JPH08124843A - 走査型露光装置 - Google Patents
走査型露光装置Info
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- JPH08124843A JPH08124843A JP6282873A JP28287394A JPH08124843A JP H08124843 A JPH08124843 A JP H08124843A JP 6282873 A JP6282873 A JP 6282873A JP 28287394 A JP28287394 A JP 28287394A JP H08124843 A JPH08124843 A JP H08124843A
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- acceleration
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- photosensitive substrate
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は走査型露光装置において、露光性能と
高スループツトを両立できるようにする。 【構成】加速度計測手段（２１）によつて測定された加
速時におけるステージ保持台（４）の加速度とほぼ同じ
大きさの加速度を相対移動中のマスクステージ（２Ａ）
及び又はステージ保持台（４）に与え、該ステージとス
テージ保持台（４）との間に生じた加速に起因した位置
ずれを補正する。これによりマスク（２）と感光基板
（３）との相対的な位置関係を保持したままの状態で速
やかに走査露光を開始することができる。
高スループツトを両立できるようにする。 【構成】加速度計測手段（２１）によつて測定された加
速時におけるステージ保持台（４）の加速度とほぼ同じ
大きさの加速度を相対移動中のマスクステージ（２Ａ）
及び又はステージ保持台（４）に与え、該ステージとス
テージ保持台（４）との間に生じた加速に起因した位置
ずれを補正する。これによりマスク（２）と感光基板
（３）との相対的な位置関係を保持したままの状態で速
やかに走査露光を開始することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は走査型露光装置に関し、
例えば液晶表示基板の製造に用いる露光装置に適用して
好適なものである。
例えば液晶表示基板の製造に用いる露光装置に適用して
好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の露光装置としては図４に
示す構造のものが一般に用いられている。この露光装置
１はマスク２及び感光基板３をステージ保持台４によつ
て対面させた状態で保持し、このステージ保持台４を駆
動部構５によつて投影光学系ＰＬに対して相対移動させ
ることによりマスク２の像を感光基板３上に投影露光す
るようになされている。
示す構造のものが一般に用いられている。この露光装置
１はマスク２及び感光基板３をステージ保持台４によつ
て対面させた状態で保持し、このステージ保持台４を駆
動部構５によつて投影光学系ＰＬに対して相対移動させ
ることによりマスク２の像を感光基板３上に投影露光す
るようになされている。
【０００３】因にステージ保持台４及び駆動部５はそれ
ぞれ防振機構６に支持された基台７の上面に載置されて
おり、外部の振動がステージ保持台４に伝搬しないよう
になされている。またこの露光装置１はマスクステージ
２Ａに保持されたマスク２と基板ステージ３Ａに保持さ
れた感光基板３との面内方向における相対的な位置関係
をレーザ干渉計８によつて常時計測し、相対移動（走査
露光）中におけるマスク２と感光基板３との位置関係が
所定の関係を維持するようにマスクステージ２Ａを駆動
する駆動部９を制御部１０によつてフイードバツク制御
するようになされている。
ぞれ防振機構６に支持された基台７の上面に載置されて
おり、外部の振動がステージ保持台４に伝搬しないよう
になされている。またこの露光装置１はマスクステージ
２Ａに保持されたマスク２と基板ステージ３Ａに保持さ
れた感光基板３との面内方向における相対的な位置関係
をレーザ干渉計８によつて常時計測し、相対移動（走査
露光）中におけるマスク２と感光基板３との位置関係が
所定の関係を維持するようにマスクステージ２Ａを駆動
する駆動部９を制御部１０によつてフイードバツク制御
