JPH08118834A - スクリーン印刷法 - Google Patents

スクリーン印刷法

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JPH08118834A
JPH08118834A JP25506094A JP25506094A JPH08118834A JP H08118834 A JPH08118834 A JP H08118834A JP 25506094 A JP25506094 A JP 25506094A JP 25506094 A JP25506094 A JP 25506094A JP H08118834 A JPH08118834 A JP H08118834A
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JP
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mask
screen
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screen mask
printing method
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JP25506094A
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English (en)
Inventor
Akira Hashimoto
晃 橋本
Ryo Kimura
涼 木村
Nobuhiro Tada
信広 多田
Shinya Matsutani
伸哉 松谷
Shinji Harada
真二 原田
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 スクリーン印刷法を用いて被印刷物の平滑面
な印刷パターンを形成するスクリーン印刷法に関し、信
頼性、生産性に優れた方法を提供することを目的とす
る。 【構成】 被印刷物11の平滑な表面11aにスクリー
ン印刷法にて印刷する場合、マスク部15の表面を所望
の表面粗さになるまでサンドブラスト法などの荒らす粗
面部15aを形成したスクリーンマスクを用いてペース
ト12を印刷し、平滑面11aに印刷パターンを形成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は被印刷物が熱プレスされ
たセラミックグリーンシートの積層体やガラス基板やグ
レーズセラミック基板などの印刷面が非常に平滑性な面
を有する場合に、その面上に良好な印刷をするためのス
クリーン印刷法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のスクリーン印刷法を図7(a)〜
(c)を用いて説明する。図7において1は平滑な印刷
面1aを有する被印刷物であり、2はスクリーンマスク
より被印刷物1に印刷するペーストであり、3は印刷中
のスキージーゴムであり図の左から右に移動中である。
4,5は印刷パターンを形成するスクリーンマスクで4
はメッシュ部であり、5はパターンニングされたマスク
部である。
【0003】以下、そのスクリーン印刷法について説明
をする。図7(a)〜(c)においてスキージーゴム3
の印刷圧力により、スクリーンマスク上のペースト2は
スキージー3の駆動によりパターンニングされたマスク
部5のメッシュ穴より押し出されて被印刷物1の印刷面
1aに印刷される。通常上記印刷時のスクリーンマスク
の開口部6の空間には空気があり、この空気はペースト
2をスキージングすることで被印刷物1の印刷面1aと
スクリーンマスクの被印刷側のマスク部5との接触部の
隙間からペースト2の流れ込みにより押し出され、ペー
スト2が被印刷物1に印刷される。ところが、被印刷物
1の印刷面1aが平滑な面になるとこの空気の抜け性が
悪くなり、ペーストの印刷面1aへの流れ込みが悪くな
り、印刷できない部分が発生し、例えば導体ペーストで
は断線の原因になる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来のスクリー
ン印刷法では上記被印刷物1の平滑な印刷面1aに印刷
パターンを形成する場合にペースト2の印刷パターンの
断線が発生する。そのため、平滑な印刷面1aに印刷す
