窪み15が設けられ、この
窪み15内にプリント基板4が載置挿入される。プリン
ト基板4の側面16と、前記窪み15の内壁面17との
間には、隙間18が発生してしまう。この隙間18は、
たとえば、0.1〜0.2mm程度となる。また、一部
では接触して隙間がない状態となる。
【0027】前記プリント基板4を下型2の窪み15内
に載置挿入した後、上型3を相対的に降下させて型締め
を行うと、前記突出片33の両端中央部分は、前記突部
32によって分断されるように押し潰される。この結
果、前記突出片33の先端部分は、図2に示すように矢
印a,b方向に動き変形部35を形成する。この変形部
35の側面16は、図1に示すように、下型2の窪み1
5の内壁面17に強く接触し、前記変形部35で隙間1
8を埋め込むようになる。
【0028】この結果、図1に示すように、サブランナ
ー7から、プリント基板4の側面16と下型2の窪み1
5の内壁面17との間の隙間18に流れ込んだレジン1
9(同図においてハッチングを施した領域がレジン部
分)は、前記変形部35によって進路を遮られるため、
製品(LCC25)の縁となるプリント基板の縁部分に
までは到達しなくなる。
【0029】したがって、トランスファモールド後、図
1の一部で示す二点鎖線で示す部分でプリント基板4を
切断するとともに、不要レジン部分を除去することによ
って、図4および図5に示すようなLCC25が製造さ
れる。
【0030】なお、前記モールド金型の型締め圧力は数
十トンにも及ぶため、プリント基板4の裏面側にはレジ
ンは洩れ出さない。
【0031】このようなLCCの製造方法によれば、モ
ールド金型内において、被モールド物であるプリント基
板の側面と、被モールド物を収容する窪みの内壁面との
間に隙間が発生しても、前記隙間は途中で変形したプリ
ント基板部分で塞がれるため、隙間に浸入したレジンは
製品の縁にまで到達しなくなり、製品、すなわち、LC
Cにおけるプリント基板の縁へのレジン付着不良が発生
しなくなる。
【0032】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。たとえば、
図6および図7に示すように、前記プリント基板4の一
側(一部)、すなわち、点々を施して示したゲート9
(サブランナー7)側、換言するならば、突出片33が
設けられる側は、他の部分よりも熱膨張係数の高い高熱
膨張率部分40となっている。前記高熱膨張率部分40
はエポキシ系樹脂のみで形成され、たとえば、熱膨張係
数αは25〜50×10~6/°C程度となっている。ま
た、他の部分はガラスエポキシからなり、その熱膨張係
数は12〜14×10~6/°C程度となっている。
【0033】この実施例では、図6に示すように、下型
2の窪み15にプリント基板4を載置挿入した場合、た
とえば、前記プリント基板4の側面16と前記窪み15
の内壁面17との間に0.1〜0.2mm程度の隙間1
8が発生してしまう。しかし、トランスファモールドを
行うと、トランスファモールド時の熱(175℃前後)
によって他の部分よりも数倍大きく膨張するため、図7
に示すように、前記高熱膨張率部分40側では、プリン
ト基板4の側面16は窪み15の内壁面17に密着す
る。このため、サブランナー7からプリント基板4の側
面16に沿ってレジン19が浸入することがなく、LC
C25のプリント基板4の縁にレジンが付着する不良が
発生しない。
【0034】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるLCC
の技術に適用した場合について説明したが、それに限定
されるものではない。本発明は少なくともプリント基板
の少なくとも一面に封止体(パッケージ)を形成する技
術には適用できる。
【0035】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。本発明によれば、トランスファモー
ルド時、モールド金型で部分的にプリント基板の一部を
変形させてプリント基板の側面と下型の内壁面との間の
隙間を塞ぐため、サブランナーから隙間にレジンが流れ
込んでも、前記プリント基板の変形部分で流れが阻止さ
れることとなり、製品の一部となるプリント基板の側面
にレジンが付着することがなくなる。したがって、プリ
ント基板の側面に付着したレジンを除去する作業も不要
となり、製品のコスト低減も達成できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例によるLCC製造におけるト
ランスファモールド状態を示すモールド金型部分の模式
的平面図である。
【図2】本実施例に使用するモールド金型の下型の要部