するようになされている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところがこの機構の露
光装置１の場合、ステージ保持台４を走査露光に適した
速度（図５（Ｂ）の場合、0.2 〔m/s 〕）に上げるため
に駆動部５から加えられる加速度（図５（Ａ））に起因
してマスク２と感光基板３との間に相対的な位置ずれ
（図５（Ｃ））が発生し、露光性能が劣化することがあ
つた。
光装置１の場合、ステージ保持台４を走査露光に適した
速度（図５（Ｂ）の場合、0.2 〔m/s 〕）に上げるため
に駆動部５から加えられる加速度（図５（Ａ））に起因
してマスク２と感光基板３との間に相対的な位置ずれ
（図５（Ｃ））が発生し、露光性能が劣化することがあ
つた。
【０００５】これはマスクステージ２Ａと駆動部９との
連結機構９Ａが完全剛体でないために（マスクステージ
２Ａを駆動するのに必要な推力を得るにはギア等を用い
た減速機構が必要であり、これらの要素を完全剛体にで
きないために）、ステージ保持台４の加速時にマスクス
テージ２Ａに作用する慣性力によつて連結機構９Ａが押
し縮められるためである。
連結機構９Ａが完全剛体でないために（マスクステージ
２Ａを駆動するのに必要な推力を得るにはギア等を用い
た減速機構が必要であり、これらの要素を完全剛体にで
きないために）、ステージ保持台４の加速時にマスクス
テージ２Ａに作用する慣性力によつて連結機構９Ａが押
し縮められるためである。
【０００６】そこでこのような加速度に起因した位置ず
れを補正した後に露光を開始することも考えられるが、
これを実現するにはステージ保持台４の加速やマスクス
テージ２Ａの静定のための助走区間がその分だけ余分に
必要となり、露光装置自体が大型化し、またスループツ
トが低下するという問題があつた。
れを補正した後に露光を開始することも考えられるが、
これを実現するにはステージ保持台４の加速やマスクス
テージ２Ａの静定のための助走区間がその分だけ余分に
必要となり、露光装置自体が大型化し、またスループツ
トが低下するという問題があつた。
【０００７】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、露光性能劣化のおそれがなく、小型でありながらマ
スクと感光基板とを高精度に位置決めして高いスループ
ツトを維持することができる走査型露光装置を提案しよ
うとするものである。
で、露光性能劣化のおそれがなく、小型でありながらマ
スクと感光基板とを高精度に位置決めして高いスループ
ツトを維持することができる走査型露光装置を提案しよ
うとするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、マスク（２）を透過した光束を基
板ステージ（３Ａ）上に載置された感光基板（３）上に
投影する投影光学系（ＰＬ）と、マスクを載置するマス
クステージ（２Ａ）と感光基板を載置する基板ステージ
（３Ａ）とを対面させた状態で一体的に保持するステー
ジ保持台（４）と、該ステージ保持台（４）を投影光学
系に対して相対移動させる駆動手段（５）と、ステージ
保持台（４）上に設けられ、相対移動中におけるマスク
（２）と感光基板（３）との相対位置ずれを補正する第
１のステージ駆動手段（９）とを備え、マスク（２）と
感光基板（３）を所定の位置関係に維持した状態でマス
ク（２）の全面を感光基板（３）上に露光する走査型露
光装置において、駆動手段（５）によつてステージ保持
台（４）に生じる加速度を計測する加速度計測手段（２
１）と、加速度計測手段（２１）によつて測定された加
速度とほぼ同じ大きさの加速度を相対移動中のマスクス
テージ（２Ａ）及び又は基板ステージ（３Ａ）に与え、
該ステージとステージ保持台（４）との間に発生した、
加速に起因する位置ずれを補正する第２のステージ駆動
手段（２２）とを設けるようにする。
め本発明においては、マスク（２）を透過した光束を基
板ステージ（３Ａ）上に載置された感光基板（３）上に
投影する投影光学系（ＰＬ）と、マスクを載置するマス
クステージ（２Ａ）と感光基板を載置する基板ステージ
（３Ａ）とを対面させた状態で一体的に保持するステー
ジ保持台（４）と、該ステージ保持台（４）を投影光学
系に対して相対移動させる駆動手段（５）と、ステージ
保持台（４）上に設けられ、相対移動中におけるマスク
（２）と感光基板（３）との相対位置ずれを補正する第
