JPH08122523A - 位相差板 - Google Patents
位相差板Info
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- JPH08122523A JPH08122523A JP26532694A JP26532694A JPH08122523A JP H08122523 A JPH08122523 A JP H08122523A JP 26532694 A JP26532694 A JP 26532694A JP 26532694 A JP26532694 A JP 26532694A JP H08122523 A JPH08122523 A JP H08122523A
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- films
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 従来、斜め柱状構造膜を用いた位相差板にて
大きな課題であった膜剥離を解決し、実用レベルの信頼
性をもつ低コストな位相差板を提供する。 【構成】 ニオブ酸リチウム基板１１の両面に、斜め柱
状構造を有する複屈折膜（Ｔａ2Ｏ5膜）１２を形成す
る。この場合、各面に形成する複屈折膜１２の厚みは、
片面に形成する場合の１／２とする。 【効果】 上記構成によれば、片面での膜厚を薄くでき
るので、複屈折膜の内部応力を低減でき、基板と複屈折
膜との付着の信頼性を向上できる。光学特性は、片面に
一括して膜を形成した場合と同等である。
大きな課題であった膜剥離を解決し、実用レベルの信頼
性をもつ低コストな位相差板を提供する。 【構成】 ニオブ酸リチウム基板１１の両面に、斜め柱
状構造を有する複屈折膜（Ｔａ2Ｏ5膜）１２を形成す
る。この場合、各面に形成する複屈折膜１２の厚みは、
片面に形成する場合の１／２とする。 【効果】 上記構成によれば、片面での膜厚を薄くでき
るので、複屈折膜の内部応力を低減でき、基板と複屈折
膜との付着の信頼性を向上できる。光学特性は、片面に
一括して膜を形成した場合と同等である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、複屈折性をもつ斜め柱
状構造膜を用いた波長板に関する。
状構造膜を用いた波長板に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、１／４波長板、１／２波長板のほ
とんどは無機光学単結晶、あるいは有機フィルムにより
作られている。
とんどは無機光学単結晶、あるいは有機フィルムにより
作られている。
【０００３】しかし、無機光学単結晶は波長板としての
性能や信頼性に優れるものの、原材料費、およびリタ−
デ−ション調整のための加工研磨費とも高く、大きさも
限定される。
性能や信頼性に優れるものの、原材料費、およびリタ−
デ−ション調整のための加工研磨費とも高く、大きさも
限定される。
【０００４】また、有機フィルムは大きさの制限は比較
的ないものの、熱や紫外光にて劣化し製造コストも高い
という欠点を有する。
的ないものの、熱や紫外光にて劣化し製造コストも高い
という欠点を有する。
【０００５】一方、基板の法線方向に対し、斜め方向か
ら飛来する粒子にて形成した斜め柱状構造膜が基板に垂
直に入射する光線に対し複屈折性を有することは古くか
ら知られている（例えば、文献：応用物理学会誌、第３
２巻、第２号 参照）。
ら飛来する粒子にて形成した斜め柱状構造膜が基板に垂
直に入射する光線に対し複屈折性を有することは古くか
ら知られている（例えば、文献：応用物理学会誌、第３
２巻、第２号 参照）。
【０００６】このような斜め柱状構造膜を用いると膜厚
によってリタ−デ−ションを自由に設定でき、大面積化
できるとともに、大量に生産することにより低コスト化
がみこまれる。
によってリタ−デ−ションを自由に設定でき、大面積化
