JPH08110406A

JPH08110406A - 光学多層膜

Info

Publication number: JPH08110406A
Application number: JP24531494A
Authority: JP
Inventors: Shinji Uchida; 真司内田
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1994-10-11
Filing date: 1994-10-11
Publication date: 1996-04-30

Abstract

(57)【要約】【目的】従来、光学結晶で用いられていたものを、薄
膜で実現することにより、光学部品の小型化、軽量化、
低コスト化を実現する。【構成】ニオブ酸リチウムの基板１１上に、高屈折率
の異方性薄膜としてＴａ₂Ｏ₅膜１２を形成する。更にＴ
ａ₂Ｏ₅膜の上に、図１に示したように低屈折率の薄膜た
とえばＭｇＦ₂膜１３を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば光ピックアッ
プ、投射型液晶プロジェクションＴＶ等に使用する位相
差板、偏光ビ−ムスプリッタ−等の光学部品に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】光学多層膜とは、波長の数分の一程度の
膜厚の薄膜を多層形成したものを言い、多層膜の光の多
重干渉効果で反射防止機能や色分離機能、偏光分離機能
等を実現できるものである。

【０００３】従来より光学多層膜は、真空蒸着法により
光学的に等方性の薄膜を多層形成することで、作成され
てきた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】近年の光ピックアッ
プ、投射型液晶プロジェクションＴＶ等に用いられる波
長板あるいは偏光ビームスプリッター等の光学部品に要
求される光学性能やコストダウンは非常に厳しく、従来
の等方性の光学多層膜では対応できないという課題を有
していた。

【０００５】従来より、位相差板はプラスティックシ−
トに応力をかけ、その残留歪の光弾性効果等により位相
差を作りだしたり、また水晶や方解石等の複屈折性の光
学結晶の厚みをコントロ−ルして研磨して製作されてき
た。

【０００６】しかし、プラスティックシ−トを用いた位
相差板は、応力のかけ方のバラツキによって位相差が変
化するため、位相差の精度を高くすることは非常に困難
であった。

【０００７】一方、水晶、方解石等の光学結晶の複屈折
を用いた位相差板は、プラスティックシ−トを用いた位
相差板より、高い精度を実現することが容易ではある
が、光学結晶を用いるため高価であるという課題を有し
ていた。

【０００８】また、近年、異方性の薄膜を用いて薄膜位
相差板を作成する試みが行われているが、図１３に示す
ような基板上に異方性の薄膜を所定膜厚を単層形成した
構成では、位相差板としての機能は実現できるが、図１
４の光学特性図に示すように、位相差板の透過特性が７
７％程度に劣化するという課題を有している。

【０００９】また、異方性の薄膜は、光が垂直に入射し
たとしても、その入射平面と垂直方向と水平方向で薄膜
の屈折率が違う結果、光の偏光状態によって反射特性や
透過特性が大きく変化してしまうという課題を有してい
た。

【００１０】

【課題を解決するための手段】基板上に少なくとも２種
類の物質からなる多層薄膜を備え、少なくとも一層以上
の薄膜層が光学的に異方性の薄膜である光学多層膜を用
いることである。

【００１１】

【作用】本発明は、上記した光学多層膜を用いて、従来
の等方性の薄膜を用いた光学多層膜では実現できなかっ
た、高性能で低コストの光学多層膜を、異方性の薄膜を
一層以上用いた多層膜にすることで、容易に実現するも
のである。

【００１２】

【実施例】本発明者等は上記の実用上の課題を解消すべ
く、種々検討を重ね、本発明に至った。本発明を、位相
差板に用いた場合の第一の実施例に基づき説明する。

【００１３】（第１実施例）まず、基板として屈折率の
高い基板、例えばニオブ酸リチウムを用いた例について
図１を用いて説明する。

【００１４】図１に示したように、ニオブ酸リチウムの
基板１１上に高屈折率の異方性薄膜としてＴａ₂Ｏ₅膜１
２を形成する。

【００１５】形成方法は、例えば図２に示したように真
空蒸着装置を用いて、真空チャンバ−内２１にニオブ酸
リチウム基板２２を斜めに設定し、電子銃２３から出た
電子ビ−ム２４をＴａ₂Ｏ₅材料２５に照射し、Ｔａ₂Ｏ₅
材料を加熱溶融する。

