JPH08108321A - 放電加工機の放電状態検出装置 - Google Patents
放電加工機の放電状態検出装置Info
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- JPH08108321A JPH08108321A JP7189351A JP18935195A JPH08108321A JP H08108321 A JPH08108321 A JP H08108321A JP 7189351 A JP7189351 A JP 7189351A JP 18935195 A JP18935195 A JP 18935195A JP H08108321 A JPH08108321 A JP H08108321A
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- 230000010354 integration Effects 0.000 claims abstract description 154
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 92
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 51
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 abstract description 23
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 abstract description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 17
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H1/00—Electrical discharge machining, i.e. removing metal with a series of rapidly recurring electrical discharges between an electrode and a workpiece in the presence of a fluid dielectric
- B23H1/02—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply, control, preventing short circuits or other abnormal discharges
- B23H1/022—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply, control, preventing short circuits or other abnormal discharges for shaping the discharge pulse train
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H7/00—Processes or apparatus applicable to both electrical discharge machining and electrochemical machining
- B23H7/14—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply
- B23H7/16—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply for preventing short circuits or other abnormal discharges by altering machining parameters using adaptive control
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H1/00—Electrical discharge machining, i.e. removing metal with a series of rapidly recurring electrical discharges between an electrode and a workpiece in the presence of a fluid dielectric
- B23H1/02—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply, control, preventing short circuits or other abnormal discharges
- B23H1/024—Detection of, and response to, abnormal gap conditions, e.g. short circuits
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- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 放電加工の放電状態における正常放電パルス
を的確に検出すること。 【解決手段】 電極２と被加工物３との加工間隙におけ
る放電電圧または放電電流に重畳する高周波成分を検出
するハイパスフィルタ４と、前記高周波成分を整流した
整流分ｖrec を出力する整流回路５と、その整流分ｖre
c を積分する積分回路８と、基準電圧ｖref を出力する
基準電圧出力回路４０と、基準電圧ｖrefを積分する積
分回路８Ｂと、積分回路８による積分値Ｖint と積分回
路８Ｂによる積分値ＶintBとを比較する比較器１０と、
積分回路８及び積分回路８Ｂの開始及び終了を制御する
放電発生検出回路６、ロジック回路６２、遅延回路７及
びリセット回路９，９Ｂとからなる。これにより、放電
加工機の放電状態が正常放電パルスかアーク放電パルス
等の異常放電パルスかを判定するためのきめ細かな基準
値としての積分値ＶintBが設定される。
を的確に検出すること。 【解決手段】 電極２と被加工物３との加工間隙におけ
る放電電圧または放電電流に重畳する高周波成分を検出
するハイパスフィルタ４と、前記高周波成分を整流した
整流分ｖrec を出力する整流回路５と、その整流分ｖre
c を積分する積分回路８と、基準電圧ｖref を出力する
基準電圧出力回路４０と、基準電圧ｖrefを積分する積
分回路８Ｂと、積分回路８による積分値Ｖint と積分回
路８Ｂによる積分値ＶintBとを比較する比較器１０と、
積分回路８及び積分回路８Ｂの開始及び終了を制御する
放電発生検出回路６、ロジック回路６２、遅延回路７及
びリセット回路９，９Ｂとからなる。これにより、放電
加工機の放電状態が正常放電パルスかアーク放電パルス
等の異常放電パルスかを判定するためのきめ細かな基準
値としての積分値ＶintBが設定される。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、放電加工機の放電
加工における放電状態を検出する放電加工機の放電状態
検出装置に関するものである。
加工における放電状態を検出する放電加工機の放電状態
検出装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、放電電圧波形の高周波成分の大小
を検出することで放電加工機の放電加工における放電状
態を判定できることが知られている。この放電電圧波形
は高周波成分を含む極めて複雑な波形である。したがっ
て、この放電電圧波形からその特徴波形成分だけを確実
に、且つ、高速に検出する技術は非常に重要である。
を検出することで放電加工機の放電加工における放電状
態を判定できることが知られている。この放電電圧波形
は高周波成分を含む極めて複雑な波形である。したがっ
て、この放電電圧波形からその特徴波形成分だけを確実
に、且つ、高速に検出する技術は非常に重要である。
【０００３】ここで、放電加工機の放電状態検出装置に
関連する先行技術文献としては、特開平５−２９３７１
４号公報にて開示されたものが知られている。上記先行
技術文献と実質的に同一の構成からなる回路を示す図１
１を参照してその動作を説明する。図１１において、２
は放電加工機の電極、３は被加工物であり、電極２と被
加工物３とにより加工間隙が形成される。１は放電加工
機の加工電源であり、この加工電源１から電極２と被加
工物３との加工間隙にパルス状の放電電圧が供給され
る。４は放電電圧の高周波成分を検出するハイパスフィ
ルタ、５はハイパスフィルタ４からの高周波成分を整流
する整流回路であり、整流回路５からは出力信号ｖrec
が出力される。また、６は電極２と被加工物３との加工
間隙の放電発生検出回路であり、放電発生検出回路６は
電極２と被加工物３との加工間隙の放電電圧を検出する
放電電圧検出回路６０及び電極２と被加工物３との加工
間隙の放電電流を検出する放電電流検出回路６１からな
る。
関連する先行技術文献としては、特開平５−２９３７１
４号公報にて開示されたものが知られている。上記先行
技術文献と実質的に同一の構成からなる回路を示す図１
１を参照してその動作を説明する。図１１において、２
は放電加工機の電極、３は被加工物であり、電極２と被
加工物３とにより加工間隙が形成される。１は放電加工
機の加工電源であり、この加工電源１から電極２と被加
工物３との加工間隙にパルス状の放電電圧が供給され
る。４は放電電圧の高周波成分を検出するハイパスフィ
ルタ、５はハイパスフィルタ４からの高周波成分を整流
する整流回路であり、整流回路５からは出力信号ｖrec
が出力される。また、６は電極２と被加工物３との加工
間隙の放電発生検出回路であり、放電発生検出回路６は
電極２と被加工物３との加工間隙の放電電圧を検出する
放電電圧検出回路６０及び電極２と被加工物３との加工
間隙の放電電流を検出する放電電流検出回路６１からな
る。
【０００４】放電発生検出回路６の放電電圧検出回路６
０の出力信号６０s 及び放電電流検出回路６１の出力信
号６１s はロジック回路６２に入力される。７は遅延回
路であり、遅延回路７はハイパスフィルタ４の時定数ｔ
H を計測する時定数回路７０とロジック回路７２とから
なる。ロジック回路６２からの出力信号６３は遅延回路
７の時定数回路７０及びロジック回路７２に入力され、
また、時定数回路７０からの出力信号７１はロジック回
路７２に入力される。８は積分回路であり、積分回路８
は演算増幅器８０、その演算増幅器８０の反転（−）入
力側と出力側との間に接続されるコンデンサＣ1 及び整
流回路５の出力側と演算増幅器８０の反転（−）入力側
との間に直列接続される抵抗Ｒ1 からなる。なお、演算
増幅器８０の非反転（＋）入力側はアースされている。
０の出力信号６０s 及び放電電流検出回路６１の出力信
号６１s はロジック回路６２に入力される。７は遅延回
路であり、遅延回路７はハイパスフィルタ４の時定数ｔ
H を計測する時定数回路７０とロジック回路７２とから
なる。ロジック回路６２からの出力信号６３は遅延回路
７の時定数回路７０及びロジック回路７２に入力され、
また、時定数回路７０からの出力信号７１はロジック回
路７２に入力される。８は積分回路であり、積分回路８
は演算増幅器８０、その演算増幅器８０の反転（−）入
力側と出力側との間に接続されるコンデンサＣ1 及び整
流回路５の出力側と演算増幅器８０の反転（−）入力側
との間に直列接続される抵抗Ｒ1 からなる。なお、演算
増幅器８０の非反転（＋）入力側はアースされている。
【０００５】９はリセット回路であり、リセット回路９
はコンデンサＣ1 の両端子間にコレクタ−エミッタが接
続されたトランジスタからなる。遅延回路７のロジック
回路７２からの出力信号７３はリセット回路９に入力さ
れる。そして、１０は比較器であり、積分回路８の演算
増幅器８０からの出力信号である積分出力値Ｖint は比
較器１０の反転（−）入力側に入力され、比較回路１０
の非反転（＋）入力側には基準電圧Ｖref が入力され
る。
はコンデンサＣ1 の両端子間にコレクタ−エミッタが接
続されたトランジスタからなる。遅延回路７のロジック
回路７２からの出力信号７３はリセット回路９に入力さ
れる。そして、１０は比較器であり、積分回路８の演算
増幅器８０からの出力信号である積分出力値Ｖint は比
較器１０の反転（−）入力側に入力され、比較回路１０
の非反転（＋）入力側には基準電圧Ｖref が入力され
る。
【０００６】図１２は図１１の要部における入出力信号
波形であり、図１２のＡは電極２と被加工物３との加工
間隙の放電電圧波形、図１２のＢはハイパスフィルタ４
の出力信号波形、図１２のＩはロジック回路７２の出力
信号波形、図１２のＦは積分回路８の積分出力信号波形
である。
波形であり、図１２のＡは電極２と被加工物３との加工
間隙の放電電圧波形、図１２のＢはハイパスフィルタ４
の出力信号波形、図１２のＩはロジック回路７２の出力
信号波形、図１２のＦは積分回路８の積分出力信号波形
である。
【０００７】次に、その動作について図１１及び図１２
を参照して説明する。図１１及び図１２において、２０
は電極２と被加工物３との加工間隙の放電電圧波形、Ｔ
onは放電パルス幅、Ｔoff は休止時間である。電極２と
被加工物３との加工間隙に電圧が印加されたのち放電が
発生すると、放電電圧検出回路６０及び放電電流検出回
路６１からの出力信号は共にＨ（High：高）レベルとな
る。それらの出力信号はロジック回路６２に入力され、
ロジック回路６２ではそれらの入力信号が共にＨレベ
ル、即ち、電極２と被加工物３との加工間隙に放電が発
生されると、Ｌ（Low:低）レベルが出力される。この時
刻を放電検出時刻ｔ1 とする。ｔ2 は放電検出時刻ｔ1
を起点としてハイパスフィルタ４の時定数ｔH 後の時刻
（ｔ2 ＝ｔ1 ＋ｔH ）、２１は放電電圧の高周波成分、
２２はハイパスフィルタ４の過渡特性に起因する外乱波
形をそれぞれ示し、時定数回路７０ではロジック回路６
２の出力信号６３の立下がりの時刻を起点としてｔH 時
間、Ｈレベルが出力される。また、ロジック回路７２に
はロジック回路６２の出力信号６３と時定数回路７０の
出力信号７１とが入力され、図１２のＩに示す出力信号
７３が出力される。この出力信号７３の立上がりの時刻
を図１２のＩにおいてｔ2 として示している。リセット
回路９ではロジック回路７２の出力信号７３がＨレベル
の期間、積分回路８がリセットされる。即ち、ロジック
回路７２の出力信号７３がＬレベルの期間のみ積分回路
８で整流回路５からの出力信号ｖrec が積分される。比
較器１０では基準電圧Ｖref と図１２のＦに示す積分出
力Ｖint とが比較され、放電パルス幅Ｔonの終了時点で
積分出力Ｖint が基準電圧Ｖref よりも大きいときには
正常放電パルス、逆のときにはアーク放電パルス等の異
常放電パルスと判定される。
を参照して説明する。図１１及び図１２において、２０
は電極２と被加工物３との加工間隙の放電電圧波形、Ｔ
onは放電パルス幅、Ｔoff は休止時間である。電極２と
被加工物３との加工間隙に電圧が印加されたのち放電が
発生すると、放電電圧検出回路６０及び放電電流検出回
路６１からの出力信号は共にＨ（High：高）レベルとな
る。それらの出力信号はロジック回路６２に入力され、
ロジック回路６２ではそれらの入力信号が共にＨレベ
ル、即ち、電極２と被加工物３との加工間隙に放電が発
生されると、Ｌ（Low:低）レベルが出力される。この時
刻を放電検出時刻ｔ1 とする。ｔ2 は放電検出時刻ｔ1
を起点としてハイパスフィルタ４の時定数ｔH 後の時刻
（ｔ2 ＝ｔ1 ＋ｔH ）、２１は放電電圧の高周波成分、
２２はハイパスフィルタ４の過渡特性に起因する外乱波
形をそれぞれ示し、時定数回路７０ではロジック回路６
２の出力信号６３の立下がりの時刻を起点としてｔH 時
間、Ｈレベルが出力される。また、ロジック回路７２に