できるとともに、大量に生産することにより低コスト化
がみこまれる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、斜め柱
状構造膜は現在のところ光学部品として実用化された例
はほとんどない。斜め柱状構造膜は傾斜した柱状構造を
持つため、膜密度が疎であり、基板あるいは他の隣接層
との付着性が低い。
状構造膜は現在のところ光学部品として実用化された例
はほとんどない。斜め柱状構造膜は傾斜した柱状構造を
持つため、膜密度が疎であり、基板あるいは他の隣接層
との付着性が低い。
【０００８】すなわち、例えば１／４波長板としての機
能を得るには、少なくとも２〜３μｍ程度の厚膜にする
必要があり、膜自身の内部応力によって、隣接界面で比
較的簡単に剥離するという課題を有していた。
能を得るには、少なくとも２〜３μｍ程度の厚膜にする
必要があり、膜自身の内部応力によって、隣接界面で比
較的簡単に剥離するという課題を有していた。
【０００９】以下、従来の課題について詳細に説明す
る。図９を用いて、基板として屈折率の高い基板、例え
ばニオブ酸リチウムに応用した例について説明する。
る。図９を用いて、基板として屈折率の高い基板、例え
ばニオブ酸リチウムに応用した例について説明する。
【００１０】図９に示すようにニオブ酸リチウム９１の
基板上に高屈折率の異方性薄膜としてＴａ2Ｏ5膜９２を
形成する。形成方法は、図１０のように真空蒸着法を用
いて、真空チャンバ−内１０１に斜めに設定されたニオ
ブ酸リチウム基板１０２に形成する。
基板上に高屈折率の異方性薄膜としてＴａ2Ｏ5膜９２を
形成する。形成方法は、図１０のように真空蒸着法を用
いて、真空チャンバ−内１０１に斜めに設定されたニオ
ブ酸リチウム基板１０２に形成する。
【００１１】蒸着条件の一例としては、基板温度３００
℃、到達真空度２×１０-6torr、蒸着スヒ゜-ト゛３nm/ｓ程
度である。
℃、到達真空度２×１０-6torr、蒸着スヒ゜-ト゛３nm/ｓ程
度である。
【００１２】以下、真空蒸着法による説明を行うが、斜
め柱状構造であればその形成方法は限定するものではな
く、例えばスパッタ法であっても何等、問題はない。
め柱状構造であればその形成方法は限定するものではな
く、例えばスパッタ法であっても何等、問題はない。
【００１３】形成された薄膜１０７は、斜め柱状構造の
薄膜となり、入射する光の偏光状態により屈折率が変化
する、いわゆる異方性の薄膜となる。
薄膜となり、入射する光の偏光状態により屈折率が変化
する、いわゆる異方性の薄膜となる。
【００１４】本薄膜を、紙面に対して垂直方向（Ｎｅ）
と水平方向（Ｎｏ）の屈折率を測定すると、Ｎｅ＝１.
８、Ｎｏ＝１.８８であった。
と水平方向（Ｎｏ）の屈折率を測定すると、Ｎｅ＝１.
８、Ｎｏ＝１.８８であった。
【００１５】この薄膜を用いて位相差板として、例えば
λ／４波長板（波長λ＝７８０ｎｍ）を作成する場合を
例にとり説明する。
λ／４波長板（波長λ＝７８０ｎｍ）を作成する場合を
例にとり説明する。
【００１６】λ／４波長板の特性を実現するためには、 ｄ＝λ／４／（Ｎｏ−Ｎｅ） だけの膜厚を形成すればよいことが知られているため、
本薄膜も上記式にあてはめて計算すると、２.４μｍと
なる。
本薄膜も上記式にあてはめて計算すると、２.４μｍと
なる。
【００１７】この膜厚量を基板上に形成し、λ／４波長
板としての性能を評価したところ、ほぼ計算値通りの９
０度の位相差を実現できた。
板としての性能を評価したところ、ほぼ計算値通りの９
０度の位相差を実現できた。
【００１８】しかし、このようなＴａ2Ｏ5膜を２.４μ
ｍ形成した時の分光特性は図１１に示したような分光特
性となり、７７％程度に透過特性が劣化するとともに、
光学部品の一般的な信頼性試験である６０℃、−３０℃
保持各１時間、１０サイクルのヒ−トショック試験を行
ったところ、Ｔａ2Ｏ5膜がニオブ酸リチウム基板から一
部剥離という大きな課題を有している。分光特性の課題