【００１６】加熱溶融したＴａ₂Ｏ₅は蒸発粒子２６とな
って蒸発し、ニオブ酸リチウム基板２２上に形成され
る。蒸着スピ−ドは３ｎｍ／ｓ程度で行なうのが好まし
い。

【００１７】このような方法によって形成された薄膜２
７は、等方性の薄膜ではなく、斜め柱状構造の薄膜とな
り、膜面の縦方向と横方向とで屈折率が変化するいわゆ
る異方性の薄膜となる。

【００１８】本薄膜の、縦方向（Ｎｅ）と横方向（Ｎ
ｏ）成分の屈折率を測定したところ、Ｎｅ＝１.８、Ｎ
ｏ＝１.８８が得られた。従って、本形成方法によって
光学的に異方性の薄膜が実現できていることがわかる。

【００１９】この薄膜を用いて位相差板として、例えば
λ／４波長板（波長λ＝７８０ｎｍ）を作成する場合を
例にとり説明する。

【００２０】λ／４波長板の特性を実現するためには、ｄ＝λ／４／（Ｎｏ−Ｎｅ）だけの膜厚を形成すればよいことが知られているため、
本薄膜も上記式にあてはめて計算すると、２.４μｍと
なり、この膜厚量を基板上に形成すれば、光学結晶等の
位相差板の特性を薄膜で実現することができる。

【００２１】本薄膜を、λ／４波長板としての性能を評
価したところ、ほぼ計算値通りの位相差を実現できた。

【００２２】ここで、λ／４波長板を作成する例につい
て説明したが、膜厚を変更するだけでλ／２波長板を実
現できることは言うまでもない。

【００２３】しかしながら、このようなＴａ₂Ｏ₅膜を
２.４μｍ形成した時の分光特性は図１４に示したよう
な分光特性となり、透過特性は７７％程度に劣化すると
いう課題を有している。

【００２４】そこで、本発明では更にＴａ₂Ｏ₅膜の上
に、図１に示したように低屈折率の薄膜たとえばＭｇＦ
₂膜を０.２μｍ真空蒸着法で形成する。

【００２５】この２層構造の多層膜の分光特性を図３に
示す。透過特性がほぼ１００％のきわめて良好な光学特
性が実現できていることがわかる。

【００２６】また、本実施例の光学多層膜に入射する光
の偏光状態をいろいろ変化させて透過特性を評価したと
ころ、ほぼ図３と同等な良好な光学特性を実現すること
ができた。

【００２７】また、ＭｇＦ₂膜にかわりＳｉＯ₂膜につい
ても同様の検討を行ったところ良好な光学特性が実現で
きた。

【００２８】以上の通り、基板上に光学的に異方性であ
るＴａ₂Ｏ₅膜とＭｇＦ₂膜もしくはＳｉＯ₂膜からなる２
層構造にすることにより、反射防止効果とλ／４波長板
の機能を兼ね備えた薄膜位相差板を提供することがで
き、実用上きわめて有用である。

【００２９】高屈折率の異方性の薄膜としてＴａ₂Ｏ₅に
ついて述べたが、本発明は特に、この材料に限定するも
のではなく、ＴｉＯ2、Ｂｉ₃Ｏ₅、ＣｅＯ₂膜であっても
かまわない。しかし、Ｔａ₂Ｏ₅膜が最も大きな異方性を
実現できたのでこの材料を用いて実施例を説明する。

【００３０】また、基板に関してもニオブ酸リチウムを
例にとり説明したが、基板材料としてはこれに限定され
るものではなく、例えばＢＫ７、ＳＫ５、Ｆ５等他の光
学ガラス等にも有用である。

【００３１】（第２実施例）次に、本発明の光学多層膜
の第２の実施例として、基板材料として例えばＢＫ７を
用いた薄膜位相差板について、図４を用いて説明する。

【００３２】ＢＫ７基板上に、第１層目としてＡｌ₂Ｏ₃
膜を、真空蒸着法により約１２６ｎｍの膜厚で形成す
る。第２層目には高屈折率の異方性薄膜としてＴａ₂Ｏ₅
膜を、２.４μｍの膜厚で形成する。第３層目はＳｉＯ₂
膜を約１３１ｎｍの膜厚で形成する。

