JPH08116001A - 半導体装置 - Google Patents
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- JPH08116001A JPH08116001A JP6275940A JP27594094A JPH08116001A JP H08116001 A JPH08116001 A JP H08116001A JP 6275940 A JP6275940 A JP 6275940A JP 27594094 A JP27594094 A JP 27594094A JP H08116001 A JPH08116001 A JP H08116001A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 22
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 75
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 75
- 239000008188 pellet Substances 0.000 claims abstract description 31
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 13
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 claims description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 21
- 238000007664 blowing Methods 0.000 abstract 3
- 238000005336 cracking Methods 0.000 abstract 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 9
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 9
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 7
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 7
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 4
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 4
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 3
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005056 compaction Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000272168 Laridae Species 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFLYIWITHZJFLS-UHFFFAOYSA-N [Si].[Au] Chemical compound [Si].[Au] OFLYIWITHZJFLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000004088 foaming agent Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 239000011265 semifinished product Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
- H01L21/565—Moulds
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
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- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 樹脂封止体におけるクラックの発生を防止す
る。 【構成】 TQFP・IC29における樹脂封止体27
に気泡41が多数、内包されており、これらの気泡41
を通じて水蒸気の放出路が構成される。 【効果】 はんだリフロー工程時等における加熱により
樹脂封止体の接合界面に剥がれが発生し、さらにその剥
がれによって生じる隙間に水分が溜まり、その水分が所
謂水蒸気爆発を起こしても、その水蒸気は気泡を通じて
構成される水蒸気の放出路を通じて外部に逃げるため、
樹脂封止体にクラックが発生するのが防止される。
る。 【構成】 TQFP・IC29における樹脂封止体27
に気泡41が多数、内包されており、これらの気泡41
を通じて水蒸気の放出路が構成される。 【効果】 はんだリフロー工程時等における加熱により
樹脂封止体の接合界面に剥がれが発生し、さらにその剥
がれによって生じる隙間に水分が溜まり、その水分が所
謂水蒸気爆発を起こしても、その水蒸気は気泡を通じて
構成される水蒸気の放出路を通じて外部に逃げるため、
樹脂封止体にクラックが発生するのが防止される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置、特に、樹
脂封止体におけるクラックの発生防止技術に関し、例え
ば、表面実装形樹脂封止パッケージを備えている半導体
集積回路装置(以下、ICという。)に利用して有効な