は両面に反射防止膜を形成することで、解決されてい
る。しかし、信頼性については有効な手段がないのが現
状である。
ｍ形成した時の分光特性は図１１に示したような分光特
性となり、７７％程度に透過特性が劣化するとともに、
光学部品の一般的な信頼性試験である６０℃、−３０℃
保持各１時間、１０サイクルのヒ−トショック試験を行
ったところ、Ｔａ2Ｏ5膜がニオブ酸リチウム基板から一
部剥離という大きな課題を有している。分光特性の課題
は両面に反射防止膜を形成することで、解決されてい
る。しかし、信頼性については有効な手段がないのが現
状である。
【００１９】また、図１２の構成のようにＴａ2Ｏ5膜を
基板法線に対し、第１層１２２、第２層１２３のように
互いに対称な斜め柱状構造をもった２層構成とすること
によって、位相差板に入る入射光の角度制限を緩和でき
る。
基板法線に対し、第１層１２２、第２層１２３のように
互いに対称な斜め柱状構造をもった２層構成とすること
によって、位相差板に入る入射光の角度制限を緩和でき
る。
【００２０】しかしながら、この構成においても、上記
同様のヒ−トショック試験を行ったところ、Ｔａ2Ｏ5膜
の第１層１２２、第２層１２３間で全面剥離という大き
な課題を有している。
同様のヒ−トショック試験を行ったところ、Ｔａ2Ｏ5膜
の第１層１２２、第２層１２３間で全面剥離という大き
な課題を有している。
【００２１】特に、斜め柱状構造膜の上に、基板法線に
対称な傾きをもつ斜め柱状構造膜を形成するとその界面
で剥がれ易いことがわかった。
対称な傾きをもつ斜め柱状構造膜を形成するとその界面
で剥がれ易いことがわかった。
【００２２】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、信頼性に優れ、高性能、低価格な位相差板を提供す
ることを目的とする。
で、信頼性に優れ、高性能、低価格な位相差板を提供す
ることを目的とする。
【００２３】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本願の第１の発明の位相差板は、基板の向かい合う二
面に、各々少なくとも一層、複屈折性をもつ斜め柱状構
造膜を形成したものである。
に本願の第１の発明の位相差板は、基板の向かい合う二
面に、各々少なくとも一層、複屈折性をもつ斜め柱状構
造膜を形成したものである。
【００２４】また、本願の第２の発明の位相差板は、基
板の片面に少なくとも一層、複屈折性をもつ斜め柱状構
造膜を設け、これをふたつ、それぞれの膜面を向い合わ
せて接着した構造をもつものである。
板の片面に少なくとも一層、複屈折性をもつ斜め柱状構
造膜を設け、これをふたつ、それぞれの膜面を向い合わ
せて接着した構造をもつものである。
【００２５】
【作用】第１の発明の位相差板は従来の課題であった斜
め柱状構造膜の厚膜化による剥離を、基板両面に斜め柱
状構造膜を振り分けて形成することで解決するものであ
る。
め柱状構造膜の厚膜化による剥離を、基板両面に斜め柱
状構造膜を振り分けて形成することで解決するものであ
る。
【００２６】また第２の発明の位相差板は基板の片面に
斜め柱状構造を形成し、これを二つ一組として膜面を向
かい合わせて接着することにより、斜め柱状構造膜を厚
膜化させることなく、信頼性を向上させる。
斜め柱状構造を形成し、これを二つ一組として膜面を向
かい合わせて接着することにより、斜め柱状構造膜を厚
膜化させることなく、信頼性を向上させる。
【００２７】両発明とも斜め柱状構造膜の間に異なる材
料を挟み込んだ構成となるが、このような構成であって
も位相差板としての性能は劣化しないことを、新たに実
験的に確認した。
料を挟み込んだ構成となるが、このような構成であって
も位相差板としての性能は劣化しないことを、新たに実
験的に確認した。
【００２８】
（実施例１）以下、本発明を実施例に基づき詳細に説明
する。本発明は、一層あたりのＴａ2Ｏ5膜厚を減らして