る場合はパターンを細くするなどのパターン上の規制及
び印刷パターンの欠損による歩留まりが悪くなるなどの
問題があった。
【0005】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
であり、平滑面上の印刷にスクリーンマスクを用いたス
クリーン印刷法を提供することを目的とするものであ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明のスクリーン印刷法は、マスク部の表面を所望
の粗さに荒く仕上げた粗面部を有するスクリーンマスク
を用いて被印刷物の平滑な表面に印刷パターンを形成す
る方法としたものである。
【0007】
【作用】上記スクリーンマスクを用いたスクリーン印刷
法では、被印刷物の平滑面に印刷パターンを形成する場
合において、スキージーによりパターン形成部の開口部
にペーストを押し込む時にその空間にあった空気がマス
ク部の被印刷物側の表面を荒らした粗面部と被印刷物の
平滑面との接する部分の隙間から逃げ出し易くなり、ペ
ーストがパターン形成部の空間に入り込み易くなり、ペ
ーストの被印刷物へのパターン印刷がスムーズに行わ
れ、ペーストのパターン欠損が抑えられ、良好な印刷パ
ターンの形成ができることになる。
【0008】
【実施例】
(実施例1)以下、本発明の一実施例を図1を参照しな
がら説明する。図1(a)〜(c)において、11は被
印刷物で平滑な表面11aを有するセラミックグリーン
シートの積層熱プレスされた積層体であり、平滑な表面
11aの表面粗さは平均粗さRaで0.2μm以下で最
大表面粗さRmaxで2μm以下のものである。12は
導体パターン形成用Agペースト(粘度15万cps〜
40万cps)、13は印刷途中のスキージーで図の左
から右に移動している。14,15はスクリーンマスク
で14はメッシュ部であり、15はパターン形成用マス
ク部であり、15aは被印刷物側のマスク部の表面に加
工をした粗面部である。
【0009】スクリーンマスクの粗面部15aを形成す
る方法としては、大きく分類すると2通りあり、一方は
スクリーンマスク完成後に表面を荒らす加工(サンドブ
ラスト、平面研磨など)をしたものと、他方、スクリー
ンマスクを製造する工程でマスク部を形成する感光乳剤
の表面に接するベースフィルムを荒らしたものを用いる
ことで適度な表面粗さの粗面部15aを得る方法があ
る。
【0010】本実施例としては、サンドブラストによる
スクリーンマスクのマスク部の加工方法について述べ
る。
【0011】スクリーンマスクの構成はステンレスワイ
ヤーやニクロムワイヤーなどを編んだメッシュ部14と
感光乳剤をフォトリソ法にて形成された印刷パターンを
有するマスク部15からなっている。感光乳剤で形成さ
れるマスク部15は2通りの形成方法がある。
【0012】一方はスクリーンマスクの枠にメッシュを
貼り付けたものの被印刷物側の面にベースフィルムを固
定し、ペースト状の感光乳剤を逆面から塗布・乾燥形成
したものを所望のパターンにフォトリソ法でパターンニ
ングする間接法である。他方はベースフィルムに感光乳
剤を所望の厚さに塗布・乾燥したものに所望のパターン
をフォトリソ法でパターンニングし、スクリーンマスク
にメッシュを枠貼りしたものの上に貼り付ける直接法で
ある。
【0013】このような製造方法で作製されたスクリー
ンマスクのマスク部15の表面粗さはメッシュの種類
(メッシュの大きさ・編み方)、マスク部15の厚み、
ベースフィルムなどの表面粗さによって変わる。今回、
ファイン印刷用として線径約16〜25μmのニクロム
線で200〜400メッシュ(1インチ角の穴数)のも
のを用いた。これらのスクリーンマスクのマスク部15
の厚みは20μmのものでその粗面部15aの表面粗さ
はRaで0.08μm〜0.35μmの範囲内であっ
た。
【0014】本実施例では線径16μmの360#(R
a0.1μm以下)のものを用いた。このスクリーンマ
スクをサンドブラスト法により被印刷物側のマスク部1
5の表面にサンドブラスト装置のノズルから砥粒を吹き
つけることにより表面を荒らして粗面部15aを形成し
た。サンドブラストは砥粒の材質・サイズ、吹きつけ圧
やノズルとスクリーンマスクとの距離によって粗面部1
5aの粗さを調整できる。このサンドブラスト条件を調
整することによりスクリーンマスクのマスク部15の粗
面部15aの表面粗さを調整し、表面粗さRaで約0.
