JPH0810972A - パルスレーザ加工装置 - Google Patents

パルスレーザ加工装置

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JPH0810972A
JPH0810972A JP6144347A JP14434794A JPH0810972A JP H0810972 A JPH0810972 A JP H0810972A JP 6144347 A JP6144347 A JP 6144347A JP 14434794 A JP14434794 A JP 14434794A JP H0810972 A JPH0810972 A JP H0810972A
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JP
Japan
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signal
rectangular wave
wave signal
pulse
movement amount
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JP6144347A
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English (en)
Inventor
Naoki Mitsuyanagi
直毅 三柳
Kojiro Ogata
浩二郎 緒方
Nobuhiko Tada
信彦 多田
Yoshiya Nagano
義也 長野
Yoshiaki Shimomura
義昭 下村
Shinya Okumura
信也 奥村
Shigeyuki Sakurai
茂行 桜井
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Hitachi Construction Machinery Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Construction Machinery Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】パルスレーザ加工装置において、加工位置が等
間隔である場合のみならず等間隔でない場合にも所望の
加工位置を高速で加工することができるようにする。 【構成】ワーク1に当てた照明の反射光からフォトセン
サ125でウエブ部5及びスリット部3のピッチを検出
し、その検出信号をコンパレータ241で二値化し矩形
波信号P0とする。また、ロータリエンコーダ21aか
らXYテーブル21の移動量に応じたパルス信号Mを発
生させ、カウンタ回路242で所定の個数のパルス信号
Mに対応する遅れ時間tDを矩形波信号P0に与えて矩形
波信号Pとする。さらに、レーザコントローラ134で
矩形波信号Pの立ち上がりに基づくトリガ信号を発生
し、パルスレーザ光の発振を制御する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、所望の加工位置を高速
で加工することができるパルスレーザ加工装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】パルスレーザ光を利用した加工として
は、切断、穴あけ、溶接などの加工方法が機械、電子、
半導体などの多方面の分野で利用されている。従来のパ
ルスレーザ加工装置の構成を図9及び図10を参照しな
がら説明する。
【0003】従来のパルスレーザ加工装置は、図9にそ
の一例を示すように、レーザヘッド31と加工ヘッド3
2とレーザ電源33とから構成されるレーザ発振器3
0、被加工物であるワーク40を搭載し水平面内(XY
平面内)に移動可能なXYテーブル41、レーザヘッド
31及び加工ヘッド32を上下方向(Z軸方向)に移動
させるZテーブル42、XYテーブル41の水平面内の
移動動作とZテーブル42の上下方向の移動動作とレー
ザ発振器30の発振動作とを自動または手動で制御する
メインコントローラ43を備える。
【0004】また、レーザ電源33は、図示しないレー