膜の内部応力を低減するとともに、特に基板法線に対
し、第１層１２１、第２層１２２のように互いに対称な
斜め柱状構造をもった２層が互いに隣合わない構成とし
て信頼性を向上しようとするものである。
する。本発明は、一層あたりのＴａ2Ｏ5膜厚を減らして
膜の内部応力を低減するとともに、特に基板法線に対
し、第１層１２１、第２層１２２のように互いに対称な
斜め柱状構造をもった２層が互いに隣合わない構成とし
て信頼性を向上しようとするものである。
【００２９】図１は本発明の第１実施例の位相差板の構
成を示すもので、ニオブ酸リチウム基板１１の両面に、
Ｔａ2Ｏ5膜１２を各１.２μｍ形成したものである。各
Ｔａ2Ｏ5膜は基板に対し、互いに対称な斜め柱状構造
をもっている。
成を示すもので、ニオブ酸リチウム基板１１の両面に、
Ｔａ2Ｏ5膜１２を各１.２μｍ形成したものである。各
Ｔａ2Ｏ5膜は基板に対し、互いに対称な斜め柱状構造
をもっている。
【００３０】図１の位相差板の分光特性を図２に示す。
波長λ＝７８０ｎｍにて透過特性がほぼ９２％の良好な
光学特性が実現できていることがわかる。
波長λ＝７８０ｎｍにて透過特性がほぼ９２％の良好な
光学特性が実現できていることがわかる。
【００３１】また、λ／４波長板としての性能を評価し
たところ、９０度の位相差を実現できていることが新た
に判明した。
たところ、９０度の位相差を実現できていることが新た
に判明した。
【００３２】すなわち、 ｄ＝λ／４／（Ｎｏ−Ｎｅ） の関係が、斜め柱状構造膜を分割して配置しても成立す
ることを、実験的に新たに見いだした。
ることを、実験的に新たに見いだした。
【００３３】さらに、上記同様のヒ−トショック試験を
行ったところ、全く剥離や膜面にクラックは見られず、
透過特性、位相差特性とも変化なしであった。
行ったところ、全く剥離や膜面にクラックは見られず、
透過特性、位相差特性とも変化なしであった。
【００３４】高屈折率の異方性の薄膜としてＴａ2Ｏ5以
外の、ＴｉＯ2、Ｂｉ3Ｏ5、ＣｅＯ2膜についても同様の
結果が得られた。
外の、ＴｉＯ2、Ｂｉ3Ｏ5、ＣｅＯ2膜についても同様の
結果が得られた。
【００３５】また、基板についても、たとえばＢＫ７の
ような低屈折率基板に対しては、透過特性は波長λ＝７
８０ｎｍにて約７７％の透過率で、改善されないもの
の、ヒ−トショック試験などによって実用レベルの信頼
性を確認でき、実用上、基板材質への制限がないことが
判明した。
ような低屈折率基板に対しては、透過特性は波長λ＝７
８０ｎｍにて約７７％の透過率で、改善されないもの
の、ヒ−トショック試験などによって実用レベルの信頼
性を確認でき、実用上、基板材質への制限がないことが
判明した。
【００３６】先述したように、従来から透過特性を改善
するために基板両面に反射防止膜を形成する必要があっ
たため、本発明の膜構成は量産上、従来例に対し何等劣
るものではない。
するために基板両面に反射防止膜を形成する必要があっ
たため、本発明の膜構成は量産上、従来例に対し何等劣
るものではない。
【００３７】従って本発明は、基板の両面に光学的に異
方性である斜め柱状構造膜のＴａ2Ｏ5膜を設けることで
基板との付着性を強くし、信頼性の高い位相差板を提供
することを可能とするもので非常に有効である。
方性である斜め柱状構造膜のＴａ2Ｏ5膜を設けることで
基板との付着性を強くし、信頼性の高い位相差板を提供
することを可能とするもので非常に有効である。
【００３８】（実施例２）以下、本発明の第２の実施例
について説明する。
について説明する。
【００３９】図３は第２の実施例の位相差板の構成を示
すもので、ニオブ酸リチウム基板３１の両面に斜め柱状
構造膜のＴａ2Ｏ5膜３２を各１.２μｍ形成し、その上
に両面にＭｇＦ2３３を各０.１７μｍを形成したもので
ある。
すもので、ニオブ酸リチウム基板３１の両面に斜め柱状
構造膜のＴａ2Ｏ5膜３２を各１.２μｍ形成し、その上
に両面にＭｇＦ2３３を各０.１７μｍを形成したもので
ある。