1μm(サンドブラストなし)、0.2μm、0.3μ
m、0.4μm、0.5μm、0.6μm、0.8μ
m、1.0μmで、RmaxそれぞれRaの値の10倍
程度の値のものが得られた。更にRa:0.8μmでサ
ンドブラスト処理時間を長くしてRa:約10μmのも
のも作った。また、マスク部15の厚みを10μm、2
0μm、35μm、50μmのものを用いてマスク部1
5の厚みの影響も調べた。サンドブラスト加工後のスク
リーンマスクはマスク部15やメッシュ部14に砥粒が
付着するため、超音波洗浄を行う。
【0015】これらの24種類のスクリーンマスクを順
次に印刷機にセットし、Agペースト12を用いて10
cm角の上記グリーンシートの積層体の被印刷物11に
各10枚印刷した。次に印刷したものを双眼顕微鏡(倍
率:10〜40倍)で観察した。マスク部15の印刷パ
ターンとしては線幅100μm、300μm、600μ
mで線間50μm〜200μmのスパイラル状のテスト
パターンを用いた。
【0016】上記の実験の結果としてマスク部15の粗
面部15aの表面粗さと印刷時の断線、ショートの不良
率との関係を(表1)に示した。この結果より、スクリ
ーンマスクのマスク部15の粗面部15aの表面粗さが
Raで0.2μm以下の範囲では断線不良が発生するが
Raで0.3μm以上では断線不良はゼロになった。た
だしRaを1.0μmにするとペーストの印刷にじみ幅
が増加し、設計値に対して約15〜25μmの線幅の太
りが生じ、にじみ出したAgペーストにより線間50μ
m(線幅100〜600μm)のパターンで線間ショー
トの部分がみられた。線間100μm(線幅100〜6
00μm)のパターンではペーストの印刷にじみによる
線間ショートは見られなかったが、このにじみ幅の最大
幅規格を線間の2分の1(25μm)以下の基準を設定
すると限界であり、Raの上限はRaで1μmとなっ
た。
【0017】
【表1】
【0018】またRa:0.8μmにおいてRmaxが
8μmではマスク部15の粗面部15aのきずにより印
刷パターンからAgペーストの部分的はみ出しが約20
〜40μm見られ線間100μmのパターンではショー
トは見られなかったが、Rmaxが10μmになるとA
gペーストのはみ出しにより50〜80μm程度となり
線間100μmのパターンに線間ショートが見られた。
【0019】上記の結果をまとめると、スクリーンマス
クのマスク部15の粗面部15aの表面粗さの範囲とし
て、Raは0.3〜1.0μmで且つRmaxは8μm
以下にする必要がある。ただし線間を100μmとした
場合であり、線間50μm以下のパターン設計の必要な
場合はRa、Rmaxの上限を下げる必要がある。
【0020】このようにマスク部15の表面粗さをサン
ドブラストにより荒らすことでマスク部15のパターン
ニング部の開口部16の空気が被印刷物11の平滑な表
面11aとマスク部15の粗面部15aとの接した部分
の隙間から逃げ出し易くなり、ペースト12が開口部1
6へ入り込み易くなり印刷性が向上し断線などの印刷欠
陥をなくせた。またスクリーンマスクのマスク部15が
厚くなればなるほどパターンニング部の開口部16の空
気の体積が大きく空気の抜けが悪くなる傾向が見られ
た。
【0021】逆にスクリーンマスクのマスク部15の厚
みが薄くなるとメッシュ部14のメッシュの織目の凹凸
の影響によりマスク部15の粗面部15aの表面粗さは
大きくなると同時にパターンニング部の開口部16の空
気の体積が小さくなり空気の抜けがよくなった。
【0022】上記のように印刷時において、スクリーン
マスクのマスク部15の表面をサンドブラストにより荒
らすことによってマスク部15の荒れた粗面部15aと
被印刷物11の平滑な表面11aとの接触部に適度な隙
間を作ることでパターンニング部の開口部16の空間に
ある空気を逃がすことができ被印刷物11の平滑な表面
11a上に印刷欠陥のない良好な印刷パターンを得られ
た。またマスク部15の厚みが厚い場合でもペースト1
2の入り込みが良くなり、厚みの厚い印刷塗膜が得られ
るようになった。
【0023】本実施例ではスクリーンマスクの360メ
ッシュを使用したが200〜400メッシュについても
同様な効果が得られた。また本実施例では、被印刷物1
1としてグリーンシートの積層体(表面粗さRa:0.