ザコントローラ、安定化電源、コンデンサ部及びスイッ
チ部から構成され、安定化電源にて供給された交流電流
がレーザコントローラから指令された電圧値に従って直
流に変えられ、コンデンサ部に供給され、コンデンサ部
の電荷がスイッチ部に供給され、レーザコントローラか
らのパルス幅及びパルス周波数を指令するトリガ信号に
従ってスイッチ部が動作し、これに従ってレーザヘッド
31よりパルスレーザ光がパルス状に発振する。
【0005】また、レーザヘッド31には図示しないビ
ームシャッターが内臓されており、開閉することによっ
てパルスレーザ光をON/OFFし、ワーク40へのパ
ルスレーザ光の照射を制御する。即ちワーク40を加工
する場合には上記ビームシャッターを開き、加工しない
場合には上記ビームシャッタを閉じる。このビームシャ
ッターの動作時間は100〜300msec程度であ
り、その制御は、前述のレーザコントローラから行う
が、メインコントローラ43からレーザコントローラを
介して行うことも可能である。
【0006】上記のようなパルスレーザ加工装置を用い
て、例えば、ICパッケージのダムバー切断を行う場合
を説明する。図10(a)はICバッケージの平面図、
図10(b)は図10(a)のXII−B部拡大図であ
る。図10(a)に示すように、ダムバー2は、ICに
使用されるリードフレームのピンを連結しており、IC
のモールド時にレジンを堰止める役割と、ピンを補強す
る役割を持ち、製造工程の最後の方で除去されるバーで
ある。このダムバー2をパルスレーザ光で除去する加工
手順を、図10(b)のK点の加工が終了し、続いてL
点の加工を行う場合を例にとって説明すると、次のよう
になる。
【0007】(1) XYテーブル41により、ワーク
40上へのパルスレーザ光照射位置を図10中K点から
L点の方向に移動させる。
【0008】(2) L点で位置決めしXYテーブル4
1を停止する。
【0009】(3) ビームシャッターを開にする。
【0010】(4) パルスレーザ光を照射し、L点の
ダムバー2を切断する。
【0011】(5) ビームシャッターを閉にする。
【0012】以上(1)から(5)の加工手順を繰返す
ことにより、図10(a)に示すICパッケージの4辺
にあるダムバー2を順次切断し、隣合うピンを切断して
いく。このとき、XYテーブルの移動及び停止、移動軌
跡、ビームシャッター開閉は、メインコントローラ43
にあらかじめ入力したプログラムに沿って指令される。
また、この間パルスレーザ光は常時パルス状に発振する
か、またはビームシャッターが開いたのと同期して発振
し、これらの制御は前述のレーザコントローラで行なわ
れる。
【0013】なお、上記のようなダムバー部の除去に用
いて好適なレーザ加工装置または方法に関する従来技術
として、例えば特開昭56−9090号公報や特開平4
−41092号公報に記載されたものがある。前者の特
開昭56−9090号公報に記載の方法は、加工速度
(XYテーブルの移動速度)の変化にレーザ光の発振を
対応させ均一にレーザ光を照射させるものであり、後者
の特開平4−41092号公報に記載の装置は、予め記
憶しておいた複数の加工位置情報とXYテーブルの移動
量との比較結果に応じてレーザ光のON/OFFや照射
タイミングを制御するものである。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】上記ICパッケージの
ダムバーの寸法は幅0.1〜0.3mm程度、厚さ0.
15mm前後であるので、この切断はパルスレーザ光の
1パルスで十分可能である。従って、実際の加工に要す
る時間はパルスレーザ光のパルス幅の時間に相当し、
0.1〜1msec程度である。ところが、前述の
(1)から(5)の加工手順においてはビームシャッタ
ーの動作時間である100〜300msecとテーブル
の移動時間とにより、1つのダムバー切断のために1s
ec程度の時間を費し、ダムバーの切断個数やICパッ
ケージの製造個数を考慮すると、加工時間がかかり過ぎ
ることになる。
【0015】また、一般的にはピンのピッチは等ピッチ
であることが多いが、リードフレームの製造誤差や、レ
ジンでモールドする時の温度履歴による歪や、ハンドリ