１のステージ駆動手段（９）とを備え、マスク（２）と
感光基板（３）を所定の位置関係に維持した状態でマス
ク（２）の全面を感光基板（３）上に露光する走査型露
光装置において、駆動手段（５）によつてステージ保持
台（４）に生じる加速度を計測する加速度計測手段（２
１）と、加速度計測手段（２１）によつて測定された加
速度とほぼ同じ大きさの加速度を相対移動中のマスクス
テージ（２Ａ）及び又は基板ステージ（３Ａ）に与え、
該ステージとステージ保持台（４）との間に発生した、
加速に起因する位置ずれを補正する第２のステージ駆動
手段（２２）とを設けるようにする。
【０００９】
【作用】相対移動時におけるステージ保持台（４）の加
速度を加速度計測手段（２１）によつて計測し、計測さ
れた加速度とほぼ同じ大きさの加速度を当該相対移動中
のマスクステージ（２Ａ）及び又は基板ステージ（３
Ａ）に作用させて加速に起因した位置ずれを補正する。
これにより加速によつてマスクステージ（２Ａ）又は基
板ステージ（３Ａ）に生ずる位置ずれによつてマスク
（２）と感光基板（３）との相対位置が変化することを
防ぎ、露光性能を劣化させることなく速やかに走査露光
を開始することができる。
速度を加速度計測手段（２１）によつて計測し、計測さ
れた加速度とほぼ同じ大きさの加速度を当該相対移動中
のマスクステージ（２Ａ）及び又は基板ステージ（３
Ａ）に作用させて加速に起因した位置ずれを補正する。
これにより加速によつてマスクステージ（２Ａ）又は基
板ステージ（３Ａ）に生ずる位置ずれによつてマスク
（２）と感光基板（３）との相対位置が変化することを
防ぎ、露光性能を劣化させることなく速やかに走査露光
を開始することができる。
【００１０】
【実施例】以下図面について、本発明の一実施例を詳述
する。
する。
【００１１】図４との対応部分に同一符号を付して示す
図１において、２０は全体として露光装置を示し、露光
装置２０はステージ保持台４の走査方向への加速度を計
測する加速度センサ２１と、測定された加速度とほぼ同
じ大きさの加速度をマスクステージ２Ａに作用させて走
査開始時（加速時）におけるマスクと感光基板との位置
ずれを補正する補助駆動部２２とを有することを除いて
露光装置１と同様の構成を有している。
図１において、２０は全体として露光装置を示し、露光
装置２０はステージ保持台４の走査方向への加速度を計
測する加速度センサ２１と、測定された加速度とほぼ同
じ大きさの加速度をマスクステージ２Ａに作用させて走
査開始時（加速時）におけるマスクと感光基板との位置
ずれを補正する補助駆動部２２とを有することを除いて
露光装置１と同様の構成を有している。
【００１２】この実施例の場合、補助駆動部２２はリニ
アモータ機構でなり、ステージ保持台４上に設けられ、
マスクステージ２Ａの裏面から制御部２３の指示に応じ
た大きさの加速度を作用させて走査開始時における加速
で生じるマスクステージ２Ａの位置ずれを補正するよう
になされている。因に制御部２３は加速度センサ２１の
測定結果に基づいて補助駆動部２２を制御する他、マス
ク２と感光基板３とを相対的に位置合わせする際の制御
やステージ保持台４を走査させる際の制御にも用いられ
るようになされている。
アモータ機構でなり、ステージ保持台４上に設けられ、
マスクステージ２Ａの裏面から制御部２３の指示に応じ
た大きさの加速度を作用させて走査開始時における加速
で生じるマスクステージ２Ａの位置ずれを補正するよう
になされている。因に制御部２３は加速度センサ２１の
測定結果に基づいて補助駆動部２２を制御する他、マス
ク２と感光基板３とを相対的に位置合わせする際の制御
やステージ保持台４を走査させる際の制御にも用いられ
るようになされている。
【００１３】以上の構成において、露光装置２０による
一連の露光動作を説明する。ただしマスク２及び感光基
板３の相対的な位置合わせ（アライメント処理等）はス
テージ保持台４が静止されている状態で既に終了してい
るものとする。まず制御部２３は一定サンプリング周期
ごとにレーザ干渉計８によつて測定されたステージ保持
台４の位置ＣＸを取り込み、その変化量からステージ保
持台４の移動速度ＣＶk （ｋはサンプリング番号）を、
次式
一連の露光動作を説明する。ただしマスク２及び感光基
板３の相対的な位置合わせ（アライメント処理等）はス
テージ保持台４が静止されている状態で既に終了してい
るものとする。まず制御部２３は一定サンプリング周期
ごとにレーザ干渉計８によつて測定されたステージ保持