はロジック回路６２の出力信号６３と時定数回路７０の
出力信号７１とが入力され、図１２のＩに示す出力信号
７３が出力される。この出力信号７３の立上がりの時刻
を図１２のＩにおいてｔ2 として示している。リセット
回路９ではロジック回路７２の出力信号７３がＨレベル
の期間、積分回路８がリセットされる。即ち、ロジック
回路７２の出力信号７３がＬレベルの期間のみ積分回路
８で整流回路５からの出力信号ｖrec が積分される。比
較器１０では基準電圧Ｖref と図１２のＦに示す積分出
力Ｖint とが比較され、放電パルス幅Ｔonの終了時点で
積分出力Ｖint が基準電圧Ｖref よりも大きいときには
正常放電パルス、逆のときにはアーク放電パルス等の異
常放電パルスと判定される。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述の放電
加工機においては、以下に述べるような不具合を有して
いた。まず、第１の不具合について図１３を用いて説明
する。図１３は同一加工電流値を選択した場合の放電電
圧波形２０と積分出力値Ｖint との関係を示すタイムチ
ャートである。なお、図１３（ａ）は放電パルス幅が大
きなＴon1 の場合、図１３（ｂ）は放電パルス幅が小さ
なＴon2 の場合をそれぞれ示す。積分回路８からの積分
出力値Ｖint は次式（１）で表される。 Ｖint ＝ｖrec ×Ｔon／（Ｒ1 ×Ｃ1 ） ・・・（１） ここで、ｖrec は整流回路５からの出力信号であり、Ｔ
onは放電パルス幅、また、Ｒ1 は積分回路８の積分ゲイ
ンを決定する抵抗値、Ｃ1 は積分回路８の積分ゲインを
決定する静電容量値である。放電電圧の高周波成分の大
きさは加工電流の大きさに依存することが知られてい
る。ところが、加工条件として同一の加工電流値を選択
しても、式（１）から明らかなように、積分出力値Ｖin
t は放電パルス幅Ｔonに比例している。
加工機においては、以下に述べるような不具合を有して
いた。まず、第１の不具合について図１３を用いて説明
する。図１３は同一加工電流値を選択した場合の放電電
圧波形２０と積分出力値Ｖint との関係を示すタイムチ
ャートである。なお、図１３（ａ）は放電パルス幅が大
きなＴon1 の場合、図１３（ｂ）は放電パルス幅が小さ
なＴon2 の場合をそれぞれ示す。積分回路８からの積分
出力値Ｖint は次式（１）で表される。 Ｖint ＝ｖrec ×Ｔon／（Ｒ1 ×Ｃ1 ） ・・・（１） ここで、ｖrec は整流回路５からの出力信号であり、Ｔ
onは放電パルス幅、また、Ｒ1 は積分回路８の積分ゲイ
ンを決定する抵抗値、Ｃ1 は積分回路８の積分ゲインを
決定する静電容量値である。放電電圧の高周波成分の大
きさは加工電流の大きさに依存することが知られてい
る。ところが、加工条件として同一の加工電流値を選択
しても、式（１）から明らかなように、積分出力値Ｖin
t は放電パルス幅Ｔonに比例している。
【０００９】図１３（ａ）及び図１３（ｂ）の積分出力
信号波形Ｆに示されるように、加工条件として設定する
放電パルス幅Ｔonに応じて基準値Ｖref を変更設定する
必要がある。放電パルス幅Ｔonは、最小２μsec 程度か
ら最大４０９６μsec 程度まで幅広い値が加工条件とし
て設定される。そして、式（１）に表されたように積分
出力値Ｖint は放電パルス幅Ｔonに比例するため、基準
電圧Ｖref も放電パルス幅Ｔonに対応する、図１４に示
すような、データテーブルを用いて出力していた。この
ため、例えば、１０２５〜２０４８μsec の放電パルス
幅に対しては基準値としてＶref11 を出力するというよ
うに、きめ細かな設定とはなっていなかった。
信号波形Ｆに示されるように、加工条件として設定する
放電パルス幅Ｔonに応じて基準値Ｖref を変更設定する
必要がある。放電パルス幅Ｔonは、最小２μsec 程度か
ら最大４０９６μsec 程度まで幅広い値が加工条件とし
て設定される。そして、式（１）に表されたように積分
出力値Ｖint は放電パルス幅Ｔonに比例するため、基準
電圧Ｖref も放電パルス幅Ｔonに対応する、図１４に示
すような、データテーブルを用いて出力していた。この
ため、例えば、１０２５〜２０４８μsec の放電パルス
幅に対しては基準値としてＶref11 を出力するというよ
うに、きめ細かな設定とはなっていなかった。
【００１０】また、基準値Ｖref と比較する時刻を、放
電パルス幅によらず放電パルス幅が小さな場合のＴon2
として一律とすることも可能であるが、放電パルス幅が
大きい場合に積分出力値Ｖint のＳ／Ｎ比が低下し検出
精度が低下することとなる。
電パルス幅によらず放電パルス幅が小さな場合のＴon2
として一律とすることも可能であるが、放電パルス幅が
大きい場合に積分出力値Ｖint のＳ／Ｎ比が低下し検出
精度が低下することとなる。
【００１１】次に、第２の不具合について図１５、図１
６、図１７を用いて説明する。図１５は実公昭５７−３
３９４９号公報に示される加工電源の回路図である。Ｂ
1 は直流電源、Ｂ2 は補助電源、Ｓ1 は第１のスイッ
チ、Ｓ2 は第２のスイッチ、Ｄ1 は第１のダイオード、
Ｄ2 は第２のダイオード、Ｒ2 は電流検出抵抗、Ｃ2 は
コンデンサ、Ｌ1 はリアクトル(Reactor）、４００はパ
ルス発生器、３００は第１のスイッチＳ1 の制御回路で
ある。
６、図１７を用いて説明する。図１５は実公昭５７−３
３９４９号公報に示される加工電源の回路図である。Ｂ
1 は直流電源、Ｂ2 は補助電源、Ｓ1 は第１のスイッ
チ、Ｓ2 は第２のスイッチ、Ｄ1 は第１のダイオード、
Ｄ2 は第２のダイオード、Ｒ2 は電流検出抵抗、Ｃ2 は
コンデンサ、Ｌ1 はリアクトル(Reactor）、４００はパ
ルス発生器、３００は第１のスイッチＳ1 の制御回路で
ある。
【００１２】図１６は図１５の要部における入出力信号
波形である。第１のスイッチＳ1 と第２のスイッチＳ2
の１，０はそれぞれスイッチＳ1 、スイッチＳ2 のオン
／オフ状態をそれぞれ示し、ｉL1はリアクトルＬ1 に流
れる電流波形を示し、電流検出抵抗Ｒ2 により検出され
る。スイッチＳ2 は、放電パルス幅Ｔonの期間中オン状
態にある。制御回路３００は出力電流が所定値になるよ
うにスイッチＳ1 を制御する。図１６に示されるよう
に、スイッチＳ1 は放電パルス幅Ｔonの期間中に複数回
オン／オフ動作を繰返す。ここで、電流制限素子として
抵抗を使用した方式では抵抗で消費される電力が大きい
が、図１５及び図１６に示す方式はリアクトルＬ1 と制
御回路３００により電流を制御する電流制御方式である
ため、回路内で消費される電力が極めて小さく優れた方
式であると言える。以下、このような加工電源をリアク
トル方式電源という。
波形である。第１のスイッチＳ1 と第２のスイッチＳ2
の１，０はそれぞれスイッチＳ1 、スイッチＳ2 のオン
／オフ状態をそれぞれ示し、ｉL1はリアクトルＬ1 に流
れる電流波形を示し、電流検出抵抗Ｒ2 により検出され
る。スイッチＳ2 は、放電パルス幅Ｔonの期間中オン状
態にある。制御回路３００は出力電流が所定値になるよ
うにスイッチＳ1 を制御する。図１６に示されるよう
に、スイッチＳ1 は放電パルス幅Ｔonの期間中に複数回
オン／オフ動作を繰返す。ここで、電流制限素子として
抵抗を使用した方式では抵抗で消費される電力が大きい
が、図１５及び図１６に示す方式はリアクトルＬ1 と制
御回路３００により電流を制御する電流制御方式である
ため、回路内で消費される電力が極めて小さく優れた方
式であると言える。以下、このような加工電源をリアク
トル方式電源という。
【００１３】図１７は、図１１に示す放電状態検出装置
でリアクトル方式電源を使用したときの要部の入出力信
号波形を示す。図１７のＡは放電電圧波形、図１７のＢ
はハイパスフィルタ４の出力信号波形、図１７のＩはロ
ジック回路７２の出力信号波形、図１７のＦは積分回路
８の出力信号波形である。図１７のＡにおいて、放電電
圧波形２０には高周波成分２１以外に、２３で示される
ような、スイッチＳ1のオン／オフに同期したスパイク
状の電圧が現れる。このスパイク電圧２３は放電加工現
象とは無関係にスイッチＳ1 の動作によって発生する高
周波成分であり、放電加工現象の高周波成分を検出する
ことを目的とする図１１の放電状態検出装置ではスパイ
ク電圧２３による誤検出が発生する。
でリアクトル方式電源を使用したときの要部の入出力信
号波形を示す。図１７のＡは放電電圧波形、図１７のＢ
はハイパスフィルタ４の出力信号波形、図１７のＩはロ
ジック回路７２の出力信号波形、図１７のＦは積分回路
８の出力信号波形である。図１７のＡにおいて、放電電
圧波形２０には高周波成分２１以外に、２３で示される
ような、スイッチＳ1のオン／オフに同期したスパイク
状の電圧が現れる。このスパイク電圧２３は放電加工現
象とは無関係にスイッチＳ1 の動作によって発生する高
周波成分であり、放電加工現象の高周波成分を検出する
ことを目的とする図１１の放電状態検出装置ではスパイ
ク電圧２３による誤検出が発生する。
【００１４】以下、この誤検出の動作について説明す
る。図１７のＢのハイパスフィルタ４の出力信号波形に
も図１７のＡの放電電圧波形のスパイク電圧２３の成分
がスパイク電圧２４として現れる。スパイク電圧２４が
出現する時間幅は、スイッチＳ1 のオン時にｂ1 、スイ
ッチＳ1 のオフ時にｂ2 であり、このスパイク電圧２４
が出現する時間幅は加工電流の大きさに依存することが
知られている。図１７のＦは積分回路８の出力信号波形
を示すが、スパイク電圧２４が発生する毎に実線で示す
ように、その積分出力値が大きくなっている。加工電源
としてリアクトル方式電源を使用した場合の積分出力値
Ｖint2、使用しない場合の積分出力値Ｖint1として示
す。積分出力値Ｖint2は積分出力値Ｖint1よりも十分大
きな値を示すため、検出すべき放電現象に起因する高周
波成分を正確に検出することができない。即ち、放電現
象としての高周波成分の積分出力値が小さく本来、アー
ク放電パルス等の異常放電パルスと判定されるべき放電
パルスを正常放電パルスと判定するような誤検出が発生
する。
る。図１７のＢのハイパスフィルタ４の出力信号波形に
も図１７のＡの放電電圧波形のスパイク電圧２３の成分
がスパイク電圧２４として現れる。スパイク電圧２４が
出現する時間幅は、スイッチＳ1 のオン時にｂ1 、スイ
ッチＳ1 のオフ時にｂ2 であり、このスパイク電圧２４
が出現する時間幅は加工電流の大きさに依存することが
知られている。図１７のＦは積分回路８の出力信号波形
を示すが、スパイク電圧２４が発生する毎に実線で示す
ように、その積分出力値が大きくなっている。加工電源
としてリアクトル方式電源を使用した場合の積分出力値
Ｖint2、使用しない場合の積分出力値Ｖint1として示
す。積分出力値Ｖint2は積分出力値Ｖint1よりも十分大
きな値を示すため、検出すべき放電現象に起因する高周
波成分を正確に検出することができない。即ち、放電現
象としての高周波成分の積分出力値が小さく本来、アー
ク放電パルス等の異常放電パルスと判定されるべき放電
パルスを正常放電パルスと判定するような誤検出が発生
する。
【００１５】そこで、本発明は、かかる不具合を解決す
るためになされたもので、放電加工の放電状態における
正常放電パルスを的確に検出することができる放電加工
機の放電状態検出装置の提供を課題としている。
るためになされたもので、放電加工の放電状態における
正常放電パルスを的確に検出することができる放電加工
機の放電状態検出装置の提供を課題としている。
【００１６】
【課題を解決するための手段】請求項１にかかる放電加
工機の放電状態検出装置は、電極と被加工物との加工間
隙における放電電圧または放電電流に重畳する高周波成
分を検出する高周波成分検出手段と、前記高周波成分検
出手段で検出された前記高周波成分の大きさを時間積分
する第１の積分手段と、基準電圧を出力する基準電圧出
力手段と、前記基準電圧出力手段から出力された前記基
準電圧の大きさを時間積分する第２の積分手段と、前記
第１の積分手段及び前記第２の積分手段における積分の
開始及び終了を制御する制御手段と、前記制御手段で制
御された前記第１の積分手段による積分値と前記第２の
積分手段による積分値とを比較する比較手段とを具備す
るものである。
工機の放電状態検出装置は、電極と被加工物との加工間
隙における放電電圧または放電電流に重畳する高周波成
分を検出する高周波成分検出手段と、前記高周波成分検
出手段で検出された前記高周波成分の大きさを時間積分
する第１の積分手段と、基準電圧を出力する基準電圧出
力手段と、前記基準電圧出力手段から出力された前記基
準電圧の大きさを時間積分する第２の積分手段と、前記
第１の積分手段及び前記第２の積分手段における積分の
開始及び終了を制御する制御手段と、前記制御手段で制
御された前記第１の積分手段による積分値と前記第２の
積分手段による積分値とを比較する比較手段とを具備す
るものである。
【００１７】請求項２にかかる放電加工機の放電状態検
出装置は、請求項１の前記第１の積分手段で時間積分す
る前記高周波成分の大きさを前記高周波成分を整流した
整流分の大きさとするものである。
出装置は、請求項１の前記第１の積分手段で時間積分す
る前記高周波成分の大きさを前記高周波成分を整流した
整流分の大きさとするものである。
【００１８】請求項３にかかる放電加工機の放電状態検
出装置は、電極と被加工物との加工間隙における放電電
圧または放電電流に重畳する高周波成分を検出する高周
波成分検出手段と、前記高周波成分検出手段で検出され
た前記高周波成分を整流した整流分を出力する整流手段
と、前記整流手段から出力された前記整流分を積分する
第１の積分手段と、基準電圧を出力する基準電圧出力手
段と、前記基準電圧出力手段から出力された前記基準電
圧の大きさを時間積分する第２の積分手段と、加工電源
の電流制御のための内部スイッチング素子の動作に基づ
き所定時間だけ前記第１の積分手段及び前記第２の積分
手段における積分を停止する積分停止手段と、前記第１
の積分手段及び前記第２の積分手段における積分の開始
及び終了を制御する制御手段と、前記制御手段で制御さ
れた前記第１の積分手段による積分値と前記第２の積分
手段による積分値とを比較する比較手段とを具備するも
のである。
出装置は、電極と被加工物との加工間隙における放電電
圧または放電電流に重畳する高周波成分を検出する高周
波成分検出手段と、前記高周波成分検出手段で検出され
た前記高周波成分を整流した整流分を出力する整流手段
と、前記整流手段から出力された前記整流分を積分する
第１の積分手段と、基準電圧を出力する基準電圧出力手
段と、前記基準電圧出力手段から出力された前記基準電
圧の大きさを時間積分する第２の積分手段と、加工電源
の電流制御のための内部スイッチング素子の動作に基づ
き所定時間だけ前記第１の積分手段及び前記第２の積分
手段における積分を停止する積分停止手段と、前記第１
の積分手段及び前記第２の積分手段における積分の開始
及び終了を制御する制御手段と、前記制御手段で制御さ
れた前記第１の積分手段による積分値と前記第２の積分
手段による積分値とを比較する比較手段とを具備するも
のである。
【００１９】請求項４にかかる放電加工機の放電状態検
出装置は、電極と被加工物との加工間隙における放電電
圧または放電電流に重畳する高周波成分を検出する高周
波成分検出手段と、前記高周波成分検出手段で検出され
た前記高周波成分を整流した整流分を出力する整流手段
と、基準電圧を出力する基準電圧出力手段と、前記整流
手段から出力された前記整流分と前記基準電圧出力手段
から出力された前記基準電圧との差分を出力する差分出
力手段と、前記差分出力手段から出力された前記差分を
時間積分する積分手段と、加工電源の電流制御のための
内部スイッチング素子の動作に基づき所定時間だけ前記
積分手段における積分を停止する積分停止手段と、前記
積分手段における積分の開始及び終了を制御する制御手