ングによる外力などで変形し、ダムバー切断時には必ず
しも等ピッチにはなっていない場合がある。前述のダム
バー切断方法は、ダムバーを切断する箇所をプログラム
として予じめメインコントローラ43に登録しておく方
法であるが、この方法では上記ピンが等ピッチでなくワ
ーク毎にピッチが変わっている場合には対応できず、さ
らに製造誤差や変形が累積して誤差が増大するような最
悪の場合には、残しておくべきリードフレームのピンの
部分にダメージを与える可能性もある。
【0016】また、特開昭56−9090号公報に記載
された従来技術をダムバー部の除去に応用する場合、均
一にレーザ光を照射させるため、ピンが等ピッチでなく
不規則な配列になってしまった時には対応できず、上記
と同様の問題が生じる。さらに、特開平4−41092
号公報に記載された従来技術を応用する場合、予め記憶
(想定)した所定の形状に従う制御しかできないため、
やはりピンが不規則な配列になってしまった時には対応
できず、同様の問題が生じる。
【0017】本発明の目的は、上記問題点に鑑み、加工
位置が等間隔である場合のみならず等間隔でない場合に
も所望の加工位置を高速で加工することができるパルス
レーザ加工装置を提供することである。
【0018】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明によれば、レーザ発振器と、被加工物を移動
させ前記レーザ発振器による前記被加工物の加工位置を
決定する搬送手段とを備えるパルスレーザ加工装置にお
いて、前記加工位置における被加工物の材料の有無を検
出して対応する検出信号を発生する検出手段と、前記搬
送手段の移動量を検出してその移動量に応じた移動量信
号を出力する移動量検出手段と、前記検出手段からの検
出信号と前記移動量検出手段からの移動量信号とに基づ
いて第1の短形波信号を発生する短形波信号発生手段
と、前記短形波信号に基づいたタイミングでパルスレー
ザ光が照射されるようパルスレーザ光の発振を制御する
制御手段とを備えることを特徴とするパルスレーザ加工
装置が提供される。
【0019】上記パルスレーザ加工装置において、好ま
しくは、前記矩形波信号発生手段が、前記検出信号を二
値化して第2の矩形波信号を発生する比較手段と、所定
の数の前記移動量信号に対応した遅れ時間を第2の矩形
波信号に与えて上記第1の矩形波信号とする演算手段と
を備える。
【0020】
【作用】上記のように構成した本発明においては、検出
手段で加工位置における被加工物の材料の有無を検出し
て検出信号を発生し、移動量検出手段で搬送手段の移動
量を検出してその移動量に応じた移動量信号を発生し、
矩形波信号発生手段で上記検出信号と移動量信号とに基
づいて第1の矩形波信号を発生し、制御手段で上記第1
の矩形波信号に基づいたタイミングでパルスレーザ光の
発振を制御することにより、被加工物の表面の情報に応
じて所望の加工位置に確実にパルスレーザ光が照射され
て加工が行われる。従って、例えばICパッケージのダ
ムバー切断を行う場合、ピンの有無の情報に応じてダム
バーの切断すべき所望の位置が確実かつ高速に切断され
る。しかも、搬送手段の移動量を検出してその移動量に
応じた移動量信号を発生するため、搬送手段の移動速度
が変わったとしても、その速度変化の影響を受けずその
移動量に応じて加工位置を設定することができる。
【0021】また、矩形波信号発生手段においては、比
較手段で上記検出信号が二値化されて第2の矩形波信号
となり、演算手段でこの第2の矩形波信号に、所定の数
の上記移動量信号に対応した遅れ時間が与えられ、第1
の矩形波信号となる。そしてこの第1の矩形波信号が制
御手段に入力され、それに基づいたタイミングでパルス
レーザ光の発振が制御される。従って、第2の矩形波信
号に与えるべき遅れ時間に相当する移動量信号の数を適
当に決めておけば、被加工物の表面の情報に応じた周期
(タイミング)でパルスレーザ光が発振し、被加工物の
所望の加工位置にパルスレーザ光が照射され加工が確実
に行われる。
【0022】
【実施例】本発明の一実施例によるパルスレーザ加工装
置について、図1から図8により説明する。但し、以下
では、おもに等間隔のピンを有するICのリードフレー