技術に関する。
脂封止体におけるクラックの発生防止技術に関し、例え
ば、表面実装形樹脂封止パッケージを備えている半導体
集積回路装置(以下、ICという。)に利用して有効な
技術に関する。
【0002】
【従来の技術】表面実装形の樹脂封止パッケージを備え
ているICは、半導体ペレット(以下、ペレットとい
う。)と、ペレットがボンディングされているタブと、
ペレットの各ボンディングパッドにボンディングワイヤ
を介して電気的に接続されている複数本のリードと、ペ
レット、タブおよび各リードの一部を樹脂封止する樹脂
封止体とを備えている。
ているICは、半導体ペレット(以下、ペレットとい
う。)と、ペレットがボンディングされているタブと、
ペレットの各ボンディングパッドにボンディングワイヤ
を介して電気的に接続されている複数本のリードと、ペ
レット、タブおよび各リードの一部を樹脂封止する樹脂
封止体とを備えている。
【0003】なお、樹脂封止パッケージを備えているI
Cを述べてある例としては、特開昭59−16357号
公報、特開昭62−115752号公報、特開昭62−
12833号公報、がある。
Cを述べてある例としては、特開昭59−16357号
公報、特開昭62−115752号公報、特開昭62−
12833号公報、がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記ICにおいては、
ペレットを形成しているシリコン、リードフレームを形
成している42アロイや銅、および樹脂封止体を形成し
ている樹脂についての熱膨張係数が大きく異なるため、
ICが温度サイクル試験や熱衝撃試験等で、また、実装
時におけるはんだディップやリフローはんだ工程等で加
熱されることにより、樹脂封止体の樹脂とタブ裏面等と
の境界面に剥がれが発生し、その剥がれによって形成さ
れた隙間に水分が浸入して溜まり、その水分が所謂水蒸
気爆発を起こすことにより、樹脂封止体にクラックが発
生する問題がある。
ペレットを形成しているシリコン、リードフレームを形
成している42アロイや銅、および樹脂封止体を形成し
ている樹脂についての熱膨張係数が大きく異なるため、
ICが温度サイクル試験や熱衝撃試験等で、また、実装
時におけるはんだディップやリフローはんだ工程等で加
熱されることにより、樹脂封止体の樹脂とタブ裏面等と
の境界面に剥がれが発生し、その剥がれによって形成さ
れた隙間に水分が浸入して溜まり、その水分が所謂水蒸
気爆発を起こすことにより、樹脂封止体にクラックが発
生する問題がある。
【0005】本発明の目的は、樹脂封止体におけるクラ
ックの発生を防止することができる半導体装置を提供す
ることにある。
ックの発生を防止することができる半導体装置を提供す
ることにある。
【0006】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0007】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通り
である。
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通り
である。
【0008】すなわち、樹脂封止パッケージを備えてい
る半導体装置において、樹脂封止体が全体的に気泡を内
包しており、これらの気泡を通じて水蒸気の放出路を構
成することを特徴とする。
る半導体装置において、樹脂封止体が全体的に気泡を内
包しており、これらの気泡を通じて水蒸気の放出路を構
成することを特徴とする。
【0009】
【作用】前記した手段によれば、樹脂封止体に気泡を通
じて水蒸気の放出路が構成されることにより、リフロー
はんだ付け工程時等において、樹脂封止体内の接合界面
に熱応力による剥離が発生し、さらに、その剥離によっ
て形成された隙間に水分が浸入して溜まり、その水分が
所謂水蒸気爆発を起こしたとしても、水蒸気は気泡を通
じて構成される水蒸気の放出路を通じて外部へ逃げるた
め、樹脂封止体にクラックが発生するのは防止されるこ
とになる。
じて水蒸気の放出路が構成されることにより、リフロー
はんだ付け工程時等において、樹脂封止体内の接合界面
に熱応力による剥離が発生し、さらに、その剥離によっ
て形成された隙間に水分が浸入して溜まり、その水分が
所謂水蒸気爆発を起こしたとしても、水蒸気は気泡を通
じて構成される水蒸気の放出路を通じて外部へ逃げるた
め、樹脂封止体にクラックが発生するのは防止されるこ
とになる。
【0010】
【実施例】図1は本発明の一実施例である樹脂封止形T
QFP・IC(Thin Quad Flat Pac
kage・IC)の縦断面図である。図2〜図10はそ
の製造方法における各工程を示す各説明図である。
QFP・IC(Thin Quad Flat Pac
kage・IC)の縦断面図である。図2〜図10はそ
の製造方法における各工程を示す各説明図である。
【0011】本実施例において、本発明に係る半導体装
置は、TQFP・ICとして構成されている。このTQ
FP・IC29は、ペレット24と、ペレット24がボ
ンディングされているタブ18と、ペレット24の各ボ
ンディングパッド24aにボンディングワイヤ25を介
して電気的に接続されている複数本のリード19と、ペ
レット24、タブ18および各リード19の一部(イン
ナ部)を樹脂封止する樹脂封止体27とを備えており、
樹脂封止体27には10μm〜100μm程度の気泡4
1が均一に内包されており、これらの気泡41を通じて
水蒸気の放出路が構成されるようになっている。
置は、TQFP・ICとして構成されている。このTQ
FP・IC29は、ペレット24と、ペレット24がボ
ンディングされているタブ18と、ペレット24の各ボ
ンディングパッド24aにボンディングワイヤ25を介