段と、前記制御手段で制御された前記積分手段による積
分値と所定の基準値とを比較する比較手段とを具備する
ものである。
出装置は、電極と被加工物との加工間隙における放電電
圧または放電電流に重畳する高周波成分を検出する高周
波成分検出手段と、前記高周波成分検出手段で検出され
た前記高周波成分を整流した整流分を出力する整流手段
と、基準電圧を出力する基準電圧出力手段と、前記整流
手段から出力された前記整流分と前記基準電圧出力手段
から出力された前記基準電圧との差分を出力する差分出
力手段と、前記差分出力手段から出力された前記差分を
時間積分する積分手段と、加工電源の電流制御のための
内部スイッチング素子の動作に基づき所定時間だけ前記
積分手段における積分を停止する積分停止手段と、前記
積分手段における積分の開始及び終了を制御する制御手
段と、前記制御手段で制御された前記積分手段による積
分値と所定の基準値とを比較する比較手段とを具備する
ものである。
【００２０】請求項５にかかる放電加工機の放電状態検
出装置は、電極と被加工物との加工間隙における放電電
圧または放電電流に重畳する高周波成分を検出する高周
波成分検出手段と、前記高周波成分検出手段で検出され
た前記高周波成分を整流した整流分を出力する整流手段
と、前記整流手段から出力された前記整流分の大きさを
時間積分する第１の積分手段と、基準電圧を出力する基
準電圧出力手段と、前記基準電圧出力手段から出力され
た前記基準電圧の大きさを時間積分する第２の積分手段
と、加工電源の電流制御のための内部スイッチング素子
の動作に基づき所定時間だけ前記第１の積分手段及び前
記第２の積分手段における積分を停止する積分停止手段
と、前記積分停止手段で積分を停止する前記所定時間の
長さを加工電流値の大きさに応じて変更する時間変更手
段と、前記第１の積分手段及び前記第２の積分手段にお
ける積分の開始及び終了を制御する制御手段と、前記制
御手段で制御された前記第１の積分手段による積分値と
前記第２の積分手段による積分値とを比較する比較手段
とを具備するものである。
出装置は、電極と被加工物との加工間隙における放電電
圧または放電電流に重畳する高周波成分を検出する高周
波成分検出手段と、前記高周波成分検出手段で検出され
た前記高周波成分を整流した整流分を出力する整流手段
と、前記整流手段から出力された前記整流分の大きさを
時間積分する第１の積分手段と、基準電圧を出力する基
準電圧出力手段と、前記基準電圧出力手段から出力され
た前記基準電圧の大きさを時間積分する第２の積分手段
と、加工電源の電流制御のための内部スイッチング素子
の動作に基づき所定時間だけ前記第１の積分手段及び前
記第２の積分手段における積分を停止する積分停止手段
と、前記積分停止手段で積分を停止する前記所定時間の
長さを加工電流値の大きさに応じて変更する時間変更手
段と、前記第１の積分手段及び前記第２の積分手段にお
ける積分の開始及び終了を制御する制御手段と、前記制
御手段で制御された前記第１の積分手段による積分値と
前記第２の積分手段による積分値とを比較する比較手段
とを具備するものである。
【００２１】請求項６にかかる放電加工機の放電状態検
出装置は、電極と被加工物との加工間隙における放電電
圧または放電電流に重畳する高周波成分を検出する高周
波成分検出手段と、前記高周波成分検出手段で検出され
た前記高周波成分を整流した整流分を出力する整流手段
と、連続する複数の放電パルス数をカウントするカウン
ト手段と、前記整流手段から出力された前記整流分の大
きさを時間積分し、前記カウント手段でカウントされた
放電パルス数だけ加算する第１の積分手段と、基準電圧
を出力する基準電圧出力手段と、前記基準電圧出力手段
から出力された前記基準電圧の大きさを時間積分し、前
記カウント手段でカウントされた放電パルス数だけ加算
する第２の積分手段と、前記第１の積分手段及び前記第
２の積分手段における積分の開始及び終了を制御する制
御手段と、前記制御手段で制御された前記第１の積分手
段による積分値と前記第２の積分手段による積分値とを
比較する比較手段とを具備するものである。
出装置は、電極と被加工物との加工間隙における放電電
圧または放電電流に重畳する高周波成分を検出する高周
波成分検出手段と、前記高周波成分検出手段で検出され
た前記高周波成分を整流した整流分を出力する整流手段
と、連続する複数の放電パルス数をカウントするカウン
ト手段と、前記整流手段から出力された前記整流分の大
きさを時間積分し、前記カウント手段でカウントされた
放電パルス数だけ加算する第１の積分手段と、基準電圧
を出力する基準電圧出力手段と、前記基準電圧出力手段
から出力された前記基準電圧の大きさを時間積分し、前
記カウント手段でカウントされた放電パルス数だけ加算
する第２の積分手段と、前記第１の積分手段及び前記第
２の積分手段における積分の開始及び終了を制御する制
御手段と、前記制御手段で制御された前記第１の積分手
段による積分値と前記第２の積分手段による積分値とを
比較する比較手段とを具備するものである。
【００２２】
【発明の実施の形態】以下、本発明を具体的な実施の形
態に基づいて説明する。 実施の形態１．図１は本発明の第一の実施の形態にかか
る放電加工機の放電状態検出装置の構成を示す回路図で
ある。なお、前述の従来装置と同様の構成または相当部
分からなるものについては同一符号及び同一記号を付し
て示す。図１において、２は放電加工機の電極、３は被
加工物であり、電極２と被加工物３とにより加工間隙が
形成される。１は放電加工機の加工電源であり、この加
工電源１から電極２と被加工物３との加工間隙にパルス
状の放電電圧が供給される。４は放電電圧の高周波成分
を検出するハイパスフィルタ、５はハイパスフィルタ４
からの高周波成分を整流する整流回路であり、整流回路
５からは整流された出力信号ｖrec が出力される。ま
た、６は電極２と被加工物３との加工間隙の放電発生検
出回路であり、放電発生検出回路６は電極２と被加工物
３との加工間隙の放電電圧を検出する放電電圧検出回路
６０及び電極２と被加工物３との加工間隙の放電電流を
検出する放電電流検出回路６１からなる。
態に基づいて説明する。 実施の形態１．図１は本発明の第一の実施の形態にかか
る放電加工機の放電状態検出装置の構成を示す回路図で
ある。なお、前述の従来装置と同様の構成または相当部
分からなるものについては同一符号及び同一記号を付し
て示す。図１において、２は放電加工機の電極、３は被
加工物であり、電極２と被加工物３とにより加工間隙が
形成される。１は放電加工機の加工電源であり、この加
工電源１から電極２と被加工物３との加工間隙にパルス
状の放電電圧が供給される。４は放電電圧の高周波成分
を検出するハイパスフィルタ、５はハイパスフィルタ４
からの高周波成分を整流する整流回路であり、整流回路
５からは整流された出力信号ｖrec が出力される。ま
た、６は電極２と被加工物３との加工間隙の放電発生検
出回路であり、放電発生検出回路６は電極２と被加工物
３との加工間隙の放電電圧を検出する放電電圧検出回路
６０及び電極２と被加工物３との加工間隙の放電電流を
検出する放電電流検出回路６１からなる。
【００２３】放電発生検出回路６の放電電圧検出回路６
０及び放電電流検出回路６１の出力信号はロジック回路
６２に入力される。７は遅延回路であり、遅延回路７は
ハイパスフィルタ４の時定数ｔH を計測する時定数回路
７０とロジック回路７２とからなる。ロジック回路６２
からの出力信号６３は遅延回路７の時定数回路７０及び
ロジック回路７２に入力され、また、時定数回路７０か
らの出力信号７１はロジック回路７２に入力される。８
は積分回路であり、積分回路８は演算増幅器８０、その
演算増幅器８０の反転（−）入力側と出力側との間に接
続されるコンデンサＣ1 及び整流回路５の出力側と演算
増幅器８０の反転（−）入力側との間に直列接続された
抵抗Ｒ1 からなる。なお、演算増幅器８０の非反転
（＋）入力側はアースされている。
０及び放電電流検出回路６１の出力信号はロジック回路
６２に入力される。７は遅延回路であり、遅延回路７は
ハイパスフィルタ４の時定数ｔH を計測する時定数回路
７０とロジック回路７２とからなる。ロジック回路６２
からの出力信号６３は遅延回路７の時定数回路７０及び
ロジック回路７２に入力され、また、時定数回路７０か
らの出力信号７１はロジック回路７２に入力される。８
は積分回路であり、積分回路８は演算増幅器８０、その
演算増幅器８０の反転（−）入力側と出力側との間に接
続されるコンデンサＣ1 及び整流回路５の出力側と演算
増幅器８０の反転（−）入力側との間に直列接続された
抵抗Ｒ1 からなる。なお、演算増幅器８０の非反転
（＋）入力側はアースされている。
【００２４】９はリセット回路であり、リセット回路９
はコンデンサＣ1 の両端子間にコレクタ−エミッタが接
続されたトランジスタからなる。遅延回路７のロジック
回路７２からの出力信号７３はリセット回路９のトラン
ジスタのベースに入力される。１０は比較器であり、積
分回路８の演算増幅器８０からの出力信号である積分出
力値Ｖint は比較器１０の反転（−）入力側に入力され
る。
はコンデンサＣ1 の両端子間にコレクタ−エミッタが接
続されたトランジスタからなる。遅延回路７のロジック
回路７２からの出力信号７３はリセット回路９のトラン
ジスタのベースに入力される。１０は比較器であり、積
分回路８の演算増幅器８０からの出力信号である積分出
力値Ｖint は比較器１０の反転（−）入力側に入力され
る。
【００２５】４０は基準電圧出力回路、８Ｂは積分回路
であり、この積分回路８Ｂは積分回路８と同様の構成で
演算増幅器８０Ｂ、その演算増幅器８０Ｂの反転（−）
入力側と出力側との間に接続されるコンデンサＣ1B及び
基準電圧出力回路４０の出力側と演算増幅器８０Ｂの反
転（−）入力側との間に直列接続された抵抗Ｒ1Bからな
る。基準電圧出力回路４０からの基準電圧ｖref は積分
回路８Ｂの抵抗Ｒ1Bに入力される。また、９Ｂはリセッ
ト回路であり、リセット回路９Ｂは、リセット回路９と
同様の構成でコンデンサＣ1Bの両端子間にコレクタ−エ
ミッタが接続されたトランジスタからなる。遅延回路７
のロジック回路７２からの出力信号７３はリセット回路
９Ｂのトランジスタのベースに入力される。積分回路８
Ｂの演算増幅器８０Ｂからの出力信号である積分出力値
ＶintBは比較器１０の非反転（＋）入力側に入力され
る。
であり、この積分回路８Ｂは積分回路８と同様の構成で
演算増幅器８０Ｂ、その演算増幅器８０Ｂの反転（−）
入力側と出力側との間に接続されるコンデンサＣ1B及び
基準電圧出力回路４０の出力側と演算増幅器８０Ｂの反
転（−）入力側との間に直列接続された抵抗Ｒ1Bからな
る。基準電圧出力回路４０からの基準電圧ｖref は積分
回路８Ｂの抵抗Ｒ1Bに入力される。また、９Ｂはリセッ
ト回路であり、リセット回路９Ｂは、リセット回路９と
同様の構成でコンデンサＣ1Bの両端子間にコレクタ−エ
ミッタが接続されたトランジスタからなる。遅延回路７
のロジック回路７２からの出力信号７３はリセット回路
９Ｂのトランジスタのベースに入力される。積分回路８
Ｂの演算増幅器８０Ｂからの出力信号である積分出力値
ＶintBは比較器１０の非反転（＋）入力側に入力され
る。
【００２６】前述の従来装置における図１１及び図１２
の基準電圧Ｖref と本実施の形態装置である図１の基準
電圧出力回路４０から出力される基準電圧ｖref には次
式（２）に示す関係がある。 Ｖref ＝ｖref ×Ｔon／（Ｒ1B×Ｃ1B） ・・・（２） したがって、積分回路８Ｂにて基準電圧ｖref が時間積
分された積分出力値ＶintBは、式（２）に示す基準電圧
Ｖref の値となる。比較回路１０では高周波成分の積分
出力値Ｖint と基準電圧ｖref の積分出力値ＶintBとが
比較され、積分出力値Ｖint が積分出力値ＶintBよりも
大きい場合には出力信号が“０”で正常放電パルス、逆
の場合には出力信号が“１”でアーク放電パルス等の異
常放電パルスと判定される。
の基準電圧Ｖref と本実施の形態装置である図１の基準
電圧出力回路４０から出力される基準電圧ｖref には次
式（２）に示す関係がある。 Ｖref ＝ｖref ×Ｔon／（Ｒ1B×Ｃ1B） ・・・（２） したがって、積分回路８Ｂにて基準電圧ｖref が時間積
分された積分出力値ＶintBは、式（２）に示す基準電圧
Ｖref の値となる。比較回路１０では高周波成分の積分
出力値Ｖint と基準電圧ｖref の積分出力値ＶintBとが
比較され、積分出力値Ｖint が積分出力値ＶintBよりも
大きい場合には出力信号が“０”で正常放電パルス、逆
の場合には出力信号が“１”でアーク放電パルス等の異
常放電パルスと判定される。
【００２７】次に、上述の比較回路１０からの出力信号
に基づくフィードバック制御について説明する。図１に
おいて、１１０は加工間隙の不良等から生じるアーク放
電パルス等の異常放電パルスを判別する異常放電判別回
路であり、異常放電判別回路１１０で所定のタイミング
における比較回路１０からの出力信号が“１”であり異
常放電パルスと判別されると、その回数がＩＣによって
構成されたカウンタＣT1によってカウントされる。１２
０は正常放電パルスを判別する正常放電判別回路であ
り、正常放電判別回路１２０で所定のタイミングにおけ
る比較回路１０からの出力信号が“０”であり正常放電
パルスと判別されると、その回数がＩＣによって構成さ
れたカウンタＣT2によってカウントされる。
に基づくフィードバック制御について説明する。図１に
おいて、１１０は加工間隙の不良等から生じるアーク放
電パルス等の異常放電パルスを判別する異常放電判別回
路であり、異常放電判別回路１１０で所定のタイミング
における比較回路１０からの出力信号が“１”であり異
常放電パルスと判別されると、その回数がＩＣによって
構成されたカウンタＣT1によってカウントされる。１２
０は正常放電パルスを判別する正常放電判別回路であ
り、正常放電判別回路１２０で所定のタイミングにおけ
る比較回路１０からの出力信号が“０”であり正常放電
パルスと判別されると、その回数がＩＣによって構成さ
れたカウンタＣT2によってカウントされる。
【００２８】カウンタＣT1からは異常放電パルスを例え
ば、４個カウントすると信号が出力され、その信号が例
えば、０〜９の１０段のアップダウンカウンタＣT4のア
ップ（ＵＰ）端子に入力される。また、カウンタＣT2か
らは正常放電パルスを例えば、８個カウントすると信号
が出力され、その信号がカウンタＣT1のクリア信号入力
端子及びカウンタＣT3に入力される。カウンタＣT3はカ
ウンタＣT2からの出力信号が例えば、８個または１６個
に達すると信号を出力し、その信号がアップダウンカウ
ンタＣT4のダウン（ＤＯＷＮ）端子に入力される。更
に、カウンタＣT1の出力信号はカウンタＣT3のクリア信
号入力端子に入力されている。
ば、４個カウントすると信号が出力され、その信号が例
えば、０〜９の１０段のアップダウンカウンタＣT4のア
ップ（ＵＰ）端子に入力される。また、カウンタＣT2か
らは正常放電パルスを例えば、８個カウントすると信号
が出力され、その信号がカウンタＣT1のクリア信号入力
端子及びカウンタＣT3に入力される。カウンタＣT3はカ
ウンタＣT2からの出力信号が例えば、８個または１６個
に達すると信号を出力し、その信号がアップダウンカウ
ンタＣT4のダウン（ＤＯＷＮ）端子に入力される。更
に、カウンタＣT1の出力信号はカウンタＣT3のクリア信
号入力端子に入力されている。
【００２９】なお、カウンタＣT1，ＣT2，ＣT3は各々の
カウント数が各設定カウント数に達するとそれぞれ自己
のカウント数をクリアするように構成されている。即
ち、カウンタＣT2で正常放電パルスが８個カウントされ
る前にカウンタＣT1で異常放電パルスが４個カウントさ
れるとアップダウンカウンタＣT4のカウント数が１つア
ップされ、カウンタＣT3のカウント数がクリアされる。
ここで、カウンタＣT2が８個のカウントを８回または１
６回カウントされる間にカウンタＣT1が一度もカウンタ