ムのダムバー切断について説明する。
【0023】図1に示すように、本実施例のパルスレー
ザ加工装置には、レーザヘッド11と加工ヘッド12と
レーザ電源13とから構成されるレーザ発振器10、被
加工物であるワーク1を搭載し水平面内(XY平面内)
に移動させる搬送手段としてのXYテーブル21、レー
ザヘッド11及び加工ヘッド12を上下方向(Z軸方
向)に移動させるZテーブル22、メインコントローラ
23と矩形波信号発生回路24を有するコントロールユ
ニット25が備えられている。メインコントローラ23
は、XYテーブル21の水平面内の移動動作とZテーブ
ル22の上下方向の移動動作とレーザ発振器10の発振
動作とを自動または手動で制御する。
【0024】レーザ電源13は、安定化電源130、コ
ンデンサ部131、スイッチ部132、及びレーザコン
トローラ134から構成される。このレーザ電源13で
は、まず、安定化電源130において供給された交流電
源がレーザコントローラ134から指令された電圧値に
従って直流に変えられ、コンデンサ部131に供給され
る。コンデンサ部131に上記電圧値で供給された電荷
はスイッチ部132に供給され、レーザコントローラ1
34から入力されるパルスレーザ光のパルス幅及びパル
ス周波数を指令するトリガ信号に従ってスイッチ部13
2が動作し、上記電荷がレーザヘッド11に備えられた
レーザ励起用のフラッシュランプ(図示せず)に供給さ
れる。このパルス状の電荷によりフラッシュランプが発
光し、これにより発振媒体が励起されてパルスレーザ光
がパルス状に発振する。
【0025】加工ヘッド12には後述する照明光発生装
置126(図4参照)とフォトセンサ125が備えら
れ、フォトセンサ125からの検出信号は矩形波信号発
生回路24に入力され、矩形波信号発生回路24はメイ
ンコントローラ23からの指令により、レーザ電源13
内のレーザコントローラ134(後述する)に矩形波信
号を出力する。また、一方、XYテーブル21には移動
量検出手段としてのロータリエンコーダ21aが取り付
けられており、このロータリエンコーダ21aからXY
テーブル21の移動量に応じたパルス信号(移動量信
号)Mが矩形波信号発生回路24のカウンタ回路242
(図2参照)に入力される。但し、パルス信号MはXY
テーブル21の移動量に応じた信号であり、その移動速
度の影響は受けない。
【0026】また、図2に示すように、矩形波信号発生
回路24には、オペアンプで構成された比較手段として
のコンパレータ241及び加工位置決定用の演算手段で
あるカウンタ回路242が備えられており、フォトセン
サ125からの検出信号がコンパレータ241で二値化
されて矩形波信号P0が生成され、カウンタ回路242
に入力される。カウンタ回路242ではこの矩形波信号
0の立ち下がりを受けて所定の個数のパルス信号Mに
対応する遅れ時間tD(図7または図8参照)が与えら
れ、矩形波信号Pとしてレーザコントローラ134に出
力される。但し、上記遅れ時間tDに対応するパルス信
号Mの個数は、矩形波信号P0の立ち下がりからのXY
テーブル21の移動量に応じて、所望の加工位置にパル
スレーザ光が照射されるように予め設定され、メインコ
ントローラ23から指定される。
【0027】また、図3に示すように、レーザコントロ
ーラ134には、ゲート回路135、トリガ回路13
6、一定周期の矩形波信号Gを発生する内部ジェネレー
タ137が備えられている。そして、矩形波信号発生回
路24からの矩形波信号P、及び内部ジェネレータ13
7からの矩形波信号Gがゲート回路135に入力され
る。また、メインコントローラ23からゲート回路13
5へは制御信号TPが入力されるが、ダムバーの切断を
行う時はTP=1が、ダムバーの切断を行わない時はT
P=0が入力される。そして、ゲート回路135は、制
御信号TP=1が入力された時、即ちダムバーの切断を
行う時は矩形波信号Pをトリガ回路136に入力し、制
御信号TP=0が入力された時、即ちダムバーの切断を
行わない時は矩形波信号Gをトリガ回路136に入力す
るよう信号の切り換えを行う。トリガ回路136では、
ゲート回路135から入力された矩形波信号PまたはG