して電気的に接続されている複数本のリード19と、ペ
レット24、タブ18および各リード19の一部(イン
ナ部)を樹脂封止する樹脂封止体27とを備えており、
樹脂封止体27には10μm〜100μm程度の気泡4
1が均一に内包されており、これらの気泡41を通じて
水蒸気の放出路が構成されるようになっている。
【0012】以下、本発明の一実施例であるこのTQF
P・ICの製造方法を説明する。この説明により、TQ
FP・ICについての前記した構成の詳細が共に明らか
にされる。
P・ICの製造方法を説明する。この説明により、TQ
FP・ICについての前記した構成の詳細が共に明らか
にされる。
【0013】本実施例において、TQFP・ICの製造
方法には、図2に示されている多連リードフレーム11
が使用されており、この多連リードフレーム11は多連
リードフレーム成形工程によって製作されて準備されて
いる。この多連リードフレーム11は、鉄−ニッケル合
金や燐青銅等のような比較的大きい機械的強度を有する
ばね材料からなる薄板が用いられて、打ち抜きプレス加
工またはエッチング加工等のような適当な手段により一
体成形されている。多連リードフレーム11の表面には
銀(Ag)等を用いためっき処理が、後述するワイヤボ
ンディングが適正に実施されるように部分的または全体
的に施されている(図示せず)。この多連リードフレー
ム11には複数の単位リードフレーム12が横方向に1
列に並設されている。但し、一単位のみが図示されてい
る。
方法には、図2に示されている多連リードフレーム11
が使用されており、この多連リードフレーム11は多連
リードフレーム成形工程によって製作されて準備されて
いる。この多連リードフレーム11は、鉄−ニッケル合
金や燐青銅等のような比較的大きい機械的強度を有する
ばね材料からなる薄板が用いられて、打ち抜きプレス加
工またはエッチング加工等のような適当な手段により一
体成形されている。多連リードフレーム11の表面には
銀(Ag)等を用いためっき処理が、後述するワイヤボ
ンディングが適正に実施されるように部分的または全体
的に施されている(図示せず)。この多連リードフレー
ム11には複数の単位リードフレーム12が横方向に1
列に並設されている。但し、一単位のみが図示されてい
る。
【0014】単位リードフレーム12は位置決め孔13
aが開設されている外枠13を一対備えており、両外枠
13は所定の間隔で平行になるように配されて一連にそ
れぞれ延設されている。隣り合う単位リードフレーム1
2、12間には一対のセクション枠14が両外枠13、
13間に互いに平行に配されて一体的に架設されてお
り、これら外枠、セクション枠により形成される略正方
形の枠体(フレーム)内に単位リードフレーム12が構
成されている。
aが開設されている外枠13を一対備えており、両外枠
13は所定の間隔で平行になるように配されて一連にそ
れぞれ延設されている。隣り合う単位リードフレーム1
2、12間には一対のセクション枠14が両外枠13、
13間に互いに平行に配されて一体的に架設されてお
り、これら外枠、セクション枠により形成される略正方
形の枠体(フレーム)内に単位リードフレーム12が構
成されている。
【0015】各単位リードフレーム12において、外枠
13およびセクション枠14の接続部にはダム吊り部材
15が略直角方向にそれぞれ配されて一体的に突設され
ており、ダム吊り部材15には4本のダム部材16が略
正方形の枠形状になるように配されて、一体的に吊持さ
れている。セクション枠14側の各ダム部材16にはタ
ブ吊りリード17がそれぞれの一端に配されて、略45
度方向に対向して一体的に突設されており、各タブ吊り
リード17の先端には略正方形の平板形状に形成された
タブ18が、ダム部材16群の枠形状と略同心的に配さ
れて、これらタブ吊りリード17により吊持されるよう
に一体的に連設されている。各タブ吊りリード17はタ
ブ18付近においてそれぞれ屈曲されており、このタブ
吊りリード17の屈曲によって、タブ18は後記するリ
ード群の面よりも、後記するペレットの厚さ分程度下げ
られている(所謂タブ下げ。)。
13およびセクション枠14の接続部にはダム吊り部材
15が略直角方向にそれぞれ配されて一体的に突設され
ており、ダム吊り部材15には4本のダム部材16が略
正方形の枠形状になるように配されて、一体的に吊持さ
れている。セクション枠14側の各ダム部材16にはタ
ブ吊りリード17がそれぞれの一端に配されて、略45
度方向に対向して一体的に突設されており、各タブ吊り
リード17の先端には略正方形の平板形状に形成された
タブ18が、ダム部材16群の枠形状と略同心的に配さ
れて、これらタブ吊りリード17により吊持されるよう
に一体的に連設されている。各タブ吊りリード17はタ
ブ18付近においてそれぞれ屈曲されており、このタブ
吊りリード17の屈曲によって、タブ18は後記するリ
ード群の面よりも、後記するペレットの厚さ分程度下げ
られている(所謂タブ下げ。)。
【0016】また、ダム部材16には電気配線としての
リード19が複数本、長手方向に等間隔に配されて、互
いに平行で、ダム部材16と直交するように一体的に突
設されている。各リード19の内側端部は先端がタブ1
8を取り囲むように配されることにより、インナ部19
aをそれぞれ構成している。他方、各リード19の外側
延長部分は、その先端が外枠13およびセクション枠1
4に接続されており、アウタ部19bをそれぞれ構成し
ている。そして、ダム部材16における隣り合うリード
19、19間の部分は、後述する樹脂封止体成形時にレ
ジンの流れをせき止めるダム16aを実質的に構成して
いる。
リード19が複数本、長手方向に等間隔に配されて、互
いに平行で、ダム部材16と直交するように一体的に突