【００４０】図３の位相差板の分光特性を図４に示す。
透過特性がほぼ９８％のきわめて良好な光学特性が実現
できていることがわかる。また、実施例１と同様、λ／
４波長板として評価したところ、９０度の位相差を実現
することができた。
透過特性がほぼ９８％のきわめて良好な光学特性が実現
できていることがわかる。また、実施例１と同様、λ／
４波長板として評価したところ、９０度の位相差を実現
することができた。
【００４１】さらに、上記同様のヒ−トショック試験を
行ったところ、全く剥離や膜面にクラックは見られず、
透過特性、位相差特性とも試験前後で変化なしであっ
た。
行ったところ、全く剥離や膜面にクラックは見られず、
透過特性、位相差特性とも試験前後で変化なしであっ
た。
【００４２】ＭｇＦ2膜にかわりＳｉＯ2膜についても同
様の検討を行ったところ良好な信頼性、光学特性が実現
できた。
様の検討を行ったところ良好な信頼性、光学特性が実現
できた。
【００４３】従って本発明は、ニオブ酸リチウム基板上
の両面に光学的に異方性である斜め柱状構造膜のＴａ2
Ｏ5膜とＭｇＦ2膜もしくはＳｉＯ2膜からなる２層膜を
形成することにより、実用レベルの信頼性をもち、反射
防止効果とλ／４波長板の機能を兼ね備えた位相差板を
提供することができる。
の両面に光学的に異方性である斜め柱状構造膜のＴａ2
Ｏ5膜とＭｇＦ2膜もしくはＳｉＯ2膜からなる２層膜を
形成することにより、実用レベルの信頼性をもち、反射
防止効果とλ／４波長板の機能を兼ね備えた位相差板を
提供することができる。
【００４４】高屈折率の異方性の薄膜としてＴａ2Ｏ5に
ついて述べたが、本発明は特に、この材料に限定するも
のではなく、ＴｉＯ2、Ｂｉ3Ｏ5、ＣｅＯ2膜であっても
かまわない。
ついて述べたが、本発明は特に、この材料に限定するも
のではなく、ＴｉＯ2、Ｂｉ3Ｏ5、ＣｅＯ2膜であっても
かまわない。
【００４５】（実施例３）以下、本発明の第３の実施例
として、基板として屈折率の低い基板、例えばＢＫ７に
応用した例について図５を用いて説明する。
として、基板として屈折率の低い基板、例えばＢＫ７に
応用した例について図５を用いて説明する。
【００４６】ＢＫ７基板５１の両面に中屈折率の薄膜と
してＡｌ2Ｏ3膜５２を用い、真空蒸着法により膜厚を約
１２６ｎｍ形成する。その上に高屈折率の異方性薄膜と
して斜め柱状構造のＴａ2Ｏ5膜５３を用い、膜厚１.２
μｍ形成する。その上にＳｉＯ2膜５４を約１３１ｎｍ
形成する。
してＡｌ2Ｏ3膜５２を用い、真空蒸着法により膜厚を約
１２６ｎｍ形成する。その上に高屈折率の異方性薄膜と
して斜め柱状構造のＴａ2Ｏ5膜５３を用い、膜厚１.２
μｍ形成する。その上にＳｉＯ2膜５４を約１３１ｎｍ
形成する。
【００４７】この時、分光特性は図６に示すように、透
過率が９９％以上のきわめて良好な反射防止効果が実現
できる。実施例１、２と同様、λ／４波長板として評価
したところ、計算どおりの９０度の位相差を実現するこ
とができた。
過率が９９％以上のきわめて良好な反射防止効果が実現
できる。実施例１、２と同様、λ／４波長板として評価
したところ、計算どおりの９０度の位相差を実現するこ
とができた。
【００４８】さらに、上記同様のヒ−トショック試験を
行ったところ、全く剥離や膜面にクラックは見られず、
透過特性、位相差特性とも試験前後で変化なしであっ
た。
行ったところ、全く剥離や膜面にクラックは見られず、
透過特性、位相差特性とも試験前後で変化なしであっ
た。
【００４９】また、ＳｉＯ2膜について述べたが、Ｍｇ
Ｆ2膜でも同様の効果が得られるのはいうまでもない。
Ｆ2膜でも同様の効果が得られるのはいうまでもない。
【００５０】従って本発明は、ＢＫ７基板上の両面にＡ
ｌ2Ｏ3膜などの中屈折率の薄膜を形成し、その上に光学
的に異方性である斜め柱状構造膜のＴａ2Ｏ5膜を、さら
にその上にＭｇＦ2膜もしくはＳｉＯ2膜からなる３層膜
を形成することにより、実用レベルの信頼性をもち、反