台４の位置ＣＸを取り込み、その変化量からステージ保
持台４の移動速度ＣＶk （ｋはサンプリング番号）を、
次式
【数１】 に基づいて求める。
【００１４】制御部２３は（１）式によつて求めた移動
速度ＣＶk を基準にステージ保持台４を加速し、最終目
標速度に到達後のステージ保持台４の移動速度ＣＶk が
一定速度となるよう駆動部５を制御する。例えば図２
（Ａ）に示すように、制御部２３は加速開始から約１
〔秒〕間、ステージ保持台４の加速度を線形に増加させ
てステージ保持台４の速度を図２（Ｂ）に示すように最
終目標速度（0.2 〔m/s 〕）の約半分の速度まで増加さ
せる。そして制御部２３は続く約１〔秒〕間において、
ステージ保持台４の加速度を減少させ、ステージ保持台
４の速度を徐々に最終目標速度に近づけ、最終目標速度
到達後はその速度を維持させる。
速度ＣＶk を基準にステージ保持台４を加速し、最終目
標速度に到達後のステージ保持台４の移動速度ＣＶk が
一定速度となるよう駆動部５を制御する。例えば図２
（Ａ）に示すように、制御部２３は加速開始から約１
〔秒〕間、ステージ保持台４の加速度を線形に増加させ
てステージ保持台４の速度を図２（Ｂ）に示すように最
終目標速度（0.2 〔m/s 〕）の約半分の速度まで増加さ
せる。そして制御部２３は続く約１〔秒〕間において、
ステージ保持台４の加速度を減少させ、ステージ保持台
４の速度を徐々に最終目標速度に近づけ、最終目標速度
到達後はその速度を維持させる。
【００１５】ところでこのステージ保持台４の速度制御
と同時に、制御部２３はアライメント処理等の結果を基
に予め求めておいたマスク２と感光基板３間の相対位置
（ただし走査方向のみ）指令に追従するようにレーザ干
渉計８からステージ保持台４の位置ＣＸ及びマスクステ
ージの位置ＭＸを取り込み、一定サンプリング周期ごと
にマスクと感光基板間の相対位置ΔＸを、次式
と同時に、制御部２３はアライメント処理等の結果を基
に予め求めておいたマスク２と感光基板３間の相対位置
（ただし走査方向のみ）指令に追従するようにレーザ干
渉計８からステージ保持台４の位置ＣＸ及びマスクステ
ージの位置ＭＸを取り込み、一定サンプリング周期ごと
にマスクと感光基板間の相対位置ΔＸを、次式
【数２】 によつて求める。
【００１６】そして制御部２３は駆動部９に制御指令を
与え、求めた相対位置ΔＸが相対位置指令と一致するよ
うに制御する。しかし駆動部９による制御はフイードバ
ツク制御であり、ループ系に含まれる機構的な共振があ
るため応答帯域は10〔Hz〕程度しかとれない。この応答
遅れのため駆動部９だけではステージ保持台４の加速に
起因するマスクと感光基板間の相対的な位置ずれを補正
することはできない。
与え、求めた相対位置ΔＸが相対位置指令と一致するよ
うに制御する。しかし駆動部９による制御はフイードバ
ツク制御であり、ループ系に含まれる機構的な共振があ
るため応答帯域は10〔Hz〕程度しかとれない。この応答
遅れのため駆動部９だけではステージ保持台４の加速に
起因するマスクと感光基板間の相対的な位置ずれを補正
することはできない。
【００１７】そこで制御部２３は加速度センサ２１によ
つて計測された各瞬間の加速度ａkを取り込んでマスク
ステージ２Ａに作用する慣性力を打ち消すのに必要な推
力Ｆk を、次式
つて計測された各瞬間の加速度ａkを取り込んでマスク
ステージ２Ａに作用する慣性力を打ち消すのに必要な推
力Ｆk を、次式
【数３】 に基づいて計算し、補助駆動部２２を介してマスクステ
ージ２Ａに与える。ただしｍはマスクステージ２Ａの質
量とする。
ージ２Ａに与える。ただしｍはマスクステージ２Ａの質
量とする。
【００１８】さて直流式リニアモータはモータ固有の推
力定数ｐと電流ｉとの積（すなわちＦ＝ｐ×ｉ）に応じ
た大きさの推力Ｆが発生する特性があり、電流ｉを制御
することによつて任意の発生推力Ｆを発生させることが
できる。従つて加速度センサ２１の測定結果とほぼ同じ
大きさの加速度を簡単にマスクステージ２Ａに作用させ
ることができる。
力定数ｐと電流ｉとの積（すなわちＦ＝ｐ×ｉ）に応じ
た大きさの推力Ｆが発生する特性があり、電流ｉを制御
することによつて任意の発生推力Ｆを発生させることが
できる。従つて加速度センサ２１の測定結果とほぼ同じ
大きさの加速度を簡単にマスクステージ２Ａに作用させ
ることができる。
【００１９】因にこの実施例では補助駆動部２２として
最大推力の小さいものを使用しているため、制御部２３