設されている。各リード19の内側端部は先端がタブ1
8を取り囲むように配されることにより、インナ部19
aをそれぞれ構成している。他方、各リード19の外側
延長部分は、その先端が外枠13およびセクション枠1
4に接続されており、アウタ部19bをそれぞれ構成し
ている。そして、ダム部材16における隣り合うリード
19、19間の部分は、後述する樹脂封止体成形時にレ
ジンの流れをせき止めるダム16aを実質的に構成して
いる。
【0017】多連リードフレーム成形工程において準備
された以上の構成に係る多連リードフレーム11には、
ペレット・ボンディング工程およびワイヤ・ボンディン
グ工程において、ペレット・ボンディング作業、続い
て、ワイヤ・ボンディング作業が実施される。これらボ
ンディング作業は多連リードフレームが横方向にピッチ
送りされることにより、各単位リードフレーム毎に順次
実施される。
された以上の構成に係る多連リードフレーム11には、
ペレット・ボンディング工程およびワイヤ・ボンディン
グ工程において、ペレット・ボンディング作業、続い
て、ワイヤ・ボンディング作業が実施される。これらボ
ンディング作業は多連リードフレームが横方向にピッチ
送りされることにより、各単位リードフレーム毎に順次
実施される。
【0018】まず、ペレット・ボンディング作業によ
り、半導体装置の製造工程における所謂前工程において
集積回路を作り込まれた半導体集積回路構造物としての
ペレット24が、図3および図4に示されているよう
に、各単位リードフレーム12におけるタブ18上の略
中央部に配されて、タブ18とペレット24との間に形
成されたボンディング層23によって機械的に固着され
ることによりボンディングされる。ペレットボンディン
グ層23の形成手段としては、金−シリコン共晶層、は
んだ付け層および銀ペースト接着層等々によるボンディ
ング法を用いることが可能である。但し、必要に応じ
て、ペレットからタブへの熱伝達の障壁とならないよう
に、ボンディング層23を形成することが望ましい。
り、半導体装置の製造工程における所謂前工程において
集積回路を作り込まれた半導体集積回路構造物としての
ペレット24が、図3および図4に示されているよう
に、各単位リードフレーム12におけるタブ18上の略
中央部に配されて、タブ18とペレット24との間に形
成されたボンディング層23によって機械的に固着され
ることによりボンディングされる。ペレットボンディン
グ層23の形成手段としては、金−シリコン共晶層、は
んだ付け層および銀ペースト接着層等々によるボンディ
ング法を用いることが可能である。但し、必要に応じ
て、ペレットからタブへの熱伝達の障壁とならないよう
に、ボンディング層23を形成することが望ましい。
【0019】続いて、ワイヤボンディング作業により、
図3および図4に示されているように、タブ18上にボ
ンディングされたペレット24のボンディングパッド2
4aと、各単位リードフレーム12におけるリード19
のインナ部19aとの間に、ボンディングワイヤ25が
超音波熱圧着式ワイヤボンディング装置等のような適当
なワイヤボンディング装置(図示せず)が使用されるこ
とにより、その両端部をそれぞれボンディングされて橋
絡される。これにより、ペレット24に作り込まれてい
る集積回路は、ボンディングパッド24a、ボンディン
グワイヤ25、リード19のインナ部19aおよびアウ
タ部19bを介して電気的に外部に引き出されることに
なる。
図3および図4に示されているように、タブ18上にボ
ンディングされたペレット24のボンディングパッド2
4aと、各単位リードフレーム12におけるリード19
のインナ部19aとの間に、ボンディングワイヤ25が
超音波熱圧着式ワイヤボンディング装置等のような適当
なワイヤボンディング装置(図示せず)が使用されるこ
とにより、その両端部をそれぞれボンディングされて橋
絡される。これにより、ペレット24に作り込まれてい
る集積回路は、ボンディングパッド24a、ボンディン
グワイヤ25、リード19のインナ部19aおよびアウ
タ部19bを介して電気的に外部に引き出されることに
なる。
【0020】このようにしてペレットおよびワイヤ・ボ
ンディングされた組立体26には、各単位リードフレー
ム毎に樹脂封止する樹脂封止体27群が、図5に示され
ているようなトランスファ成形装置30が使用されて、
単位リードフレーム群について同時成形される。
ンディングされた組立体26には、各単位リードフレー
ム毎に樹脂封止する樹脂封止体27群が、図5に示され
ているようなトランスファ成形装置30が使用されて、
単位リードフレーム群について同時成形される。
【0021】図5に示されているトランスファ成形装置
30は、シリンダ装置等(図示せず)によって互いに型
締めされる一対の上型31と下型32とを備えており、
上型31と下型32との合わせ面には上型キャビティー
凹部33aと下型キャビティー凹部33bとが互いに協
働してキャビティー33を形成するようにそれぞれ複数
組没設されている。本実施例において、このキャビティ
ー33の全高はTQFP・ICに対応するために、1m
m以下に設定されている。
30は、シリンダ装置等(図示せず)によって互いに型
締めされる一対の上型31と下型32とを備えており、
上型31と下型32との合わせ面には上型キャビティー
凹部33aと下型キャビティー凹部33bとが互いに協
働してキャビティー33を形成するようにそれぞれ複数
組没設されている。本実施例において、このキャビティ
ー33の全高はTQFP・ICに対応するために、1m
m以下に設定されている。
【0022】上型31の合わせ面にはポット34が開設
されており、ポット34にはシリンダ装置(図示せず)