射防止効果とλ／４波長板の機能を兼ね備えた位相差板
を提供することができる。
ｌ2Ｏ3膜などの中屈折率の薄膜を形成し、その上に光学
的に異方性である斜め柱状構造膜のＴａ2Ｏ5膜を、さら
にその上にＭｇＦ2膜もしくはＳｉＯ2膜からなる３層膜
を形成することにより、実用レベルの信頼性をもち、反
射防止効果とλ／４波長板の機能を兼ね備えた位相差板
を提供することができる。
【００５１】（実施例４）次に、本発明の第４の実施例
について説明する。
について説明する。
【００５２】図７（ａ）のように、ニオブ酸リチウム基
板７１の片面にＳｉＯ2膜７２を１３１ｎｍ形成し、そ
の逆面に斜め柱状構造膜であるＴａ2Ｏ5膜７３を１.２
μｍ形成する。これを２つ用意し、図７（ｂ）のように
Ｔａ2Ｏ5膜を向い合わせにして、市販されている屈折率
が１.５程度のＵＶ接着材７４にて貼り合わせる。
板７１の片面にＳｉＯ2膜７２を１３１ｎｍ形成し、そ
の逆面に斜め柱状構造膜であるＴａ2Ｏ5膜７３を１.２
μｍ形成する。これを２つ用意し、図７（ｂ）のように
Ｔａ2Ｏ5膜を向い合わせにして、市販されている屈折率
が１.５程度のＵＶ接着材７４にて貼り合わせる。
【００５３】このような構成をもつ位相差板の特性を図
８に示す。このように透過率が９９％以上のきわめて良
好な反射防止効果が実現できる。実施例１、２と同様、
λ／４波長板として評価したところ、計算どおりの９０
度の位相差を実現することができた。
８に示す。このように透過率が９９％以上のきわめて良
好な反射防止効果が実現できる。実施例１、２と同様、
λ／４波長板として評価したところ、計算どおりの９０
度の位相差を実現することができた。
【００５４】なお、検討の結果、接着層の厚みは１０μ
ｍ程度であり、ばらつきが±５μｍ以上あっても光学特
性にほとんど影響しないことが確認できた。
ｍ程度であり、ばらつきが±５μｍ以上あっても光学特
性にほとんど影響しないことが確認できた。
【００５５】さらに、上記同様のヒ−トショック試験を
行ったところ、全く剥離や膜面にクラックは見られず、
透過特性、位相差特性とも試験前後で変化なしであっ
た。特に耐湿性に優れ、６０℃、９０％ＲＨ試験１００
０時間後も変化なしであった。
行ったところ、全く剥離や膜面にクラックは見られず、
透過特性、位相差特性とも試験前後で変化なしであっ
た。特に耐湿性に優れ、６０℃、９０％ＲＨ試験１００
０時間後も変化なしであった。
【００５６】斜め蒸着膜が接着層によって密閉され、水
分の侵入を妨げていると考えられる。
分の侵入を妨げていると考えられる。
【００５７】なお、本実施例では、その製造方法の一例
について述べたがこれに限るものではない。例えば、ニ
オブ酸リチウム基板の片面に斜め柱状構造膜であるＴａ
2Ｏ5膜を形成したものを２つ用意し、Ｔａ2Ｏ5膜を向い
合わせにして、ＵＶ接着材にて貼り合わせた後、両面に
ＳｉＯ2膜を形成してもよい。あるいはＵＶ接着材にて
貼り合わす前に熱処理工程を入れてもよい。あるいは、
ＵＶ接着剤を使わなくとも、ガラスで高温溶着させても
よい。
について述べたがこれに限るものではない。例えば、ニ
オブ酸リチウム基板の片面に斜め柱状構造膜であるＴａ
2Ｏ5膜を形成したものを２つ用意し、Ｔａ2Ｏ5膜を向い
合わせにして、ＵＶ接着材にて貼り合わせた後、両面に
ＳｉＯ2膜を形成してもよい。あるいはＵＶ接着材にて
貼り合わす前に熱処理工程を入れてもよい。あるいは、
ＵＶ接着剤を使わなくとも、ガラスで高温溶着させても
よい。
【００５８】また、基板はニオブ酸リチウムに限るもの
でなく、例えばＢＫ７などでもよい。
でなく、例えばＢＫ７などでもよい。
【００５９】ＳｉＯ2膜についてもこれに限るものでは
なく、基板にあわせて反射防止効果のでる適当な材料を
用いればよい。
なく、基板にあわせて反射防止効果のでる適当な材料を
用いればよい。
【００６０】また、構成についても同一の構成のものを
貼り合わす必要はなく、要は斜め柱状構造膜が形成され
ている面で貼り合わせてあればよい。