2μm以下)について述べたがガラス基板、薄膜パター
ン形成用高純度アルミナ基板などについても実験したが
同様な結果が得られた。以上のように上記以外のより平
滑な印刷面を有する被印刷物においてもスクリーン印刷
法で良好なパターンを形成するには上記のスクリーンマ
スクを用いると印刷が十分に可能となることが予想され
る。
【0024】(実施例2)次にスクリーンマスクのマス
ク部の表面を荒らす方法としてサンドブラスト法を用い
た実施例について図2で説明する。図2において31は
サンドブラストのノズル部で、32はサンドブラスト用
砥粒である。33はスクリーンマスクの枠であり、3
4,35はそれぞれスクリーンマスクのメッシュ部、マ
スク部である。サンドブラスト加工の条件であるノズル
部31からの吹きつけ圧と吹きつけ時間やノズル部31
とスクリーンマスクまでの距離や砥粒32の材質・形状
・粒径などにより表面の粗さを調整する。
【0025】図2のようにノズル部31より砥粒32を
スクリーンマスクのマスク部35に吹きつけてマスク部
35の表面を荒らしていく。マスク部35の表面の荒れ
具合が場所によっても均一になるように前後左右に移動
させる。砥粒32の粗さ表示の#200,#400,#
600,#800,#1000のものについて検討した
が#1000ではマスク部35の表面の荒れ方が小さか
ったので#200〜#800程度が適当である。マスク
部35の表面粗さをRaで0.3〜0.5μm程度にす
るには#400〜#800のものが最適であった。以上
のサンドブラスト加工したスクリーンマスクには砥粒3
2が付着するので、この加工後超音波洗浄を行う必要が
ある。このようにマスク部35の表面を適度に荒らした
スクリーンマスクが得られた。
【0026】(実施例3)次のスクリーンマスクのマス
ク部の表面を荒らす方法として砥粒やサンドペーパーを
用いた平面研磨による実施例について図3(a),
(b)を用いて説明する。図3(a)は砥粒を用いた平
面研磨方法である。図3(b)はサンドペーパーを用い
た平面研磨方法である。
【0027】まず図3(a)について説明する。41は
平担性のあるステンレスまたはセラミック製の定盤であ
る。42は砥粒である。43,44,45はそれぞれス
クリーンマスクの枠、メッシュ部、マスク部である。図
3(a)のようにスクリーンマスクをマスク部45を上
にし、砥粒42の粗さ表示で#200〜#800のもの
を用い、水などのマスク部45を形成する感光乳剤を溶
かし難い溶液を流しながら、定盤41をマスク部45の
上に乗せて適度な荷重を掛けて前後左右に動かしてマス
ク部45の表面を均一に荒らす。研磨しすぎるとマスク
部45のパターンニングしたエッジ部がまるくなるた
め、マスク部45の外観および表面粗さを観察しながら
小まめに荒らしていき、所望の粗さまで研磨し特殊スク
リーンマスクを作製する。
【0028】次に図3(b)について説明する。41は
平担性のあるステンレスまたはセラミック製の定盤であ
る。46はサンドペーパーである。43,44,45は
それぞれスクリーンマスクの枠、メッシュ部、マスク部
である。サンドペーパー46を定盤41に両面テープや
接着剤などでしわやふくれがでないように丁寧に貼り付
ける。次に図3(b)のようにスクリーンマスクをマス
ク部45を上にし、サンドペーパー46の粗さ表示で#
200〜#800のものを用い、水などのマスク部45
を形成する感光乳剤を溶かし難い溶液を流しながら、場
合によっては溶液なしで、定盤41をマスク部45の上
に乗せて適度な荷重を掛けて前後左右に動かしてマスク
部45の表面を均一を荒らす。サンドペーパー46の磨
耗により削りにくくなるとマスク部45のパターンニン
グしたエッジ部がまるくなり、印刷に悪影響を及ぼすた
め、マスク部45の外観および表面粗さを観察しながら
小まめに荒らしていき、所望の粗さまで研磨した特殊ス
クリーンマスクを作製する。
【0029】(実施例4)スクリーンマスク製造時にス
クリーンマスクのマスク部の表面を荒らす方法による実
施例について図4、図5を用いて説明する。
【0030】スクリーンマスクの製造方法には実施例1
に述べたように間接法と直接法とがある。
【0031】まず図4(a),(b)を用いて間接法に
よる特殊スクリーンマスクの製造方法について説明す
る。図4(a),(b)について、51は表面を荒らし
たベースフィルム(サンドブラスト法や平面研磨法で荒
らしたもの)である。ベースフィルム51は表面粗さを