により進退されるプランジャ35が成形材料としての樹
脂(以下、レジンという。)を送給し得るように挿入さ
れている。下型32の合わせ面にはカル36がポット3
4との対向位置に配されて没設されているとともに、複
数条のランナ37がカル36にそれぞれ接続するように
放射状に配されて没設されている。各ランナ37の他端
部は下側キャビティー凹部33bにそれぞれ接続されて
おり、その接続部にはゲート38がレジンをキャビティ
ー33内に注入し得るように形成されている。また、下
型32の合わせ面には逃げ凹所39がリードフレームの
厚みを逃げ得るように、多連リードフレーム11の外形
よりも若干大きめの長方形で、その厚さと略等しい寸法
の一定深さに没設されている。
されており、ポット34にはシリンダ装置(図示せず)
により進退されるプランジャ35が成形材料としての樹
脂(以下、レジンという。)を送給し得るように挿入さ
れている。下型32の合わせ面にはカル36がポット3
4との対向位置に配されて没設されているとともに、複
数条のランナ37がカル36にそれぞれ接続するように
放射状に配されて没設されている。各ランナ37の他端
部は下側キャビティー凹部33bにそれぞれ接続されて
おり、その接続部にはゲート38がレジンをキャビティ
ー33内に注入し得るように形成されている。また、下
型32の合わせ面には逃げ凹所39がリードフレームの
厚みを逃げ得るように、多連リードフレーム11の外形
よりも若干大きめの長方形で、その厚さと略等しい寸法
の一定深さに没設されている。
【0023】前記構成に係るトランスファ成形装置が使
用されるトランスファ成形方法において、前記構成にか
かる組立体26は、多連リードフレーム11が下型32
に没設されている逃げ凹所39内に収容され、各単位リ
ードフレーム12におけるペレット24が各キャビティ
ー33内にそれぞれ収容されるように配されてセットさ
れ、続いて、上型31と下型32とが型締めされる。
用されるトランスファ成形方法において、前記構成にか
かる組立体26は、多連リードフレーム11が下型32
に没設されている逃げ凹所39内に収容され、各単位リ
ードフレーム12におけるペレット24が各キャビティ
ー33内にそれぞれ収容されるように配されてセットさ
れ、続いて、上型31と下型32とが型締めされる。
【0024】この状態において、成形材料としてのレジ
ン粉末を突き固めて成形されているタブレット40(図
6(c)参照)がポット34に投入される。このタブレ
ット40には気泡41が多数、内包されている。以下、
このタブレット40の製造方法の一例を説明する。
ン粉末を突き固めて成形されているタブレット40(図
6(c)参照)がポット34に投入される。このタブレ
ット40には気泡41が多数、内包されている。以下、
このタブレット40の製造方法の一例を説明する。
【0025】本実施例において使用されるタブレット4
0は図6(b)に示されているタブレット成形装置50
によって機械的に突き固め成形される。タブレット成形
装置50は一端が開口したシリンダ51を備えており、
シリンダ51の開口端には閉塞板52が開閉自在に取り
付けられている。シリンダ51の中空部にはピストン5
3が摺動自在に嵌挿されており、ピストン53はプレス
装置等のような駆動装置(図示せず)によって往復動さ
れるように構成されている。
0は図6(b)に示されているタブレット成形装置50
によって機械的に突き固め成形される。タブレット成形
装置50は一端が開口したシリンダ51を備えており、
シリンダ51の開口端には閉塞板52が開閉自在に取り
付けられている。シリンダ51の中空部にはピストン5
3が摺動自在に嵌挿されており、ピストン53はプレス
装置等のような駆動装置(図示せず)によって往復動さ
れるように構成されている。
【0026】そして、閉塞板52が開かれた状態におい
て、シリンダ51の内部に成形材料としてのレジン粉末
54が所定量投入される。その後、閉塞板52によって
シリンダ51の投入口が閉塞される。ここで、図6
(a)に示されているように、レジン粉末54がミキサ
ー55内において攪拌スクリュー56で攪拌されること
により、シリンダ51に投入されるレジン粉末54には
気泡を多数内包させてある。続いて、ピストン53が駆
動装置によって押し上げられ、閉塞板52とピストン5
3との間でレジン粉末54が突き固められることによっ
て、所定の大きさの円柱形状のタブレット40が成形さ
れる。このとき、突き固めの際の突き固め圧力は、気泡
41がタブレット40内に多数、内包されるように設定
されている。
て、シリンダ51の内部に成形材料としてのレジン粉末
54が所定量投入される。その後、閉塞板52によって
シリンダ51の投入口が閉塞される。ここで、図6
(a)に示されているように、レジン粉末54がミキサ
ー55内において攪拌スクリュー56で攪拌されること
により、シリンダ51に投入されるレジン粉末54には
気泡を多数内包させてある。続いて、ピストン53が駆
動装置によって押し上げられ、閉塞板52とピストン5
3との間でレジン粉末54が突き固められることによっ
て、所定の大きさの円柱形状のタブレット40が成形さ
れる。このとき、突き固めの際の突き固め圧力は、気泡
41がタブレット40内に多数、内包されるように設定
されている。
【0027】ちなみに、上記レジン粉末54は半導体装
置の樹脂封止体を形成し得るように適宜調整されてお
り、エポキシ樹脂を主成分とされ、熱硬化剤、硬化促進
剤、着色剤、フィラー等が適量添加されている。
置の樹脂封止体を形成し得るように適宜調整されてお
り、エポキシ樹脂を主成分とされ、熱硬化剤、硬化促進
剤、着色剤、フィラー等が適量添加されている。
【0028】タブレット40がポット34に投入された