の指令する推力と同じ大きさの推力Ｆが作用し始めるの
は図２（Ｃ）に示すように加速終了直前の約２〔秒〕の
時点である。すなわち加速開始から加速終了直前までの
期間は制御部２３の指令する推力Ｆが補助駆動部２２の
最大推力（10〔Ｎ〕）より大きくなるため最大推力Ｆが
マスクステージ２Ａに作用し続けられる。
最大推力の小さいものを使用しているため、制御部２３
の指令する推力と同じ大きさの推力Ｆが作用し始めるの
は図２（Ｃ）に示すように加速終了直前の約２〔秒〕の
時点である。すなわち加速開始から加速終了直前までの
期間は制御部２３の指令する推力Ｆが補助駆動部２２の
最大推力（10〔Ｎ〕）より大きくなるため最大推力Ｆが
マスクステージ２Ａに作用し続けられる。
【００２０】以上の構成によれば、ステージ保持台４の
加速開始から加速終了直前までの間は所定の大きさの推
力をマスクステージ２Ａに作用させ、加速終了後以降は
ステージ保持台４の加速度とほぼ同じ加速度をマスクス
テージ２Ａに作用させてマスクステージ２Ａをステージ
保持台４の速度に素早く追随させるようにしたことによ
り、マスクステージ２Ａとステージ保持台４との間の位
置ずれを早く収めることができる。
加速開始から加速終了直前までの間は所定の大きさの推
力をマスクステージ２Ａに作用させ、加速終了後以降は
ステージ保持台４の加速度とほぼ同じ加速度をマスクス
テージ２Ａに作用させてマスクステージ２Ａをステージ
保持台４の速度に素早く追随させるようにしたことによ
り、マスクステージ２Ａとステージ保持台４との間の位
置ずれを早く収めることができる。
【００２１】この位置ずれ補正の効果は従来装置によつ
て生じる位置ずれに実施例の位置ずれを重ねて示す図３
からも分かる。すなわち従来装置の場合には等速移動に
移つた後もサイン波状に周期的な位置ずれがみられてい
たが実施例の機構を採用する露光装置２０の場合にはこ
のような位置ずれがほとんど生じていない。このように
露光装置２０を用いれば、加速終了後の制定時間を短く
済ませることができかつ加速終了後の位置ずれを極力小
さく抑えることができる。すなわち露光性能を劣化させ
ることなく、高スループツトの露光が可能な走査型露光
装置を得ることができる。
て生じる位置ずれに実施例の位置ずれを重ねて示す図３
からも分かる。すなわち従来装置の場合には等速移動に
移つた後もサイン波状に周期的な位置ずれがみられてい
たが実施例の機構を採用する露光装置２０の場合にはこ
のような位置ずれがほとんど生じていない。このように
露光装置２０を用いれば、加速終了後の制定時間を短く
済ませることができかつ加速終了後の位置ずれを極力小
さく抑えることができる。すなわち露光性能を劣化させ
ることなく、高スループツトの露光が可能な走査型露光
装置を得ることができる。
【００２２】なお上述の実施例においては、補助駆動部
２２としてリニアモータ機構を用いる場合について述べ
たが、本発明はこれに限らず、他の駆動機構、例えばボ
イスコイルモータ機構を用いても良い。この場合にも実
施例の場合と同様の効果を得ることができる。
２２としてリニアモータ機構を用いる場合について述べ
たが、本発明はこれに限らず、他の駆動機構、例えばボ
イスコイルモータ機構を用いても良い。この場合にも実
施例の場合と同様の効果を得ることができる。
【００２３】また上述の実施例においては、補助駆動部
２２として発生される最大推力の小さいものを用いる場
合について述べたが、本発明はこれに限らず、最大推力
の大きなものを用いて加速期間中も加速時の加速度と同
じ大きさの加速度による推力を作用できるようにしても
良い。このようにすれば加速時に生じる位置ずれを一段
と小さくすることができる。
２２として発生される最大推力の小さいものを用いる場
合について述べたが、本発明はこれに限らず、最大推力
の大きなものを用いて加速期間中も加速時の加速度と同
じ大きさの加速度による推力を作用できるようにしても
良い。このようにすれば加速時に生じる位置ずれを一段
と小さくすることができる。
【００２４】さらに上述の実施例においては、補助駆動
部２２で発生される推力Ｆを加速の開始から作用させる
場合について述べたが、本発明はこれに限らず、加速終
了直前あたりから作用させるようにするなど、推力を作
用させる開始時点は任意に設定できる。
部２２で発生される推力Ｆを加速の開始から作用させる
場合について述べたが、本発明はこれに限らず、加速終
了直前あたりから作用させるようにするなど、推力を作
用させる開始時点は任意に設定できる。