の立ち上がりに対応するトリガ信号Tが発生し、スイッ
チ部132に入力される。これ以後は、前述したような
過程に従ってパルスレーザ光が発振する。尚、上記内部
ジェネレータ137は、従来のパルスレーザ加工装置に
設けられているものと同様のものであり、一定周期の矩
形波信号を発生して、これに基づくトリガ信号によって
スイッチ部132を制御し、決められたパルス幅及びパ
ルス周波数でパルスレーザ光を発振させるためのもので
ある。
【0028】また、図1に示すレーザヘッド11には図
示しないビームシャッターが内臓されている。このビー
ムシャッターは、開閉することによってレーザ発振器1
0より放出されるパルスレーザ光をON/OFFし、ワ
ーク1へのパルスレーザ光の照射を制御する。即ちワー
ク1を加工する場合には上記ビームシャッターを開き、
加工しない場合には上記ビームシャッタを閉じる。この
ビームシャッターの動作時間は100〜300msec
程度である。また、ビームシャッタのON/OFFの制
御は、レーザコントローラ134から行うが、メインコ
ントローラ23からレーザコントローラ134を介して
行うことも可能である。尚、このビームシャッターの開
閉は本実施例には直接関係ないので、以下の説明におい
ては省略する。
【0029】また、図4に示すように、加工ヘッド12
内部には、パルスレーザ光の波長に対し高い反射率特性
を持つベンディングミラー120、及びパルスレーザ光
を集光させる集光レンズ121が備えられており、これ
らは従来のパルスレーザ加工装置の構成と同様である。
本実施例では上記構成に加え、照明用光源122、ダイ
クロイックミラー123、結像用レンズ124、ターゲ
ット125a及びフォトセンサ125が付加される。こ
のうち、フォトセンサ125はターゲット125aに開
けられた開口部に設けられている。上記のうち照明用光
源122、ダイクロイックミラー123及び結像用レン
ズ124が照明光発生装置126を構成する。
【0030】この加工ヘッド12の基本的な機能を以下
に説明する。まず、レーザヘッド11から出力されたパ
ルスレーザ光のビームは、ベンディングミラー120で
方向が変えられ、集光レンズ121で集光されてワーク
1上に照射される。また、照明用光源122で発光した
光は、ダイクロイックミラー123で方向が変えられ、
ベンディングミラー120を透過し、集光レンズ121
で集光されてワーク1上のレーザ加工部周辺の照明光と
なる。ワーク1表面で反射した反射光は、ベンディング
ミラー120及びダイクロイックミラー123を透過し
て、結像用レンズ124で集光され、ターゲット125
aに当たる。ターゲット125aに当たった反射光のう
ちの一部が開口部からフォトセンサー125に入力され
る。
【0031】この時、集光レンズ121と結像用レンズ
124の組合わせにより、ワーク1表面上の像がフォト
センサー125の位置で結像するようにしておくと、ワ
ーク1上の像が結像用レンズ124で絞られターゲット
125aの位置で、例えば図5に示すように結像され
る。図5においては、相隣り合うピンを結合するダムバ
ー2近傍が結像しており、この画像に対し図中斜線部W
0で示す位置に開口部があり、この開口部にフォトセン
サ125が設置されている。また、ピンが存在しない部
分(以下、スリット部という)3,4のうちスリット部
4のみがICのモールド時にレジンで満たされている。
この画像の一部の光がフォトセンサ125で検出される
が、画像の中心よりもY軸方向に少しずらせた位置にフ
ォトセンサ125を設置し、図中X軸の正方向に移動さ
せることにより、フォトセンサ125はピンの有無、つ
まりピンの存在する部分(以下、ウエブ部という)5と
スリット部3とを検出することができる。一方、照射さ
れるパルスレーザ光の中心は図5の画像の中心に位置す
る。従って、後述するようにフォトセンサ125からの
検出信号を基にして、切断すべきダムバー2を切断する
ことができる。
【0032】以上の構成を有するパルスレーザ加工装置
の動作を説明する。まず、ICのリードフレームである
ワーク1をXYテーブル21によって、例えばX軸の負
方向に一定速度で移動させると、図5に示したターゲッ