後、プランジャ35が押し下げられる。このとき、上下
型31、32はヒータ(図示せず)により加熱されるた
め、タブレット40は溶融レジン42となり、溶融レジ
ン42の内部には10μm〜100μmの大きさの気泡
41が多数発生する。この溶融レジン42は多数の気泡
41と一緒に、プランジャ35によりランナ37および
ゲート38を通じて各キャビティー33に送給されて圧
入される。注入後、溶融レジン42が熱硬化されて樹脂
封止体27が成形される。
後、プランジャ35が押し下げられる。このとき、上下
型31、32はヒータ(図示せず)により加熱されるた
め、タブレット40は溶融レジン42となり、溶融レジ
ン42の内部には10μm〜100μmの大きさの気泡
41が多数発生する。この溶融レジン42は多数の気泡
41と一緒に、プランジャ35によりランナ37および
ゲート38を通じて各キャビティー33に送給されて圧
入される。注入後、溶融レジン42が熱硬化されて樹脂
封止体27が成形される。
【0029】次いで、上型31および下型32は型開き
されるとともに、エジェクタ・ピン(図示せず)により
樹脂封止体27群が離型される。このようにして樹脂封
止体27群が成形された組立体28は、図7および図8
に示されているようにトランスファ成形装置30から脱
装される。そして、このように樹脂成形された樹脂封止
体27の内部には、タブ18、ペレット24、リード1
9のインナ部19aおよびワイヤ25が樹脂封止される
ことになる。
されるとともに、エジェクタ・ピン(図示せず)により
樹脂封止体27群が離型される。このようにして樹脂封
止体27群が成形された組立体28は、図7および図8
に示されているようにトランスファ成形装置30から脱
装される。そして、このように樹脂成形された樹脂封止
体27の内部には、タブ18、ペレット24、リード1
9のインナ部19aおよびワイヤ25が樹脂封止される
ことになる。
【0030】本実施例においては、溶融レジンの内部に
10μm〜100μmの大きさの気泡が多数、内包され
ているので、溶融レジンが熱硬化されて成形された樹脂
封止体27には10μm〜100μmの大きさの気泡4
1が全体にわたって均一に内包され、これらの気泡41
を通じて水蒸気の放出路が構成される。水蒸気の放出路
は連続した気泡部分や近接した気泡間で構成される。
10μm〜100μmの大きさの気泡が多数、内包され
ているので、溶融レジンが熱硬化されて成形された樹脂
封止体27には10μm〜100μmの大きさの気泡4
1が全体にわたって均一に内包され、これらの気泡41
を通じて水蒸気の放出路が構成される。水蒸気の放出路
は連続した気泡部分や近接した気泡間で構成される。
【0031】樹脂封止体を成形された半完成品としての
組立体28は、図示しないが、リード切断成形工程にお
いて各単位リードフレーム毎に順次、外枠13およびダ
ム16aを切り落とされるとともに、各リード19のア
ウタ部19bをガル・ウイング形状に屈曲形成される
(図1参照)。
組立体28は、図示しないが、リード切断成形工程にお
いて各単位リードフレーム毎に順次、外枠13およびダ
ム16aを切り落とされるとともに、各リード19のア
ウタ部19bをガル・ウイング形状に屈曲形成される
(図1参照)。
【0032】以上のようにして製造された樹脂封止形T
QFP・IC29は図9に示されているようにプリント
配線基板に実装される。
QFP・IC29は図9に示されているようにプリント
配線基板に実装される。
【0033】プリント配線基板60にはランド61が複
数個、実装対象物となる樹脂封止形TQFP・IC29
における各リード19に対応するように配されて、はん
だ材料を用いられて略長方形の薄板形状に形成されてお
り、このランド61群にこのIC29のリード19群が
それぞれ整合されて当接されているとともに、各リード
19とランド61とがリフローはんだ処理により形成さ
れたはんだ盛り層(図示せず)によって電気的かつ機械
的に接続されている。
数個、実装対象物となる樹脂封止形TQFP・IC29
における各リード19に対応するように配されて、はん
だ材料を用いられて略長方形の薄板形状に形成されてお
り、このランド61群にこのIC29のリード19群が
それぞれ整合されて当接されているとともに、各リード
19とランド61とがリフローはんだ処理により形成さ
れたはんだ盛り層(図示せず)によって電気的かつ機械
的に接続されている。
【0034】次に作用を説明する。前記構成にかかるT
QFP・IC29は出荷前に抜き取り検査を実施され
る。抜き取り検査としては温度サイクル試験や熱衝撃試
験を含む環境試験が実施される。また、このTQFP・
IC29がプリント配線基板60等に実装される際、は
んだディップ処理やリフローはんだ処理によってTQF
P・IC29は加熱される。
QFP・IC29は出荷前に抜き取り検査を実施され
る。抜き取り検査としては温度サイクル試験や熱衝撃試
験を含む環境試験が実施される。また、このTQFP・
IC29がプリント配線基板60等に実装される際、は
んだディップ処理やリフローはんだ処理によってTQF
P・IC29は加熱される。
【0035】このような環境試験または実装時に熱スト
レスが前記構成に係るTQFP・IC29に加えられた
場合、構成材料の熱膨張係数差により、樹脂封止体27
の接合界面、例えば、タブ18裏面との境界面に熱応力
が発生し、その境界面に剥がれが発生することがある。
さらに、樹脂封止パッケージ完成後の保管過程等におい
て樹脂封止体27の内部に吸湿された水分が、タブ18
裏面と樹脂封止体27との間の剥離によって発生した隙
間に侵入すると、TQFP・IC29が加熱された際
に、加熱によって当該水分が膨張することによって所謂
水蒸気爆発が発生するため、樹脂封止体27にクラック