貼り合わす必要はなく、要は斜め柱状構造膜が形成され
ている面で貼り合わせてあればよい。
【００６１】本発明の構成は一層あたりのＴａ2Ｏ5膜厚
を減らして膜の内部応力を低減するとともに、斜め柱状
構造をもった２層が互いに隣合わない構成として信頼性
を向上しようとするものである。
を減らして膜の内部応力を低減するとともに、斜め柱状
構造をもった２層が互いに隣合わない構成として信頼性
を向上しようとするものである。
【００６２】従って本発明を用いれば、基板上の片面に
少なくとも一層、光学的に異方性である斜め柱状構造膜
のＴａ2Ｏ5膜を成膜し、二つ一組として、斜め柱状構造
面を向かい合わせて貼り合わせることにより、きわめて
信頼性の高い位相差板を提供することができる。
少なくとも一層、光学的に異方性である斜め柱状構造膜
のＴａ2Ｏ5膜を成膜し、二つ一組として、斜め柱状構造
面を向かい合わせて貼り合わせることにより、きわめて
信頼性の高い位相差板を提供することができる。
【００６３】高屈折率の異方性の薄膜としてＴａ2Ｏ5に
ついて述べたが、本発明は特に、この材料に限定するも
のではなく、ＴｉＯ2、Ｂｉ3Ｏ5、ＣｅＯ2膜であっても
かまわない。
ついて述べたが、本発明は特に、この材料に限定するも
のではなく、ＴｉＯ2、Ｂｉ3Ｏ5、ＣｅＯ2膜であっても
かまわない。
【００６４】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば複屈折性
をもつ斜め柱状構造膜を分離させて形成することによっ
て、位相差板としての機能を維持しながらも、従来の課
題であった膜の付着性を実用レベルまで向上させること
ができる。
をもつ斜め柱状構造膜を分離させて形成することによっ
て、位相差板としての機能を維持しながらも、従来の課
題であった膜の付着性を実用レベルまで向上させること
ができる。
【００６５】これにより、従来実用されている無機光学
単結晶、あるいは有機フィルムによる位相差板に対し、
低コスト、小型、軽量な位相差板を提供することがで
き、きわめて有用である。
単結晶、あるいは有機フィルムによる位相差板に対し、
低コスト、小型、軽量な位相差板を提供することがで
き、きわめて有用である。
【図１】本発明の実施例１の位相差板の膜構成の概略断
面図
面図
【図２】同実施例の位相差板の光学特性図
【図３】本発明の実施例２の位相差板の膜構成の概略断
面図
面図
【図４】同実施例の位相差板の光学特性図
【図５】本発明の実施例３の位相差板の膜構成の概略断
面図
面図
【図６】同実施例の位相差板の光学特性図
【図７】本発明の実施例４の位相差板の製作方法と膜構
成の概略断面図
成の概略断面図
【図８】同実施例の位相差板の光学特性図
【図９】従来の位相差板の概略断面図
【図１０】斜め蒸着膜の形成方法を示す図
【図１１】図９に示す従来の位相差板の光学特性図
【図１２】入射光の角度制限を緩和した位相差板の概略
断面図
断面図
Claims (4)
- 【請求項１】所望の膜厚の斜め柱状構造の膜を、基板の
対向する二面に、分割して形成したことを特徴とする位
相差板。 - 【請求項２】基板の対向する二面に形成された斜め柱状
構造膜各々が、前記基板に対し、互いに対称な斜め構造
をもつことを特徴とする請求項１記載の位相差板。 - 【請求項３】基板上に、少なくとも一層が斜め柱状構造
膜からなる単層もしくは多層膜が形成された光学部材二
つを、それぞれ前記単層もしくは多層膜を向かい合わせ
に接着してなる位相差板。 - 【請求項４】斜め柱状構造膜各々が接着面に対し、互い
に対称な斜め構造をもつことを特徴とする請求項３記載