ＣT2の各８個カウントの間に４個カウントされることが
なければカウンタＣT3に出力を生じ、アップダウンカウ
ンタＣT4のカウント数が１つダウンされる。
カウント数が各設定カウント数に達するとそれぞれ自己
のカウント数をクリアするように構成されている。即
ち、カウンタＣT2で正常放電パルスが８個カウントされ
る前にカウンタＣT1で異常放電パルスが４個カウントさ
れるとアップダウンカウンタＣT4のカウント数が１つア
ップされ、カウンタＣT3のカウント数がクリアされる。
ここで、カウンタＣT2が８個のカウントを８回または１
６回カウントされる間にカウンタＣT1が一度もカウンタ
ＣT2の各８個カウントの間に４個カウントされることが
なければカウンタＣT3に出力を生じ、アップダウンカウ
ンタＣT4のカウント数が１つダウンされる。
【００３０】１３０はアップダウンカウンタＣT4のクリ
ア信号入力端子、ＤＳはアップダウンカウンタＣT4に０
または９以外の任意のカウント数を手動設定するディジ
タルスイッチ、ＤはアップダウンカウンタＣT4のカウン
ト数に対応する０〜９の１つの出力端子に信号を出力す
るデコーダ、１４０は往復運動の離隔距離、往復移動の
周期（または近接時の加工時間）が０〜９の１０段に設
定された加工条件設定部である。加工条件設定部１４０
ではデコーダＤからの出力に対応して選択されたＮ段目
の加工条件が作動され、予め設定されている所定の周期
で所定の離隔距離を確保するためのパルス幅の電極上昇
パルス信号が端子１５０ａからサーボ制御部１５０に入
力され、電極２が被加工物３に対してサーボ送り制御さ
れる。
ア信号入力端子、ＤＳはアップダウンカウンタＣT4に０
または９以外の任意のカウント数を手動設定するディジ
タルスイッチ、ＤはアップダウンカウンタＣT4のカウン
ト数に対応する０〜９の１つの出力端子に信号を出力す
るデコーダ、１４０は往復運動の離隔距離、往復移動の
周期（または近接時の加工時間）が０〜９の１０段に設
定された加工条件設定部である。加工条件設定部１４０
ではデコーダＤからの出力に対応して選択されたＮ段目
の加工条件が作動され、予め設定されている所定の周期
で所定の離隔距離を確保するためのパルス幅の電極上昇
パルス信号が端子１５０ａからサーボ制御部１５０に入
力され、電極２が被加工物３に対してサーボ送り制御さ
れる。
【００３１】そして、カウンタＣT1またはカウンタＣT3
から信号が出力されアップダウンカウンタＣT4のカウン
ト数がアップまたはダウンされ変化しない限り、加工条
件設定部１４０の動作段も変化されず、その動作段に予
め設定されている周期で予定された開離距離の開離作動
をサーボ制御部１５０に行わせるための設定パルス幅の
信号が繰返し出力される。
から信号が出力されアップダウンカウンタＣT4のカウン
ト数がアップまたはダウンされ変化しない限り、加工条
件設定部１４０の動作段も変化されず、その動作段に予
め設定されている周期で予定された開離距離の開離作動
をサーボ制御部１５０に行わせるための設定パルス幅の
信号が繰返し出力される。
【００３２】このように構成されることで、往復運動の
開離距離が２段階以上の長短に選択することのできる加
工条件設定部１４０は、異常放電判別回路１１０が所定
期間内、即ち、カウンタＣT2が正常放電パルスを８個カ
ウントする期間内に、カウンタＣT1によって異常放電パ
ルスが４個異常カウントされればアップダウンカウンタ
ＣT4のカウント数を１個マスクして加工条件設定部１４
０を開離距離が大きくまたは長くなるように切換える。
開離距離が２段階以上の長短に選択することのできる加
工条件設定部１４０は、異常放電判別回路１１０が所定
期間内、即ち、カウンタＣT2が正常放電パルスを８個カ
ウントする期間内に、カウンタＣT1によって異常放電パ
ルスが４個異常カウントされればアップダウンカウンタ
ＣT4のカウント数を１個マスクして加工条件設定部１４
０を開離距離が大きくまたは長くなるように切換える。
【００３３】逆に、開離距離が短くなるように加工条件
設定部１４０を切換える場合には、カウンタＣT3のクリ
ア後、即ち、カウンタＣT1の出力があって一旦、加工条
件設定部１４０が開離距離を長くするよう切換えられた
のち、異常放電判別回路１１０が所定期間よりも長い期
間の間、即ち、カウンタＣT2が正常放電パルスを８個カ
ウントするのを１回以上の８回または１６回カウンタＣ
T3がカウントする間カウンタＣT1が一度も異常放電パル
スを４個以上カウントすることがなければ、アップダウ
ンカウンタＣT4にダウン信号が入力され、そのカウント
数が１つダウンされるように作動されるため、常に異常
放電パルスが発生せず、正常放電パルスによる安定加工
できる側に往復移動の開離距離が切換えられ、維持され
るのである。
設定部１４０を切換える場合には、カウンタＣT3のクリ
ア後、即ち、カウンタＣT1の出力があって一旦、加工条
件設定部１４０が開離距離を長くするよう切換えられた
のち、異常放電判別回路１１０が所定期間よりも長い期
間の間、即ち、カウンタＣT2が正常放電パルスを８個カ
ウントするのを１回以上の８回または１６回カウンタＣ
T3がカウントする間カウンタＣT1が一度も異常放電パル
スを４個以上カウントすることがなければ、アップダウ
ンカウンタＣT4にダウン信号が入力され、そのカウント
数が１つダウンされるように作動されるため、常に異常
放電パルスが発生せず、正常放電パルスによる安定加工
できる側に往復移動の開離距離が切換えられ、維持され
るのである。
【００３４】このように、本実施の形態の放電加工機の
放電状態検出装置は、電極２と被加工物３との加工間隙
における放電電圧または放電電流に重畳する高周波成分
を検出するハイパスフィルタ４からなる高周波成分検出
手段と、前記高周波成分検出手段で検出された前記高周
波成分の大きさを時間積分する積分回路８からなる第１
の積分手段と、基準電圧ｖref を出力する基準電圧出力
回路４０からなる基準電圧出力手段と、前記基準電圧出
力手段から出力された基準電圧ｖref の大きさを時間積
分する積分回路８Ｂからなる第２の積分手段と、前記第
１の積分手段及び前記第２の積分手段における積分の開
始及び終了を制御する放電発生検出回路６、ロジック回
路６２、遅延回路７及びリセット回路９，９Ｂからなる
制御手段と、前記制御手段で制御された前記第１の積分
手段による積分値Ｖint と前記第２の積分手段による積
分値ＶintBとを比較する比較器１０からなる比較手段と
を具備する実施の形態とすることができる。
放電状態検出装置は、電極２と被加工物３との加工間隙
における放電電圧または放電電流に重畳する高周波成分
を検出するハイパスフィルタ４からなる高周波成分検出
手段と、前記高周波成分検出手段で検出された前記高周
波成分の大きさを時間積分する積分回路８からなる第１
の積分手段と、基準電圧ｖref を出力する基準電圧出力
回路４０からなる基準電圧出力手段と、前記基準電圧出
力手段から出力された基準電圧ｖref の大きさを時間積
分する積分回路８Ｂからなる第２の積分手段と、前記第
１の積分手段及び前記第２の積分手段における積分の開
始及び終了を制御する放電発生検出回路６、ロジック回
路６２、遅延回路７及びリセット回路９，９Ｂからなる
制御手段と、前記制御手段で制御された前記第１の積分
手段による積分値Ｖint と前記第２の積分手段による積
分値ＶintBとを比較する比較器１０からなる比較手段と
を具備する実施の形態とすることができる。
【００３５】したがって、ハイパスフィルタ４では電極
２と被加工物３との加工間隙における放電電圧または放
電電流に重畳する高周波成分が検出される。この高周波
成分の大きさが積分回路８で時間積分される。また、積
分回路８Ｂで基準電圧出力回路４０から出力される基準
電圧ｖref の大きさが時間積分される。ここで、放電発
生検出回路６、ロジック回路６２、遅延回路７及びリセ
ット回路９，９Ｂにて積分回路８及び積分回路８Ｂにお
ける積分の開始及び終了が制御される。そして、比較器
１０により積分回路８による積分値Ｖint と積分回路８
Ｂによる積分値ＶintBとが比較される。
２と被加工物３との加工間隙における放電電圧または放
電電流に重畳する高周波成分が検出される。この高周波
成分の大きさが積分回路８で時間積分される。また、積
分回路８Ｂで基準電圧出力回路４０から出力される基準
電圧ｖref の大きさが時間積分される。ここで、放電発
生検出回路６、ロジック回路６２、遅延回路７及びリセ
ット回路９，９Ｂにて積分回路８及び積分回路８Ｂにお
ける積分の開始及び終了が制御される。そして、比較器
１０により積分回路８による積分値Ｖint と積分回路８
Ｂによる積分値ＶintBとが比較される。
【００３６】故に、放電加工機の放電状態が正常放電パ
ルスかアーク放電パルス等の異常放電パルスかを判定す
るための比較値として、積分回路８Ｂで基準電圧ｖref
が時間積分され、その積分値ＶintBが採用されること
で、きめ細かな基準値設定を行うことができる。
ルスかアーク放電パルス等の異常放電パルスかを判定す
るための比較値として、積分回路８Ｂで基準電圧ｖref
が時間積分され、その積分値ＶintBが採用されること
で、きめ細かな基準値設定を行うことができる。
【００３７】また、本実施の形態の放電加工機の放電状
態検出装置における積分回路８からなる第１の積分手段
は、時間積分する高周波成分の大きさを高周波成分を整
流回路５にて整流した整流分ｖrec の大きさとする実施
の形態とすることができる。
態検出装置における積分回路８からなる第１の積分手段
は、時間積分する高周波成分の大きさを高周波成分を整
流回路５にて整流した整流分ｖrec の大きさとする実施
の形態とすることができる。
【００３８】このように、高周波成分が整流された整流
分ｖrec の大きさが時間積分された積分値はその変動量
を小さくすることができる。このため、正常放電パルス
かアーク放電パルス等の異常放電パルスかの判定が正確
となる。
分ｖrec の大きさが時間積分された積分値はその変動量
を小さくすることができる。このため、正常放電パルス
かアーク放電パルス等の異常放電パルスかの判定が正確
となる。
【００３９】実施の形態２．図２は本発明の第二の実施
の形態にかかる放電加工機の放電状態検出装置の構成を
示す回路図である。なお、上述の実施の形態と同様の構
成または相当部分からなるものについては同一符号また
は同一記号を付して、その詳細な説明を省略する。ま
た、比較回路１０からの出力信号に基づくフィードバッ
ク制御における回路構成については上述の実施の形態と
同様であり省略する。図２において、スイッチ３０は整
流回路５と積分回路８との間に配設され、整流回路５で
整流された出力信号ｖrec の積分回路８への入力を制御
する。また、スイッチ３０Ｂは基準電圧出力回路４０と
積分回路８Ｂとの間に配設され、基準電圧出力回路４０
からの基準電圧ｖref の積分回路８Ｂへの入力を制御す
る。スイッチ３０，３０Ｂは積分回路８，８Ｂの積分動
作を停止する機能を有し、この動作を以下、マスクとい
う。Ｓ1 は図１６におけるＳ1 と同一のもので、放電電
源１の電流制御のための内部スイッチング素子のオン／
オフ状態を示す信号、５０は電流制御スイッチング素子
のオン立上がり時にマスク時間幅ｍ1 を出力するマスク
時限出力回路、５０s はその出力信号、５１は電流制御
スイッチング素子のオフ立下がり時にマスク時間幅ｍ2
を出力するマスク時限出力回路、５１s はその出力信号
である。５２はロジック回路でありマスク時限出力回路
５０からの出力信号５０s とマスク時限出力回路５１か
らの出力信号５１s の論理ＯＲで反転された出力信号５
３を出力する。５４はロジック回路でありロジック回路
６２からの出力信号６３とロジック回路５２からの出力
信号５３との論理ＡＮＤの出力信号５５を出力する。こ
のロジック回路５４からの出力信号５５はスイッチ３
０，３０Ｂを駆動する。出力信号５５がＨレベルのとき
スイッチ３０，３０Ｂはオフ、Ｌレベルのときスイッチ
３０，３０Ｂはオンする。
の形態にかかる放電加工機の放電状態検出装置の構成を
示す回路図である。なお、上述の実施の形態と同様の構
成または相当部分からなるものについては同一符号また
は同一記号を付して、その詳細な説明を省略する。ま
た、比較回路１０からの出力信号に基づくフィードバッ
ク制御における回路構成については上述の実施の形態と
同様であり省略する。図２において、スイッチ３０は整
流回路５と積分回路８との間に配設され、整流回路５で
整流された出力信号ｖrec の積分回路８への入力を制御
する。また、スイッチ３０Ｂは基準電圧出力回路４０と
積分回路８Ｂとの間に配設され、基準電圧出力回路４０
からの基準電圧ｖref の積分回路８Ｂへの入力を制御す
る。スイッチ３０，３０Ｂは積分回路８，８Ｂの積分動
作を停止する機能を有し、この動作を以下、マスクとい
う。Ｓ1 は図１６におけるＳ1 と同一のもので、放電電
源１の電流制御のための内部スイッチング素子のオン／
オフ状態を示す信号、５０は電流制御スイッチング素子
のオン立上がり時にマスク時間幅ｍ1 を出力するマスク
時限出力回路、５０s はその出力信号、５１は電流制御
スイッチング素子のオフ立下がり時にマスク時間幅ｍ2
を出力するマスク時限出力回路、５１s はその出力信号
である。５２はロジック回路でありマスク時限出力回路
５０からの出力信号５０s とマスク時限出力回路５１か
らの出力信号５１s の論理ＯＲで反転された出力信号５
３を出力する。５４はロジック回路でありロジック回路
６２からの出力信号６３とロジック回路５２からの出力
信号５３との論理ＡＮＤの出力信号５５を出力する。こ
のロジック回路５４からの出力信号５５はスイッチ３
０，３０Ｂを駆動する。出力信号５５がＨレベルのとき
スイッチ３０，３０Ｂはオフ、Ｌレベルのときスイッチ
３０，３０Ｂはオンする。
【００４０】図２に示すマスク時限出力回路５０，５１
は、例えば、図３に示すようなワンショットマルチバイ
ブレータ（単安定マルチバイブレータ）５００，５１０
にて構成される。ワンショットマルチバイブレータ５０
０からは信号Ｓ1 のオン立上がり時に抵抗Ｒ500 及びコ
ンデンサＣ500 の回路定数で設定される所定のマスク時
間幅ｍ1が出力される。また、ワンショットマルチバイ
ブレータ５１０からは信号Ｓ2 のオフ立下がり時に抵抗
Ｒ510 及びコンデンサＣ510 の回路定数で設定される所
定のマスク時間幅ｍ2 が出力される。
は、例えば、図３に示すようなワンショットマルチバイ
ブレータ（単安定マルチバイブレータ）５００，５１０
にて構成される。ワンショットマルチバイブレータ５０
０からは信号Ｓ1 のオン立上がり時に抵抗Ｒ500 及びコ
ンデンサＣ500 の回路定数で設定される所定のマスク時
間幅ｍ1が出力される。また、ワンショットマルチバイ
ブレータ５１０からは信号Ｓ2 のオフ立下がり時に抵抗
Ｒ510 及びコンデンサＣ510 の回路定数で設定される所
定のマスク時間幅ｍ2 が出力される。
【００４１】次に、その動作について図４を用いて説明
する。図４は図２の要部における入出力信号波形を示す
タイムチャートである。従来装置の入出力信号波形を示
す図１７と同一または相当部分には同一符号または同一
記号を付して示して、その説明を省略する。図４のＡは
放電電圧波形、図４のＢはハイパスフィルタ４の出力信
号波形、図４のＩはロジック回路７２の出力信号波形、
図４のＳ1 は加工電源１の放電電流制御のための内部ス
イッチング素子の出力信号波形、図４のＭ1 はマスク時
限出力回路５０の出力信号波形を示し、放電電流制御の
ための内部スイッチング素子のオン立上がり時にマスク
時間幅ｍ1 のマスク信号を出力する。図４のＭ2 はマス
ク時限出力回路５１の出力信号波形を示し、マスク時限
出力回路５１は加工電源１の電流制御のための内部スイ
ッチング素子のオフ立下がり時にマスク時間幅ｍ2 のマ
スク信号を出力する。マスク時間幅ｍ1 はスパイク電圧
２４の時間幅ｂ1 よりも大きな値に設定し、マスク時間