【００２５】さらに上述の実施例においては、補助駆動
部２２によつてマスクステージ２Ａを駆動することによ
り加速に起因した位置ずれを補正する場合について述べ
たが、本発明はこれに限らず、基板ステージ３Ａを駆動
することにより位置ずれを補正しても良い。またマスク
ステージ２Ａと基板ステージ３Ａを共に駆動するように
しても良い。
部２２によつてマスクステージ２Ａを駆動することによ
り加速に起因した位置ずれを補正する場合について述べ
たが、本発明はこれに限らず、基板ステージ３Ａを駆動
することにより位置ずれを補正しても良い。またマスク
ステージ２Ａと基板ステージ３Ａを共に駆動するように
しても良い。
【００２６】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、相対移動
時におけるステージ保持台の加速度を加速度計測手段に
よつて計測し、計測された加速度とほぼ同じ大きさの加
速度を相対移動中のマスクステージ及び又は基板ステー
ジに作用させて、加速に起因した位置ずれを補正するよ
うにしたことにより、露光性能を劣化させることなく高
いスループツトでマスクの像を転写することができる走
査型露光装置を容易に実現することができる。
時におけるステージ保持台の加速度を加速度計測手段に
よつて計測し、計測された加速度とほぼ同じ大きさの加
速度を相対移動中のマスクステージ及び又は基板ステー
ジに作用させて、加速に起因した位置ずれを補正するよ
うにしたことにより、露光性能を劣化させることなく高
いスループツトでマスクの像を転写することができる走
査型露光装置を容易に実現することができる。
【図１】本発明による走査型露光装置の一実施例を示す
略線的側面図である。
略線的側面図である。
【図２】ステージに作用される推力とマスク感光基板間
の相対的な位置関係の変化を示す特性曲線図である。図
中、（Ａ）はステージ保持台加速度、（Ｂ）はステージ
保持台速度、（Ｃ）は補助駆動部推力、（Ｄ）はマスク
・感光基板間の相対位置ずれをそれぞれ表す。
の相対的な位置関係の変化を示す特性曲線図である。図
中、（Ａ）はステージ保持台加速度、（Ｂ）はステージ
保持台速度、（Ｃ）は補助駆動部推力、（Ｄ）はマスク
・感光基板間の相対位置ずれをそれぞれ表す。
【図３】実施例の露光装置を用いる場合に生じる位置ず
れと従来装置を用いる場合に生じる位置ずれとの関係を
示す特性曲線図である。
れと従来装置を用いる場合に生じる位置ずれとの関係を
示す特性曲線図である。
【図４】従来装置を示す略線的側面図である。
【図５】従来装置でステージ保持台を加速する際に生じ
るマスク感光基板間の相対的な位置関係の変化を示す特
性曲線図である。図中、（Ａ）はステージ保持台加速
度、（Ｂ）はステージ保持台速度、（Ｃ）は補助駆動部
推力、（Ｄ）はマスク・感光基板間の相対位置ずれをそ
れぞれ表す。
るマスク感光基板間の相対的な位置関係の変化を示す特
性曲線図である。図中、（Ａ）はステージ保持台加速
度、（Ｂ）はステージ保持台速度、（Ｃ）は補助駆動部
推力、（Ｄ）はマスク・感光基板間の相対位置ずれをそ
れぞれ表す。
１、２０……露光装置、２……マスク、２Ａ……マスク
ステージ、３……感光基板、３Ａ……基板ステージ、４
……ステージ保持台、５、９……駆動部、６……防振機
構、７……基台、８……レーザ干渉計、１０、２３……
制御部、２１……加速度センサ、２２……補助駆動部。
ステージ、３……感光基板、３Ａ……基板ステージ、４
……ステージ保持台、５、９……駆動部、６……防振機
構、７……基台、８……レーザ干渉計、１０、２３……
制御部、２１……加速度センサ、２２……補助駆動部。
Claims (1)
- 【請求項１】マスクを透過した光束を感光基板上に投影
する投影光学系と、前記マスクを載置するマスクステー
ジと前記感光基板を載置する基板ステージとを対面させ
た状態で一体的に保持するステージ保持台と、該ステー
ジ保持台を前記投影光学系に対して相対移動させる駆動
手段と、前記ステージ保持台上に設けられ、前記相対移
動中における前記マスクと前記感光基板との相対位置ず
れを補正する第１のステージ駆動手段とを備え、前記マ
スクと前記感光基板を所定の位置関係に維持した状態で
前記マスクの全面を前記感光基板上に露光する走査型露
光装置において、 前記駆動手段によつて前記ステージ保持台に生じる加速
度を計測する加速度計測手段と、 前記加速度計測手段によつて測定された加速度とほぼ同
じ大きさの加速度を前記相対移動中の前記マスクステー