の位相差板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26532694A JPH08122523A (ja) | 1994-10-28 | 1994-10-28 | 位相差板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26532694A JPH08122523A (ja) | 1994-10-28 | 1994-10-28 | 位相差板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08122523A true JPH08122523A (ja) | 1996-05-17 |
Family
ID=17415642
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26532694A Pending JPH08122523A (ja) | 1994-10-28 | 1994-10-28 | 位相差板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08122523A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004234757A (ja) * | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Asahi Glass Co Ltd | 光ヘッド装置 |
| JP2005181965A (ja) * | 2003-11-25 | 2005-07-07 | Ricoh Co Ltd | 空間光変調器及び表示装置及び投射表示装置 |
| US7583340B2 (en) | 2004-10-22 | 2009-09-01 | Fujifilm Corporation | Phase difference compensating device and liquid crystal apparatus using the same |
| WO2014050408A1 (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 光学補償板 |
-
1994
- 1994-10-28 JP JP26532694A patent/JPH08122523A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004234757A (ja) * | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Asahi Glass Co Ltd | 光ヘッド装置 |
| JP2005181965A (ja) * | 2003-11-25 | 2005-07-07 | Ricoh Co Ltd | 空間光変調器及び表示装置及び投射表示装置 |
| US7583340B2 (en) | 2004-10-22 | 2009-09-01 | Fujifilm Corporation | Phase difference compensating device and liquid crystal apparatus using the same |
| WO2014050408A1 (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 光学補償板 |
| CN104737040A (zh) * | 2012-09-28 | 2015-06-24 | 富士胶片株式会社 | 光学补偿板 |
| JP5816378B2 (ja) * | 2012-09-28 | 2015-11-18 | 富士フイルム株式会社 | 光学補償板 |
| CN104737040B (zh) * | 2012-09-28 | 2017-02-01 | 富士胶片株式会社 | 光学补偿板 |
| US10101516B2 (en) | 2012-09-28 | 2018-10-16 | Fujifilm Corporation | Optical compensation plate |
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