Raが0.3〜1.0μm、且つRmaxが8μm以下
に荒くしたものである。52はスクリーンマスクのマス
ク部を形成する乾燥前ペースト状感光乳剤である。5
3,54,55はそれぞれスクリーンマスクの枠、メッ
シュ部、マスク部である。56はスキージーである。
【0032】図4(a)のように、スクリーンマスクの
枠53にメッシュ部54を接着剤で貼り付けたものをベ
ースフィルム51上に置く。次に図4(b)のようにス
キージー56を用いてマスク部55を形成するためにペ
ースト状の感光乳剤52を均一に塗布する。感光乳剤5
2が乾燥しマスク部55を形成する。その後、フォトリ
ソを行い印刷パターンをパターンニングする。ベースフ
ィルム51を剥がすとマスク部55の表面に所望の粗さ
をもつスクリーンマスクが完成する。
【0033】次に図5(a),(b),(c)を用いて
直接法による特殊スクリーンマスクの製造方法について
説明する。図5(a),(b),(c)について、61
は表面を荒らしたベースフィルム(サンドブラスト法や
平面研磨法で荒らしたもの)である。ベースフィルム6
1の表面粗さをRaが0.3〜1.0μm、且つRma
xが8μm以下に加工したものである。62はスキージ
ーである。63,64,65はそれぞれスクリーンマス
クの枠、メッシュ部、マスク部である。図5(a)のよ
うに、ベースフィルム61上にマスク部65を形成する
ためのペースト状の感光乳剤をスキージー62で均一な
厚みになるように塗布する。図5(b)のように作製し
た塗布乾燥したもの(61,65)をフォトリソ法を用
い、印刷パターンをパターンニングした後に、更にメッ
シュ部64を貼り付けた枠63を上から貼り付ける。ベ
ースフィルム61を剥がすとマスク部65の表面に所望
の粗さをもつスクリーンマスクが完成する。
【0034】上記のようにスクリーンマスクの製造工程
に用いられるベースフィルム61に粗さ加工することに
より、本発明のスクリーンマスクを作ることができた。
【0035】(実施例5)スクリーンマスクのマスク部
の荒らし方向による実施例について図6を用いて説明す
る。図6の(a),(b)について、71,74,75
はそれぞれスクリーンマスクの枠、メッシュ部、マスク
部である。72は導体パターン形成用Agペーストであ
る。73はスキージーである。76は研磨キズであり、
図6(a)では研磨キズがスキージー73の進行方向と
同一方向であり、図6(b)はスキージー73の進行方
向と垂直方向である。研磨キズ76は上記方法を用いて
キズの方向性がでるように研磨したものである。
【0036】図6(a),(b)においてスクリーンマ
スクのマスク部75の荒らし方向とスキージー73の進
行方向による印刷欠陥への影響を調べた。(実施例1)
と同様に印刷実験をした結果、図6(a)のマスク部7
5の荒らし方向がスキージーの進行方向と同一のもので
は、(実施例1)と同等の効果が得られたが、図6
(b)のマスク部75の荒らし方向とスキージー73の
進行方向が垂直方向の場合は、表面粗さはRa:0.4
μm以下では印刷欠陥による印刷パターンの断線が見ら
れた、結果的に図6(b)ではマスク部75の表面粗さ
はRaで0.5〜1.0μm、且つRmaxで8μm以
下である。
【0037】この現象は(実施例1にも示しているよう
に)スクリーンマスクのマスク部75の印刷パターンニ
ング部の空間にある空気がマスク部75の表面と被印刷
物の印刷面の隙間から逃げる場合、印刷時にスキージー
73の方向に空気が押し出されているために、マスク部
75のスキージー方向に研磨キズを入れることで空気が
抜けやすいことを示す。
【0038】以上のように、スクリーンマスクのマスク
部75の研磨はスキージー方向と同一方向のみに研磨を
しても上記各実施例のスクリーンマスクと同等の効果を
得ると同時に、マスク部75の荒らし加工は一方向の研
磨でよく、加工時間の短縮が可能となった。また、マス
ク部75の研磨方向がスキージー73の進行方向のみで
よく、マスク部75の表面粗さが大きくなるとペースト
72の印刷にじみも大きくなる現象があったが、スキー
ジー73の進行方向と同一な方向の印刷パターンではペ
ースト72の印刷にじみを小さく抑えることができ、印
刷パターンの品質が向上した。
【0039】
【発明の効果】以上のように本発明のスクリーンマスク
を用いたスクリーン印刷法によると従来のスクリーン印
刷では非常に困難であったガラス基板や薄膜用セラミッ
ク基板などの表面粗さの小さい平坦面上の印刷が歩留ま
りよく生産できるようになった。また、スクリーンマク