【００３３】このような膜構造の薄膜位相差板の分光特
性を図５に示す。図５に示す通り、透過率が９８％以上
のきわめて良好な反射防止効果が実現できる。実施例１
と同様、λ／４波長板として特性評価したところ、計算
どおりの位相差を実現することができた。

【００３４】また、本実施例薄膜に入射する光の偏光状
態をいろいろ変化させて透過特性を評価したところ、ほ
ぼ図５に示すような良好な光学特性を実現することがで
きた。

【００３５】また、第３層目がＳｉＯ₂膜の場合につい
て述べたが、ＭｇＦ₂膜でも同様の効果が得られた。

【００３６】なお、本実施例では基板がＢＫ７の場合に
ついて述べたが、基板材料はこれに限定されるものでは
ない。ＳＫ５、Ｆ５、ニオブ酸リチウム等の光学基板に
有用である。

【００３７】従って本発明により、基板上にＡｌ₂Ｏ₃膜
と光学的に異方性であるＴａ₂Ｏ₅膜とＭｇＦ₂膜もしく
はＳｉＯ₂膜からなる３層構造にすることにより、反射
防止効果とλ／４波長板の機能を兼ね備えた実用上有用
な薄膜位相差板を提供することができる。

【００３８】（第３実施例）次に、本発明の光学多層膜
の第三の実施例について、偏光ビ−ムスプリッタ−に応
用した例について説明する。

【００３９】偏光ビ−ムスプリッタ−とは、一般的には
ＴｉＯ₂膜とＳｉＯ₂膜を三角形のプリズム上に交互に２
０〜３０層程度積層し、これをもう一つのプリズムと接
合したもので、Ｓ偏光の光が入射すると反射するが、Ｐ
偏光の光が入射すると透過するという機能を有したもの
である。

【００４０】この機能を利用して、図６に示すようなλ
／４波長板と組み合わせて用いることにより、光アイソ
レ−タ−として広く利用されている。

【００４１】すなわち、レ−ザ−６１から出射したＰ偏
光の光を偏光ビ−ムスプリッタ−６２に入射させる。偏
光ビ−ムスプリッタ−６２はＰ偏光の光は透過するた
め、このＰ偏光の光は透過し、λ／４波長板６３に入射
し、円偏光の光となって、反射面６４に到達する。

【００４２】反射面６４からの帰還光は再びλ／４波長
板６３を通過し、Ｓ偏光に変換され、再び偏光ビ−ムス
プリッタ−６２に入射する。光はＳ偏光の光に変換され
ているため、透過せずに反射して受光器６５に入射す
る。

【００４３】このように偏光ビ−ムスプリッタ−とλ／
４波長板は、入射光と帰還光を光の偏光状態を変換する
ことで分離する、いわゆる光アイソレ−タ−として広く
使用されているわけである。

【００４４】しかし、この光アイソレ−タ−は光学結晶
を用いたλ／４波長板や、偏光ビ−ムスプリッタ−を用
いるため、非常に高価であるとともに、光学部品が２つ
も必要なため、部品の小型化、軽量化に限界があるとと
もに、組立調整工程が必要であるという課題を有してい
た。

【００４５】本発明は上記課題を解決するもので、以下
詳細に説明する。従来より一般的に用いられてきた、光
学的に等方性の性質を有するＴｉＯ₂膜とＳｉＯ₂膜を交
互に積層するのにかわり、本実施例においては、異方性
の性質を有するＴａ₂Ｏ₅膜とＳｉＯ₂膜を交互に１９層
積層する。Ｔａ₂Ｏ₅膜は高屈折率であるため、偏光ビ−
ムスプリッタを実現する上で非常に有用である。

【００４６】本実施例の光学多層膜における各層の膜厚
の一例を（表１）に示す。第１層目から第１８層目まで
の部分において、Ｔａ₂Ｏ₅膜を９３ｎｍ、ＳｉＯ₂膜を
１３４ｎｍ交互に多層積層することで偏光ビ−ムスプリ
ッタ−の基本特性が実現できるが、これだけでは、λ／
４波長板としての特性を満足できないために、λ／４波
長板としての特性を満足するように、更に第１９層目を
付加する。

【００４７】本実施例のように約７８０ｎｍで偏光ビ−
ムスプリッタ−とλ／４波長板を同時に満足しようとす
る場合、約１６００ｎｍの膜厚が必要である。

【００４８】

【表１】

【００４９】上記の膜構造の偏光ビ−ムスプリッタ−の
分光特性を図７に示す。波長７４０ｎｍ〜７８０ｎｍに
おいてＰ偏光の透過率が非常に高く、Ｓ偏光の透過率が
低い良好な偏光ビ−ムスプリッタ−が実現できているこ
とがわかる。