ト125a上に結像しているワーク1からの反射光によ
る画像はX軸の正方向に移動する。ところが、フォトセ
ンサ125はターゲット125aの開口部に固定されて
いるので、フォトセンサ125からの出力である検出信
号の変化は図6に示すように、ウエブ部5で高い出力と
なり、スリット部3で低い出力となる。但し、ここでの
検出信号は、光が強い場合に高い出力、光が弱い場合に
低い出力になるものとする。また、図6のように、ワー
ク1のウエブ部5及びスリット部3が等ピッチで並んで
いれば、XYテーブル21が一定速度で移動するので、
検出信号は一定周期の波形として検出される。一方、ワ
ーク1のウエブ部とスリット部が等ピッチに並んでいな
い場合には、検出信号はピッチの変化に比例した時間変
化を持つ波形として検出される。
【0033】次に、この波形は矩形波信号発生回路24
に入力され、図7に示すような処理で二値化される。即
ち、フォトセンサ125から矩形波信号発生回路24の
コンパレータ241に入力された検出信号が図中破線S
で示す所定のスレッシュホールドをもとに二値化されて
矩形波信号P0となりカウンタ回路242に入力され
る。そして、カウンタ回路242でこの矩形波信号P0
にメインコントローラ23から指定された所定の個数
(例えば図7では5パルス分)のパルス信号Mに対応す
る遅れ時間tD、即ちXYテーブル21の所定の移動量
に応じた遅れ時間tDが与えられて矩形波信号Pとな
り、この矩形波信号Pがレーザコントローラ134に入
力される。尚、図7において、個々のパルス信号Mの幅
は他の信号に比べ非常に短いので線状に表した。
【0034】次に、図3で説明したように、レーザコン
トローラ134では、ゲート回路135に矩形波信号発
生回路24からの矩形波信号P、及び内部ジェネレータ
137からの矩形波信号Gが入力されるが、本実施例の
ようにダムバーの切断を行う時はメインコントローラ2
3から制御信号TP=1が入力され、矩形波信号Pがト
リガ回路136に入力される。トリガ回路136では、
前述のように、ゲート回路135から入力された矩形波
信号の立ち上がりに対応するトリガ信号Tが発生し、ス
イッチ部132に入力され、このトリガ信号Tに従って
パルスレーザ光が発振する。
【0035】上記のような機能による、フォトセンサ1
25からの検出信号の出力からパルスレーザ光の発振ま
でのタイムチャートを図8に示す。但し、図8の紙面上
方には、ワーク1を一定速度で動かした時のウエブ部5
とスリット部3を時間変化として模式的に付記した。図
8に示すように、ワーク1のウエブ部5とスリット部3
のピッチがフォトセンサ125で検出され、その検出信
号が矩形波信号発生回路24のコンパレータ241で二
値化されて矩形波信号P0となり、カウンタ回路242
で所定の個数のパルス信号Mに対応する遅れ時間tD
与えられて矩形波信号Pとなり、ゲート回路135を径
てトリガ回路136に入力される。そして、トリガ回路
136で矩形波信号Pの立ち上がりに対応するトリガ信
号Tが発生し、これがスイッチ部132に入力されて、
パルスレーザ光が発振する。尚、図中のパルスレーザ光
の発振は実際にはパルス状であるが、このパルスの幅は
その他の信号に比べ非常に短いため、図8では線状に表
されている。
【0036】以上のような動作によって、例えば1辺に
ダムバーを有するICのダムバー切断を行う際の加工手
順について説明する。まず、ダムバーを通る軌跡、ワー
ク1の移動速度(即ちXYテーブル21の移動速度)、
矩形波信号P0の立ち下がりからパルスレーザ光を照射
するまでのパルス信号Mの個数をメインコントローラ2
3に入力しておく。但し、上記パルス信号Mの個数は、
スリット部3の中央にパルスレーザ光が照射されるよう
にXYテーブル21の移動量に応じて決められる(例え
ば図7及び図8ではこの個数を5とした)。また、ここ
ではダムバー切断を行うので、XYテーブル21の移動
と共にゲート回路135において第1の矩形波信号Pが
トリガ回路136に入力されるように、即ち制御信号T
P=1がゲート回路135に入力されるようにメインコ
ントローラ23にプログラムを入力しておく。このプロ
グラムを走らせると、XYテーブル21は一定速度で移