スのマスク部の厚みを厚くしても印刷できるようにな
り、厚塗印刷もできるようになった。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)〜(c)は本発明の印刷回路基板の製造
方法の実施例を示すそれぞれの工程の断面図
【図2】サンドブラスト法によるスクリーンマスクの加
工方法の実施例を示す断面図
【図3】(a),(b)は平面研磨法によるスクリーン
マスクの加工方法の実施例を示すそれぞれの断面図
【図4】(a),(b)は本発明の特殊スクリーンマス
クの間接法を用いた製造方法の実施例を示すそれぞれの
工程の断面図
【図5】(a)〜(c)は本発明の特殊スクリーンマス
クの直接法を用いた製造方法の実施例を示すそれぞれの
工程の断面図
【図6】(a),(b)は特殊スクリーンマスクのマス
ク部の研磨方向による印刷工程の実施例を示すそれぞれ
の上面図
【図7】(a)〜(c)は従来の印刷回路基板の製造方
法を示すそれぞれの工程の断面図
【符号の説明】
11 被印刷物 11a 被印刷物11の表面 12 ペースト 13 スキージー 14 メッシュ部 15 マスク部 15a 粗面部 16 開口部 31 サンドブラスト装置のノズル部 32 砥粒 33 スクリーンマスクの枠 34 メッシュ部 35 マスク部 41 定盤 42 砥粒 43 スクリーンマスクの枠 44 メッシュ部 45 マスク部 46 サンドペーパー 51 ベースフィルム 52 感光乳剤 53 スクリーンマスクの枠 54 メッシュ部 55 マスク部 56 スキージー 61 ベースフィルム 62 スキージー 63 スクリーンマスクの枠 64 メッシュ部 65 マスク部 71 枠 72 ペースト 73 スキージー 74 メッシュ部 75 マスク部 76 研磨キズ
フロントページの続き (72)発明者 松谷 伸哉 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 原田 真二 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 マスク部の表面に所望の表面粗さに加工
    した粗面部を設けたスクリーンマスクを用いて被印刷物
    の平滑面にペーストを印刷するスクリーン印刷法。
  2. 【請求項2】 マスク部をサンドブラストを用いて表面
    を荒らしたスクリーンマスクを用いる請求項1記載のス
    クリーン印刷法。
  3. 【請求項3】 マスク部を砥粒、サンドペーパーなどで
    平面研磨して表面を荒らしたスクリーンマスクを用いる
    請求項1記載のスクリーン印刷法。
  4. 【請求項4】 所望の表面粗さをもつベースフィルム上
    にメッシュ部を固定し、マスク形成用感光乳剤を塗布・
    乾燥を1回もしくは繰り返し行いマスク部を形成するこ
    とにより表面を荒らしたスクリーンマスクを用いる請求
    項1記載のスクリーン印刷法。
  5. 【請求項5】 所望の表面粗さをもつベースフィルムに
    マスク部形成用乳剤が既に塗膜状に形成されたフィルム
    をメッシュ部に転写して得られた表面を荒らしたスクリ
    ーンマスクを用いる請求項1記載のスクリーン印刷法。
  6. 【請求項6】 スクリーンマスクのマスク部の粗面部の
    表面粗さRa:0.3〜1.0μm且つRmaxが8μ
    m以下を満足するスクリーンマスクを用いる請求項1記
    載のスクリーン印刷法。
  7. 【請求項7】 スクリーンマスクのマスク部の荒らし方
    向を印刷時のスキージー進行方向と同一方向にしたスク
    リーンマスクを用いる請求項1記載のスクリーン印刷
    法。
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JP (1) JPH08118834A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016078393A (ja) * 2014-10-21 2016-05-16 ミタニマイクロニクス株式会社 スクリーンマスク、スクリーンマスクの製造方法
JP2017139058A (ja) * 2016-02-01 2017-08-10 タイガースポリマー株式会社 封止装置用弾性シートおよびその製造方法

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