【００５０】また、λ／４波長板としての動作を確認す
るために、図８に示す光学系を用いて光アイソレ−タと
しての機能確認をおこなった。

【００５１】すなわち、レ−ザ−８１から出射したＰ偏
光の光を本実施例の上記多層膜を形成した薄膜位相差板
８２に入射させる。入射した光は円偏光となって反射面
８３に到達する。反射面８３からの帰還光は再び薄膜位
相差板８２に入射し、今度は透過せずに反射して、Ｓ偏
光の光が受光器８４に到達する。

【００５２】受光器８４に到達する光量を評価したとこ
ろ、レ−ザ−からの入射光量を１とした場合に、受光光
量は０.８８であり、従来の光学系と同等に偏光変換に
よるビ−ム分割機能がうまく働いていることがわかっ
た。

【００５３】従って、本発明により、偏光ビ−ムスプリ
ッタ−としての機能と、位相差板としての機能を一つの
多層膜で実現できる結果、従来２つの光学部品で実現し
ていたものを、１つの光学部品でできるため、光学機器
の小型、軽量、低コスト化にきわめて有用である。

【００５４】（第４実施例）次に、本発明を偏光ビーム
スプリッターに利用する第４実施例について説明する。

【００５５】図６にも示したように、偏光ビームスプリ
ッター６２は三角形のプリズム上に光学多層膜を形成
し、それを同じ形状の三角形のプリズムと接合したもの
が一般に用いられている。

【００５６】しかし、プリズムには３面の平面が存在
し、各平面が非常に精密な面精度が要求されているのが
現状である。従って、各面を光学研磨することによって
実現しているわけであるが、このことはプリズム、偏光
ビームスプリッターのコストアップにつながるという重
大な課題となっていた。

【００５７】また、プリズムは平板に比べ、光学系の大
きさが大きくなるだけでなく、重量増となるため、小型
軽量の光学部品を作成する上で大きな課題となってい
た。

【００５８】そこで、プリズムにかわり平板を用いて偏
光ビームスプリッターを作成する試みがなされてきた
が、従来の等方性の薄膜では、偏光分離ができる波長領
域が著しく狭くなってしまい、特性が劣化するという課
題を有していた。

【００５９】光ピックアップ等に用いられる偏光ビーム
スプリッターには、半導体レーザーから出射した光は平
行光ではなく、非平行な光で±５度程度の広がり角度を
もって入射する。

【００６０】従って、偏光ビームスプリッターに入射す
る光の入射角度が±５度の範囲で変化するわけである
が、これらすべての入射角度で偏光ビームスプリッター
としての機能が要求されており、従来の光学多層膜を用
いた偏光ビームスプリッターでは、例えば入射角度が４
５度から４０度に変化しただけでも、図９に示す様に、
例えば波長λ＝７８０ｎｍでの偏光分離が実現できなく
なってしまうという課題を有していた。

【００６１】このような実用上の課題のなか、本願発明
者は、異方性の薄膜を用いて偏光ビームスプリッターを
作成すれば、従来の等方性の光学多層膜では実現できな
かった良好な偏光ビームスプリッターを実現できること
を新たに見いだした。

【００６２】以下図１０を用いて詳細に説明する。基板
上に異方性で高屈折率の薄膜であるＴａ₂Ｏ₅膜を、例え
ば図２に示した真空蒸着法で形成する。基板材料として
は、ＢＫ７、ＳＫ５、ニオブ酸リチウム等が使用でき、
特定材料に限定するものではない。

【００６３】Ｔａ₂０₅上に低屈折率の薄膜Ｓｉ０₂を形
成する。本発明においては、この低屈折率の薄膜はＳｉ
０₂膜に限定するものではなく、ＭｇＦ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｙ
₂Ｏ₃等を用いてもかまわない。

【００６４】また、ここでは、異方性で高屈折率の薄膜
としてＴａ₂０₅膜について述べたがこれに限定するもの
ではなく、ＣｅＯ₂等、光学的に異方性を示すものであ
ればなんでもかまわない。異方性の薄膜を用いることに
より従来以上の特性が実現できる。