幅ｍ2 はスパイク電圧２４の時間幅ｂ2よりも大きな値
に設定する。図４のＦは整流回路５の出力信号ｖrec を
積分回路８で時間積分した出力波形を示す。図４のＧは
基準電圧出力回路４０からの基準信号ｖref を積分回路
８Ｂで時間積分した出力波形を示す。マスク時間幅ｍ1
，ｍ2 の間は積分回路８，８Ｂの積分動作は停止し、
積分波形はその間値を保持する。図４のＦから分かるよ
うに、スパイク電圧２４の影響は完全に排除され、図１
７のＦのＶint2で示すような誤検出はない。整流出力の
積分動作が停止している間、基準電圧の積分動作も停止
しており、比較器１０で判定する段階で正常放電パルス
またはアーク放電パルス等の異常放電パルスを誤判定す
ることはない。
する。図４は図２の要部における入出力信号波形を示す
タイムチャートである。従来装置の入出力信号波形を示
す図１７と同一または相当部分には同一符号または同一
記号を付して示して、その説明を省略する。図４のＡは
放電電圧波形、図４のＢはハイパスフィルタ４の出力信
号波形、図４のＩはロジック回路７２の出力信号波形、
図４のＳ1 は加工電源１の放電電流制御のための内部ス
イッチング素子の出力信号波形、図４のＭ1 はマスク時
限出力回路５０の出力信号波形を示し、放電電流制御の
ための内部スイッチング素子のオン立上がり時にマスク
時間幅ｍ1 のマスク信号を出力する。図４のＭ2 はマス
ク時限出力回路５１の出力信号波形を示し、マスク時限
出力回路５１は加工電源１の電流制御のための内部スイ
ッチング素子のオフ立下がり時にマスク時間幅ｍ2 のマ
スク信号を出力する。マスク時間幅ｍ1 はスパイク電圧
２４の時間幅ｂ1 よりも大きな値に設定し、マスク時間
幅ｍ2 はスパイク電圧２４の時間幅ｂ2よりも大きな値
に設定する。図４のＦは整流回路５の出力信号ｖrec を
積分回路８で時間積分した出力波形を示す。図４のＧは
基準電圧出力回路４０からの基準信号ｖref を積分回路
８Ｂで時間積分した出力波形を示す。マスク時間幅ｍ1
，ｍ2 の間は積分回路８，８Ｂの積分動作は停止し、
積分波形はその間値を保持する。図４のＦから分かるよ
うに、スパイク電圧２４の影響は完全に排除され、図１
７のＦのＶint2で示すような誤検出はない。整流出力の
積分動作が停止している間、基準電圧の積分動作も停止
しており、比較器１０で判定する段階で正常放電パルス
またはアーク放電パルス等の異常放電パルスを誤判定す
ることはない。
【００４２】このように、本実施の形態の放電加工機の
放電状態検出装置は、電極２と被加工物３との加工間隙
における放電電圧または放電電流に重畳する高周波成分
を検出するハイパスフィルタ４からなる高周波成分検出
手段と、前記高周波成分検出手段で検出された前記高周
波成分を整流した整流分ｖrec を出力する整流回路５か
らなる整流手段と、前記整流手段から出力された整流分
ｖrec の大きさを時間積分する積分回路８からなる第１
の積分手段と、基準電圧ｖref を出力する基準電圧出力
回路４０からなる基準電圧出力手段と、前記基準電圧出
力手段から出力された基準電圧ｖref の大きさを時間積
分する積分回路８Ｂからなる第２の積分手段と、加工電
源１の電流制御のための内部スイッチング素子のオン時
及びオフ時に基づき所定時間ｍ1,ｍ2 だけ前記第１の積
分手段及び前記第２の積分手段における積分を停止する
マスク時限出力回路５０，５１、論理回路５２，５４及
びスイッチ３０，３０Ｂからなる積分停止手段と、前記
第１の積分手段及び前記第２の積分手段における積分の
開始及び終了を制御する放電発生検出回路６、ロジック
回路６２、遅延回路７及びリセット回路９，９Ｂからな
る制御手段と、前記制御手段で制御された前記第１の積
分手段による積分値Ｖint と前記第２の積分手段による
積分値ＶintBとを比較する比較器１０からなる比較手段
とを具備する実施の形態とすることができる。
放電状態検出装置は、電極２と被加工物３との加工間隙
における放電電圧または放電電流に重畳する高周波成分
を検出するハイパスフィルタ４からなる高周波成分検出
手段と、前記高周波成分検出手段で検出された前記高周
波成分を整流した整流分ｖrec を出力する整流回路５か
らなる整流手段と、前記整流手段から出力された整流分
ｖrec の大きさを時間積分する積分回路８からなる第１
の積分手段と、基準電圧ｖref を出力する基準電圧出力
回路４０からなる基準電圧出力手段と、前記基準電圧出
力手段から出力された基準電圧ｖref の大きさを時間積
分する積分回路８Ｂからなる第２の積分手段と、加工電
源１の電流制御のための内部スイッチング素子のオン時
及びオフ時に基づき所定時間ｍ1,ｍ2 だけ前記第１の積
分手段及び前記第２の積分手段における積分を停止する
マスク時限出力回路５０，５１、論理回路５２，５４及
びスイッチ３０，３０Ｂからなる積分停止手段と、前記
第１の積分手段及び前記第２の積分手段における積分の
開始及び終了を制御する放電発生検出回路６、ロジック
回路６２、遅延回路７及びリセット回路９，９Ｂからな
る制御手段と、前記制御手段で制御された前記第１の積
分手段による積分値Ｖint と前記第２の積分手段による
積分値ＶintBとを比較する比較器１０からなる比較手段
とを具備する実施の形態とすることができる。
【００４３】したがって、ハイパスフィルタ４では電極
２と被加工物３との加工間隙における放電電圧または放
電電流に重畳する高周波成分が検出される。この高周波
成分が整流回路５で整流され出力される整流分ｖrec の
大きさが積分回路８で時間積分される。また、積分回路
８Ｂで基準電圧出力回路４０から出力される基準電圧ｖ
ref の大きさが時間積分される。マスク時限出力回路５
０，５１、論理回路５２，５４及びスイッチ３０，３０
Ｂでは加工電源１の電流制御のための内部スイッチング
素子のオン時及びオフ時の動作に基づき所定時間ｍ1 ，
ｍ2 だけ積分回路８及び積分回路８Ｂにおける積分が停
止される。ここで、放電発生検出回路６、ロジック回路
６２、遅延回路７及びリセット回路９，９Ｂにて積分回
路８及び積分回路８Ｂにおける積分の開始及び終了が制
御される。そして、比較器１０により積分回路８による
積分値Ｖint と積分回路８Ｂによる積分値ＶintBとが比
較される。
２と被加工物３との加工間隙における放電電圧または放
電電流に重畳する高周波成分が検出される。この高周波
成分が整流回路５で整流され出力される整流分ｖrec の
大きさが積分回路８で時間積分される。また、積分回路
８Ｂで基準電圧出力回路４０から出力される基準電圧ｖ
ref の大きさが時間積分される。マスク時限出力回路５
０，５１、論理回路５２，５４及びスイッチ３０，３０
Ｂでは加工電源１の電流制御のための内部スイッチング
素子のオン時及びオフ時の動作に基づき所定時間ｍ1 ，
ｍ2 だけ積分回路８及び積分回路８Ｂにおける積分が停
止される。ここで、放電発生検出回路６、ロジック回路
６２、遅延回路７及びリセット回路９，９Ｂにて積分回
路８及び積分回路８Ｂにおける積分の開始及び終了が制
御される。そして、比較器１０により積分回路８による
積分値Ｖint と積分回路８Ｂによる積分値ＶintBとが比
較される。
【００４４】故に、加工電源１の電流制御のための内部
スイッチング素子の動作に同期して所定時間ｍ1 ，ｍ2
だけ積分動作が停止されることで、外乱の影響を排除し
正確に放電状態を検出することができる。
スイッチング素子の動作に同期して所定時間ｍ1 ，ｍ2
だけ積分動作が停止されることで、外乱の影響を排除し
正確に放電状態を検出することができる。
【００４５】実施の形態３．図５は本発明の第三の実施
の形態にかかる放電加工機の放電状態検出装置の構成を
示す回路図である。なお、上述の実施の形態と同様の構
成または相当部分からなるものについては同一符号また
は同一記号を付してその詳細な説明を省略する。また、
比較回路１０からの出力信号に基づくフィードバック制
御における回路構成については上述の実施の形態と同様
であり省略する。図５において、３５は差分回路であ
り、整流回路５からの出力信号ｖrec と基準電圧出力回
路４０からの基準電圧ｖref の差分である出力信号３７
を出力する。この差分回路３５からの出力信号３７は上
述の第二の実施の形態の場合と同様に、スイッチ３０が
マスク時間幅ｍ1 ，ｍ2 の間だけ動作され積分回路８と
切離されることで積分回路８の積分動作は停止する。
の形態にかかる放電加工機の放電状態検出装置の構成を
示す回路図である。なお、上述の実施の形態と同様の構
成または相当部分からなるものについては同一符号また
は同一記号を付してその詳細な説明を省略する。また、
比較回路１０からの出力信号に基づくフィードバック制
御における回路構成については上述の実施の形態と同様
であり省略する。図５において、３５は差分回路であ
り、整流回路５からの出力信号ｖrec と基準電圧出力回
路４０からの基準電圧ｖref の差分である出力信号３７
を出力する。この差分回路３５からの出力信号３７は上
述の第二の実施の形態の場合と同様に、スイッチ３０が
マスク時間幅ｍ1 ，ｍ2 の間だけ動作され積分回路８と
切離されることで積分回路８の積分動作は停止する。
【００４６】ここで、第二の実施の形態では整流回路５
からの出力信号ｖrec の大きさを時間積分した値Ｖint
と基準電圧出力回路４０からの基準電圧ｖref の大きさ
を時間積分した値ＶintBを比較器１０で比較して正常放
電パルスまたはアーク放電パルス等の異常放電パルスで
あるかを判定しており、スイッチ３０，３０Ｂと積分回
路８，８Ｂ、リセット回路９，９Ｂがそれぞれ２個ずつ
必要である。これに対して、本実施の形態では整流回路
５からの出力信号ｖrec と基準電圧出力回路４０からの
基準電圧ｖref の差分を時間積分し、最後に比較器１０
で値０と比較して正常放電パルスまたはアーク放電パル
ス等の異常放電パルスであるかを判定している。即ち、
本実施の形態では第二の実施の形態と同様の判定が、ス
イッチ３０、積分回路８、リセット回路９をそれぞれ１
つずつにて達成できるのである。
からの出力信号ｖrec の大きさを時間積分した値Ｖint
と基準電圧出力回路４０からの基準電圧ｖref の大きさ
を時間積分した値ＶintBを比較器１０で比較して正常放
電パルスまたはアーク放電パルス等の異常放電パルスで
あるかを判定しており、スイッチ３０，３０Ｂと積分回
路８，８Ｂ、リセット回路９，９Ｂがそれぞれ２個ずつ
必要である。これに対して、本実施の形態では整流回路
５からの出力信号ｖrec と基準電圧出力回路４０からの
基準電圧ｖref の差分を時間積分し、最後に比較器１０
で値０と比較して正常放電パルスまたはアーク放電パル
ス等の異常放電パルスであるかを判定している。即ち、
本実施の形態では第二の実施の形態と同様の判定が、ス
イッチ３０、積分回路８、リセット回路９をそれぞれ１
つずつにて達成できるのである。
【００４７】このように、本実施の形態の放電加工機の
放電状態検出装置は、電極２と被加工物３との加工間隙
における放電電圧または放電電流に重畳する高周波成分
を検出するハイパスフィルタ４からなる高周波成分検出
手段と、前記高周波成分検出手段で検出された前記高周
波成分を整流した整流分ｖrec を出力する整流回路５か
らなる整流手段と、基準電圧ｖref を出力する基準電圧
出力回路４０からなる基準電圧出力手段と、前記整流手
段から出力された整流分ｖrec と前記基準電圧出力手段
から出力された基準電圧ｖref との差分を出力する差分
回路３５からなる差分出力手段と、前記差分出力手段か
ら出力された差分を時間積分する積分回路８からなる積
分手段と、加工電源１の電流制御のための内部スイッチ
ング素子のオン時及びオフ時に基づき所定時間ｍ1 ，ｍ
2 だけ前記積分手段における積分を停止するマスク時限
出力回路５０，５１、論理回路５２，５４及びスイッチ
３０からなる積分停止手段と、前記積分手段における積
分の開始及び終了を制御する放電発生検出回路６、ロジ
ック回路６２、遅延回路７及びリセット回路９からなる
制御手段と、前記制御手段で制御された前記積分手段に
よる積分値Ｖint と基準値０（ゼロ）とを比較する比較
器１０からなる比較手段とを具備する実施の形態とする
ことができる。
放電状態検出装置は、電極２と被加工物３との加工間隙
における放電電圧または放電電流に重畳する高周波成分
を検出するハイパスフィルタ４からなる高周波成分検出
手段と、前記高周波成分検出手段で検出された前記高周
波成分を整流した整流分ｖrec を出力する整流回路５か
らなる整流手段と、基準電圧ｖref を出力する基準電圧
出力回路４０からなる基準電圧出力手段と、前記整流手
段から出力された整流分ｖrec と前記基準電圧出力手段
から出力された基準電圧ｖref との差分を出力する差分
回路３５からなる差分出力手段と、前記差分出力手段か
ら出力された差分を時間積分する積分回路８からなる積
分手段と、加工電源１の電流制御のための内部スイッチ
ング素子のオン時及びオフ時に基づき所定時間ｍ1 ，ｍ
2 だけ前記積分手段における積分を停止するマスク時限
出力回路５０，５１、論理回路５２，５４及びスイッチ
３０からなる積分停止手段と、前記積分手段における積
分の開始及び終了を制御する放電発生検出回路６、ロジ
ック回路６２、遅延回路７及びリセット回路９からなる
制御手段と、前記制御手段で制御された前記積分手段に
よる積分値Ｖint と基準値０（ゼロ）とを比較する比較
器１０からなる比較手段とを具備する実施の形態とする
ことができる。
【００４８】したがって、ハイパスフィルタ４では電極
２と被加工物３との加工間隙における放電電圧または放
電電流に重畳する高周波成分が検出される。この高周波
成分が整流回路５で整流され出力される整流分ｖrec と
基準電圧出力回路４０から出力される基準電圧ｖref と
の差分が積分回路８にて時間積分される。マスク時限出
力回路５０，５１、論理回路５２，５４及びスイッチ３
０では加工電源１の電流制御のための内部スイッチング
素子のオン時及びオフ時に基づき所定時間ｍ1，ｍ2 だ
け積分回路８における積分が停止される。ここで、放電
発生検出回路６、ロジック回路６２、遅延回路７及びリ
セット回路９にて積分回路８の積分の開始及び終了が制
御される。そして、比較器１０により積分回路８による
積分値Ｖint と基準値０とが比較される。
２と被加工物３との加工間隙における放電電圧または放
電電流に重畳する高周波成分が検出される。この高周波
成分が整流回路５で整流され出力される整流分ｖrec と
基準電圧出力回路４０から出力される基準電圧ｖref と
の差分が積分回路８にて時間積分される。マスク時限出
力回路５０，５１、論理回路５２，５４及びスイッチ３
０では加工電源１の電流制御のための内部スイッチング
素子のオン時及びオフ時に基づき所定時間ｍ1，ｍ2 だ
け積分回路８における積分が停止される。ここで、放電
発生検出回路６、ロジック回路６２、遅延回路７及びリ
セット回路９にて積分回路８の積分の開始及び終了が制
御される。そして、比較器１０により積分回路８による
積分値Ｖint と基準値０とが比較される。
【００４９】故に、高周波成分の整流分ｖrec と基準電
圧ｖref との差分が時間積分されることで、積分回路８
及び所定時間ｍ1 ，ｍ2 だけ積分を停止するスイッチ３
０の個数が削減され、回路構成の簡略化が可能である。
圧ｖref との差分が時間積分されることで、積分回路８
及び所定時間ｍ1 ，ｍ2 だけ積分を停止するスイッチ３
０の個数が削減され、回路構成の簡略化が可能である。
【００５０】実施の形態４．図６は本発明の第四の実施
の形態にかかる放電加工機の放電状態検出装置の構成を
示す回路図である。なお、図６は第二の実施の形態の図
２にマスク時限変更回路５６を追加したもので、その
他、上述の実施の形態と同様の構成または相当部分から
なるものについては同一符号または同一記号を付してそ
の詳細な説明を省略する。また、比較回路１０からの出
力信号に基づくフィードバック制御における回路構成に
ついては上述の実施の形態と同様であり省略する。図６