が発生するという問題点があることが明らかにされてい
る。
レスが前記構成に係るTQFP・IC29に加えられた
場合、構成材料の熱膨張係数差により、樹脂封止体27
の接合界面、例えば、タブ18裏面との境界面に熱応力
が発生し、その境界面に剥がれが発生することがある。
さらに、樹脂封止パッケージ完成後の保管過程等におい
て樹脂封止体27の内部に吸湿された水分が、タブ18
裏面と樹脂封止体27との間の剥離によって発生した隙
間に侵入すると、TQFP・IC29が加熱された際
に、加熱によって当該水分が膨張することによって所謂
水蒸気爆発が発生するため、樹脂封止体27にクラック
が発生するという問題点があることが明らかにされてい
る。
【0036】しかし、本実施例においては、例えば、樹
脂封止体27に吸湿された水分が、タブ18裏面と樹脂
封止体27の樹脂との界面に形成された隙間に溜まっ
て、前述した加熱時における樹脂封止体27の温度上昇
に伴って引き起こされる所謂水蒸気爆発が発生したとし
ても、その水蒸気は多数の気泡41を通じて構成される
水蒸気の放出路を通じて外部に逃げるため、樹脂封止体
27にクラックが発生するのを低減することができる。
脂封止体27に吸湿された水分が、タブ18裏面と樹脂
封止体27の樹脂との界面に形成された隙間に溜まっ
て、前述した加熱時における樹脂封止体27の温度上昇
に伴って引き起こされる所謂水蒸気爆発が発生したとし
ても、その水蒸気は多数の気泡41を通じて構成される
水蒸気の放出路を通じて外部に逃げるため、樹脂封止体
27にクラックが発生するのを低減することができる。
【0037】上述したように耐湿性に問題がなくなるた
め、従来実施されていた防湿梱包が不要になる。その結
果、図10に示されている簡単な梱包で済む。すなわ
ち、図10に示されているように、ICが収納されてい
るトレー70を多数枚積層し、これの上下に厚紙71、
71を配し、バンド72で止めればよい。
め、従来実施されていた防湿梱包が不要になる。その結
果、図10に示されている簡単な梱包で済む。すなわ
ち、図10に示されているように、ICが収納されてい
るトレー70を多数枚積層し、これの上下に厚紙71、
71を配し、バンド72で止めればよい。
【0038】前記実施例によれば、次の効果が得られ
る。 樹脂封止体に気泡が多数内包されており、これらの
気泡を通じて水蒸気の放出路が構成されることにより、
リフローはんだ付け工程時等において、樹脂封止体内の
接合界面に熱応力による剥離が発生し、さらにその剥離
によって形成された隙間に水分が浸入して溜まり、その
水分が所謂水蒸気爆発を起こしたとしても、水蒸気は気
泡を通じて構成される水蒸気の放出路を通じて外部へ逃
げるため、樹脂封止体にクラックが発生するのは防止さ
れる。
る。 樹脂封止体に気泡が多数内包されており、これらの
気泡を通じて水蒸気の放出路が構成されることにより、
リフローはんだ付け工程時等において、樹脂封止体内の
接合界面に熱応力による剥離が発生し、さらにその剥離
によって形成された隙間に水分が浸入して溜まり、その
水分が所謂水蒸気爆発を起こしたとしても、水蒸気は気
泡を通じて構成される水蒸気の放出路を通じて外部へ逃
げるため、樹脂封止体にクラックが発生するのは防止さ
れる。
【0039】 前記により、樹脂封止体におけるク
ラックの発生を防止することができるので、表面実装形
パッケージをさらに薄形で、かつ小形化させることがで
き、表面実装形パッケージを備えているICの集積密度
および実装密度をさらに一層高めることができる。
ラックの発生を防止することができるので、表面実装形
パッケージをさらに薄形で、かつ小形化させることがで
き、表面実装形パッケージを備えているICの集積密度
および実装密度をさらに一層高めることができる。
【0040】 前記により、防湿に関しての煩わし
い管理作業を省略することができ、従来実施している防
湿梱包もする必要がなくなるため、防湿梱包材料費およ
び作業コストを低減させることができる。
い管理作業を省略することができ、従来実施している防
湿梱包もする必要がなくなるため、防湿梱包材料費およ
び作業コストを低減させることができる。
【0041】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。
例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。
【0042】例えば、樹脂封止体内に気泡を内包させる
手段としては、粉末レジンに予め発泡剤を混入してお
き、これをタブレットに成形するようにしてもよいし、
あるいは、トランスファ成形の段階で、トランスファ成
形装置のポット内の溶融レジン中に空気を吹き込むよう
にしてもよい。
手段としては、粉末レジンに予め発泡剤を混入してお
き、これをタブレットに成形するようにしてもよいし、
あるいは、トランスファ成形の段階で、トランスファ成
形装置のポット内の溶融レジン中に空気を吹き込むよう
にしてもよい。
【0043】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるTQF
P・ICに適用した場合について主に説明したが、それ
に限定されるものではなく、樹脂封止パッケージを備え
ている半導体装置全般に適用することができる。
なされた発明をその背景となった利用分野であるTQF
P・ICに適用した場合について主に説明したが、それ
に限定されるものではなく、樹脂封止パッケージを備え
ている半導体装置全般に適用することができる。
【0044】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。
【0045】樹脂封止体に気泡を多数内包して気泡を通