【００６５】次にＳｉ０₂膜の上にＴａ₂０₅膜を形成
し、このように２種類の材料の薄膜を交互に、例えば１
９層積層する。

【００６６】ここで重要なのは、Ｔａ₂０₅膜を形成する
ときに、Ｔａ₂０₅膜の屈折率の大きな方向を、図１０の
紙面に垂直方向にあわせることである。

【００６７】これにより、入射光１０１のＰ偏光成分
（紙面と同じ方向）の屈折率が小さくなり、Ｓ偏光成分
（紙面と垂直方向）の屈折率が大きくなるわけである。

【００６８】これまで、Ｓ偏光方向とＰ偏光方向の屈折
率が同じであったのに対して、この様な異方性の薄膜を
用いることで、屈折率を変えることができるわけであ
る。

【００６９】このようにして作成した入射角度４５度で
の偏光ビームスプリッターの光学特性を図１１に示す。

【００７０】従来の等方性の光学多層膜による偏光ビー
ムスプリッターと比べ、非常に広い範囲で偏光分離特性
が実現できていることがわかる。

【００７１】この偏光ビームスプリッターを入射角度４
０度と５０度で使用した場合の分光特性を同図に示す。

【００７２】これより、入射角度が４０度〜５０度の非
常に広い範囲において波長７８０nmで偏光分離機能を有
した偏光ビームスプリッターが実現できる。実用上きわ
めて有用である。

【００７３】更に、本発明者は、最も大きな屈折率差を
得られる条件について検討した結果、基板上に形成した
薄膜へ入射する入射光と、異方性の薄膜の柱状組織の成
長する方向とがなす角度を約９０度にすれば、最も大き
な屈折率差が得られることを、新たに見いだした。この
ような条件で偏光ビームスプリッターを作成することは
更に好ましいといえる。

【００７４】（第５実施例）次に、本発明を無偏光ビー
ムスプリッターに利用する第５実施例について説明す
る。

【００７５】光学多層膜に斜めに光が入射すると、Ｓ偏
光とＰ偏光成分の物性的な屈折率は同じでも、光の電場
成分の振舞いが変化するため、実行的な屈折率が変化す
る結果、光学特性が変化することが知られている。

【００７６】しかし、光学デバイスによってはこのよう
な光の偏光状態によって透過率、反射率が変化してしま
うことが好ましくなく、偏光状態に依存しない無偏光ビ
ームスプリッタ等の光学多層膜が要望されている。

【００７７】しかし、このような光学多層膜を等方性の
薄膜を利用して行った場合、ある波長の決められた入射
角度だけなら、多層膜化することである程度の特性の無
偏光ビームスプリッターを実現できるが、広い波長範囲
でしかも、ある程度入射角度が代わっても所望の光学特
性を実現することは非常に困難であった。

【００７８】このような実用上の課題のもと、本発明者
は、検討の結果、異方性の薄膜を利用すれば、容易に偏
光に依存しない光学多層膜が実現できることを見いだし
た。

【００７９】実施例４と同様、図１０を用いて説明する
が、実施例４の偏光ビームスプリッターでは、Ｔａ₂０₅
膜を形成するときに、Ｔａ₂０₅膜の屈折率の大きな方向
を、紙面に垂直方向にあわせたが、今度はＴａ₂０₅膜の
屈折率の小さな方向を、紙面に垂直方向にあわせること
である。

【００８０】これにより、入射光１０１のＰ偏光成分
（紙面と同じ方向）の屈折率が大きくなり、Ｓ偏光成分
（紙面と垂直方向）の屈折率が小さくすることができる
わけである。

【００８１】今、Ｐ偏光成分の分光特性を例にとって説
明すると、等方性の多層膜では図９に示したように、例
えば入射角度が４５度の場合に、長波長側に４５ｎｍ離
れた波長位置のＳ偏光成分の分光特性が得られるが、異
方性の薄膜を用いることで、Ｓ偏光成分の薄膜の屈折率
は小さくなるため、屈折率×膜厚で得られる光学的膜厚
が小さくなった結果、光学特性は短波長側にシフトし、
Ｐ偏光とほぼ同等の光学特性を実現することができる。