において、図４のＢのスパイク電圧２４の時間幅ｂ1 ，
ｂ2 は加工電流値に依存することが知られている。加工
電流値を取込んだマスク時限変更回路５６は出力信号５
７，５８を出力する。これら出力信号５７，５８はそれ
ぞれマスク時限出力回路５０，５１に入力される。例え
ば、加工電流値が大きいときには、マスク時限変更回路
５６からの出力信号５７でマスク時限出力回路５０のマ
スク時間幅ｍ1 が大きくされる。一方、加工電流値が小
さいときには、マスク時限変更回路５６からの出力信号
５８でマスク時限出力回路５１のマスク時間幅ｍ2 が小
さくされる。
の形態にかかる放電加工機の放電状態検出装置の構成を
示す回路図である。なお、図６は第二の実施の形態の図
２にマスク時限変更回路５６を追加したもので、その
他、上述の実施の形態と同様の構成または相当部分から
なるものについては同一符号または同一記号を付してそ
の詳細な説明を省略する。また、比較回路１０からの出
力信号に基づくフィードバック制御における回路構成に
ついては上述の実施の形態と同様であり省略する。図６
において、図４のＢのスパイク電圧２４の時間幅ｂ1 ，
ｂ2 は加工電流値に依存することが知られている。加工
電流値を取込んだマスク時限変更回路５６は出力信号５
７，５８を出力する。これら出力信号５７，５８はそれ
ぞれマスク時限出力回路５０，５１に入力される。例え
ば、加工電流値が大きいときには、マスク時限変更回路
５６からの出力信号５７でマスク時限出力回路５０のマ
スク時間幅ｍ1 が大きくされる。一方、加工電流値が小
さいときには、マスク時限変更回路５６からの出力信号
５８でマスク時限出力回路５１のマスク時間幅ｍ2 が小
さくされる。
【００５１】次に、マスク時限変更回路５６及びマスク
時限出力回路５０，５１について図７及び図８を参照し
て詳述する。なお、図７はマスク時限出力回路による加
工電流値及びマスク時間幅に対応する時間幅変更信号を
示すデータテーブル、図８はマスク時限出力回路の構成
を示す回路図である。マスク時限変更回路５６からは、
図７に示すようなデータテーブルを用い、そのときの加
工電流値に対応するマスク時間幅ｍ1,ｍ2 により図６に
示す出力信号５７，５８としての時間幅変更信号ａ1,ａ
2 が出力される。例えば、加工電流値１〜２０（Ａ）に
対応して時間幅変更信号ａ1 が出力され、加工電流値２
１〜８０（Ａ）に対応して時間幅変更信号ａ2 が出力さ
れる。
時限出力回路５０，５１について図７及び図８を参照し
て詳述する。なお、図７はマスク時限出力回路による加
工電流値及びマスク時間幅に対応する時間幅変更信号を
示すデータテーブル、図８はマスク時限出力回路の構成
を示す回路図である。マスク時限変更回路５６からは、
図７に示すようなデータテーブルを用い、そのときの加
工電流値に対応するマスク時間幅ｍ1,ｍ2 により図６に
示す出力信号５７，５８としての時間幅変更信号ａ1,ａ
2 が出力される。例えば、加工電流値１〜２０（Ａ）に
対応して時間幅変更信号ａ1 が出力され、加工電流値２
１〜８０（Ａ）に対応して時間幅変更信号ａ2 が出力さ
れる。
【００５２】これら時間変更信号ａ1,ａ2 は、図８に示
すように、マスク時限出力回路５０，５１に出力され
る。マスク時限出力回路５０はワンショットマルチバイ
ブレータ５００，５０１、マスク時限出力回路５１はワ
ンショットマルチバイブレータ５１０，５１１からそれ
ぞれ構成される。ワンショットマルチバイブレータ５０
０からは抵抗Ｒ500 及びコンデンサＣ500 にて回路定数
であるマスク時間幅ｍ1として２μsec が設定され、信
号Ｓ1 のオン立上がり時にマスク時間幅２μsecが出力
され、ワンショットマルチバイブレータ５０１からは抵
抗Ｒ501 及びコンデンサＣ501 にて回路定数であるマス
ク時間幅ｍ1 として８μsec が設定され、信号Ｓ1 のオ
ン立上がり時にマスク時間幅８μsec が出力される。ま
た、ワンショットマルチバイブレータ５１０からは抵抗
Ｒ510 及びコンデンサＣ510 にて回路定数であるマスク
時間幅ｍ2 として４μsec が設定され、信号Ｓ1 のオフ
立下がり時にマスク時間幅４μsec が出力され、ワンシ
ョットマルチバイブレータ５１１からは抵抗Ｒ511 及び
コンデンサＣ511 にて回路定数であるマスク時間幅ｍ2
として１０μsec が設定され、信号Ｓ1 のオフ立下がり
時にマスク時間幅１０μsec が出力される。
すように、マスク時限出力回路５０，５１に出力され
る。マスク時限出力回路５０はワンショットマルチバイ
ブレータ５００，５０１、マスク時限出力回路５１はワ
ンショットマルチバイブレータ５１０，５１１からそれ
ぞれ構成される。ワンショットマルチバイブレータ５０
０からは抵抗Ｒ500 及びコンデンサＣ500 にて回路定数
であるマスク時間幅ｍ1として２μsec が設定され、信
号Ｓ1 のオン立上がり時にマスク時間幅２μsecが出力
され、ワンショットマルチバイブレータ５０１からは抵
抗Ｒ501 及びコンデンサＣ501 にて回路定数であるマス
ク時間幅ｍ1 として８μsec が設定され、信号Ｓ1 のオ
ン立上がり時にマスク時間幅８μsec が出力される。ま
た、ワンショットマルチバイブレータ５１０からは抵抗
Ｒ510 及びコンデンサＣ510 にて回路定数であるマスク
時間幅ｍ2 として４μsec が設定され、信号Ｓ1 のオフ
立下がり時にマスク時間幅４μsec が出力され、ワンシ
ョットマルチバイブレータ５１１からは抵抗Ｒ511 及び
コンデンサＣ511 にて回路定数であるマスク時間幅ｍ2
として１０μsec が設定され、信号Ｓ1 のオフ立下がり
時にマスク時間幅１０μsec が出力される。
【００５３】このように、本実施の形態の放電加工機の
放電状態検出装置は、電極２と被加工物３との加工間隙
における放電電圧または放電電流に重畳する高周波成分
を検出するハイパスフィルタ４からなる高周波成分検出
手段と、前記高周波成分検出手段で検出された前記高周
波成分を整流した整流分ｖrec を出力する整流回路５か
らなる整流手段と、前記整流手段から出力された整流分
ｖrec の大きさを時間積分する積分回路８からなる第１
の積分手段と、基準電圧ｖref を出力する基準電圧出力
回路４０からなる基準電圧出力手段と、前記基準電圧出
力手段から出力された基準電圧ｖref の大きさを時間積
分する積分回路８Ｂからなる第２の積分手段と、加工電
源１の電流制御のための内部スイッチング素子のオン時
及びオフ時に基づき所定時間ｍ1 ，ｍ2 だけ前記第１の
積分手段及び前記第２の積分手段における積分を停止す
るマスク時限出力回路５０，５１、論理回路５２，５
４、スイッチ３０，３０Ｂからなる積分停止手段と、前
記積分停止手段で積分を停止する所定時間ｍ1 ，ｍ2 の
長さを加工電流値の大きさに応じて変更するマスク時限
変更回路５６からなる時間変更手段と、前記第１の積分
手段及び前記第２の積分手段における積分の開始及び終
了を制御する放電発生検出回路６、ロジック回路６２、
遅延回路７及びリセット回路９，９Ｂからなる制御手段
と、前記制御手段で制御された前記第１の積分手段によ
る積分値Ｖint と前記第２の積分手段による積分値Ｖin
tBとを比較する比較器１０からなる比較手段とを具備す
る実施の形態とすることができる。
放電状態検出装置は、電極２と被加工物３との加工間隙
における放電電圧または放電電流に重畳する高周波成分
を検出するハイパスフィルタ４からなる高周波成分検出
手段と、前記高周波成分検出手段で検出された前記高周
波成分を整流した整流分ｖrec を出力する整流回路５か
らなる整流手段と、前記整流手段から出力された整流分
ｖrec の大きさを時間積分する積分回路８からなる第１
の積分手段と、基準電圧ｖref を出力する基準電圧出力
回路４０からなる基準電圧出力手段と、前記基準電圧出
力手段から出力された基準電圧ｖref の大きさを時間積
分する積分回路８Ｂからなる第２の積分手段と、加工電
源１の電流制御のための内部スイッチング素子のオン時
及びオフ時に基づき所定時間ｍ1 ，ｍ2 だけ前記第１の
積分手段及び前記第２の積分手段における積分を停止す
るマスク時限出力回路５０，５１、論理回路５２，５
４、スイッチ３０，３０Ｂからなる積分停止手段と、前
記積分停止手段で積分を停止する所定時間ｍ1 ，ｍ2 の
長さを加工電流値の大きさに応じて変更するマスク時限
変更回路５６からなる時間変更手段と、前記第１の積分
手段及び前記第２の積分手段における積分の開始及び終
了を制御する放電発生検出回路６、ロジック回路６２、
遅延回路７及びリセット回路９，９Ｂからなる制御手段
と、前記制御手段で制御された前記第１の積分手段によ
る積分値Ｖint と前記第２の積分手段による積分値Ｖin
tBとを比較する比較器１０からなる比較手段とを具備す
る実施の形態とすることができる。
【００５４】したがって、ハイパスフィルタ４では電極
２と被加工物３との加工間隙における放電電圧または放
電電流に重畳する高周波成分が検出される。この高周波
成分が整流回路５で整流され出力される整流分ｖrec の
大きさが積分回路８で時間積分される。また、積分回路
８Ｂで基準電圧出力回路４０から出力される基準電圧ｖ
ref の大きさが時間積分される。マスク時限出力回路５
０，５１、論理回路５２，５４及びスイッチ３０，３０
Ｂでは加工電源１の電流制御のための内部スイッチング
素子のオン時及びオフ時に基づき所定時間ｍ1 ，ｍ2 だ
け積分回路８及び積分回路８Ｂにおける積分が停止され
る。マスク時限変更回路５６ではマスク時限出力回路５
０，５１、論理回路５２，５４及びスイッチ３０，３０
Ｂで積分が停止される所定時間ｍ1 ，ｍ2 の長さが加工
電流値の大きさに応じて変更される。ここで、放電発生
検出回路６、ロジック回路６２、遅延回路７及びリセッ
ト回路９，９Ｂにて積分回路８及び積分回路８Ｂにおけ
る積分の開始及び終了が制御される。そして、比較器１
０により積分回路８による積分値Ｖint と積分回路８Ｂ
による積分値ＶintBとが比較される。
２と被加工物３との加工間隙における放電電圧または放
電電流に重畳する高周波成分が検出される。この高周波
成分が整流回路５で整流され出力される整流分ｖrec の
大きさが積分回路８で時間積分される。また、積分回路
８Ｂで基準電圧出力回路４０から出力される基準電圧ｖ
ref の大きさが時間積分される。マスク時限出力回路５
０，５１、論理回路５２，５４及びスイッチ３０，３０
Ｂでは加工電源１の電流制御のための内部スイッチング
素子のオン時及びオフ時に基づき所定時間ｍ1 ，ｍ2 だ
け積分回路８及び積分回路８Ｂにおける積分が停止され
る。マスク時限変更回路５６ではマスク時限出力回路５
０，５１、論理回路５２，５４及びスイッチ３０，３０
Ｂで積分が停止される所定時間ｍ1 ，ｍ2 の長さが加工
電流値の大きさに応じて変更される。ここで、放電発生
検出回路６、ロジック回路６２、遅延回路７及びリセッ
ト回路９，９Ｂにて積分回路８及び積分回路８Ｂにおけ
る積分の開始及び終了が制御される。そして、比較器１
０により積分回路８による積分値Ｖint と積分回路８Ｂ
による積分値ＶintBとが比較される。
【００５５】故に、加工電流の大きさに応じてマスク時
間幅である所定時間ｍ1 ，ｍ2 の長さを変更すること
で、外乱の影響を確実に排除でき正確に放電状態を検出
することができる。
間幅である所定時間ｍ1 ，ｍ2 の長さを変更すること
で、外乱の影響を確実に排除でき正確に放電状態を検出
することができる。
【００５６】実施の形態５．図９は本発明の第五の実施
の形態にかかる放電加工機の放電状態検出装置の構成を
示す回路図であり、図１０は図９の要部における入出力
信号波形を示すタイムチャートである。なお、上述の実
施の形態と同様の構成または相当部分からなるものにつ
いては同一符号または同一記号を付してその詳細な説明
を省略する。また、比較回路１０からの出力信号に基づ
くフィードバック制御における回路構成については上述
の実施の形態と同様であり省略する。従来装置では、図
１０のＡに示すような、電極２と被加工物３との加工間
隙の放電電圧波形における放電パルス幅Ｔonが小さいと
きには、放電パルス１個当りの積分期間が当然のことな
がら短くなるため高周波成分の積分出力も小さくなり、
高周波成分の検出に際して充分精度の高い検出が困難に
なる。そこで、本実施の形態の放電加工機の放電状態検
出装置を図９に示すような構成とする。３０は整流回路
５と積分回路８とを切離すスイッチ、３０Ｂは基準電圧
出力回路４０と積分回路８Ｂとを切離すスイッチ、７５
はロジック回路７２からの出力信号７３の出力信号波形
である図１０のＩのパルス数をカウントするカウンタで
あり、カウンタ７５からの出力信号はリセット回路９，
９Ｂに入力される。そして、例えば、図１０のカウンタ
７５からの出力信号７６に示すようにロジック回路７２
からの出力信号７３のパルス数を４個カウントすると出
力信号７６がＨレベルとなる。ロジック回路７２からの
出力信号７３がＨレベルの期間中、スイッチ３０，３０
Ｂはオフとされ、積分回路８，８Ｂは整流回路５、基準
電圧出力回路４０から切離されるため積分回路８，８Ｂ
の積分動作は停止し、その積分出力値は保持される。カ
ウンタ７５が放電パルス４個分のロジック回路７２から
の出力信号７３をカウントし、カウンタ７５からの出力
信号７６がＨレベルになるとリセット回路９，９Ｂが積
分回路８，８Ｂの積分出力値をリセットする。即ち、図
９及び図１０では、放電パルス４個分の高周波成分を時
間積分し、比較器１０は放電パルス４個目のパルスの終
了時点で積分出力Ｖint と基準電圧出力回路４０からの
基準電圧ｖref を同じ時間だけ積分回路８Ｂで積分した
積分出力ＶintBとを比較する。このような構成によれ
ば、図１１の従来装置にスイッチ３０，３０Ｂ、カウン
タ７５及び積分回路８Ｂを追加するだけでよい。
の形態にかかる放電加工機の放電状態検出装置の構成を
示す回路図であり、図１０は図９の要部における入出力
信号波形を示すタイムチャートである。なお、上述の実
施の形態と同様の構成または相当部分からなるものにつ
いては同一符号または同一記号を付してその詳細な説明
を省略する。また、比較回路１０からの出力信号に基づ
くフィードバック制御における回路構成については上述
の実施の形態と同様であり省略する。従来装置では、図
１０のＡに示すような、電極２と被加工物３との加工間
隙の放電電圧波形における放電パルス幅Ｔonが小さいと
きには、放電パルス１個当りの積分期間が当然のことな
がら短くなるため高周波成分の積分出力も小さくなり、
高周波成分の検出に際して充分精度の高い検出が困難に
なる。そこで、本実施の形態の放電加工機の放電状態検
出装置を図９に示すような構成とする。３０は整流回路
５と積分回路８とを切離すスイッチ、３０Ｂは基準電圧
出力回路４０と積分回路８Ｂとを切離すスイッチ、７５
はロジック回路７２からの出力信号７３の出力信号波形
である図１０のＩのパルス数をカウントするカウンタで
あり、カウンタ７５からの出力信号はリセット回路９，
９Ｂに入力される。そして、例えば、図１０のカウンタ
７５からの出力信号７６に示すようにロジック回路７２
からの出力信号７３のパルス数を４個カウントすると出
力信号７６がＨレベルとなる。ロジック回路７２からの
出力信号７３がＨレベルの期間中、スイッチ３０，３０
Ｂはオフとされ、積分回路８，８Ｂは整流回路５、基準
電圧出力回路４０から切離されるため積分回路８，８Ｂ
の積分動作は停止し、その積分出力値は保持される。カ
ウンタ７５が放電パルス４個分のロジック回路７２から
の出力信号７３をカウントし、カウンタ７５からの出力
信号７６がＨレベルになるとリセット回路９，９Ｂが積
分回路８，８Ｂの積分出力値をリセットする。即ち、図
９及び図１０では、放電パルス４個分の高周波成分を時
間積分し、比較器１０は放電パルス４個目のパルスの終
了時点で積分出力Ｖint と基準電圧出力回路４０からの
基準電圧ｖref を同じ時間だけ積分回路８Ｂで積分した
積分出力ＶintBとを比較する。このような構成によれ