を示す模式的斜視図である。
【図3】本実施例におけるモールド金型の型締状態を示
す模式的断面図である。
【図4】本実施例によって製造されたLCCの模式的平
面図である。
【図5】本実施例によって製造されたLCCの模式的正
面図である。
【図6】本発明の他の実施例によるプリント基板と下型
との状態を示す模式的平面図である。
【図7】本発明の他の実施例によるプリント基板の一部
側面が下型に密着した状態を示す模式的平面図である。
【図8】本出願人の開発によるLCCにおけるトランス
ファモールド状態を示すモールド金型部分の模式的平面
図である。
【符号の説明】
1…モールド金型、2…下型、3…上型、4…プリント
基板、5…キャビティ、6…ランナー、7…サブランナ
ー、8…メインランナー、9…ゲート、15…窪み、1
6…側面、17…内壁面、18…隙間、19…レジン、
20…製品の縁、25…半導体装置(LCC)、26…
封止体、27…配線、28…導体層、29…端子、30
…LSI、31…IC、32…突部、33…突出片、3
4…除去部、35…変形部、40…高熱膨張率部分。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // B29L 31:34

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 トランスファモールド装置のモールド金
    型にプリント基板を型締めするとともに、ランナーから
    レジンを注入して前記プリント基板の少なくとも一面の
    一部にトランスファモールドによって封止体を形成する
    半導体装置の製造方法であって、前記ランナー部分と製
    品の縁となるプリント基板の縁部分間の一部において前
    記プリント基板の側面とモールド金型との間の隙間を塞
    ぐように前記プリント基板を変形させた後トランスファ
    モールドすることを特徴とする半導体装置の製造方法。
  2. 【請求項2】 前記プリント基板の部分的な変形はモー
    ルド金型による部分的な押し潰しによって形成すること
    を特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記プリント基板の部分的変形は、トラ
    ンスファモールド時の熱による前記プリント基板の一部
    の他の部分に比較して熱膨張率が高く形成された高熱膨
    張率部分の熱膨張によって形成することを特徴とする請
    求項1記載の半導体装置の製造方法。
  4. 【請求項4】 モールド金型の下型と上型との間にプリ
    ント基板を型締めして前記プリント基板の少なくとも一
    面の一部にトランスファモールドによって封止体を形成
    するトランスファモールド用モールド金型であって、前
    記モールド金型のランナー部分と、製品の縁となるプリ
    ント基板の縁部分との間の一部に、型締めによって前記
    プリント基板の側面とモールド金型との間の隙間を塞ぐ
    ように前記プリント基板を変形させる突部が設けられて
    いることを特徴とするモールド金型。
  5. 【請求項5】 モールド金型の下型と上型との間に型締
    めされるとともに、少なくとも一面の一部にトランスフ
    ァモールドによって封止体が形成されるプリント基板で
    あって、前記モールド金型におけるランナー部分と製品
    の縁となるプリント基板の縁部分との間の一部におい
    て、トランスファモールド時の熱によって、前記プリン
    ト基板の側面とモールド金型との間の隙間を塞ぐよう
    に、前記プリント基板の一部は他の部分に比較して熱膨
    張係数の高い高熱膨張率部分が設けられていることを特
    徴とするプリント基板。
JP25491894A 1994-10-20 1994-10-20 半導体装置の製造方法およびその製造方法に用いるモールド金型ならびにプリント基板 Pending JPH08124953A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111278620A (zh) * 2017-11-06 2020-06-12 株式会社电装 通电部件模块及其制造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111278620A (zh) * 2017-11-06 2020-06-12 株式会社电装 通电部件模块及其制造方法

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