動し、かつスリット部3のピッチとテーブル21の移動
速度とで決まる周期でパルスレーザ光が発振し、かつス
リット部3の中央でその照射が行われ、ダムバーが切断
される。また、XYテーブル21の移動速度が一定でな
い場合にも、パルス信号MはXYテーブル21の移動量
に応じて発生するため、XYテーブル21の移動速度の
影響は受けずに、スリット部3の中央でパルスレーザ光
の照射が行われる。
【0037】例えば、ここで使用するレーザ発振器10
がパルス励起タイプのYAGレーザの場合、最大の発振
周波数が300Hz程度の周波数にすると、その周期は
3.3ms程度であるが、スリット部3のピッチとテー
ブル21の移動速度とで決まる周期をこの値になるよう
に設定しておけば、ダムバー切断の1回当りの時間は
3.3msecとなり、ダムバー切断に要する時間を従
来に比べ飛躍的に短縮できる。また、ピンが等間隔でな
い場合、即ちウエブ部及びスリット部のピッチが一定で
はない場合には、予め設定した所定の距離だけウエブ部
端部から離れた位置でパルスレーザ光が発振するように
上記パルス信号Mの個数を設定しておけば、同様にして
ダムバーを切断することができる。
【0038】以上のように本実施例によれば、ワーク1
に当てた照明の反射光からフォトセンサ125でウエブ
部5及びスリット部3のピッチを検出し、その検出信号
を矩形波信号発生回路24で二値化して矩形波信号P0
とし、さらにXYテーブル21の所定の移動量に応じた
遅れ時間tDを与えて矩形波信号Pとし、レーザコント
ローラ134においてこの矩形波信号Pに基づくトリガ
信号Tによってパルスレーザ光の発振を制御するので、
ウエブ部5及びスリット部3のピッチに基づいたタイミ
ングでパルスレーザ光を発振させることができ、ピンが
等間隔の場合にスリット部3の中央部でダムバーを切断
することができる。しかも、XYテーブル21の移動速
度が変わったとしても、その速度変化の影響を受けずそ
の移動量に応じてダムバーの切断位置を設定することが
できる。従って、スリット部3のピッチとXYテーブル
21の移動速度とで決まる周期を適当に選択することに
よって、パルスレーザ光の発振周期程度の速さでダムバ
ーを切断することができ、高速かつ確実な加工が可能と
なる。
【0039】また、ウエブ部4端部より一定の距離だけ
離れた位置にパルスレーザ光を照射することができるた
め、ピンが等間隔である場合のみならず等間隔でない場
合にでも、ワーク1の形状に応じて切断すべき所望の位
置を確実かつ高速に加工することができる。
【0040】
【発明の効果】本発明によれば、被加工物の材料の有無
を検出し、その検出信号と搬送手段の移動量とに基づい
てパルスレーザ光の発振を制御するので、被加工物の表
面の情報に応じて所望の加工位置で確実に加工を行うこ
とができる。しかも、搬送手段の移動速度が変わったと
しても、その速度変化の影響を受けずその移動量に応じ
て加工位置を設定することができる。また、パルスレー
ザ光の発振周期程度の高速な加工が可能となる。
【0041】また、演算手段において検出手段からの検
出信号に所定の数の移動量信号に対応した遅れ時間を与
えるので、被加工物の所望の加工位置にパルスレーザ光
を照射することができる。
【0042】また、検出手段は照明光を利用するので、
被加工物の材料の有無を確実に検出することができる。
【0043】また、加工位置が等間隔である場合のみな
らず等間隔でない場合にも被加工物が存在する所望の加
工位置を高速で加工することができる。
【0044】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例によるパルスレーザ加工装置
の構成の概略図である。
【図2】図1の矩形波信号発生回路の構成を示す図であ
る。
【図3】図1のレーザコントローラの構成を示す図であ
る。
【図4】図1の加工ヘッド内部の構成の概略図である。
【図5】図4のターゲットの位置で結像した画像の一例
を表す図である。
【図6】図5の開口部に設置されたフォトセンサからの
検出信号を表す図である。
【図7】図6の検出信号がコンパレータで二値化され、
カウンタ回路で所所定の個数のパルス信号Mに対応する