じて水蒸気の放出路を構成しておくことにより、万一、
水蒸気爆発が起きても水蒸気を放出路を通じて無理なく
逃散させることができるため、樹脂封止体にクラックが
発生するのを回避することができる。
じて水蒸気の放出路を構成しておくことにより、万一、
水蒸気爆発が起きても水蒸気を放出路を通じて無理なく
逃散させることができるため、樹脂封止体にクラックが
発生するのを回避することができる。
【図1】本発明の一実施例である樹脂封止形TQFP・
ICの縦断面図である。
ICの縦断面図である。
【図2】そのTQFP・ICの製造方法に使用される多
連リードフレームを示す一部省略平面図である。
連リードフレームを示す一部省略平面図である。
【図3】ペレットおよびワイヤ・ボンディング工程後を
示す一部省略平面図である。
示す一部省略平面図である。
【図4】図3のIV−IV線に沿う正面断面図である。
【図5】樹脂封止体の成形工程を示す一部省略縦断面図
である。
である。
【図6】(a)はミキサーを示す正面図、(b)はタブ
レット成形装置を示す縦断面図、(c)はタブレットを
示す斜視図である。
レット成形装置を示す縦断面図、(c)はタブレットを
示す斜視図である。
【図7】樹脂封止体成形後の組立体を示す平面図であ
る。
る。
【図8】図7におけるVIII−VIII線断面図である。
【図9】樹脂封止形TQFP・ICの実装状態を示す斜
視図である。
視図である。
【図10】ICの梱包状態を示す斜視図である。
11…多連リードフレーム、12…単位リードフレー
ム、13…外枠、14…セクション枠、15…ダム吊り
部材、16…ダム部材、16a…ダム、17…タブ吊り
リード、18…タブ、19…リード、19a…インナ
部、19b…アウタ部、23…ボンディング層、24…
ペレット、24a…ボンディングパッド、25…ワイ
ヤ、26…組立体、27…樹脂封止体、28…樹脂封止
体成形後の組立体、29…TQFP・IC(半導体装
置)、30…トランスファ成形装置、31…上型、32
…下型、33…キャビティー、33a…上型キャビティ
ー凹部、33b…下型キャビティー凹部、34…ポッ
ト、35…プランジャ、36…カル、37…ランナ、3
8…ゲート、39…逃げ凹所、40…タブレット、41
…気泡、42…溶融レジン、50…タブレット成形装
置、51…シリンダ、52…閉塞板、53…ピストン、
54…レジン粉末、55…ミキサー、56…攪拌スクリ
ュー、60…プリント配線基板、61…ランド、70…
トレー、71…厚紙、72…バンド。
ム、13…外枠、14…セクション枠、15…ダム吊り
部材、16…ダム部材、16a…ダム、17…タブ吊り
リード、18…タブ、19…リード、19a…インナ
部、19b…アウタ部、23…ボンディング層、24…
ペレット、24a…ボンディングパッド、25…ワイ
ヤ、26…組立体、27…樹脂封止体、28…樹脂封止
体成形後の組立体、29…TQFP・IC(半導体装
置)、30…トランスファ成形装置、31…上型、32
…下型、33…キャビティー、33a…上型キャビティ
ー凹部、33b…下型キャビティー凹部、34…ポッ
ト、35…プランジャ、36…カル、37…ランナ、3
8…ゲート、39…逃げ凹所、40…タブレット、41
…気泡、42…溶融レジン、50…タブレット成形装
置、51…シリンダ、52…閉塞板、53…ピストン、
54…レジン粉末、55…ミキサー、56…攪拌スクリ
ュー、60…プリント配線基板、61…ランド、70…
トレー、71…厚紙、72…バンド。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05K 3/32 Z 8718−4E
Claims (3)
- 【請求項1】 半導体ペレットと、半導体ペレットに電
気的に接続されている複数本のリードと、半導体ペレッ
トおよび各リードの一部を樹脂封止する樹脂封止体とを
備えている半導体装置において、 前記樹脂封止体に気泡が多数、内包されており、これら
の気泡を通じて水蒸気の放出路が構成されることを特徴
とする半導体装置。 - 【請求項2】 前記半導体装置が表面実装形パッケージ
を備えていることを特徴とする請求項1記載の半導体装
置。 - 【請求項3】 前記気泡はその大きさが10μm〜10
0μmに形成されて、前記樹脂封止体に均一に内包され
ていることを特徴とする請求項2記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6275940A JPH08116001A (ja) | 1994-10-14 | 1994-10-14 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6275940A JPH08116001A (ja) | 1994-10-14 | 1994-10-14 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08116001A true JPH08116001A (ja) | 1996-05-07 |
Family
ID=17562555
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6275940A Withdrawn JPH08116001A (ja) | 1994-10-14 | 1994-10-14 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08116001A (ja) |
-
1994
- 1994-10-14 JP JP6275940A patent/JPH08116001A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20020115 |