ば、図１１の従来装置にスイッチ３０，３０Ｂ、カウン
タ７５及び積分回路８Ｂを追加するだけでよい。
【００５７】このように、本実施の形態の放電加工機の
放電状態検出装置は、電極２と被加工物３との加工間隙
における放電電圧または放電電流に重畳する高周波成分
を検出するハイパスフィルタ４からなる高周波成分検出
手段と、前記高周波成分検出手段で検出された前記高周
波成分を整流した整流分ｖrec を出力する整流回路５か
らなる整流手段と、連続する複数の放電パルス数をカウ
ントするカウンタ７５からなるカウント手段と、前記整
流手段から出力された整流分ｖrec の大きさを時間積分
し、前記カウント手段でカウントされた放電パルス数だ
け加算する積分回路８からなる第１の積分手段と、基準
電圧ｖref を出力する基準電圧出力回路４０からなる基
準電圧出力手段と、前記基準電圧出力手段から出力され
た基準電圧ｖref の大きさを時間積分し、前記カウント
手段でカウントされた放電パルス数だけ加算する積分回
路８Ｂからなる第２の積分手段と、前記第１の積分手段
及び前記第２の積分手段における積分の開始及び終了を
制御する放電発生検出回路６、ロジック回路６２、遅延
回路７及びリセット回路９，９Ｂからなる制御手段と、
前記制御手段で制御された前記第１の積分手段による積
分値Ｖint と前記第２の積分手段による積分値ＶintBと
を比較する比較器１０からなる比較手段とを具備する実
施の形態とすることができる。
放電状態検出装置は、電極２と被加工物３との加工間隙
における放電電圧または放電電流に重畳する高周波成分
を検出するハイパスフィルタ４からなる高周波成分検出
手段と、前記高周波成分検出手段で検出された前記高周
波成分を整流した整流分ｖrec を出力する整流回路５か
らなる整流手段と、連続する複数の放電パルス数をカウ
ントするカウンタ７５からなるカウント手段と、前記整
流手段から出力された整流分ｖrec の大きさを時間積分
し、前記カウント手段でカウントされた放電パルス数だ
け加算する積分回路８からなる第１の積分手段と、基準
電圧ｖref を出力する基準電圧出力回路４０からなる基
準電圧出力手段と、前記基準電圧出力手段から出力され
た基準電圧ｖref の大きさを時間積分し、前記カウント
手段でカウントされた放電パルス数だけ加算する積分回
路８Ｂからなる第２の積分手段と、前記第１の積分手段
及び前記第２の積分手段における積分の開始及び終了を
制御する放電発生検出回路６、ロジック回路６２、遅延
回路７及びリセット回路９，９Ｂからなる制御手段と、
前記制御手段で制御された前記第１の積分手段による積
分値Ｖint と前記第２の積分手段による積分値ＶintBと
を比較する比較器１０からなる比較手段とを具備する実
施の形態とすることができる。
【００５８】したがって、ハイパスフィルタ４では電極
２と被加工物３との加工間隙における放電電圧または放
電電流に重畳する高周波成分が検出される。この高周波
成分が整流回路５で整流され出力される整流分ｖrec の
大きさが積分回路８で時間積分され、カウンタ７５でカ
ウントされた連続する複数の放電パルス数だけ加算され
る。また、基準電圧出力回路４０から出力される基準電
圧ｖref の大きさが積分回路８Ｂで時間積分され、カウ
ンタ７５でカウントされた連続する複数の放電パルス数
だけ加算される。ここで、放電発生検出回路６、ロジッ
ク回路６２、遅延回路７及びリセット回路９，９Ｂにて
積分回路８及び積分回路８Ｂにおける積分の開始及び終
了が制御される。そして、比較器１０により積分回路８
による積分値Ｖint と積分回路８Ｂによる積分値ＶintB
とが比較される。
２と被加工物３との加工間隙における放電電圧または放
電電流に重畳する高周波成分が検出される。この高周波
成分が整流回路５で整流され出力される整流分ｖrec の
大きさが積分回路８で時間積分され、カウンタ７５でカ
ウントされた連続する複数の放電パルス数だけ加算され
る。また、基準電圧出力回路４０から出力される基準電
圧ｖref の大きさが積分回路８Ｂで時間積分され、カウ
ンタ７５でカウントされた連続する複数の放電パルス数
だけ加算される。ここで、放電発生検出回路６、ロジッ
ク回路６２、遅延回路７及びリセット回路９，９Ｂにて
積分回路８及び積分回路８Ｂにおける積分の開始及び終
了が制御される。そして、比較器１０により積分回路８
による積分値Ｖint と積分回路８Ｂによる積分値ＶintB
とが比較される。
【００５９】故に、連続する複数の放電パルスの高周波
成分を時間積分することで、放電パルス幅Ｔonが小さい
ときにも正確に放電状態を検出することができる。
成分を時間積分することで、放電パルス幅Ｔonが小さい
ときにも正確に放電状態を検出することができる。
【００６０】ところで、上記各実施の形態の高周波成分
検出手段は、ハイパスフィルタとしたが、本発明を実施
する場合には、これに限定されるものではなく、電極と
被加工物との加工間隙における放電電圧または放電電流
に重畳する高周波成分を検出するものであればよい。例
えば、高周波成分を検出するためのハイパス（高域通
過）特性を持たせると共に、それより更に高周波の領域
をカットした帯域通過フィルタ（バンドパスフィルタ）
を用いても同様の効果が得られる。
検出手段は、ハイパスフィルタとしたが、本発明を実施
する場合には、これに限定されるものではなく、電極と
被加工物との加工間隙における放電電圧または放電電流
に重畳する高周波成分を検出するものであればよい。例
えば、高周波成分を検出するためのハイパス（高域通
過）特性を持たせると共に、それより更に高周波の領域
をカットした帯域通過フィルタ（バンドパスフィルタ）
を用いても同様の効果が得られる。
【００６１】また、上記各実施の形態では放電電圧波形
の高周波成分の検出について述べたが、放電電流波形や
加工間隙のインピーダンス波形の高周波成分に関しても
適用できることは明らかである。
の高周波成分の検出について述べたが、放電電流波形や
加工間隙のインピーダンス波形の高周波成分に関しても
適用できることは明らかである。
【００６２】更に、上記各実施の形態では、ハードウエ
ア構成の実施の形態で説明したが、ソフトウエア構成で
も実施できることは勿論である。
ア構成の実施の形態で説明したが、ソフトウエア構成で
も実施できることは勿論である。
【００６３】更にまた、上記各実施の形態では放電加工
機として形彫放電加工機を一例としているが、本発明を
実施する場合には、これに限定されるものではなく、ワ
イヤカット放電加工機にも適用できることは明らかであ
る。
機として形彫放電加工機を一例としているが、本発明を
実施する場合には、これに限定されるものではなく、ワ
イヤカット放電加工機にも適用できることは明らかであ
る。
【００６４】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１の放電加
工機の放電状態検出装置によれば、高周波成分検出手段
では電極と被加工物との加工間隙における放電電圧また
は放電電流に重畳する高周波成分が検出され、この高周
波成分の大きさが第１の積分手段で時間積分され、第２
の積分手段で基準電圧出力手段から出力された基準電圧
の大きさが時間積分され、制御手段にて第１の積分手段
及び第２の積分手段における積分の開始及び終了が制御
され、比較手段により第１の積分手段による積分値と第
２の積分手段による積分値とが比較される。これによ
り、放電加工機の放電状態が正常放電パルスかアーク放
電パルス等の異常放電パルスかを判定するための比較値
として、基準電圧が同じ時間だけ積分され、その積分値
が採用されることで、きめ細かな基準値設定を行うこと
ができる。
工機の放電状態検出装置によれば、高周波成分検出手段
では電極と被加工物との加工間隙における放電電圧また
は放電電流に重畳する高周波成分が検出され、この高周
波成分の大きさが第１の積分手段で時間積分され、第２
の積分手段で基準電圧出力手段から出力された基準電圧
の大きさが時間積分され、制御手段にて第１の積分手段
及び第２の積分手段における積分の開始及び終了が制御
され、比較手段により第１の積分手段による積分値と第
２の積分手段による積分値とが比較される。これによ
り、放電加工機の放電状態が正常放電パルスかアーク放
電パルス等の異常放電パルスかを判定するための比較値
として、基準電圧が同じ時間だけ積分され、その積分値
が採用されることで、きめ細かな基準値設定を行うこと
ができる。
【００６５】請求項２の放電加工機の放電状態検出装置
によれば、請求項１の第１の積分手段で時間積分される
高周波成分の大きさが高周波成分を整流した整流分の大
きさとされる。このように、高周波成分を整流した整流
分の大きさが時間積分されたときの積分値は変動量を小
さくできる。このため、正常放電パルスかアーク放電パ
ルス等の異常放電パルスかの判定を正確に行うことがで
きる。
によれば、請求項１の第１の積分手段で時間積分される
高周波成分の大きさが高周波成分を整流した整流分の大
きさとされる。このように、高周波成分を整流した整流
分の大きさが時間積分されたときの積分値は変動量を小
さくできる。このため、正常放電パルスかアーク放電パ
ルス等の異常放電パルスかの判定を正確に行うことがで
きる。
【００６６】請求項３の放電加工機の放電状態検出装置
によれば、高周波成分検出手段では電極と被加工物との
加工間隙における放電電圧または放電電流に重畳する高
周波成分が検出され、この高周波成分が整流手段で整流
され出力された整流分の大きさが第１の積分手段で時間
積分され、第２の積分手段で基準電圧出力手段から出力
された基準電圧の大きさが時間積分され、積分停止手段
では加工電源の電流制御のための内部スイッチング素子
の動作に基づき所定時間だけ第１の積分手段及び第２の
積分手段における積分が停止され、制御手段にて第１の
積分手段及び第２の積分手段における積分の開始及び終
了が制御され、比較手段により第１の積分手段による積
分値と第２の積分手段による積分値とが比較される。こ
れにより、加工電源の電流制御のための内部スイッチン
グ素子の動作に同期して所定時間だけ積分動作が停止さ
れることで、外乱の影響を排除でき正確に放電状態を検
出することができる。
によれば、高周波成分検出手段では電極と被加工物との
加工間隙における放電電圧または放電電流に重畳する高
周波成分が検出され、この高周波成分が整流手段で整流
され出力された整流分の大きさが第１の積分手段で時間
積分され、第２の積分手段で基準電圧出力手段から出力
された基準電圧の大きさが時間積分され、積分停止手段
では加工電源の電流制御のための内部スイッチング素子
の動作に基づき所定時間だけ第１の積分手段及び第２の
積分手段における積分が停止され、制御手段にて第１の
積分手段及び第２の積分手段における積分の開始及び終
了が制御され、比較手段により第１の積分手段による積
分値と第２の積分手段による積分値とが比較される。こ
れにより、加工電源の電流制御のための内部スイッチン
グ素子の動作に同期して所定時間だけ積分動作が停止さ
れることで、外乱の影響を排除でき正確に放電状態を検
出することができる。
【００６７】請求項４の放電加工機の放電状態検出装置
によれば、高周波成分検出手段では電極と被加工物との
加工間隙における放電電圧または放電電流に重畳する高
周波成分が検出され、この高周波成分が整流手段で整流
され出力された整流分と基準電圧出力手段から出力され
た基準電圧との差分が積分手段にて時間積分され、積分
停止手段では加工電源の電流制御のための内部スイッチ
ング素子の動作に基づき所定時間だけ積分手段における
積分が停止され、制御手段にて第１の積分手段及び第２
の積分手段における積分の開始及び終了が制御され、比
較手段により積分手段による積分値と基準値０とが比較
される。これにより、高周波成分の整流分と基準電圧と
の差分が時間積分され基準値と比較されることで、積分
手段及び所定時間だけ積分を停止する積分停止手段の個
数を削減でき、回路構成を簡略化することができる。
によれば、高周波成分検出手段では電極と被加工物との
加工間隙における放電電圧または放電電流に重畳する高
周波成分が検出され、この高周波成分が整流手段で整流
され出力された整流分と基準電圧出力手段から出力され
た基準電圧との差分が積分手段にて時間積分され、積分
停止手段では加工電源の電流制御のための内部スイッチ
ング素子の動作に基づき所定時間だけ積分手段における
積分が停止され、制御手段にて第１の積分手段及び第２
の積分手段における積分の開始及び終了が制御され、比
較手段により積分手段による積分値と基準値０とが比較
される。これにより、高周波成分の整流分と基準電圧と
の差分が時間積分され基準値と比較されることで、積分
手段及び所定時間だけ積分を停止する積分停止手段の個
数を削減でき、回路構成を簡略化することができる。
【００６８】請求項５の放電加工機の放電状態検出装置
によれば、高周波成分検出手段では電極と被加工物との
加工間隙における放電電圧または放電電流に重畳する高
周波成分が検出され、この高周波成分が整流手段で整流
され出力された整流分の大きさが第１の積分手段で時間
積分され、第２の積分手段で基準電圧出力手段から出力
された基準電圧の大きさが時間積分され、積分停止手段
では加工電源の電流制御のための内部スイッチング素子
の動作に基づき所定時間だけ第１の積分手段及び第２の
積分手段における積分が停止され、時間変更手段では積
分停止手段で積分が停止される所定時間の長さが加工電
流値の大きさに応じて変更され、制御手段にて第１の積
分手段及び第２の積分手段における積分の開始及び終了
が制御され、比較手段により第１の積分手段による積分
値と第２の積分手段による積分値とが比較される。これ
により、加工電流の大きさに応じてマスク時間幅が変更
され、外乱の影響を確実に排除でき正確に放電状態を検
出することができる。
によれば、高周波成分検出手段では電極と被加工物との
加工間隙における放電電圧または放電電流に重畳する高
周波成分が検出され、この高周波成分が整流手段で整流
され出力された整流分の大きさが第１の積分手段で時間
積分され、第２の積分手段で基準電圧出力手段から出力
された基準電圧の大きさが時間積分され、積分停止手段
では加工電源の電流制御のための内部スイッチング素子
の動作に基づき所定時間だけ第１の積分手段及び第２の
積分手段における積分が停止され、時間変更手段では積
分停止手段で積分が停止される所定時間の長さが加工電
流値の大きさに応じて変更され、制御手段にて第１の積
分手段及び第２の積分手段における積分の開始及び終了
が制御され、比較手段により第１の積分手段による積分
値と第２の積分手段による積分値とが比較される。これ
により、加工電流の大きさに応じてマスク時間幅が変更
され、外乱の影響を確実に排除でき正確に放電状態を検
出することができる。
【００６９】請求項６の放電加工機の放電状態検出装置
によれば、高周波成分検出手段では電極と被加工物との
加工間隙における放電電圧または放電電流に重畳する高
周波成分が検出され、この高周波成分が整流手段で整流
され出力された整流分の大きさが第１の積分手段で時間
積分されカウント手段でカウントされた連続する複数の
放電パルス数だけ加算され、基準電圧出力手段から出力
された基準電圧の大きさが第２の積分手段で時間積分さ
れカウント手段でカウントされた連続する複数の放電パ
ルス数だけ加算され、制御手段にて第１の積分手段及び
第２の積分手段における積分の開始及び終了が制御さ
れ、比較手段により第１の積分手段による積分値と第２
の積分手段による積分値とが比較される。これにより、
連続する複数の放電パルスの高周波成分が時間積分さ
れ、放電パルス幅が小さいときにも正確に放電状態を検
出することができる。
によれば、高周波成分検出手段では電極と被加工物との
加工間隙における放電電圧または放電電流に重畳する高
周波成分が検出され、この高周波成分が整流手段で整流
され出力された整流分の大きさが第１の積分手段で時間
積分されカウント手段でカウントされた連続する複数の