遅れ時間を与えられて出力される状況を示す図である。
【図8】フォトセンサからの検出信号の出力からパルス
レーザ光の発振までのタイムチャートである。
【図9】従来のパルスレーザ加工装置の構成の概略図で
ある。
【図10】(a)はダムバーを有するICパッケージを
示す図であり、(b)は(a)のB部拡大図である。
【符号の説明】
1 ワーク 2 ダムバー 3,4 スリット部 5 ウエブ部 10 レーザ発振器 11 レーザヘッド 12 加工ヘッド 13 レーザ電源 21 XYテーブル 21a ロータリエンコーダ 22 Zテーブル 23 メインコントローラ 24 矩形波信号発生回路 25 コントロールユニット 120 ベンディングミラー 121 集光レンズ 122 照明用光源 123 ダイクロイックミラー 124 結像用レンズ 125 フォトセンサ 125a ターゲット 126 照明光発生装置 130 安定化電源 131 コンデンサ部 132 スイッチ部 134 レーザコントローラ 135 ゲート回路 136 トリガ回路 137 内部ジェネレータ 241 コンパレータ(比較手段) 242 カウンタ回路 TP 制御信号 P0 矩形波信号 P 矩形波信号 G (一定周期の)矩形波信号 T トリガ信号 tD 遅れ時間 M パルス信号(ロータリエンコーダ21aからの移動
量信号)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長野 義也 茨城県土浦市神立町650番地 日立建機株 式会社土浦工場内 (72)発明者 下村 義昭 茨城県土浦市神立町650番地 日立建機株 式会社土浦工場内 (72)発明者 奥村 信也 茨城県土浦市神立町650番地 日立建機株 式会社土浦工場内 (72)発明者 桜井 茂行 茨城県土浦市神立町650番地 日立建機株 式会社土浦工場内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザ発振器と、被加工物を移動させ前
    記レーザ発振器による前記被加工物の加工位置を決定す
    る搬送手段とを備えるパルスレーザ加工装置において、
    前記加工位置における被加工物の材料の有無を検出して
    対応する検出信号を発生する検出手段と、前記搬送手段
    の移動量を検出してその移動量に応じた移動量信号を発
    生する移動量検出手段と、前記検出手段からの検出信号
    と前記移動量検出手段からの移動量信号とに基づいて第
    1の短形波信号を発生する短形波信号発生手段と、前記
    短形波信号に基づいたタイミングでパルスレーザ光が照
    射されるようパルスレーザ光の発振を制御する制御手段
    とを備えることを特徴とするパルスレーザ加工装置。
  2. 【請求項2】 前記矩形波信号発生手段は、前記検出信
    号を二値化して第2の矩形波信号を発生する比較手段
    と、所定の数の前記移動量信号に対応した遅れ時間を前
    記第2の矩形波信号に与えて前記第1の矩形波信号とし
    前記制御手段に入力する演算手段とを備えることを特徴
    とする請求項1記載のパルスレーザ加工装置。
JP6144347A 1994-06-27 1994-06-27 パルスレーザ加工装置 Pending JPH0810972A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012066308A (ja) * 2004-08-04 2012-04-05 Electro Scientific Industries Inc 正確に調整されたレーザパルスを円形軌道及びスパイラル状軌道に移動させることによって穿孔処理する方法

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JP2012066308A (ja) * 2004-08-04 2012-04-05 Electro Scientific Industries Inc 正確に調整されたレーザパルスを円形軌道及びスパイラル状軌道に移動させることによって穿孔処理する方法

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