ジ及び又は基板ステージに与え、該ステージと前記ステ
ージ保持台との間に発生した、加速に起因する位置ずれ
を補正する第２のステージ駆動手段とを具えることを特
徴とする走査型露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28287394A JP3500737B2 (ja) | 1994-10-21 | 1994-10-21 | 走査型露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28287394A JP3500737B2 (ja) | 1994-10-21 | 1994-10-21 | 走査型露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08124843A true JPH08124843A (ja) | 1996-05-17 |
| JP3500737B2 JP3500737B2 (ja) | 2004-02-23 |
Family
ID=17658196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28287394A Expired - Fee Related JP3500737B2 (ja) | 1994-10-21 | 1994-10-21 | 走査型露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3500737B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19990083062A (ko) * | 1998-04-08 | 1999-11-25 | 미다라이 후지오 | 구동장치 및 노광장치 |
| US6710850B2 (en) * | 2000-12-22 | 2004-03-23 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and exposure method |
| KR100554883B1 (ko) * | 1998-12-17 | 2006-02-24 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 서보 제어법 및 리소그래피 투영장치에의 적용 |
| JP2009071305A (ja) * | 2007-09-14 | 2009-04-02 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置および露光方法 |
-
1994
- 1994-10-21 JP JP28287394A patent/JP3500737B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19990083062A (ko) * | 1998-04-08 | 1999-11-25 | 미다라이 후지오 | 구동장치 및 노광장치 |
| KR100554883B1 (ko) * | 1998-12-17 | 2006-02-24 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 서보 제어법 및 리소그래피 투영장치에의 적용 |
| US6710850B2 (en) * | 2000-12-22 | 2004-03-23 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and exposure method |
| JP2009071305A (ja) * | 2007-09-14 | 2009-04-02 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置および露光方法 |
| JP4717911B2 (ja) * | 2007-09-14 | 2011-07-06 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | リソグラフィ装置および露光方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3500737B2 (ja) | 2004-02-23 |
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