放電パルス数だけ加算され、基準電圧出力手段から出力
された基準電圧の大きさが第２の積分手段で時間積分さ
れカウント手段でカウントされた連続する複数の放電パ
ルス数だけ加算され、制御手段にて第１の積分手段及び
第２の積分手段における積分の開始及び終了が制御さ
れ、比較手段により第１の積分手段による積分値と第２
の積分手段による積分値とが比較される。これにより、
連続する複数の放電パルスの高周波成分が時間積分さ
れ、放電パルス幅が小さいときにも正確に放電状態を検
出することができる。
【図１】 図１は本発明の第一の実施の形態にかかる放
電加工機の放電状態検出装置の構成を示す回路図であ
る。
電加工機の放電状態検出装置の構成を示す回路図であ
る。
【図２】 図２は本発明の第二の実施の形態にかかる放
電加工機の放電状態検出装置の構成を示す回路図であ
る。
電加工機の放電状態検出装置の構成を示す回路図であ
る。
【図３】 図３は本発明の第二の実施の形態にかかる放
電加工機の放電状態検出装置におけるマスク時限出力回
路の構成を示す回路図である。
電加工機の放電状態検出装置におけるマスク時限出力回
路の構成を示す回路図である。
【図４】 図４は図２の要部における入出力信号波形を
示すタイムチャートである。
示すタイムチャートである。
【図５】 図５は本発明の第三の実施の形態にかかる放
電加工機の放電状態検出装置の構成を示す回路図であ
る。
電加工機の放電状態検出装置の構成を示す回路図であ
る。
【図６】 図６は本発明の第四の実施の形態にかかる放
電加工機の放電状態検出装置の構成を示す回路図であ
る。
電加工機の放電状態検出装置の構成を示す回路図であ
る。
【図７】 図７は本発明の第四の実施の形態にかかる放
電加工機の放電状態検出装置におけるマスク時限変更回
路による時間幅変更信号を示すデータテーブルである。
電加工機の放電状態検出装置におけるマスク時限変更回
路による時間幅変更信号を示すデータテーブルである。
【図８】 図８は本発明の第四の実施の形態にかかる放
電加工機の放電状態検出装置におけるマスク時限出力回
路の構成を示す回路図である。
電加工機の放電状態検出装置におけるマスク時限出力回
路の構成を示す回路図である。
【図９】 図９は本発明の第五の実施の形態にかかる放
電加工機の放電状態検出装置の構成を示す回路図であ
る。
電加工機の放電状態検出装置の構成を示す回路図であ
る。
【図１０】 図１０は図９の要部における入出力信号波
形を示すタイムチャートである。
形を示すタイムチャートである。
【図１１】 図１１は従来の放電加工機の放電状態検出
装置の構成を示す回路図である。
装置の構成を示す回路図である。
【図１２】 図１２は図１１の要部における入出力信号
波形を示すタイムチャートである。
波形を示すタイムチャートである。
【図１３】 図１３は従来の放電加工機の放電状態検出
装置で同一加工電流値を選択した場合の放電電圧波形と
積分出力値との関係を示すタイムチャートである。
装置で同一加工電流値を選択した場合の放電電圧波形と
積分出力値との関係を示すタイムチャートである。
【図１４】 図１４は従来の放電加工機の放電状態検出
装置のパルス幅Ｔonと基準電圧Ｖref との関係を示すデ
ータテーブルである。
装置のパルス幅Ｔonと基準電圧Ｖref との関係を示すデ
ータテーブルである。
【図１５】 図１５は従来の放電加工機の放電状態検出
装置の加工電源の詳細を示す回路図である。
装置の加工電源の詳細を示す回路図である。
【図１６】 図１６は図１５の要部における入出力信号
波形を示すタイムチャートである。
波形を示すタイムチャートである。
【図１７】 図１７は図１１の放電加工機の放電状態検
出装置でリアクトル方式電源を使用したときの要部の入
出力信号波形を示すタイムチャートである。
出装置でリアクトル方式電源を使用したときの要部の入
出力信号波形を示すタイムチャートである。
１ 加工電源、２ 電極、３ 被加工物、４ ハイパス
フィルタ、５ 整流回路、６ 放電発生検出回路、７
遅延回路、８，８Ｂ 積分回路、９，９Ｂ リセット回
路、１０ 比較器、３０，３０Ｂ スイッチ、３５ 差
分回路、４０基準電圧出力回路、５０，５１ マスク時
限出力回路、５２，５４，６２，７２ロジック回路、５
６ マスク時限変更回路、６０ 放電電圧検出回路、６
１放電電流検出回路、７０ 時定数回路、７５ カウン
タ。
フィルタ、５ 整流回路、６ 放電発生検出回路、７
遅延回路、８，８Ｂ 積分回路、９，９Ｂ リセット回
路、１０ 比較器、３０，３０Ｂ スイッチ、３５ 差
分回路、４０基準電圧出力回路、５０，５１ マスク時
限出力回路、５２，５４，６２，７２ロジック回路、５
６ マスク時限変更回路、６０ 放電電圧検出回路、６
１放電電流検出回路、７０ 時定数回路、７５ カウン
タ。
Claims (6)
- 【請求項１】 電極と被加工物との加工間隙における放
電電圧または放電電流に重畳する高周波成分を検出する
高周波成分検出手段と、 前記高周波成分検出手段で検出された前記高周波成分の
大きさを時間積分する第１の積分手段と、 基準電圧を出力する基準電圧出力手段と、 前記基準電圧出力手段から出力された前記基準電圧の大
きさを時間積分する第２の積分手段と、 前記第１の積分手段及び前記第２の積分手段における積
分の開始及び終了を制御する制御手段と、 前記制御手段で制御された前記第１の積分手段による積
分値と前記第２の積分手段による積分値とを比較する比
較手段とを具備することを特徴とする放電加工機の放電
状態検出装置。 - 【請求項２】 前記第１の積分手段は、 時間積分する前記高周波成分の大きさを前記高周波成分
を整流した整流分の大きさとすることを特徴とする請求
項１に記載の放電加工機の放電状態検出装置。 - 【請求項３】 電極と被加工物との加工間隙における放
電電圧または放電電流に重畳する高周波成分を検出する
高周波成分検出手段と、 前記高周波成分検出手段で検出された前記高周波成分を
整流した整流分を出力する整流手段と、 前記整流手段から出力された前記整流分の大きさを時間
積分する第１の積分手段と、 基準電圧を出力する基準電圧出力手段と、 前記基準電圧出力手段から出力された前記基準電圧の大
きさを時間積分する第２の積分手段と、 加工電源の電流制御のための内部スイッチング素子の動
作に基づき所定時間だけ前記第１の積分手段及び前記第
２の積分手段における積分を停止する積分停止手段と、 前記第１の積分手段及び前記第２の積分手段における積
分の開始及び終了を制御する制御手段と、 前記制御手段で制御された前記第１の積分手段による積
分値と前記第２の積分手段による積分値とを比較する比
較手段とを具備することを特徴とする放電加工機の放電
状態検出装置。 - 【請求項４】 電極と被加工物との加工間隙における放
電電圧または放電電流に重畳する高周波成分を検出する
高周波成分検出手段と、 前記高周波成分検出手段で検出された前記高周波成分を
整流した整流分を出力する整流手段と、 基準電圧を出力する基準電圧出力手段と、 前記整流手段から出力された前記整流分と前記基準電圧
出力手段から出力された前記基準電圧との差分を出力す
る差分出力手段と、 前記差分出力手段から出力された前記差分を時間積分す
る積分手段と、 加工電源の電流制御のための内部スイッチング素子の動
作に基づき所定時間だけ前記積分手段における積分を停
止する積分停止手段と、 前記積分手段における積分の開始及び終了を制御する制
御手段と、 前記制御手段で制御された前記積分手段による積分値と
所定の基準値とを比較する比較手段とを具備することを
特徴とする放電加工機の放電状態検出装置。 - 【請求項５】 電極と被加工物との加工間隙における放
電電圧または放電電流に重畳する高周波成分を検出する
高周波成分検出手段と、 前記高周波成分検出手段で検出された前記高周波成分を
整流した整流分を出力する整流手段と、 前記整流手段から出力された前記整流分の大きさを時間
積分する第１の積分手段と、 基準電圧を出力する基準電圧出力手段と、 前記基準電圧出力手段から出力された前記基準電圧の大
きさを時間積分する第２の積分手段と、 加工電源の電流制御のための内部スイッチング素子の動
作に基づき所定時間だけ前記第１の積分手段及び前記第
２の積分手段における積分を停止する積分停止手段と、 前記積分停止手段で積分を停止する前記所定時間の長さ
を加工電流値の大きさに応じて変更する時間変更手段
と、 前記第１の積分手段及び前記第２の積分手段における積
分の開始及び終了を制御する制御手段と、 前記制御手段で制御された前記第１の積分手段による積
分値と前記第２の積分手段による積分値とを比較する比
較手段とを具備することを特徴とする放電加工機の放電
状態検出装置。 - 【請求項６】 電極と被加工物との加工間隙における放
電電圧または放電電流に重畳する高周波成分を検出する
高周波成分検出手段と、 前記高周波成分検出手段で検出された前記高周波成分を
整流した整流分を出力する整流手段と、 連続する複数の放電パルス数をカウントするカウント手
段と、 前記整流手段から出力された前記整流分の大きさを時間
積分し、前記カウント手段でカウントされた放電パルス
数だけ加算する第１の積分手段と、 基準電圧を出力する基準電圧出力手段と、 前記基準電圧出力手段から出力された前記基準電圧の大
きさを時間積分し、前記カウント手段でカウントされた
放電パルス数だけ加算する第２の積分手段と、 前記第１の積分手段及び前記第２の積分手段における積
分の開始及び終了を制御する制御手段と、 前記制御手段で制御された前記第１の積分手段による積
分値と前記第２の積分手段による積分値とを比較する比
較手段とを具備することを特徴とする放電加工機の放電
状態検出装置。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18935195A JP3293416B2 (ja) | 1994-08-09 | 1995-07-25 | 放電加工機の放電状態検出装置 |
| US08/510,849 US5751155A (en) | 1994-08-09 | 1995-08-03 | Electrical discharge machining level detector |
| DE19529186A DE19529186C2 (de) | 1994-08-09 | 1995-08-08 | Detektorvorrichtung für die Beurteilung des Erosionszustands bei einer Funkenerosionsmaschine |
| CH02302/95A CH690089A5 (fr) | 1994-08-09 | 1995-08-09 | Dispositif de détection de l'état des décharges électriques pour une machine d'usinage par décharges électriques. |
| KR1019950024584A KR0156664B1 (ko) | 1994-08-09 | 1995-08-09 | 방전가공기의 방전상태검출장치 |
| US09/071,942 US6208150B1 (en) | 1994-08-09 | 1998-05-05 | Electrical discharge state detecting device for electrical discharge machining machine |
| US09/766,617 US6359448B2 (en) | 1994-08-09 | 2001-01-23 | Electrical discharge state detecting device for electrical discharge machining machine |
| US09/766,849 US6469522B2 (en) | 1994-08-09 | 2001-01-23 | Electrical discharge state detecting device for electrical discharge machining machine |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6-187309 | 1994-08-09 | ||
| JP18730994 | 1994-08-09 | ||
| JP18935195A JP3293416B2 (ja) | 1994-08-09 | 1995-07-25 | 放電加工機の放電状態検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08108321A true JPH08108321A (ja) | 1996-04-30 |
| JP3293416B2 JP3293416B2 (ja) | 2002-06-17 |
Family
ID=26504277
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18935195A Expired - Fee Related JP3293416B2 (ja) | 1994-08-09 | 1995-07-25 | 放電加工機の放電状態検出装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
| US (4) | US5751155A (ja) |
| JP (1) | JP3293416B2 (ja) |
| KR (1) | KR0156664B1 (ja) |
| CH (1) | CH690089A5 (ja) |
| DE (1) | DE19529186C2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009098764A1 (ja) * | 2008-02-06 | 2009-08-13 | Mitsubishi Electric Corporation | 放電加工機の電源制御装置 |
| WO2011065377A1 (ja) * | 2009-11-25 | 2011-06-03 | 国立大学法人富山大学 | 電解加工装置の放電検出方法および電解加工装置 |
| US8134096B2 (en) | 2006-10-20 | 2012-03-13 | Mitsubishi Electric Corporation | Power supply-control device for electrical discharge machining apparatus |
| JPWO2011145217A1 (ja) * | 2010-05-21 | 2013-07-22 | 三菱電機株式会社 | ワイヤ放電加工装置 |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6208150B1 (en) | 2001-03-27 |
| US20010002104A1 (en) | 2001-05-31 |
| KR960007071A (ko) | 1996-03-22 |
| DE19529186A1 (de) | 1996-02-15 |
| KR0156664B1 (ko) | 1999-10-01 |
| US6359448B2 (en) | 2002-03-19 |
| DE19529186C2 (de) | 1997-09-18 |
| CH690089A5 (fr) | 2000-04-28 |
| US20010003425A1 (en) | 2001-06-14 |
| JP3293416B2 (ja) | 2002-06-17 |
| US6469522B2 (en) | 2002-10-22 |
| US5751155A (en) | 1998-05-12 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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