【００８２】Ｓ偏光とＰ偏光の光学特性を一致させるだ
けの屈折率の異方性による差異を、蒸着条件、基板設置
角度等を最適化することはもちろんのことである。

【００８３】このような方法で得られた、無偏光ビーム
スプリッターの分光特性を図１２に示す。

【００８４】Ｓ偏光、Ｐ偏光の分光特性がほとんど同一
の無偏光ビームスプリッターが実現できており、実用
上、きわめて有用である。

【００８５】

【発明の効果】以上のように本発明は、基板上に少なく
とも２種類の物質からなる多層薄膜を備え、少なくとも
一層以上の薄膜層が光学的に異方性の薄膜である光学多
層膜をもちいることにより、従来の等方性の光学多層膜
では実現できなかった反射防止効果と位相差板の機能を
兼ね備えた薄膜位相差板や、偏光ビ−ムスプリッタ−と
位相差板の特性を有した光学多層膜や、角度依存性の少
ない平板偏光ビームスプリッターや、偏光状態に依存し
ない無偏光ビームスプリッターが容易に実現できるた
め、光学部品の小型化、軽量化、低コスト化がはかれる
ため、実用上きわめて有用である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光学多層膜を用いた、位相差板の実施
例における膜構成の概略断面図

【図２】同実施例の光学膜形成装置の概略図

【図３】同実施例の位相差板の光学特性図

【図４】本発明の光学多層膜を用いた、位相差板の実施
例における膜構成の概略断面図

【図５】同実施例の位相差板の光学特性図

【図６】光アイソレ−タ−の光学系概略図

【図７】本発明の光学多層膜を具備した偏光ビ−ムスプ
リッタ−の分光特性図

【図８】本発明の光学多層膜を具備した光アイソレータ
ーの光学系概略図

【図９】従来の偏光ビームスプリッターの光学特性図

【図１０】本発明の光学多層膜の、偏光ビームスプリッ
ター用の実施例膜構造を示す概略図

【図１１】同実施例の偏光ビームスプリッターの光学特
性概略図

【図１２】本発明の光学多層膜を用いた、無偏光ビーム
スプリッターの特性図

【図１３】従来の、異方性の薄膜を用いた薄膜位相差板
の構成図

【図１４】同従来の薄膜位相差板の分光特性図

【符号の説明】

１１、２２、４１基板１２、４３Ｔａ₂Ｏ₅膜１３ＭｇＦ₂膜２１真空チャンバ− ２３電子銃２４電子ビ−ム２５Ｔａ₂Ｏ₅材料２６蒸発粒子４２Ａｌ₂Ｏ₃膜４４ＳｉＯ₂膜６１、８１レ−ザ− ６２偏光ビ−ムスプリッタ− ６３ λ／４波長板６４、８３反射面６５、８４受光器８２位相差板１０１入射光

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に少なくとも２種類の物質からなる
多層薄膜を備え、少なくとも一層以上の薄膜層が光学的
に異方性の薄膜である光学多層膜。
【請求項２】光学的に異方性の薄膜として五酸化タンタ
ル膜を用いた請求項１記載の光学多層膜。
【請求項３】基板上に第１層目として光学的に異方性の
五酸化タンタルからなる薄膜層を、第２層目として弗化
マグネシウム膜もしくは二酸化珪素からなる薄膜層を備
えた光学多層膜。
【請求項４】基板上に第１層目として酸化アルミニウム
からなる薄膜層を、第２層目として光学的に異方性の五
酸化タンタルからなる薄膜層を、第３層目として二酸化
硅素膜もしくは弗化マグネシウムからなる薄膜層を備え
た光学多層膜。
【請求項５】基板上に低屈折率物質と光学的に異方性の
高屈折率物質からなる多層膜を備え、偏光ビ−ムスプリ
ッタ−と位相差板の機能を有した光学多層膜。
【請求項６】低屈折率物質が二酸化珪素膜であり、高屈
折率物質が五酸化タンタル膜である請求項５記載の光学
多層膜。
【請求項７】基板上に形成した薄膜へ入射する光の入射
面に垂直の方向に屈折率が最も高くなるように異方性の
薄膜を形成した光学多層膜。
【請求項８】基板上に形成した薄膜へ入射する光の入射
面に垂直の方向に屈折率が最も低くなるように異方性の
薄膜を形成した光学多層膜。
【請求項９】基板上に形成した薄膜へ入射する入射光
と、異方性の薄膜の柱状組織の成長する方向とがなす角
度が約９０度である光学多層膜。